CN1741972A - 具有金红石结构的氧化钛－铝和/或氧化铝透明涂层 - Google Patents

具有金红石结构的氧化钛－铝和/或氧化铝透明涂层 Download PDF

Info

Publication number
CN1741972A
CN1741972A CNA2004800029362A CN200480002936A CN1741972A CN 1741972 A CN1741972 A CN 1741972A CN A2004800029362 A CNA2004800029362 A CN A2004800029362A CN 200480002936 A CN200480002936 A CN 200480002936A CN 1741972 A CN1741972 A CN 1741972A
Authority
CN
China
Prior art keywords
coating
transparent
preferred
titanium oxide
lamp
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CNA2004800029362A
Other languages
English (en)
Other versions
CN100383073C (zh
Inventor
A·里茨
M·费格尔
B·亨谢
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Koninklijke Philips NV
Original Assignee
Koninklijke Philips Electronics NV
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Koninklijke Philips Electronics NV filed Critical Koninklijke Philips Electronics NV
Publication of CN1741972A publication Critical patent/CN1741972A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN100383073C publication Critical patent/CN100383073C/zh
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
    • C03C17/3411—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/001—General methods for coating; Devices therefor
    • C03C17/003—General methods for coating; Devices therefor for hollow ware, e.g. containers
    • C03C17/004—Coating the inside
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/001—General methods for coating; Devices therefor
    • C03C17/003—General methods for coating; Devices therefor for hollow ware, e.g. containers
    • C03C17/005—Coating the outside
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/22—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
    • C03C17/23—Oxides
    • C03C17/245—Oxides by deposition from the vapour phase
    • C03C17/2456—Coating containing TiO2
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/08—Oxides
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34—Sputtering
    • C23C14/35—Sputtering by application of a magnetic field, e.g. magnetron sputtering
    • C23C14/352—Sputtering by application of a magnetic field, e.g. magnetron sputtering using more than one target
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00—Coatings on glass
    • C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
    • C03C2217/21—Oxides
    • C03C2217/212—TiO2
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00—Coatings on glass
    • C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
    • C03C2217/21—Oxides
    • C03C2217/214—Al2O3
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2218/00—Methods for coating glass
    • C03C2218/10—Deposition methods
    • C03C2218/15—Deposition methods from the vapour phase
    • C03C2218/154—Deposition methods from the vapour phase by sputtering

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
  • Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Surface Treatment Of Glass (AREA)
  • Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)
  • Vessels And Coating Films For Discharge Lamps (AREA)
  • Optical Filters (AREA)

Abstract

基于氧化钛的透明热稳定涂层，具有高折射率和提高的热和机械性能，包括氧化钛和至少一种添加剂，添加剂选自铝和/或氧化铝，从而涂层中Al原子相对于涂层中金属原子总数的比例在2－40％的范围内。

