CN201032627Y - 基板处理装置及其控制装置 - Google Patents
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Abstract
通过允许批次向替代处理部调换，即使在处理部发生异常的情况下也可以防止运转率下降。对于按照对发生异常的优先处理部指定替代处理部的工艺处方进行处理的第2批次，以调换到替代处理部进行第2批次的处理的方式，控制部(25)变更时序表，同时控制部(25)按照该变更后的时序表继续执行第2批次的处理。因此，由于即使优先处理部发生异常，也不必使从第1批次到第3批次的所有批次停止处理，因而可以防止基板处理装置的运转率下降。
Description
技术领域
本实用新型涉及对半导体晶片及液晶显示装置用的玻璃基板(以下简称为基板)实施规定处理的基板处理装置及其控制装置。
背景技术
当前，作为这种装置，可以举出下述装置，即，在由具有用于对基板实施处理的多个处理部的基板处理装置对多个批次进行处理时，控制部根据包括多个处理工序在内的工艺处方，为了由各处理部依次处理各个批次而确定各批次的处理顺序，按照其时序表传送各批次并依次进行处理(例如参照专利文献1)。
这种基板处理装置，由于在实际开始对批次的处理之前，已经确定了用哪个处理部在哪个时刻处理哪个批次，因而可以高效地配置批次，提高基板处理装置的运转率。
专利文献1：特开2002-341923号公报
发明内容
但是，具有这种结构的现有例子的情况下，存在下述问题。
也就是说，现有装置在某个处理工序中使用的处理部发生异常的情况下，要使使用该处理部的预定的所有批次的处理全部停止。因此，具有在一个处理部中发生异常的情况下，基板处理装置的运转率下降的问题。
本实用新型正是鉴于以上问题而提出的，其目的在于提供一种基板处理装置及其控制装置，其通过允许批次向替代处理部的调换，即使在处理部发生异常的情况下，也可以防止运转率下降。
为了实现上述目的，本实用新型采用下述构成。
也就是说，技术方案1所述的实用新型，是一种基板处理装置，其具有：多个处理部，它们用于对基板进行处理；以及控制部，其处理多个批次时，在根据包括多个处理工序的工艺处方决定时序表后执行处理，该时序表规定用于由各个处理部依次处理各批次的各批次处理顺序，其特征在于，前述处理部具有：优先处理部，其为了处理一个处理工序而优先使用；以及与前述优先处理部不同的替代处理部，其可以实施与前述处理部相同的处理，在处理工序中指定的优先处理部发生异常的情况下，对于按照指定了与发生异常的优先处理部对应的替代处理部的工艺处方进行处理的批次，前述控制部变更时序表，以由前述替代处理部进行处理，同时前述控制部按照该变更后的时序表继续执行该批次的处理。
根据技术方案1所述的实用新型，对于按照对发生异常的优先处理部指定替代处理部的工艺处方进行处理的批次，以调换到替代处理部进行批次处理的方式，控制部变更时序表，同时控制部按照该变更后的时序表继续执行该批次的处理。因此，由于即使处理部发生异常，也不必停止所有批次的处理，因而可以防止运转率下降。
此外，在本实用新型中，优选在被一个处理工序中指定的优先处理部发生异常情况下，对于按照仅指定了发生异常的优先处理部的工艺处方进行处理的批次，前述控制部进行使前述批次待命的处理，同时在前述优先处理部可以使用的时刻，在对该批次重新安排时序之后，重新开始该批次的处理(技术方案2)。对于按照仅指定发生异常的优先处理部的工艺处方进行处理的批次，控制部使该批次待命，同时，在优先处理部的异常解除的时刻，对于该批次在生成时序表后重新开始处理。因此，可以防止在工艺处方中仅指定优先处理部的批次的处理中出现问题。
