CN211484177U - 烤盘组件及煎烤机 - Google Patents

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杨建刚
林达福
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Zhejiang Shaoxing Supor Domestic Electrical Appliance Co Ltd
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Abstract

本实用新型涉及一种烤盘组件及煎烤机,所述烤盘组件包括上盖、至少部分透光的烤盘、固设于所述上盖的反射罩,以及设置于所述反射罩与所述烤盘之间环状的远红外加热管,所述反射罩具有至少一个朝向所述烤盘延伸的凸起的弧面,所述凸起的弧面对应于所述远红外加热管所环绕区域的几何中心设置,远红外加热管呈环状设置,在其环绕区域内部,会存在远红外加热管多个方向发出的远红外光线交叉的情况,因此这部分区域的远红外光线辐射能量较高,反射罩的凸起的弧面对应于这个环绕区域的几何中心设置,可以使原本辐射至远红外加热管环绕区域的远红外光线辐射至凸起的弧面上,然后发生反射,避免该环绕区域的热量过高导致食材上色不均匀。

Description

烤盘组件及煎烤机
技术领域
本实用新型涉及烹饪器具技术领域,特别是涉及一种烤盘组件及煎烤机。
背景技术
相关现有技术中披露的煎烤机中,上下烤盘的加热方式为间接电加热方式,即,由加热管将电能转化为热能进而传导至烤盘,或者将加热管固定至盘状的加热盘上,以通过加热盘对加热管的热量进行匀化,然后通过加热盘传导至烤盘上。这种方式中,加热管的热量是间接传递,存在较大的热量损失。因此,为了提高热效率,一些煎烤机中采用远红外加热装置作为光热元件,直接通过远红外光线辐射的形式进行煎烤熟化,这种加热形式的煎烤机热效率显著提高。但是,采用远红外加热装置的煎烤机中,由于远红外光线具有很好的渗透效果,当加热装置与食材表面的距离控制不合理时,很容易出现上色不均匀或不上色问题。
实用新型内容
基于此,有必要针对上述问题,提供一种烤盘组件及煎烤机,该烤盘组件能够改善食材的烘烤上色情况。
本实用新型首先提供一种烤盘组件,所述烤盘组件包括上盖、至少部分透光的烤盘、固设于所述上盖的反射罩,以及设置于所述反射罩与所述烤盘之间环状的远红外加热管,所述反射罩具有至少一个朝向所述烤盘凸起的弧面,所述凸起的弧面对应于所述远红外加热管所环绕区域的几何中心设置。
如此设置,远红外加热管呈环状设置,在其环绕区域内部,会存在远红外加热管多个方向发出的远红外光线交叉的情况,因此这部分区域的远红外光线辐射能量较高,反射罩上凸起的弧面对应于这个环绕区域的几何中心设置,可以使原本辐射至远红外加热管环绕区域的远红外光线辐射至凸起的弧面上,然后发生反射,避免该环绕区域的热量过高导致食材上色不均匀。
在其中一个实施例中,所述凸起的弧面设置为两个,并且,两个所述凸起的弧面连续设置。
如此设置,远红外光线辐射至凸起的弧面,并被凸起的弧面反射至其他位置,从而达到了改变远红外光线辐射方向的目的,如此使得远红外光线能量能够更均匀的辐射至食材表面。
在其中一个实施例中,所述反射罩除所述凸起的弧面以外的部分呈朝向所述上盖方向弯曲的弧面设置,及/或,所述凸起的弧面的弧顶超过所述远红外加热管的最下端。
如此设置,远红外加热管的外表面为弧形表面反射罩除凸起的弧面的部分呈弧面设置,可以使反射罩的这部分内表面与远红外加热管外表面之间更接近等间距设置,从而使得辐射至反射罩的远红外光线能量更加均匀,最终使食材的上色更均匀。
在其中一个实施例中,所述弧面靠近远红外加热管的部分具有内周缘,所述内周缘具有第一弧度,所述第一弧度不大于60°。
如此设置,可以使反射罩与远红外加热管之间的距离较为均匀,食材上色也更加均匀。
在其中一个实施例中,所述反射罩在所述烤盘上的正投影面积为A,所述烤盘的工作面积为B,A与B之间满足如下关系:3/5≤A/B≤7/5。
进一步地,所述反射罩在所述烤盘上的正投影面积为A,所述烤盘的工作面积为B,A与B之间满足如下关系:4/5≤A/B≤1。
如此设置,将烤盘的工作面积设置的至少不小于反射罩在烤盘上的正投影面积,可以使被反射罩反射至烤盘方向的远红外光线,均可以通过烤盘辐射至食材表面,提高烤盘组件的热效率。