Description

具有金红石结构的氧化钛-铝和/或氧化铝透明涂层
本发明一般涉及具有至少一种添加剂的透明氧化钛涂层，添加剂选自铝和/或氧化铝，从而涂层具有金红石结构。
本发明尤其涉及基于具有金红石结构的透明氧化钛涂层的薄涂层或薄膜形式的透明涂层，由此氧化钛涂层包含铝或氧化铝。
已知将涂层涂覆到灯如投射灯的外或内表面上，以便从光谱中选择性地反射选定的在特定波长范围内的光成分。在这样做时，根据涂层的工作原理和灯泡的几何形状，可覆盖整个灯泡。例如，市售的卤灯就是这种情况。在这种卤灯中，灯丝或金属丝被布置在玻璃灯泡中心，光干涉薄膜或光干涉涂层系统被涂覆到灯泡的外表面上。光干涉涂层可透过可见光范围内的光线，而红外线被反射。灯丝发射的光中包含的红外线被光干涉涂层反射回到灯丝，导致灯丝变热。这导致发射光中红外线的比例降低，和发光效率的提高。
作为灯泡全部涂层的替代方案，也可只涂覆一定比例的灯泡表面。例如，碗状反光灯就是这种情况，并尤其用于高性能灯。对于投射用途，高强度放电(HID)灯和尤其是超高性能(UHP)灯因其光学特性而优选。对于这些应用，需要尽可能集中的光源，因而在电极端头之间形成的弧不超过大约0.5-2.5mm的长度。另外，需要尽可能高的光强度。
用UHP灯可很好地获得这些特性。这些灯在厚壁石英玻璃灯泡中包括汞灯头，其又被粘合入椭圆形玻璃体之内，以便汞灯头的等离子体中点定位与椭圆体的焦点一致。椭圆体的内表面具有选择性介电薄反射镜涂层。
由于光谱效应的巨大灵活性，因此多层干涉滤光片经常用于光学涂层。这种多层干涉滤光片经常包括至少两种折射率不同的不同介电材料的叠层。这些滤光片的透射和反射区域取决于涂覆的高折射率和低折射率材料的独立涂层的涂层厚度。这种滤光片可包括独立涂层，如在非常简单的反射镜涂层中，或几百个涂层，如在光学通信的多路转换器中。
在这种滤光片叠层的设计中，所用材料的折射率差异尤其重要。通常，这种折射率差异越大，则越容易获得指定的光谱目标功能。例如，在折射率差异高时，设计中涂层的数量和总厚度较低，这对生产成本有正面影响。除了这些光学方面外，热机械性能如应用温度范围内的相转变和材料相对于基材的热膨胀系数也对产品生产能力和使用性能有较大重要性。
对于灯上的光学涂层，尤其是对于具有石英灯泡的灯，由于热膨胀系数几乎完美地与灯壁材料匹配，并由于低折射率涂层的低折射率，因此通常使用SiO2。对于高折射率涂层，可使用各种材料，例如Ta2O5、Si3N4和Nb2O5。尤其有利的材料是TiO2，在提到的材料中，其有最高的折射率。尤其TiO2还具有在高达约650℃时稳定的低温型锐钛矿，和在极限温度范围内稳定的高温型金红石。这里，金红石具有较高的折射率。
对于所有的涂覆方法，是生产条件和后续处理决定存在TiO2的改性型式和其折射率。在目前的涂覆方法中，TiO2沉积后作为锐钛矿存在，并因此作为具有低折射率的材料。通过在转变温度以上回火可实现向较高折射率的金红石相的转变，或在制造过程中通过独立的工艺步骤，或简单地通过操作灯，如果操作温度足够高的话，例如用高性能HID灯头。
从JP08051103得知，已知卤灯的涂层包括TiO2-Al2O3，并通过湿化学法涂覆然后烧制。这种涂层具有机械不稳定性并可能破裂。尤其是由于利用湿化学法获得大的涂层厚度。
DE4037179A1公开了添加包括Sb、Si和Ta的组中的至少一种金属添加剂，其能提供在高温作用下控制进行从无定形或锐钛矿型TiO2相转变到金红石型TiO2的可能性。为此，按金属原子比M/Ti为0.1-30％使用这些金属添加剂。
但是，相转变导致许多问题。首先，由于必要的转变温度，因此只能在热稳定基材上进行。因此按照所述方式不能获得在这些温度下不允许热处理的基材涂层。另外，TiO2从锐钛矿到金红石的相变与晶格特性的变化有关，因而材料的密度提高约10％。因此，涂层必须在几何学上收缩，这导致涂层中的应力。尤其是对于较厚的涂层叠层(总厚度超过1μm)，这些造成滤光片中有裂纹，这可能导致滤光片在灯使用期限内损坏。
相转变或材料性能的变化可导致有关部件的失效，例如通过折射率和/或涂层厚度的变化。
本发明的目的是制造高折射率氧化钛涂层，其具有高的金红石含量，具有提高的温度稳定性，不进行具有不可避免的相关缺点的高温处理就可使用。
现在已发现，如果在涂层中掺入少量铝或氧化铝，则能得到具有类金红石的短程有序结构的高折射率氧化钛涂层。折射率优选相当于纯金红石(TiO2)和氧化铝(Al2O3)的混合物。
在第一种实施方案中，本发明的目的是透明的热稳定的涂层，包含氧化钛和至少一种添加剂，添加剂选自铝和/或氧化铝，其中具有金红石结构的涂层中Al原子相对于涂层(1)中全部金属原子的比例在2-40％的范围内。
根据本发明的涂层优选为无定形的并具有类金红石的短程有序结构，借此涂层优选不具有锐钛矿结构。
根据本发明的这种涂层可用于涂覆照明装置，如适合于照明目的的灯，尤其是在机动车中。
根据本发明的透明尤其是光学透明的涂层包括氧化钛，并包含铝和/或氧化铝添加剂。使用指定量的这种Al添加剂，相对于透明涂层中金属原子(Me＝金属原子)的总数计，应用下面的原子比：
              0.02≤Al/Me≤0.40
其中Me代表透明涂层中金属原子的总数。根据本发明的优选透明涂层没有除Al和Ti之外的金属原子，因此应用下面的原子关系：
              0.02≤Al/(Al+Ti)≤0.40
其中元素符号代表各个金属原子的数量。
根据本发明的又一类优选透明折射涂层包含氧化形式的铝和钛，优选Al2O3或TiO2。因此，对于包括氧化钛和氧化铝的光学涂层，Al原子相对于涂层中金属原子总数的比例为2-40％，尤其为10-30％，优选15-20％。
下面段中的说明各自专门涉及干涉叠层的高折射率涂层。在干涉叠层中，高折射率材料与低折射率材料的比例取决于滤光片设计。但是，根据本发明，也可使用包含2种以上涂层材料的滤光片，例如最少2种不同的高折射率材料。
根据本发明的光学涂层的金红石比例应尤其为至少75wt％，优选＞80wt％，更优选＞85wt％，甚至更优选＞90wt％，和最优选95wt％-100wt％，相对于该涂层中二氧化钛组分的总比例计，按重量计。
涂层中钛原子的比例相对于涂层中金属原子数为60-98％，尤其为70-90％，优选80-85％。