此外，在本实用新型中，优选前述优先处理部是第1药液处理部，前述替代处理部是第2药液处理部(技术方案3)。为了提高处理效率，基板处理装置如由药液进行处理的第1药液处理部和具有同样构成的第2药液处理部这样成双配置同样的处理部。由于两个药液处理部可以以分别进行同样的处理方式设定液种及温度等条件，因而如果预先设定相同条件，则可以将一方作为优先使用的优先处理部，而将另一方作设定为替代处理部。
此外，在本实用新型中，优选前述优先处理部是第1纯水清洗处理部，前述替代处理部是第2纯水清洗处理部(技术方案4)。为了提高处理效率，基板处理装置如由纯水进行清洗处理的第1纯水清洗处理部和具有同样构成的第2纯水处理部这样，成双配置同样的处理部。由于两个纯水处理部可以以分别进行同样处理的方式设定纯水温度及流量等条件，因而如果预先设定相同条件，则可以将一方作为优先使用的优先处理部，而将另一方设定为替代处理部。
技术方案5所述的实用新型是一种基板处理装置，其对基板进行处理，其特征在于，具有：第1处理部；不同于前述第1处理部的第2处理部，其可以实施与前述第1处理部相同的处理；存储部，其存储包括多个处理工序的工艺处方；以及控制部，其对应于前述工艺处方生成时序表，在前述时序表中将前述第1处理部和前述第2处理部指定为可变更并且前述第1处理部发生异常的情况下，通过调换前述第1处理部和第2处理部来变更前述时序表，同时按照调换后的情况下的时序表发出处理指令。
根据技术方案5所述的实用新型，在第1处理部(优先处理部)发生异常的情况下，以调换到第2处理部(替代处理部)进行基板处理的方式变更时序表，同时按照该变更后的时序表继续执行处理。因此，即使一部分处理部发生异常，也可以防止运转率下降。
技术方案6所述的实用新型是一种基板处理装置的控制装置，其具有：第1处理部；以及不同于前述第1处理部的第2处理部，其可以执行与前述第1处理部相同的处理，其特征在于，具有：时序安排部，其对应于包括多个处理工序的工艺处方，生成时序表；间歇停止状态管理部，其在前述时序表中将前述第1处理部和前述第2处理部指定为可变更并且前述第1处理部发生异常的情况下，通过调换前述第1处理部和第2处理部来变更前述时序表；以及处理执行指示部，其按照调换后的情况下的时序表发出处理指令。
根据技术方案6所述的实用新型，在第1处理部(优先处理部)发生异常的情况下，以调换到第2处理部(替代处理部)进行基板处理的方式变更时序表，同时按照该变更后的时序表继续执行处理。因此，即使一部分处理部发生异常，也可以防止运转率下降。
实用新型的效果
根据本实用新型涉及的基板处理装置以及控制装置，对于按照指定与发生异常的优先处理部对应的替代处理部指定的工艺处方进行处理的批次，以调换到替代处理部进行批次处理的方式控制部变更时序表，同时控制部按照该变更后的时序表继续执行该批次的处理。因此，即使处理部发生异常，由于不必停止全部批次的处理，因而可以防止运转率下降。
附图说明
图1是表示实施例涉及的基板处理装置的简要构成的平面图。
图2是表示实施例涉及的基板处理装置的简要构成的框图。
图3是表示基板处理装置的动作的流程图。
图4是举例说明时序表化后的状态的时序图。
图5是表示时序表的变更例的时序图。
图6是说明新时序表的一个例子的时序图。
具体实施方式
下面，参照附图说明本实用新型的一个实施例。
图1是表示实施例涉及的基板处理装置的简要构成的平面图，图2是表示实施例涉及的基板处理装置的简要构成的框图。
该基板处理装置是用于对基板W进行药液处理、纯水清洗处理以及干燥处理的装置。多片基板W(例如25片)层叠收容在盒子1内。层叠收容了多片未处理的基板W的盒子1承载在送入部3上。送入部3具有两个承载盒子1的载物台5。在基板处理装置的大致隔着中央部的送入部3的相反侧，配置取出部7。取出部7将处理完成的基板W收容于盒子1中，以盒子1为单位向装置外取出。取出部7与送入部3相同地，具有两个用于承载盒子1的载物台9。
