CN100476027C - 化学镀镍镀液及工艺 - Google Patents
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Abstract
本发明公开一种化学镀镍镀液,其配方包括可溶性镍盐、络合剂、缓冲剂、次亚磷酸盐还原剂、选自碱金属氢氧化物的pH调节剂以及稳定剂,该镀液操作温度为50-55℃,pH值7.0-8.5。本发明为中温碱性化学镀镍,操作温度较一般化学镀镍温度低,能耗少,镀液稳定,成分简单,工艺易控制操作,同时pH值接近中性,且不用氨水调节,节省成本,大大改善了工作环境。
Description
技术领域
本发明涉及化学镀领域,特别是一种化学镀镍镀液及工艺。
背景技术
化学镀是在金属的催化作用下,通过可控制的氧化还原反应产生金属沉积的过程。它也被称为自催化镀或无电镀。
实现化学镀应具备下述条件:(1)溶液中还原剂被氧化的电位要显著低于金属离子被还原的电位,以使金属有可能在基材上被沉积出来;(2)配好的溶液不产生自发分解,当与催化表面接触时,才发生金属沉积过程;(3)调节溶液的pH、温度时,可以控制金属的还原速度,即可以调节镀覆速度;(4)被还原析出的金属应具有催化活性,这样镀层才能增厚;(5)反应生成物不妨碍镀覆过程的正常进行,即溶液有足够的使用寿命。
化学镀溶液的成分包括金属盐、还原剂、络合剂、缓冲剂、pH调节剂、稳定剂、加速剂、润湿剂和光亮剂等。与电镀相比,化学镀具有镀层厚度均匀、针孔少、不需直流电源设备、能在非导体上沉积和具有某些特殊性能等特点。但成本比电镀高,主要用于不适于电镀的特殊场合。
化学镀中应用最广的是化学镀镍,而化学镀镍溶液通常是用次磷酸盐作还原剂。其反应过程为:
Ni2++H2PO2 -+H2O——→HPO3 2-+3H++Ni
H2PO2 -+H——→P+H2O+OH-(部分H2PO2 -被氢原子还原成磷夹杂在镀层中)
H2PO2 -+H2O——→H++HPO3 2-+H2↑(析氢反应)
这类镀层的特点是:(1)所得镀层为含有一定数量磷的镍磷合金,其磷含量随溶液成分和操作条件的不同而在3%-14%之间变化;(2)镀层为非晶态的层状结构,进行热处理时,随着Ni3P的结晶化,其层状结构逐渐消失,含磷量高于8%时,镀层为非磁性;含磷量低于8%时,其磁性能也与电镀镍层有很大差异;(3)抗蚀性高,特别是在含磷量较高时,在许多浸蚀性介质中均比电镀镍耐蚀得多;(4)硬度高,这种镀层的显微硬度≈500-600HV,比电镀镍层高得多,经400℃热处理后,其硬度可达1000HV以上,可用来代替镀硬铬,韧性比电镀镍层差;(5)易于钎焊,但熔焊性能比镍镀层差;(6)某些化学镀镍层的外观与不锈钢相似,比带微黄色的镍镀层美观。
化学镀镍磷层主要用作化工设备的抗蚀镀层、复杂机械零件的耐磨镀层、电子元器件的钎焊镀层、电子仪器的电磁屏蔽层及非导体的金属化等。
化学镀镍分为酸性化学镀镍和碱性化学镀镍,一般酸性化学镀镍操作温度高(一般在80℃以上),能耗大,镀液不稳定,成分复杂,而一般碱性化学镀镍,虽然操作温度较低,但须加入大量氨水来维持镀液的pH值,药品消耗多,生产成本高,并且由于氨水的挥发性,造成操作环境很差。化学镀镍的镀液一般含有:例如氯化镍、碳酸镍、或硫酸镍等的待沉积的金属的盐,一种能将金属离子还原为金属的还原剂,一种络合剂和pH调节剂。目前最广泛的是应用次磷酸盐为还原剂,以及氨水作为pH调节剂,在离子沉积过程中,因为反应产生气态和离子态的氢,因此必须不断加入大量氨水来维持镀液的pH值,而氨水的挥发性产生强烈的气味,造成操作环境很差,且废水处理复杂。而非挥发性的碱,如碱金属氢氧化物,由于在先前的研究中表明会对镀液的稳定性、以及对金属镀层的质量产生不利影响,在某些情况下,甚至会导致镀液失效的严重后果,因此一直未用于控制此类型的化学镀镍镀液的pH值。但由于碱金属氢氧化物与氨水相比,具有对环境污染较少,废液处理容易等明显优点,因此如何才能采用碱金属氢氧化物调节镀液pH值仍然是目前镀液开发的主要方向。
例如在中国专利申请,申请号为02815773.7,公开了一种化学镀镍镀液及其方法,采用了次磷酸钠Sodium hypophosphite作为还原剂,碱金属氢氧化物、碱土金属氢氧化物等作为pH调节剂,虽然无须采用氨水,但是其工艺操作非常繁复,由于操作温度约在80-90℃之间,而用碱金属氢氧化物调节前必须将化学镀液冷却到60℃以下,因此在该申请技术中,要调节pH值时,首先要将高温镀液的一部分规律地或连续地从镀槽中移出,冷却至60℃以下,检测该部分移出镀液的pH值,加入pH调节剂调节pH值后,再将该部分镀液送回镀槽,不仅增加了设备成本,而且不便于生产操作。
发明内容
为解决上述问题,本发明的目的是提供一种化学镀镍镀液及工艺,其采用碱金属氢氧化物来调节镀液的pH值,而无须特别的工艺流程,实现了中温碱性化学镀镍。
本发明的目的是这样实现的:一种化学镀镍镀液,其特征在于包括以下组分:
可溶性镍盐 20-30g/L
络合剂 15-25g/L
缓冲剂 10-20g/L
次亚磷酸盐还原剂 20-30g/L
选自碱金属氢氧化物的pH调节剂加至镀液pH值为7.0-8.5
稳定剂 1-2mg/L。
采用上述化学镀镍镀液进行化学镀镍的工艺,其镀液操作温度为50-55℃,pH值7.0-8.5。