在其中一个实施例中,所述烤盘的透光部分设置为微晶玻璃板。
如此设置,微晶玻璃材质的透光性好,机械强度高且耐高温,适合于配合远红外加热装置用作烤盘的透光部分。
在其中一个实施例中,所述烤盘的外表面背向所述上盖凸起。
如此设置,在烤盘组件展开使用时,烤盘的外表面朝上,其外表面背向上盖凸起有利于烤盘外表面上的油液流向烤盘的外边缘并排出。
本实用新型第二方面还提供一种煎烤机,所述煎烤机包括上述的烤盘组件。
上述烤盘组件及煎烤机中,通过在反射罩上设置凸起的弧面,减少远红外加热管的环绕区域远红外光线能量集中的问题,可以提高食材的上色均匀性;而控制反射罩在烤盘上的正投影面积与烤盘的工作面积之间的比值,可以充分利用远红外加热管的远红外光线能量,从而提高烤盘组件的热效率。
附图说明
图1为一种实施方式的煎烤机的立体结构图;
图2为烤盘组件的立体结构图;
图3为一种实施方式的烤盘组件的分解结构图,其中烤盘通过螺纹紧固件固定连接至上盖;
图4为反射罩一种实施方式的立体结构图;
图5为另一种实施方式的反射罩与远红外加热管的相对位置图;
图6为烤盘组件部分结构的剖面视图,其中烤盘与上盖之间的连接件设置为螺纹紧固件;
图7为烤盘组件部分结构的剖面视图,其中烤盘与上盖之间的连接件设置为压板;
图8为图6中结构的A部放大图;
图9为图7中结构的B部放大图。
附图标记说明
1、上盖;10、壳体;11、架体;110、锁水筋;111、安装槽;112、导流口;113、导油嘴;2、烤盘;20、连接孔;3、远红外加热管;30、扩散罩;4、密封件;5、反射罩;50、弧面;51、压接边;6、固定架;60、环部;61、连接部;7、下烤盘组件;8、螺纹紧固件;9、压板。
具体实施方式
需要说明的是,当组件被称为“装设于”另一个组件,它可以直接在另一个组件上或者也可以存在居中的组件。当一个组件被认为是“设置于”另一个组件,它可以是直接设置在另一个组件上或者可能同时存在居中组件。当一个组件被认为是“固定于”另一个组件,它可以是直接固定在另一个组件上或者可能同时存在居中组件。
除非另有定义,本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本实用新型的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本实用新型的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的,不是旨在于限制本实用新型。本文所使用的术语“或/及”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。
此外,在本实用新型中,烤盘的外表面,指的是烤盘组件用作上烤盘组件组成煎烤机使用时,面向下烤盘组件的一面为外表面,而面向上盖的表面为内表面。
如图2和图3中所示,根据本实用新型一种实施方式的烤盘组件,其包括上盖1、烤盘2以及设置于两者之间的环状设置的远红外加热管3,其中:远红外加热管3向外发出的远红外光线,为烤盘组件的加热源。为使远红外加热管3的远红外光线能够透出烤盘2并照射于食材上,烤盘2至少部分透光。在一些实施方式中,烤盘2设置为微晶玻璃板,并且/或者,烤盘2可以设置为具有背向上盖1外凸的弧形外表面的结构,以使烤盘组件展平至烤盘2外表面朝上使用时,烤盘2外表面的油液可以顺畅地流向烤盘2的外表面边缘处。
远红外加热管3与上盖1之间还设置有反射罩5,反射罩5用于将远红外加热管3的分光线反射至烤盘2处,以避免远红外加热管3朝向上盖1辐射的远红外能量光线散失,同时避免这部分远红外光线照射上盖1导致上盖1过热。
如图4和图5中所示,反射罩5具有至少一个朝向烤盘2延伸的凸起的弧面50,该凸起的弧面50对应设置于远红外加热管3所环绕区域的几何中心处,如此避免该环绕区域内存在多个方向辐射至该位置的远红外光线,导致局部远红外光线能量集中。图5中示出的反射罩5的结构具有两个凸起的弧面50,使得反射罩5上伸入远红外加热管3环绕区域内的部分罩体近似为M型,从而使得远红外加热管3辐射至其环绕区域内的远红外光线被均匀的折射至烤盘2处。