在沿着送入部3和取出部7的位置上，设置以可以在二者间移动的方式构成的第1传送机构11。该第1传送机构11以盒子1为单位将承载于送入部3上的多片基板W传送给第2传送机构13。
第2传送机构13将收容的全部基板W从盒子中取出之后，将全部基板W传送给第3传送机构15。此外，从第3传送机构15取得处理完成的基板W之后，将基板W收容到盒子1中，传送给第1传送机构11。
第3传送机构15以可以在基板处理装置的长度方向上移动的方式构成，在其移动方向的最前侧配置干燥处理部17，其用于将多片基板W收容到容器内并使其干燥。
在第3传送机构15进行移动的方向上与干燥处理部17相邻的位置上，配置第1处理部19，在与该第1处理部19相邻的后侧位置上，配置第2处理部21。
第1处理部19具有用于对多片基板W进行纯水清洗处理的纯水清洗处理部19a，同时具有用于对多片基板W进行药液处理的药液处理部19b。在隔着纯水清洗处理部19a和药液处理部19b的第3传送机构15相反侧的位置上，具有辅助传送机构19c，其用于仅在纯水清洗处理部19a和药液处理部19b之间传送多片基板W。
第2处理部21具有与上述第1处理部19相同的结构。即，具有纯水清洗处理部21a、药液处理部21b、辅助传送机构21c。
在与上述第2传送机构13相邻的位置上，配置盒子清洗部23。该盒子清洗部23具有在上述第2传送机构13取出全部基板W后，清洗成为空出状态的盒子1的功能。
此外，上述第1传送机构11、第2传送机构13、第3传送机构15、干燥处理部17、第1处理部19(纯水清洗处理部19a和药液处理部19b)、第2处理部21(纯水清洗处理部21a和药液处理部21b)，相当于本实用新型中的处理部。
具有上述结构的基板处理装置如图2的框图所示，由控制部25(控制装置)统一控制。
控制部25由CPU等构成，具有时序安排部27、间歇停止状态管理部29、处理执行指示部31。与控制部25连接的存储部33预先存储下述内容：工艺处方，其由该基板处理装置的用户预先制作，包括规定怎样处理基板W的多个处理工序；时序表生成程序；处理程序，其执行生成的时序表；以及用于判断异常产生时应使其停止的批次和用于判断对停止的批次重新处理的程序等。此外，还存储生成的时序表。
时序安排部27将收容在盒子1中而承载于送入部3上的多片基板W作为一个批次处理，按照装置的操作者指示的、预先存储在存储部33中的工艺处方，在实际开始处理之前，生成时序表，以可以按照时间序列高效地配置每个批次的处理工序。此外，详情如后所述，还具有下述功能，即，对于待命的批次，在使其待命的理由消除的情况下，重新生成时序表。
此外，也可以不以盒子1为单位，而是以收容在多个盒子1中的多片基板W作为一个批次。
间歇停止状态管理部29在根据时序表使用的处理部中的某一个发生异常的情况下，判别是必须停止处理的批次还是不必停止处理的批次，同时对是使该批次待命还是由替代处理部(详情后述)继续处理进行管理。
处理执行指示部31根据时序安排部27生成并存储在存储部33中的时序表，以恰当的定时进行与各处理部等的处理相关的动作指示。
在这里，参照表1说明具体的工艺处方。此外，为了使说明便于理解，举出与实际工艺处方相比简单化的例子加以说明。
表1
| 处理工序 | 处理内容 | ||
| 第1批次L1 | 第2批次L2 | 第3批次L3 | |
| 第1处理工序 | A | A | A |
| 第2处理工序 | B、C | B、C | B |
