CN1896308A - 化学镀镍镀液及工艺 - Google Patents
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Abstract
本发明公开一种化学镀镍镀液,其配方包括可溶性镍盐、络合剂、缓冲剂、次亚磷酸盐还原剂、选自碱金属氢氧化物的pH调节剂以及稳定剂,该镀液操作温度为50-55℃,pH值7.0-8.5。本发明为中温碱性化学镀镍,操作温度较一般化学镀镍温度低,能耗少,镀液稳定,成分简单,工艺易控制操作,同时pH值接近中性,且不用氨水调节,节省成本,大大改善了工作环境。
Description
技术领域
本发明涉及化学镀领域,特别是一种化学镀镍镀液及工艺。
背景技术
化学镀是在金属的催化作用下,通过可控制的氧化还原反应产生金属沉积的过程。它也被称为自催化镀或无电镀。
实现化学镀应具备下述条件:(1)溶液中还原剂被氧化的电位要显著低于金属离子被还原的电位,以使金属有可能在基材上被沉积出来;(2)配好的溶液不产生自发分解,当与催化表面接触时,才发生金属沉积过程;(3)调节溶液的pH、温度时,可以控制金属的还原速度,即可以调节镀覆速度;(4)被还原析出的金属应具有催化活性,这样镀层才能增厚;(5)反应生成物不妨碍镀覆过程的正常进行,即溶液有足够的使用寿命。
化学镀溶液的成分包括金属盐、还原剂、络合剂、缓冲剂、pH调节剂、稳定剂、加速剂、润湿剂和光亮剂等。与电镀相比,化学镀具有镀层厚度均匀、针孔少、不需直流电源设备、能在非导体上沉积和具有某些特殊性能等特点。但成本比电镀高,主要用于不适于电镀的特殊场合。
化学镀中应用最广的是化学镀镍,而化学镀镍溶液通常是用次磷酸盐作还原剂。其反应过程为:
这类镀层的特点是:(1)所得镀层为含有一定数量磷的镍磷合金,其磷含量随溶液成分和操作条件的不同而在3%-14%之间变化;(2)镀层为非晶态的层状结构,进行热处理时,随着Ni3P的结晶化,其层状结构逐渐消失,含磷量高于8%时,镀层为非磁性;含磷量低于8%时,其磁性能也与电镀镍层有很大差异;(3)抗蚀性高,特别是在含磷量较高时,在许多浸蚀性介质中均比电镀镍耐蚀得多;(4)硬度高,这种镀层的显微硬度≈500-600HV,比电镀镍层高得多,经400℃热处理后,其硬度可达1000HV以上,可用来代替镀硬铬,韧性比电镀镍层差;(5)易于钎焊,但熔焊性能比镍镀层差;(6)某些化学镀镍层的外观与不锈钢相似,比带微黄色的镍镀层美观。
化学镀镍磷层主要用作化工设备的抗蚀镀层、复杂机械零件的耐磨镀层、电子元器件的钎焊镀层、电子仪器的电磁屏蔽层及非导体的金属化等。
化学镀镍分为酸性化学镀镍和碱性化学镀镍,一般酸性化学镀镍操作温度高(一般在80℃以上),能耗大,镀液不稳定,成分复杂,而一般碱性化学镀镍,虽然操作温度较低,但须加入大量氨水来维持镀液的pH值,药品消耗多,生产成本高,并且由于氨水的挥发性,造成操作环境很差。化学镀镍的镀液一般含有:例如氯化镍、碳酸镍、或硫酸镍等的待沉积的金属的盐,一种能将金属离子还原为金属的还原剂,一种络合剂和pH调节剂。目前最广泛的是应用次磷酸盐为还原剂,以及氨水作为pH调节剂,在离子沉积过程中,因为反应产生气态和离子态的氢,因此必须不断加入大量氨水来维持镀液的pH值,而氨水的挥发性产生强烈的气味,造成操作环境很差,且废水处理复杂。而非挥发性的碱,如碱金属氢氧化物,由于在先前的研究中表明会对镀液的稳定性、以及对金属镀层的质量产生不利影响,在某些情况下,甚至会导致镀液失效的严重后果,因此一直未用于控制此类型的化学镀镍镀液的pH值。但由于碱金属氢氧化物与氨水相比,具有对环境污染较少,废液处理容易等明显优点,因此如何才能采用碱金属氢氧化物调节镀液pH值仍然是目前镀液开发的主要方向。
例如在中国专利申请,申请号为02815773.7,公开了一种化学镀镍镀液及其方法,采用了次磷酸钠Sodium hypophosphite作为还原剂,碱金属氢氧化物、碱土金属氢氧化物等作为pH调节剂,虽然无须采用氨水,但是其工艺操作非常繁复,由于操作温度约在80-90℃之间,而用碱金属氢氧化物调节前必须将化学镀液冷却到60℃以下,因此在该申请技术中,要调节pH值时,首先要将高温镀液的一部分规律地或连续地从镀槽中移出,冷却至60℃以下,检测该部分移出镀液的pH值,加入pH调节剂调节pH值后,再将该部分镀液送回镀槽,不仅增加了设备成本,而且不便于生产操作。
发明内容
为解决上述问题,本发明的目的是提供一种化学镀镍镀液及工艺,其采用碱金属氢氧化物来调节镀液的pH值,而无须特别的工艺流程,实现了中温碱性化学镀镍。
本发明的目的是这样实现的:一种化学镀镍镀液,其特征在于包括以下组分:
可溶性镍盐 20-30g/L
络合剂 15-25g/L
缓冲剂 10-20g/L
次亚磷酸盐还原剂 20-30g/L