氧化钛，在说明书中也称为TiO2，在本发明的范围内还可代表TiOx，其中x＝1.9-2.1。
氧化铝，在说明书中也称为Al2O3，在本发明的范围内还可代表Al2Ox，其中x＝2.9-3.1。
Al原子相对于涂层中金属原子总数的比例可在2-40％的范围内，尤其为5-35％，优选10-30％，还优选为15-20％。
最优选涂层中Al原子相对于涂层中金属原子总数的比例为10-20％，涂层中Ti原子相对于涂层中金属原子总数的比例为80-90％。
选择根据本发明的涂层的铝比例和钛比例，以便各个比例组成100wt％最大值，相对于这种涂层的总重量计。
可由至少一个包括钛和/或氧化钛的靶与至少一个包括钛和铝的金属合金靶，在20-300℃的在基材上的沉积温度下，通过化学气相沉积尤其是溅射在要被涂覆的基材表面上，于规定氧分压p下，沉积具有金红石结构的热稳定透明涂层，涂层包含氧化钛和至少一种添加剂，添加剂选自铝和/或氧化铝，同时获得金红石结构。由至少一个金属钛靶和一个铝靶沉积也是可以的。
操作通常发生在氩气-氧气气氛中。
按照这种方式，可在比用已知方法低得多的温度下形成金红石相或金红石结构。这还具有加热应不超过150℃的基材现在也可涂覆具有光学价值的金红石的优点。已经说过，金红石具有非常高的折射率。
本文描述的发明目的是制备不需要高温处理就可使用的金红石，同时避免所述的稳定性问题。除此以外，本发明旨在在涂布时直接产生具有金红石结构并具有高折射率的涂层。
将根据本发明的涂层放在或涂布在主体上或主体内，开辟了用于实现金红石非常高的折射率以及因此而来的有效和成本节约设计的可能性，其中主体如聚束装置、分束装置、光学纤维部件、灯、玻璃、尤其是防热玻璃、塑料、气体传感器、透明干涉滤光片、透明滤光片系统、尤其是加热灯反射器、冷却灯反射器、激光反射镜、抗反射系统、带通滤光片、边缘滤光片(edge filter)、低辐射玻璃(low-e glass)和/或电子应用的主体，如电子部件、扩散势垒(diffusion barrier)或电容器元件或光学信息技术中的灯或部件。这种优点对不允许在150℃以上进行任何热处理的产品或基材也是有效的。另外，当在工作温度高的灯上使用本文描述的材料时，从锐钛矿到金红石的相变和相关的灯寿命问题都不会出现。
其它应用可为光学纤维或微光学部件上的聚束或分束装置，例如用于特定波长范围的选择或分开各种信号通道上的信号。
根据本发明的涂层特征在于不必通过退火来提高的高折射率。
根据本发明的透明氧化涂层在涂层厚度为400nm和波长λ＝550时折射率为n＝2.3至n＝2.68，优选n＝2.4至n＝2.65，最优选n＝2.45至n＝2.60。显然，较高的折射率比较低的折射率优选，即折射率越高，光学性能越好。
除非另外指明，均在23℃的环境温度下进行测量。
根据本发明的透明氧化涂层在950℃的炉中热处理15小时后仍保持透明，并在波长λ＝550nm时具有n＝2.3至n＝2.68的折射率，优选n＝2.40至n＝2.45，更优选n＝2.45至n＝2.60。
对于涂层厚度为400nm的根据本发明的氧化涂层，在900℃的炉中回火15小时后的色散指数，在下文还用“iHaze”表示，具有≥0nm至80nm的iHaze值，优选20-70nm的iHaze值，更优选30-60nm的iHaze值，最优选40-50nm的iHaze值。最佳的涂层没有色散，因此iHaze≥0nm。因此，最优选的是≥0nm的iHaze值。其它合适的iHaze值为≥1nm、≥10nm和≥15nm。必须强调，尽可能高的0nm-1nm的iHaze值是最优选的。
TiAlOx：在900℃的炉中回火15小时后
       原子比           散射
Ti/(Ti+Al)＝0.75    iHaze＝33nm
Ti/(Ti+Al)＝0.81    iHaze＝22nm
Ti/(Ti+Al)＝0.90    iHaze＝34nm
Ti/(Ti+Al)＝0.97    iHaze＝45nm
根据本发明的透明涂层优选不单独而是与其它涂层组合涂到基材尤其是透明基材上。按照这种方式，可得到透明干涉涂层。这种透明干涉涂层由至少两个彼此相向并叠置接触或彼此对置接触的且各自具有不同折射率的折射涂层或其它涂层组成。
设计根据本发明的优选透明干涉涂层，用于反射在250-5000nm的透明光谱波长范围内的光，优选380-3,000nm，更优选350-2,500nm，甚至更优选400-2,000nm，尤其是420-1,500nm，使得干涉涂层具有至少一个第一涂层和根据本发明的第二涂层，第二涂层具有低于第一涂层折射率的折射率，它们被交替布置在基材上，优选在透明基材上。其它合适的反射范围为680-2,600nm，800-2,500nm，820-2,450nm，和850～2400nm，尤其优选范围从1,000到1,900nm，和从1,050到1,800nm。
第二涂层在λ＝550nm波长时折射率为n＝1.32至n＝2.0，优选n＝1.35至n＝1.80，最优选n＝1.44至n＝1.75。其它合适的n值为1.36；1.42；1.46；1.48和1.50。例如，对于SiO2涂层，折射率可为n＝1.45。
因此本发明的又一目的是用于反射透明光谱指定波长范围内的光的透明干涉涂层，借此涂层具有第一涂层，和折射率低于第一涂层折射率的第二涂层，它们在透明基材上交替布置，由此第一涂层主要包括氧化钛，并包含至少一种添加剂，添加剂选自铝和/或氧化铝，从而Al原子相对于涂层中金属原子总数的比例在2-40％的范围内。
因此，根据本发明的透明干涉涂层具有根据本发明的透明涂层和至少一个具有低折射率的另外涂层。类似于上述，根据本发明的透明涂层也是优选的，即其中第一涂层包括氧化钛和氧化铝，Al原子相对于涂层中金属原子总数的比例在2-40％的范围内，尤其为5-35％，优选10-30％，更优选15-20％。根据本发明的透明干涉涂层的更多优选特征可从优选透明涂层的上述公开内容中推断出，因此这里无需多说。
具有高折射率的涂层可包含至少一种化合物作为其玻璃形成剂，其中化合物选自磷化合物和硼化合物。
优选使用二氧化硅作为根据本发明的透明干涉涂层中的低折射率涂层。
高或低折射率涂层的厚度可在宽的范围内变化，并例如可在500nm和3μm之间。单独涂层的典型涂层厚度在20和500nm之间，经常在10和200nm之间。