| 第3处理工序 | D、E | D、E | D |
| 第4处理工序 | F | F | F |
| 第5处理工序 | A | A | A |
在上述表1中，标号A～F表示处理部，具体而言，处理部A表示将第1传送机构11、第2传送机构13、第3机构15作为与传送相关的一个处理部处理的处理部，处理部B表示第1处理部19的药液处理部19b，处理部C表示第2处理部2 1的药液处理部21b，处理部D表示第1处理部19的纯水清洗处理部19a，处理部E表示第2处理部21的纯水清洗处理部21a，处理部F表示干燥处理部17。第1处理部19的药液处理部19b和第2处理部21的药液处理部21b，虽然也可以在用于不同的工艺处方时设定为不同的处理液及不同的液温、供给流量等，但在这里设定为用于完全相同的工艺处方的相同的设定。此外，对于纯水清洗处理部19a和纯水清洗处理部21a，纯水的温度及供给流量等也设定为相同。在上述工艺处方中，省略了辅助传送机构19c、12c。
第1批次L1的工艺处方由第1处理工序～第5处理工序这5个处理工序构成，第1处理工序是由处理部A进行的运入，第2处理工序是由处理部B或处理部C进行的药液处理，第3处理工序是由处理部D或处理部E进行的纯水清洗处理，第4处理工序是由处理部F进行的干燥处理，第5处理工序是由处理部A进行的运出处理。此外，第2批次L2的工艺处方与上述第1批次L1的工艺处方相同。
第3批次L3的工艺处方由第1～第5处理工序这5个处理工序构成，第1处理工序是由处理部A进行的运入处理，第2处理处理工序是由处理部B进行的药液处理，第3处理工序是由处理部D进行的纯水清洗处理，第4处理工序是由处理部F进行的干燥处理，第5处理工序是由处理部A进行的运出处理。
此外，在上述第1批次L1和第2批次L2中的第2处理工序中，处理部B是为了实施第2处理工序而优先使用的处理部，将其称为优先处理部。此外，将可以进行与优先处理部相同处理，而又不同于优先处理部的处理部称之为替代处理部。在本例中，第2处理工序中的处理部C是处理部B的替代处理部，第3处理工序中的处理部E是处理部D的替代处理部。上述第3批次L3在任一个处理工序中均仅指定一个处理部，是未规定优先处理部和替代处理部的批次。但在，该情况下，也将该处理部称为优先处理部。
下面参照图3～图5，说明具有上述结构的基板处理装置的动作。此外，图3是表示基板处理装置动作的流程图，图4是表示时序表化后的状态的一个例子的时序图，图5是表示时序表的变更例的时序图。此外，图6是表示新时序表的一个例子的时序图。
步骤S1～S3
装置的操作者将收容了未处理的基板W的盒子1承载到送入部3的载物台5上(步骤S1)，同时由未图示的指示部指示工艺处方(步骤S2)。然后，控制部25读入存储在存储部33中的工艺处方的数据，并进行处理工序的时间计算(步骤S3)。然后，时序安排部27根据处理工序所需要的时间生成时序表。在这里，从第1批次L1到第3批次L3依次承载到载物台5上，由操作者以上述表1的方式指定工艺处方。
步骤S4
时序安排部27参照存储部33，根据上述表1所示的各工艺处方，生成时序表(步骤S4)。该时序安排方法有多种，例如如图4所示，按照时间序列配置包含在第1批次L1、第2批次L2、第3批次L3的工艺处方中的各处理工序(图中表示为第1处理工序P1、第2处理工序P2、第3处理工序P3、第4处理工序P4、第5处理工序P5)。此外，图4中的第1处理工序P1等，其中央部表示实质的处理，其前部为前作业(使用处理部之前进行的准备)，其后部附加后作业(使用了处理部之后进行的处理)。由于本实用新型是在实际处理开始之前预先生成时序表的方式，因而在批次实际移动来之前开始下一个处理部的前作业，在批次移动到下一处理部之后，进行该批次使用后的处理部的后作业。