如图4和图5中所示,反射罩5上除凸起的弧面50以外的部分呈朝向上盖1方向弯曲的弧面设置,如此,反射罩5的内表面与远红外加热管3的弧形外表面之间的间距更加均匀,照射至反射罩5内表面的外红外光线能量也会较为均匀的分布。
由于远红外加热管3大致呈环状设置,位于远红外加热管3正下方环形投影面积内的食材,受到的远红外辐射能量最多,为了避免食材上色不均匀,在远红外加热管3下方、烤盘2的上方还设置有遮光材料制成的扩散罩30,扩散罩30上均匀开设有若干透孔,如此,远红外加热管3向烤盘2直射的远红外光线仅能够在透孔位置穿出。较佳地,透孔的设置位置错开远红外加热管3距离烤盘2外表面最近的位置,这样,将距离食材最近的远红外光线遮挡,避免这部分远红外光线直射食材,而通过透孔、反射罩5反射的远红外光线等在烤盘2的工作区域内形成较为均匀的光线分布,从而实现食材的均匀烘烤上色。
结合图5至图7中所示内容,在采用具有凸起的弧面50的反射罩5的实施方式中,凸起的弧面50可以延伸超过远红外加热管3的最下端,并较佳地延伸至扩散罩30环绕的区域内,以阻挡凸起的弧面50处远红外光线的交叉照射,避免食材局部上色过度。远红外加热管3向外发出的远红外光线,部分经过扩散罩30上的透孔直接射出,另外的部分经过反射罩5反射后射出,如此使得烤盘2上射出的远红外光线基本均匀分布,从而能够将远红外辐射能量均匀传递至食材表面,使其均匀上色。
在一些实施方式中,弧面50靠近远红外加热管3的部分具有内周缘,该内周缘具有不大于60°的第一弧度,从而使反射罩5与远红外加热管3之间的距离较为均匀,食材上色也更加均匀。
结合图6与图7中所示,反射罩5在烤盘2上的正投影面积为A,烤盘2的工作面积为B,A与B之间满足如下关系:3/5≤A/B≤7/5。进一步地,A与B之间的比值较佳地落入如下范围:4/5≤A/B≤1。反射罩5在烤盘2上的正投影面积A反应的是通过反射罩5反射至烤盘2方向的远红外光线的分布面积,将其设置的小于等于烤盘2的工作面积,可以避免反射罩5反射的光线被烤盘2的非透光区域遮挡,造成远红外光线能量的浪费和烤盘组件的受热升温。
参考图2、图3、图6以及图7中所示内容,上盖1包括壳体10和可拆卸固定于壳体10上的架体11,壳体10配合于烤盘组件整体的配色需要可以设置为塑料材质,架体11可以采用铝材等质轻并具有一定强度的材料,如此,烤盘2、反射罩5等连接至上盖1的结构均可以固定至架体11上。
结合图2所示,部分架体11在烤盘2的外缘处延伸并超出烤盘2的外表面,以在烤盘2的外侧形成环绕烤盘2的锁水筋110。锁水筋110超出烤盘2外表面的高度优选设置的不小于2mm,以使锁水筋110围合形成具有一定侧壁高度的煎烤区,当烤盘组件展平使用时,烤盘2的外表面朝上并基本水平,锁水筋110环绕设置于烤盘2外侧以止挡烤盘2外表面的液体(如,油液、食材烹饪过程中产生的汤汁、水)任意流出。与此同时,烤盘组件所应用的煎烤机在扣盖使用时,下烤盘组件中的食材会受热发生一定的高度变化,向上顶烤盘2,或者内部水分压等原因造成烤盘组件向上浮动,由于在扣合时锁水筋110完全伸入下烤盘内腔中,烤盘组件向上浮动时,锁水筋110能够在其高度范围内保持烹饪腔室的基本闭合,减少食材的水分流失。
进一步参考图8和图9所示内容,锁水筋110超出烤盘2外表面的端部朝向烤盘2的外表面回弯,并形成朝向烤盘2外表面开口的安装槽111,安装槽111的槽底壁与烤盘2的内表面之间嵌装有密封件4。密封件4可以选择为硅胶等耐高温材质的密封圈,其可以具有矩形或n字型或“匚”型截面。烤盘2自上盖1的内部向外安装至抵靠安装槽111开口处的边缘,从而限定烤盘2向外脱出。
结合图3与图8所示,为实现烤盘2与上盖1的固定连接,上盖1上还设置有连接件。连接件的一种实施方式为图中所示的螺纹紧固件8,螺纹紧固件8自烤盘2的内表面穿过烤盘2上的连接孔20并螺接固定至锁水筋110上。
连接件的另外一种实施方式为图7和图9中所示的压板9,该压板9为折弯的金属板件,其一端固定连接至架体11上,另一端抵压于反射罩5的环片状压接边51上,并将反射罩5和烤盘2共同推压至抵靠安装槽111开口处的边缘。压板9的沿锁水筋110延伸方向延伸的部分板体的长度限定了烤盘2及反射罩5被抵持之力的大小。在这种实施方式中,密封件4同时可以在烤盘2的外表面产生一定的摩擦力,避免烤盘2水平滑移。无论是采用螺纹紧固件8还是采用压板9做连接件,连接件的数量均可以沿烤盘2的周向均匀间隔地布置多个,以对烤盘2形成多点固定。