根据本发明的透明干涉涂层系统可包括最少两个涂层，但它也可由依次重复的高和低折射率涂层构成。本发明中可有一系列的高达几百个的涂层。
根据本发明的干涉涂层系统的厚度同样可在宽的范围内变化，并例如可在500nm和3μm之间。根据本发明，干涉涂层系统的合适涂层厚度为50nm到5μm，优选75nm到1.5μm，经常为100nm到1μm。
根据本发明，尤其合适的涂层厚度为50nm到20μm，优选75nm到8μm，经常为100nm到4μm，还经常在300nm到3μm。
本发明的这些和其它方面显而易见自下文中描述的实施方案，并将参照其阐明。
在附图中：
图1显示了根据本发明的透明干涉涂层的剖视侧面图。
如图1所示，透明干涉涂层3包括具有高折射率的涂层1，其主要成分为氧化钛(TiO2)，和具有低折射率的涂层2，其主要成分为二氧化硅(SiO2)。具有高折射率的第一涂层1形成在透明基材4的外表面上；具有低折射率的涂层2则形成在该涂层上。然后交替形成具有高和低折射率的更多涂层1、2，从而形成具有所需数量的涂层1、2的叠置布置。
可在灯泡的内外表面上即两个表面上形成根据本发明的透明干涉涂层，以便反射红外线和允许通过透明光谱可见光范围内的光线。
本发明的又一目的是包括根据本发明的透明干涉涂层的灯。根据本发明的这种灯包括透明灯泡、布置在灯泡内用于发光的灯丝、和根据本发明的透明干涉涂层，透明干涉涂层设置在灯泡的内和/或外侧上，以反射红外线和允许通过可见光范围内的光线。
根据本发明的这种灯可例如被设计成卤灯，或碗状反光灯，或高性能灯，例如高强度放电(HID)灯和尤其是超高性能(UHP)灯。
可按照各种方法在基材上形成具有至少一种添加剂的根据本发明的氧化钛涂层，其中添加剂选自铝和/或氧化铝。
生产薄涂层的合适方法可大致分成四类：物理气相沉积(PVD)方法、化学气相沉积(CVD)、电镀和喷涂方法。喷涂方法可适合于厚涂层，因为它们具有非常高的生长速度。CVD和电镀通常不太适合于形成氧化涂层。不过，等离子激励化学气相沉积(PICVD)也能是合适的。
按照本发明，可使用的化学气相沉积方法有物理气相沉积、反应磁控管溅射、离子溅射、离子或等离子增强沉积、等离子激励化学气相沉积和本领域技术人员已知的其它溅射方法。
PVD方法又可分成三种技术：沉积技术、溅射方法和激光烧蚀方法(PLD)。
其中，溅射方法尤其适合于氧化涂层，并因此是优选的。
术语“溅射”表示利用离子的阴极金属喷镀，或在更广泛的意义上还表示溅射沉积喷镀材料到基材上。
在溅射方法最简单的实施方案中，二极管装置位于具有带正电荷的阳极和带负电荷的阴极的容器内部。抽空容器直到有仅仅几mbar压力的残余气体。使用的残余气体优选为惰性气体(通常为氩气)，以防止与靶或基材的反应。在阳极和阴极之间施加150和3,000V之间的电压。电子向着阳极加速，与路上遇到的氩原子碰撞并使它们电离。离子化的带正电荷的氩原子然后向着阴极加速，并从阴极或位于阴极顶部的靶驱逐出原子。除了靶的中性原子外，还释放出二次电子，其使另外的氩原子电离。因此，在合适的条件下，在两个电极间就产生稳态的等离子。从靶发射出的中性原子被均匀地分布在整个室内并在基材上产生薄涂层。
中性靶原子和电离的溅射气体原子的动能在1和300eV之间。与蒸发技术中原子的动能为大约0.1eV相比，这是非常高的。尤其是在场中被加速的离子的这种高动能比利用蒸发方法更有利于较紧密和较光滑的涂层。
这种一般的溅射方法已在许多方面得到改进。代替简单的二极管装置，三极管或RF二极管也可用于等离子产生。对于磁控管溅射，磁场的施加提高了离子化几率和溅射速度。
对于DC磁控管溅射方法，除了大约1kV的二极管电压，还施加磁场。通过靶边缘周围的环形磁体和中间的中央磁体产生磁场，并在靶表面上具有几百特斯拉的强度。
磁场将产生的二次电子保持在靶附近。这提高了电子-原子离子化碰撞的几率，并也因此提高了靶附近的等离子密度。这比常规溅射方法提供了两个大的优势：首先，溅射速度提高，其次，等离子需要较低的压力燃烧。较高的溅射速度对工业生产非常重要，以便保证较短的生产时间。而且，较低的溅射压力还有利于薄涂层。因为压力较低，因此存在更少的外来杂质气体原子，因而溅射的涂层更纯。
氧分压设定在p＜100mPa。根据本发明，合适的氧分压可在5和25mPa之间，尤其优选＜20mPa。根据本发明，合适的其它氧分压在3和40mPa之间，和4和20mPa之间，尤其优选在8和14mPa之间。
本发明的又一目的是使用溅射技术制造具有至少一种添加剂的氧化钛透明涂层的方法，其中添加剂选自铝和/或氧化铝，其中钛和/或氧化钛的靶同时与包括铝和/或氧化铝的靶一起使用。或者，也可从包括钛和铝的合金靶或包括氧化钛和氧化铝的陶瓷复合靶产生涂层。
根据本发明的方法优选使用氩气作为残余气体进行，借此优选的方法以所谓的氧化物模式即在氧存在下进行。本文中，优选的方法特征在于该方法是在5和20mPa之间的氧分压下进行，优选在7和15mPa之间，尤其在10和12mPa之间。
根据本发明的方法的一个特殊优点在于可选择低操作温度。因此，根据本发明的优选方法特征在于该方法是在20和300℃之间的基材温度下进行，优选在50和280℃之间，尤其在80和250℃之间，最优选在100和200℃之间。
例如不用加热也可得到根据本发明的涂层性能和温度稳定性。尤其优选的温度范围因此也为50-150℃。
在根据本发明的操作方法中，即使在低温下，也能得到折射率相当于相应比例的金红石改性型式的氧化铝和二氧化钛混合物的混合氧化物。随后退火以提高折射率是不必需的，因而一方面涂层和基材热负荷的缺点被避免，另一方面热敏基材的涂层是可能的。根据本发明的方法提供了一种涂层，其中TiO2组分为无定形和高折射率形式，并且在热影响下其结晶粉末极其有限。在进一步退火中，TiO2成分不会形成任何锐钛矿，从而也不会发生锐钛矿→金红石的相变。这导致根据本发明涂层的机械和热稳定性提高。与未掺杂TiO2的约800℃相比，在高达约950℃下涂层的温度稳定性和透明度显著增加。
根据本发明的方法还提供了以高透明质量为特点的非常光滑的涂层。根据本发明的涂层的折射率在λ＝550nm处在n＝2.2和n＝2.65之间，与Al含量有关。
根据本发明的方法的优选变种使用磁控管溅射技术，又优选双磁控管溅射方法。优选磁控管或双磁控管溅射方法的场强度在10和大约200mT之间。