步骤S5、S6
时序安排部27在完成时序安排的同时开始处理(步骤S5)，处理执行指示部31按照图4所示的时序表，按顺序指示对各处理部的动作指令(步骤S6)。这样，由各处理部处理批次L1～L3。
步骤S7、S8
间歇停止状态管理部29判断各处理部中是否发生异常(步骤S7)，使处理分支。在未发生异常的情况下，由处理执行指示部31判断是否有其它指令(步骤S8)，在有后续指令时，返回步骤S6，指示下一动作指令。在没有后续指令的情况下结束处理。
步骤S9、S10
在步骤S7中间歇停止状态管理部29检测出某个处理部发生异常的情况下，将处理跳转到步骤S9，为了将发生异常的情况通报给操作者而进行报告。此外，判断是否应停止处理(步骤S10)，在不需要停止的情况下，返回步骤S6，指示处理指令。这是在例如与当前正在处理的第1批次L1至第3批次L3无关的处理部中发生异常的情况下的处理。
步骤S11、S12
在间歇停止状态管理部29检测出某个处理部发生异常，并且判断为应停止处理的情况下，首先判断作为对象的批次，使该批次待命(步骤S11)，同时在可以重新开始该批次的处理的情况下，进行重新开始指令(步骤S12)，仅针对该批次由时序安排部27重新进行时序安排。
在这里，如图5所示，当前时间点为时刻t1，例如处理部B(第1处理部19的药液处理部19b)发生异常，成为无法进行使用该处理部B的处理(第2处理工序P2)的状态。由于在该时刻t1，由处理部B对第1批次L1进行的处理已经完成，因而判断作为对象的批次是第2批次L2和第3批次L3。然后，间歇停止状态管理部29参照第2批次L2的工艺处方，判断是否指定了替代处理部，如果有替代处理部，则变更第2批次L2的时序表，将由作为优先处理部的处理部B进行的处理，调换为由作为替代处理部的处理部C(第2处理部21的药液处理部21b)进行的处理。并且，处理执行指示部31接受该信息，按照调换到处理部C的情况下的时序表发出处理指令，对于第2批次L2，不停止处理而继续进行处理。
此外，关于被停止处理的第3批次L3，处理执行指示部31使其暂时在未图示的待命部中待命，同时由间歇停止状态管理部29管理第3批次L3在待命部中的待命。在处理部B的异常消除而可以使用的情况下，将该信息传送至间歇停止状态管理部29，接收到该信息的间歇停止状态管理部29，将其传送给时序安排部27，以重新生成使用处理部B的时序表。接收到该信息的时序安排部27重新进行时序安排。
例如，如果在图6中的时刻t2(由第2批次的处理部F进行的干燥处理期间)，处理部B的异常解除，则最初被安排从图中的虚线所示位置开始处理的第3批次L3，被重新安排时序，以在第2批次L2的传送处理结束后马上开始处理。
如上所述，对于按照对发生异常的优先处理部B指定了替代处理部C的工艺处方进行处理的第2批次L2，以调换到替代处理部C进行第2批次L2的处理的方式，控制部25变更时序表，同时控制部25按照该变更后的时序表继续执行第2批次L2的处理。因此，即使优先处理部B发生异常，也由于不必使从第1批次L1到第3批次L3的所有批次停止处理，因而可以防止基板处理装置的运转率下降。
此外，对于按照仅指定了的发生异常的优先处理部B的工艺处方进行处理的第3批次L3，控制部25使第3批次L3待命，同时在优先处理部B的异常消除的时刻，对于第3批次L3在生成时序表后，使之重新开始处理。因此，可以防止工艺处方仅指定优先处理部B的第3批次L3的处理产生问题。
本实用新型并不限于上述实施方式，可以如下述变形实施。
(1)在上述实施例中，例示了同时处理3个批次的情况进行说明，但在同时处理1～2个批次或4个及4个以上批次的情况下，同样可以使用本实用新型。