本发明为中温碱性化学镀镍,操作温度较一般化学镀镍温度低,能耗少,镀液稳定,成分简单,工艺易控制操作,同时pH值接近中性,且不用氨水调节,节省成本,大大改善了工作环境。
具体实施方式
本发明的一种化学镀镍镀液,其包括有水、可溶性镍盐、络合剂、次亚磷酸盐还原剂、选自碱金属氢氧化物的pH调节剂,除此以外,还含有缓冲剂、稳定剂等其它添加剂。
可溶性镍盐一般采用来源广、成本较低、溶解度较好的硫酸镍,而其它符合溶解度标准的任何镍盐均是适合的。在镀液中可溶性镍盐浓度可在20-30g/L范围内。
还原剂优选次亚磷酸盐,特别是次亚磷酸钠。在镀液中还原剂浓度可在20-30g/L范围内。
pH调节剂不含氨水或铵离子,采用碱金属氢氧化物,如氢氧化钠、氢氧化钾。添加至镀液的pH值维持在7.0-8.5之间。
络合剂的选择很多,包括各种有机酸或有机酸盐,如柠檬酸、乳酸、酒石酸、琥珀酸、苹果酸、葡萄糖酸等,或以上有机酸的盐。在镀液中络合剂浓度可在15-25g/L范围内。
缓冲剂能将pH值控制在某一程度,优选氯化铵,在镀液中浓度为10-20g/L。
稳定剂用于稳定镀液组分,优选硫脲,在镀液中浓度为1-2mg/L。
镀液工艺,镀液操作温度在50-55℃,镀液的pH值维持在7.0-8.5之间。操作时间视产品而定,本发明的镀速高,EMI化学镀镍只需6-8分钟,大大提高了生产效率。不施镀存放时,不必降低酸碱度,可节省药品的用量。
下面通过具体的实施例子来进一步说明,但本发明并不限于以下实施例。
实施例1
工艺配方组成
主盐:硫酸镍Nickelous sulfate(NiSO4·7H2O)20g/L
络合剂:柠檬酸钠Sodium citrate(Na3C6H5O7·2H2O)15g/L
缓冲剂:氯化铵Ammonium chloride(NH4Cl)10g/L
还原剂:次亚磷酸钠Sodium hypophosphite(NaH2PO2·H2O)20g/L
pH调节剂:氢氧化钠Sodium hydroxide(NaOH)加至pH值为7.0-8.5
稳定剂:硫脲Thiourea((NH2)2CS)1mg/L
镀液操作工艺
温度:50-55,pH值:7.0-8.5。由于镀槽温度低,因此调整pH值时可直接将氢氧化钠添加到镀槽的镀液内,而无须额外的降温冷却工序。随着镍盐和次亚磷酸盐浓度的增加,沉积速度逐渐提高,而后趋于稳定或稍有降低,但此时溶液稳定性下降。这两种药品是化学镀镍的主要消耗成分,要经常补充。补充时两者应分别溶解加入,加入时溶液温度低一些为好,并要有良好的搅拌。若能用自动控制仪表带计量泵补加,最为理想。
实施例2
工艺配方组成
主盐:硫酸镍30g/L 络合剂:柠檬酸钠25g/L
缓冲剂:氯化铵20g/L 还原剂:次亚磷酸钠30g/L
pH调节剂:氢氧化钠加至pH值为7.0-8.5
稳定剂:硫脲2mg/L
镀液操作工艺同实施例1。
实施例3
工艺配方组成
主盐:硫酸镍25g/L 络合剂:柠檬酸钠20g/L
缓冲剂:氯化铵15g/L 还原剂:次亚磷酸钠25g/L
pH调节剂:氢氧化钠加至pH值为7.0-8.5
稳定剂:硫脲1.5mg/L
镀液操作工艺同实施例1。
经以上镀液及工艺镀出来的镀层性能,包括镀层厚度、镀层含磷量、附着力性能等指标均达到要求。
Claims (9)
1.一种化学镀镍镀液,其特征在于包括以下组分:
可溶性镍盐 20-30g/L
络合剂 15-25g/L
缓冲剂 10-20g/L
次亚磷酸盐还原剂 20-30g/L
选自碱金属氢氧化物的pH调节剂加至镀液pH值为7.0-8.5
稳定剂 1-2mg/L。
2.根据权利要求1所述的一种化学镀镍镀液,其特征在于:所述的可溶性镍盐是硫酸镍。
3.根据权利要求1所述的一种化学镀镍镀液,其特征在于:所述的络合剂是有机酸或有机酸盐。
4.根据权利要求2所述的一种化学镀镍镀液,其特征在于:所述的络合剂是柠檬酸钠。
5.根据权利要求1所述的一种化学镀镍镀液,其特征在于:所述的缓冲剂是氯化铵。
6.根据权利要求1所述的一种化学镀镍镀液,其特征在于:所述的碱金属氢氧化物的pH调节剂是氢氧化钠或氢氧化钾。
7.根据权利要求1所述的一种化学镀镍镀液,其特征在于:所述的次亚磷酸盐还原剂是次亚磷酸钠。
8.根据权利要求1所述的一种化学镀镍镀液,其特征在于:所述的稳定剂是硫脲。
9.一种采用权利要求1-8中任一权利要求所述的化学镀镍镀液进行化学镀镍的工艺,其特征在于:所述的镀液操作温度为50-55℃,pH值为7.0-8.5。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CNB2005100358258A CN100476027C (zh) | 2005-07-11 | 2005-07-11 | 化学镀镍镀液及工艺 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CNB2005100358258A CN100476027C (zh) | 2005-07-11 | 2005-07-11 | 化学镀镍镀液及工艺 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN1896308A CN1896308A (zh) | 2007-01-17 |
CN100476027C true CN100476027C (zh) | 2009-04-08 |