不管使用磁控管还是双磁控管方法，脉冲方法变种是优选的。本文中，例如，根据本发明的这样的方法是优选的，即该方法在10和100kHz之间的脉冲频率下进行，优选在10和70kHz之间，尤其在30和50kHz之间。
为了获得具有优选纯金红石相的涂层，溅射密度在9和15W/cm2之间，尤其优选在11和12W/cm2之间。溅射密度可在1W/cm2和40W/cm2之间。
溅射密度定义为归一化到所用靶面积的感应过程功率。
改变根据本发明涂覆的涂层厚度的其它可能性是调整施加到各个Ti或Al靶的功率。本文中，根据本发明的方法优选施加到靶的总功率P＝P钛靶+P铝靶在2,000和10,000W之间，优选在3,000和6,000W之间，尤其在3,500和5,000W之间。
根据本发明，溅射混合氧化物涂层是可能的，例如由2种不同的金属靶或由一个或多个金属合金靶和由陶瓷氧化物靶。
操作通常在氧/氩气氛中进行。
通过下面的非限制性实施方案阐明本发明。
实施例：
使用双极脉冲双磁控管溅射法在尺寸为50×50mm的石英玻璃基材上产生根据本发明的氧化钛和氧化铝的透明涂层。
为此，在氧化物模式中以40kHz的脉冲频率同时侵蚀由钛或铝制成并沿边彼此成20°布置的两个金属磁控管靶，氧分压为11mPa。每个靶的周期为25μs。在基材位置处施加到磁控管的磁场的水平分量为大约30mT。
钛和铝成分的比例在施加到两个靶上分别可调的功率内变化，而总功率P(P＝P钛靶+P铝靶)总是4kW。
利用根据本发明的这种方法，可得到涂层厚度为400nm的透明氧化涂层。Al/(Al+Ti)的比为0.13，λ＝550nm处的折射率为n＝2.55。
测量条件总说明：
T＝23℃(环境温度)
大气压力＝实验室空气(常压)
回火过程
在常压下于实验室空气中回火。回火时间：在所有情况下均为15小时。
X-射线衍射测量法
为了能清楚相组成和晶粒大小，在Siemens D5000衍射仪上进行X-射线衍射测量。本文中，在(θ-2θ)方法中，使用没有单色仪的Bragg-Brentano几何学。Ni滤光片排除入射的Cu-Kβ线。
使用Cu-Kα管作为辐射源。典型的测量参数为：步长(step bystep)：2θ＝0.02°，积分时间：Δt＝1s。对于30mA的射束电流，使用的加速电压为40kV。
对于测定相分配，使用Siemens开发并集成到测量软件中的程序包。
雾度(Haze)
样品色散水平的量化基于称为“雾度”的参数的测定。利用这种测量方法，使用光谱光度测量仪测定透射的电磁辐射的扩散色散分量并将它归一化到总传输电流(T总＝T镜面+T扩散)。透射中的雾度因此被定义在0和1之间的值范围内，
应注意，由于干涉效应，测量曲线通常包含电流调制，其不能由于归一化被充分补偿。但是，由于在宽的光谱范围内测量，因此它们的影响被最大程度地抑制。
利用合适的数学方法，可从光谱测量数据量化样品各自的色散水平。在目前的运用中，为此并按照方程式(2)，积分可见光谱范围(λ＝380...800nm)中曲线下的面积(“iHaze”)，从而使电流调制均等。由于所有样品的涂层厚度设定在大约400±10nm，可无需考虑色散的任何密集效应。玻璃基材由于任何不均匀性或表面不完全清洁造成的色散贡献在这种评估中也可被忽略，因为它在测量精度的数量级范围内。作为无因次“Haze”变量光谱积分的结果，得到的“iHaze”变量有因次[长度，以nm为单位]。
iHaze = ∫ 380 nm 800 nm Haze ( λ ) dλ - - - ( 2 )
测量仪器：在Varian的Cary 5E光谱光度测量仪上用非偏振光在350-800nm的光谱范围内进行测量。为了测量扩散透射分量T扩散(λ)，提供积分球(测量点大小：10×10mm)。
本文中，对于垂直辐射入射，透射的电磁辐射的定向和非扩散分量来源于测量球并集中到束流收集器中。扩散信号分量T扩散(λ)在涂有PTFE(聚四氟乙烯)的球(直径110mm)中被捕获，并通过被保护不受直接照射的光电二极管测量。其越高，则样品扩散光越强。由于光在球体积的每个点处在球内表面上多次反射，因此存在相同波长相关的辐射强度。由于强光，检测器不能测量来自样品或来自间接被照射球表面(在密闭束流收集器的情况下)的任何直接信号。如果用硫酸钡板覆盖束流收集器，则除了扩散分量外，镜面分量T镜面(λ)也包含在测量信号中。根据方程式1计算Haze。
椭圆偏振测量法
为确定样品的折射率和涂层厚度，使用椭圆偏振测量法测量。该方法基于波被反射到研究的样品表面上时偏振状态的变化。用两个复合Fresnel反射系数rp和rs的商ρ描述偏振状态的变化。这可用下面的方程式表示：
ρ = r p r s = tan ψ · θ iΔ
其也被称为椭圆偏振测量基本方程。本文中，Ψ代表垂直和平行分量的振幅比变化，Δ度量由于反射引起的两分波(part-wave)之间相差的变化。下标s和p表示垂直于和平行于入射水平面被偏振的分波。按照R.M.A.Azzam，N.M.Bashara，Ellipsometry and polarized light，NorthHolland，Amsterdam(1987)进行折射率的测定。
如果现在为涂层/基材系统限定合适的材料模型，其中其性质(透明常数、涂层厚度)与复合反射系数和测量参数(波长、入射角)结合，则偏振状态的变化允许对一系列重要薄膜参数作出精确阐述。使用标准参数化Lorentz振子模型描述样品透明常数的离差。这定义了具有与固态原子的柔性键的电子在用电磁辐射激发时的振动行为(参见A.Rseler，Infrared Spectroscopic Ellipsometry，Akademie-Verlag，Berlin(1990))。给出的折射率n或n550与波长λ＝550nm有关，并精确到±0.01内。
对于椭圆偏振测量，SENTECH Instruments的分光光度原位外椭圆偏振计SE800是适用的，其以所谓的偏振器补偿器样品步进扫描分析仪(PCSSA)组合工作。
在380-850nm的光谱范围内进行评价，入射角在55和75°(Δ＝5°)之间变化。为了使测量数据适合于模型，使用SENTECH Instruments的称为AdvancedFit的市售评测程序包，其根据单纯形算法结合了数值方法。
引用表：
1.透明涂层(第一涂层)
2.折射率比第一涂层折射率低的第二涂层
3.透明干涉涂层系统
4.可透过基材