(2)在上述实施例中，在工艺处方内，对一个优先处理部规定一个替代处理部。然而，在基板处理装置中，在除了上述第1处理部19、第2处理部21之外还具有第3处理部、第4处理部这种，可以进行同样处理的处理部有3台或3台以上的情况下，也可以对一个优先处理部规定多个替代处理部。在此情况下，只要以按照替代处理部的指定顺序优先使用的方式生成时序表，进而在该替代处理部发生异常的情况下，使用下一个替代处理部即可。
(3)实施例中作为例子使用的基板处理装置，是对基板依次进行药液处理、纯水清洗处理、干燥处理的装置，但进行其它处理的基板处理装置也可以适用本实用新型。例如，可以是在基板上涂敷光致抗蚀剂、通过旋转处理进行薄膜化、通过烧固形成覆盖膜等的装置。
(4)在上述实施例中，对于按照规定了替代处理部的工艺处方进行处理的批次进行调换，对除此之外的批次使之待命，在处理部的问题解决的时刻重新进行时序安排。但是，对于按照未规定替代处理部的工艺处方处理的批次，也可以构成为使之全部待命，由操作者重新送入该批次。
Claims (6)
1.一种基板处理装置，其具有：多个处理部，它们用于对基板进行处理；以及控制部，其处理多个批次时，在根据包括多个处理工序的工艺处方决定时序表后执行处理，该时序表规定用于由各个处理部依次处理各批次的各批次处理顺序，其特征在于，
前述处理部具有：优先处理部，其为了处理一个处理工序而优先使用；以及与前述优先处理部不同的替代处理部，其可以实施与前述处理部相同的处理，
在处理工序中指定的优先处理部发生异常的情况下，对于按照指定了与发生异常的优先处理部对应的替代处理部的工艺处方进行处理的批次，前述控制部变更时序表，以由前述替代处理部进行处理，同时前述控制部按照该变更后的时序表继续执行该批次的处理。
2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，
在一个处理工序中指定的优先处理部发生异常情况下，对于按照仅指定了发生异常的优先处理部的工艺处方进行处理的批次，前述控制部进行使前述批次待命的处理，同时在前述优先处理部可以使用的时刻，在对该批次重新安排时序之后，重新开始该批次的处理。
3.根据权利要求1或2所述的基板处理装置，其特征在于，
前述优先处理部是第1药液处理部，前述替代处理部是第2药液处理部。
4.根据权利要求1或2所述的基板处理装置，其特征在于，
前述优先处理部是第1纯水清洗处理部，前述替代处理部是第2纯水清洗处理部。
5.一种基板处理装置，其对基板进行处理，其特征在于，具有：
第1处理部；
不同于前述第1处理部的第2处理部，其可以实施与前述第1处理部相同的处理；
存储部，其存储包括多个处理工序的工艺处方；以及
控制部，其对应于前述工艺处方生成时序表，在前述时序表中将前述第1处理部和前述第2处理部指定为可变更并且前述第1处理部发生异常的情况下，通过调换前述第1处理部和第2处理部来变更前述时序表，同时按照调换后的情况下的时序表发出处理指令。
6.一种基板处理装置的控制装置，其具有：第1处理部；以及不同于前述第1处理部的第2处理部，其可以执行与前述第1处理部相同的处理，其特征在于，具有：
时序安排部，其对应于包括多个处理工序的工艺处方，生成时序表；
间歇停止状态管理部，其在前述时序表中将前述第1处理部和前述第2处理部指定为可变更并且前述第1处理部发生异常的情况下，通过调换前述第1处理部和第2处理部来变更前述时序表；以及
处理执行指示部，其按照调换后的情况下的时序表发出处理指令。
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