结合图2中所示内容,锁水筋110上开设有导流口112,该导流口112用于将锁水筋110环绕区域内的液体定向排出,避免烤盘2外表面滞留汤汁、油液。可以理解的,导流口112的深度以不破坏安装槽111为准,从而避免液体流入安装槽111并最终进入上盖1内部。
进一步地,架体11的外边缘上还设置有导油嘴113,该导油嘴113与导流口112连通。沿烤盘2至上盖1的方向,导油嘴113自上而下倾斜设置。这样,在烤盘组件展开至烤盘2外表面朝上使用时,液体可以自导流口112流动至导油嘴113中排出。当烤盘组件所在的煎烤机中,下烤盘组件具有相应的接油结构时,导油嘴113可以直接将液体引导至接油结构中,与下烤盘中的液体共同排出。
参考图3中所示,远红外加热管3上还设置有固定架6,该固定架6包括环绕固定至远红外加热管3上的环部60,以及自该环部60延伸至架体11上并与之固定的连接部61。沿管状远红外加热管的环绕方向,固定架6可以设置为2个至多个,以在多处拉紧固定远红外加热管3至架体11上。
如图1中所示,本实用新型另一方面还提供一种煎烤机,该煎烤机包括上述任一实施方式的烤盘组件。在一种实施方式中,烤盘组件作为上烤盘组件使用,并枢接至下烤盘组件7上。使用时,烤盘2在食材上方与下烤盘中的食材表面间隔预设值,从而使得食材的下表面与下烤盘接触煎烤、上表面被远红外光线的能量烘烤,食材的上色效果好,且表皮也更加酥脆。当然,烤盘组件也可以作为下烤盘组件使用,或者煎烤机的上下烤盘组件均采用上述的烤盘组件。
以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合,为使描述简洁,未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述,然而,只要这些技术特征的组合不存在矛盾,都应当认为是本说明书记载的范围。
以上所述实施例仅表达了本实用新型的几种实施方式,其描述较为具体和详细,但并不能因此而理解为对实用新型专利范围的限制。应当指出的是,对于本领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型构思的前提下,还可以做出若干变形和改进,这些都属于本实用新型的保护范围。因此,本实用新型专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (10)

1.一种烤盘组件,其特征在于,所述烤盘组件包括上盖(1)、至少部分透光的烤盘(2)、固设于所述上盖(1)的反射罩(5),以及设置于所述反射罩(5)与所述烤盘(2)之间环状的远红外加热管(3),所述反射罩(5)具有至少一个朝向所述烤盘(2)凸起的弧面(50),所述凸起的弧面(50)对应于所述远红外加热管(3)所环绕区域的几何中心设置。
2.根据权利要求1所述的烤盘组件,其特征在于,所述凸起的弧面(50)设置为两个,并且,两个所述弧面(50)连续设置。
3.根据权利要求1所述的烤盘组件,其特征在于,所述反射罩(5)除所述凸起的弧面(50)以外的部分呈朝向所述上盖(1)方向弯曲的弧面设置。
4.根据权利要求3所述的烤盘组件,其特征在于,所述弧面(50)弧顶部分超过所述远红外加热管(3)的最下端。
5.根据权利要求1所述的烤盘组件,其特征在于,所述弧面(50)靠近远红外加热管(3)的部分具有内周缘,所述内周缘具有第一弧度,所述第一弧度不大于60°。
6.根据权利要求1所述的烤盘组件,其特征在于,所述反射罩(5)在所述烤盘(2)上的正投影面积为A,所述烤盘(2)的工作面积为B,A与B之间满足如下关系:3/5≤A/B≤7/5。
7.根据权利要求1所述的烤盘组件,其特征在于,所述反射罩(5)在所述烤盘(2)上的正投影面积为A,所述烤盘(2)的工作面积为B,A与B之间满足如下关系:4/5≤A/B≤1。
8.根据权利要求1所述的烤盘组件,其特征在于,所述烤盘(2)的透光部分设置为微晶玻璃板。
9.根据权利要求7所述烤盘组件,其特征在于,所述烤盘(2)的外表面背向所述上盖(1)凸起。
10.一种煎烤机,其特征在于,所述煎烤机包括权利要求1-9中任意一项所述的烤盘组件。
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