Claims (11)

1.一种透明的热稳定涂层，包含氧化钛和至少一种添加剂，该添加剂选自铝和/或氧化铝，特征在于具有金红石结构的涂层中Al原子相对于涂层(1)中金属原子总数的比例在2-40％的范围内。
2.如权利要求1所述的透明涂层，特征在于具有金红石结构的涂层基于氧化钛和氧化铝，其中Al原子相对于涂层(1)中金属原子总数的比例在2-40％的范围内，优选10-30％，更优选15-20％。
3.如权利要求1或2所述的透明涂层，特征在于λ＝550nm时涂层的折射率为n＝2.30至n＝2.68，优选n＝2.40至n＝2.65，更优选n＝2.45至n＝2.60。
4.如权利要求1至3中任意一项所述的透明涂层，特征在于该涂层在950℃的炉中热处理15小时后，保持透明和/或在波长λ＝550nm时折射率为n＝2.30至n＝2.68，优选n＝2.40至n＝2.65，更优选n＝2.45至n＝2.60。
5.如权利要求1至4中任意一项所述的透明涂层，特征在于涂层厚度为400nm的该涂层在900℃的炉中热处理15小时后，保持透明和/或iHaze值≥0nm至80nm，优选20nm至70nm，更优选iHaze值为30nm至60nm，还更优选iHaze值为40nm至50nm。
6.如权利要求1至5中任意一项所述的透明涂层，特征在于该涂层是基本无定形的，优选无定形的，并具有类金红石的短程有序结构，其中该涂层优选不具有锐钛矿结构。
7.一种透明干涉涂层，用于反射透明光谱波长范围内的光，该波长范围为250-5,000nm，优选380nm-3,000nm，更优选350nm-2,500nm，最优选400-2,000nm，尤其为420-1,500nm，其中涂层(3)具有一个或几个第一涂层(1)和一个或几个第二涂层(2)，第二涂层(2)具有比第一涂层(1)低的折射率，它们交替排列在基材(4)上，优选透明基材上，特征在于第一涂层(1)如权利要求1至6中任意一项所述的那样形成。
8.如权利要求7所述的透明干涉涂层，特征在于第二涂层(2)在波长λ＝550nm时折射率为n＝1.32至n＝2.0，优选n＝1.35至n＝1.80，最优选n＝1.44至n＝1.75。
9.一种灯，尤其是高压放电灯，具有如权利要求1至8中任意一项所述的透明涂层和/或透明干涉涂层，特征在于该透明涂层和/或透明干涉涂层提供在灯泡的内和/或外侧上和/或其中。
10.如权利要求1至8中任意一项所述的热稳定透明涂层用于涂覆主体的应用，特征在于主体选自光学信息技术部件，聚束设备，分束设备，光学纤维部件，照明装置尤其是灯、灯罩，气体传感器，玻璃尤其是防热玻璃，塑料，透明元件，滤光片，透镜，镜子，激光镜，尤其是透明滤光片系统，热镜，冷镜，抗反射系统，带通滤光片，边缘滤光片，低辐射玻璃和/或电子应用的主体，如电子部件、尤其是扩散势垒和/或电容器元件。
11.一种制造如权利要求1至8中任意一项所述的具有金红石结构的透明热稳定涂层的方法，该涂层包括氧化钛和至少一种选自铝和/或氧化铝的添加剂，特征在于在20-300℃的沉积温度下由至少一个靶通过气相沉积尤其是溅射将包括氧化钛的涂层在规定氧分压p下沉积到要被涂覆的基材表面上，沉积的同时该涂层获得金红石结构，其中该靶选自钛、氧化钛、铝和/或氧化铝。
CNB2004800029362A 2003-01-28 2004-01-21 具有金红石结构的氧化钛-铝和/或氧化铝透明涂层 Expired - Fee Related CN100383073C (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
EP03100170 2003-01-28
EP03100170.4 2003-01-28