Family
ID=37608948
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CNB2005100358258A Expired - Fee Related CN100476027C (zh) | 2005-07-11 | 2005-07-11 | 化学镀镍镀液及工艺 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN100476027C (zh) |
Families Citing this family (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101831643B (zh) * | 2010-05-24 | 2012-09-19 | 深圳市华傲创表面技术有限公司 | 化学镀镍稳定剂以及化学镀镍液 |
CN101845625B (zh) * | 2010-06-01 | 2012-03-21 | 无锡阿尔法电子科技有限公司 | 一种在电容式触摸屏表面进行化学镀金的方法 |
CN102766859B (zh) * | 2011-05-06 | 2014-01-22 | 中国人民解放军海军工程大学 | 一种海绵铁除氧滤料改性方法 |
CN102312229B (zh) * | 2011-09-26 | 2013-09-25 | 武汉材料保护研究所 | 以化学沉积镍磷合金层封闭钢铁表面陶瓷喷涂层孔隙的方法 |
CN102534700B (zh) * | 2012-02-29 | 2014-10-22 | 山东恒达精密薄板科技有限公司 | 一种连续生产电镀镍锌耐指纹板的工艺方法 |
CN103276374A (zh) * | 2013-05-30 | 2013-09-04 | 延康汽车零部件如皋有限公司 | 化学镍工艺 |
CN104561951A (zh) * | 2014-07-04 | 2015-04-29 | 广东丹邦科技有限公司 | 化学镀镍磷合金的方法、镀液及镍磷合金层 |
CN104694913B (zh) * | 2015-04-10 | 2017-10-31 | 湖南大学 | 一种镁合金无氟化学镀镍溶液及其镀镍工艺 |
CN108193191B (zh) * | 2018-01-02 | 2021-10-26 | 京东方科技集团股份有限公司 | 掩膜板及其制备方法 |
CN109280945A (zh) * | 2018-06-08 | 2019-01-29 | 深圳市瑞世兴科技有限公司 | Pcb/fpc干膜前处理用金属基铜面防氧化增强剂及其处理方法 |
CN113502467A (zh) * | 2021-07-09 | 2021-10-15 | 贵州理工学院 | 一种镍磷镀件和低温中性简化化学镀镍磷的方法 |
CN113930751B (zh) * | 2021-10-15 | 2024-01-09 | 北京青云航空仪表有限公司 | 一种超声波瞬断法化学镀镍工艺 |
CN115287638A (zh) * | 2022-08-02 | 2022-11-04 | 东莞中锐表面处理有限公司 | 一种低温化学镍药水、制备方法及施镀方法 |
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---|---|---|---|---|
US5017410A (en) * | 1988-05-23 | 1991-05-21 | United Technologies Corporation | Wear resistant electroless nickel-boron coating compositions |
-
2005
- 2005-07-11 CN CNB2005100358258A patent/CN100476027C/zh not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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---|
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Publication number | Publication date |
---|---|
CN1896308A (zh) | 2007-01-17 |
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---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
C14 | Grant of patent or utility model | ||
GR01 | Patent grant | ||
C17 | Cessation of patent right | ||
CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |
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