选自碱金属氢氧化物的pH调节剂加至镀液pH值为7.0-8.5
稳定剂 1-2mg/L。
采用上述化学镀镍镀液进行化学镀镍的工艺,其镀液操作温度为50-55℃,pH值7.0-8.5。
本发明为中温碱性化学镀镍,操作温度较一般化学镀镍温度低,能耗少,镀液稳定,成分简单,工艺易控制操作,同时pH值接近中性,且不用氨水调节,节省成本,大大改善了工作环境。
具体实施方式
本发明的一种化学镀镍镀液,其包括有水、可溶性镍盐、络合剂、次亚磷酸盐还原剂、选自碱金属氢氧化物的pH调节剂,除此以外,还含有缓冲剂、稳定剂等其它添加剂。
可溶性镍盐一般采用来源广、成本较低、溶解度较好的硫酸镍,而其它符合溶解度标准的任何镍盐均是适合的。在镀液中可溶性镍盐浓度可在20-30g/L范围内。
还原剂优选次亚磷酸盐,特别是次亚磷酸钠。在镀液中还原剂浓度可在20-30g/L范围内。
pH调节剂不含氨水或铵离子,采用碱金属氢氧化物,如氢氧化钠、氢氧化钾。添加至镀液的pH值维持在7.0-8.5之间。
络合剂的选择很多,包括各种有机酸或有机酸盐,如柠檬酸、乳酸、酒石酸、琥珀酸、苹果酸、葡萄糖酸等,或以上有机酸的盐。在镀液中络合剂浓度可在15-25g/L范围内。
缓冲剂能将pH值控制在某一程度,优选氯化铵,在镀液中浓度为10-20g/L。
稳定剂用于稳定镀液组分,优选硫脲,在镀液中浓度为1-2mg/L。
镀液工艺,镀液操作温度在50-55℃,镀液的pH值维持在7.0-8.5之间。操作时间视产品而定,本发明的镀速高,EMI化学镀镍只需6-8分钟,大大提高了生产效率。不施镀存放时,不必降低酸碱度,可节省药品的用量。
下面通过具体的实施例子来进一步说明,但本发明并不限于以下实施例。
实施例1
工艺配方组成
主盐:硫酸镍Nickelous sulfate(NiSO4.7H2O) 20g/L
络合剂:柠檬酸钠Sodium citrate(Na3C6H5O7.2H2O) 15g/L
缓冲剂:氯化铵Ammonium chloride(NH4Cl) 10g/L
还原剂:次亚磷酸钠Sodium hypophosphite(NaH2PO2.H2O) 20g/L
pH调节剂:氢氧化钠Sodium hydroxide(NaOH)加至pH值为7.0-8.5
稳定剂:硫脲Thiourea((NH2)2CS) 1mg/L
镀液操作工艺
温度:50-55,pH值:7.0-8.5。由于镀槽温度低,因此调整pH值时可直接将氢氧化钠添加到镀槽的镀液内,而无须额外的降温冷却工序。随着镍盐和次亚磷酸盐浓度的增加,沉积速度逐渐提高,而后趋于稳定或稍有降低,但此时溶液稳定性下降。这两种药品是化学镀镍的主要消耗成分,要经常补充。补充时两者应分别溶解加入,加入时溶液温度低一些为好,并要有良好的搅拌。若能用自动控制仪表带计量泵补加,最为理想。
实施例2
工艺配方组成
主盐:硫酸镍30g/L 络合剂:柠檬酸钠25g/L
缓冲剂:氯化铵20g/L 还原剂:次亚磷酸钠30g/L
pH调节剂:氢氧化钠 加至pH值为7.0-8.5
稳定剂:硫脲2mg/L
镀液操作工艺同实施例1。
实施例3
工艺配方组成
主盐:硫酸镍25g/L 络合剂:柠檬酸钠20g/L
缓冲剂:氯化铵15g/L 还原剂:次亚磷酸钠25g/L
pH调节剂:氢氧化钠 加至pH值为7.0-8.5
稳定剂:硫脲1.5mg/L
镀液操作工艺同实施例1。
经以上镀液及工艺镀出来的镀层性能,包括镀层厚度、镀层含磷量、附着力性能等指标均达到要求。
Claims (9)
1.一种化学镀镍镀液,其特征在于包括以下组分:
可溶性镍盐 20-30g/L
络合剂 15-25g/L
缓冲剂 10-20g/L
次亚磷酸盐还原剂 20-30g/L
选自碱金属氢氧化物的pH调节剂加至镀液pH值为7.0-8.5
稳定剂 1-2mg/L。
2.根据权利要求1所述的一种化学镀镍镀液,其特征在于:所述的可溶性镍盐是硫酸镍。
3.根据权利要求1所述的一种化学镀镍镀液,其特征在于:所述的络合剂是有机酸或有机酸盐。
4.根据权利要求2所述的一种化学镀镍镀液,其特征在于:所述的络合剂是柠檬酸钠。
5.根据权利要求1所述的一种化学镀镍镀液,其特征在于:所述的缓冲剂是氯化铵。
6.根据权利要求1所述的一种化学镀镍镀液,其特征在于:所述的碱金属氢氧化物的pH调节剂是氢氧化钠或氢氧化钾。
7.根据权利要求1所述的一种化学镀镍镀液,其特征在于:所述的次亚磷酸盐还原剂是次亚磷酸钠。
8.根据权利要求1所述的一种化学镀镍镀液,其特征在于:所述的稳定剂是硫脲。
9.一种采用权利要求1-8中任一权利要求所述的化学镀镍镀液进行化学镀镍的工艺,其特征在于:所述的镀液操作温度为50-55℃,pH值为7.0-8.5。
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