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN1741972A true CN1741972A (zh) 2006-03-01
CN100383073C CN100383073C (zh) 2008-04-23

Family

ID=32798983

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CNB2004800029362A Expired - Fee Related CN100383073C (zh) 2003-01-28 2004-01-21 具有金红石结构的氧化钛-铝和/或氧化铝透明涂层

Country Status (8)

Country Link
US (1) US7550208B2 (zh)
EP (1) EP1590305B1 (zh)
JP (1) JP4713461B2 (zh)
CN (1) CN100383073C (zh)
AT (1) ATE358107T1 (zh)
DE (1) DE602004005571T2 (zh)
TW (1) TWI352071B (zh)
WO (1) WO2004067791A2 (zh)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103029378A (zh) * 2012-09-14 2013-04-10 泉耀新材料科技（苏州）有限公司 一种低折射率二氧化钛减反射增透光照明灯具镀膜玻璃
CN103208404A (zh) * 2013-03-18 2013-07-17 常州凯森光电有限公司 体育场馆专用双涂层大功率节能灯的制备方法

Families Citing this family (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10342397B4 (de) * 2003-09-13 2008-04-03 Schott Ag Transparente Schutzschicht für einen Körper und deren Verwendung
DE102004061464B4 (de) * 2004-12-17 2008-12-11 Schott Ag Substrat mit feinlaminarer Barriereschutzschicht und Verfahren zu dessen Herstellung
CN100485851C (zh) * 2005-07-27 2009-05-06 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司 等离子显示装置
US7728499B2 (en) * 2007-11-28 2010-06-01 General Electric Company Thermal management of high intensity discharge lamps, coatings and methods
JP5234925B2 (ja) * 2008-04-03 2013-07-10 株式会社神戸製鋼所 硬質皮膜およびその形成方法ならびに硬質皮膜被覆部材
JP2009283850A (ja) * 2008-05-26 2009-12-03 Elpida Memory Inc キャパシタ用絶縁膜及びその形成方法、並びにキャパシタ及び半導体装置
US20100102698A1 (en) * 2008-10-23 2010-04-29 Zhibo Zhao High refractive index materials for energy efficient lamps
US8035285B2 (en) 2009-07-08 2011-10-11 General Electric Company Hybrid interference coatings, lamps, and methods
CN103299392A (zh) * 2010-07-20 2013-09-11 沉积科学公司 改善的ir涂层和方法
JPWO2013151091A1 (ja) * 2012-04-06 2015-12-17 日本電気硝子株式会社 光学膜
DE102014220575A1 (de) * 2014-10-10 2015-10-29 Siemens Vai Metals Technologies Gmbh Feuerfestbauteil zum Auskleiden eines metallurgischen Gefäßes
JP6681683B2 (ja) * 2015-08-27 2020-04-15 日本電気硝子株式会社 光学膜及びその製造方法
JP1631398S (zh) * 2018-06-28 2019-05-20
JP1631399S (zh) * 2018-06-28 2019-05-20
JP1632599S (zh) * 2018-06-28 2019-05-27
WO2022020077A1 (en) * 2020-07-22 2022-01-27 Applied Materials, Inc. Doped amorphous optical device films and deposition via incorporation of dopant atoms
TW202300959A (zh) * 2021-03-11 2023-01-01 美商應用材料股份有限公司 藉由物理氣相沉積所沉積的氧化鈦光學裝置薄膜

Family Cites Families (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3995192A (en) * 1975-12-05 1976-11-30 General Electric Company Reprographic fluorescent lamp with improved reflector layer
EP0183770B1 (en) * 1984-05-14 1988-11-23 GORDON, Roy Gerald Color suppressing process
JP2964513B2 (ja) 1988-12-27 1999-10-18 東芝ライテック株式会社 高耐熱性高屈折率複合酸化物薄膜、その形成用組成物及び白熱電球
DE3904552A1 (de) * 1989-02-15 1990-08-16 Patent Treuhand Ges Fuer Elektrische Gluehlampen Mbh Hochdruckentladungslampe fuer den betrieb mit wechselstrom
JPH0773042B2 (ja) 1989-11-24 1995-08-02 東芝ライテック株式会社 管 球
JPH03287757A (ja) * 1990-04-02 1991-12-18 Toyoda Gosei Co Ltd 有色製品の製造方法及び有色製品
ATE130284T1 (de) 1990-07-05 1995-12-15 Saint Gobain Vitrage Verfahren zur bildung einer schicht aus aluminium- titanoxiden auf glas, das so erhaltene glas mit halbleitenden beschichtungen.
US5348805A (en) * 1990-07-05 1994-09-20 Saint-Gobain Vitrage International Formation of a layer of aluminum and tin or titanium oxides on a glass substrate
DE4031489A1 (de) * 1990-10-05 1992-04-09 Ver Glaswerke Gmbh Verfahren zum beschichten von glasscheiben mit hilfe eines thermischen spritzverfahrens
JP3397824B2 (ja) * 1993-01-22 2003-04-21 日本板硝子株式会社 熱線反射膜及び熱線反射体
MY131700A (en) * 1993-11-24 2007-08-30 Kerr Mcgee Ct Llc Durable pigmentary titanium dioxide and methods of producing the same
JPH0851103A (ja) 1994-08-08 1996-02-20 Fuji Electric Co Ltd 薄膜の生成方法
JP3695790B2 (ja) * 1994-09-26 2005-09-14 旭硝子セラミックス株式会社 ターゲットとその製造方法および高屈折率膜の形成方法
CN1053020C (zh) * 1994-12-30 2000-05-31 邵天敏 一种铝及铝合金表面的涂层制备方法
EP0814758B1 (en) * 1995-03-10 2001-11-07 Kao Corporation Ultraviolet shielding composite fine particles, method for producing the same, and cosmetics
WO1997008357A1 (en) 1995-08-30 1997-03-06 Nashua Corporation Anti-reflective coating
WO1997047695A1 (en) * 1996-06-12 1997-12-18 Hoechst Trespaphan Gmbh Transparent barrier coatings exhibiting reduced thin film interference
JP3781888B2 (ja) * 1998-02-13 2006-05-31 日産自動車株式会社 親水性基材およびその製造方法
FR2793889B1 (fr) * 1999-05-20 2002-06-28 Saint Gobain Vitrage Substrat transparent a revetement anti-reflets
US6816297B1 (en) * 1999-06-25 2004-11-09 Gentex Corporation Electrochromic mirror having a self-cleaning hydrophilic coating
AU2003231551A1 (en) * 2002-05-01 2003-11-17 Fuji Photo Film Co., Ltd. High refraction film, its coating composition, and an anti-reflection film, a polarizing plate and an image display device including said film
US20060127699A1 (en) * 2002-09-14 2006-06-15 Christoph Moelle Protective layer and process and arrangement for producing protective layers
TWI372140B (en) * 2003-01-28 2012-09-11 Koninkl Philips Electronics Nv Method of producing transparent titanium oxide coatings having a rutile structure

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103029378A (zh) * 2012-09-14 2013-04-10 泉耀新材料科技（苏州）有限公司 一种低折射率二氧化钛减反射增透光照明灯具镀膜玻璃
CN103029378B (zh) * 2012-09-14 2014-09-17 泉耀新材料科技（苏州）有限公司 一种低折射率二氧化钛减反射增透光照明灯具镀膜玻璃
CN103208404A (zh) * 2013-03-18 2013-07-17 常州凯森光电有限公司 体育场馆专用双涂层大功率节能灯的制备方法

Also Published As

Publication number Publication date
EP1590305B1 (en) 2007-03-28
JP2006518809A (ja) 2006-08-17
WO2004067791A2 (en) 2004-08-12
WO2004067791A3 (en) 2004-11-25
JP4713461B2 (ja) 2011-06-29
TWI352071B (en) 2011-11-11
EP1590305A2 (en) 2005-11-02
US7550208B2 (en) 2009-06-23
US20060255739A1 (en) 2006-11-16
ATE358107T1 (de) 2007-04-15
CN100383073C (zh) 2008-04-23
DE602004005571D1 (de) 2007-05-10
TW200505812A (en) 2005-02-16
DE602004005571T2 (de) 2007-12-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN1741972A (zh) 具有金红石结构的氧化钛－铝和/或氧化铝透明涂层
CN104973797B (zh) 耐刮涂层、具有耐刮涂层的衬底和该衬底的制造方法
KR101675252B1 (ko) 투명 전도성 산화물 필름을 포함하는 스택으로 코팅된 기판의 제조 방법
US6844976B1 (en) Heat-absorbing filter and method for making same
KR101557518B1 (ko) 박층 침착 방법
JP4540746B2 (ja) 光学薄膜蒸着装置及び光学薄膜の製造方法
CN104977632B (zh) 硬质抗反射涂层及其制造和用途
CN1488994A (zh) 用于特殊微型光刻的基片
CN1741970A (zh) 透明氧化锆－钽和/或氧化钽涂层
JP2002277630A (ja) 高屈折率誘電体膜とその製造方法
JP2021523412A (ja) 曲面フイルムおよびその製造方法
JP2018513423A (ja) 被覆された光学物体、および被覆された光学物体の製造方法
CN1741971A (zh) 制造具有金红石结构的透明氧化钛涂层的方法
More-Chevalier et al. Fabrication of black aluminium thin films by magnetron sputtering
CN1950540A (zh) 真空沉积方法
Kunti et al. Influence of O2 pressure on structural, morphological and optical properties of TiO2-SiO2 composite thin films prepared by pulsed laser deposition
Lee et al. Simple realization of efficient barrier performance of a single layer silicon nitride film via plasma chemistry
JP2006515827A5 (zh)
CN114728497B (zh) 层叠体和门或墙壁
TW202015896A (zh) 藉由近紅外光輻射固化的內部光萃取層
Khan A comparative study of physical properties of pure and In-doped nanostructured ZnO polycrystalline thin film for optoelectronic applications
JP4022849B2 (ja) 金属酸化膜被覆部材の製造方法
Elmas Influence of annealing temperature in ITO thin films prepared by Thermionic Vacuum Arc (TVA) Technique
JP2007314891A (ja) 金属酸化膜被覆部材
Guitoume et al. Structural Study And Optical Properties Of TiO 2 Thin Films Elaborated By Thermal Oxidation Of RF Magnetron Sputtered Ti Films

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee

Granted publication date: 20080423

Termination date: 20160121

EXPY Termination of patent right or utility model