CN1729552A - 大面积基板处理系统 - Google Patents

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Abstract

一种处理大面积基板的系统与方法。在一实施例中，处理系统包括一传送反应室，其中此传送反应室具有至少一处理反应室以及基板台架系统与其耦接。台架系统包括负载阻隔反应室以及热处理站，其中此负载阻隔反应室具有第一端耦接至传送反应室，且热处理站耦接至负载阻隔反应室的第二端。负载阻隔机械手臂位于负载阻隔反应室中，以利在热处理站与负载阻隔反应室之间进行传送。

Description

大面积基板处理系统
技术领域
本发明的实施例大致有关于一种具有传送机械手臂的大面积基板处理系统。
背景技术
薄膜晶体管(TFT)常用来作为主动矩阵式显示器，例如计算机与电视监视器、可携式电话、个人数字助理以及日益增多的其它组件。一般而言，平面面板至少包括二个玻璃平板以及一层液晶材料夹在这两片玻璃平板之间。至少一片玻璃平板具有一层导电薄膜位于其上，而此导电薄膜与电源耦接。电力从电源供应至导电薄膜来改变此层液晶材料的方位以建立出一图案显示。
市场所接受的平面面板技术中，对较大尺寸的显示器、增加产量以及较低的制造成本的需求已驱使设备制造商去发展能与平面面板制造厂商的大尺寸玻璃基板相符的新系统。现行的玻璃处理设备通常适用于高达约一平方公尺的基板。在可想见的不久将来，处理设备将能适用于高达及超过一又二分之一平方米的基板尺寸。
用以制造如此大尺寸基板的设备对平面面板显示器的制造商而言也代表了大笔的投资。传统的系统需要大而昂贵的硬件。举例而言，增加的体积需要较高容量的真空泵，而必须提升信道密封设备以符合较大密封力，其中此较大密封力乃为配合较大基板所需的较大信道所引发。此外，由于上述适用于大尺寸基板的设备的大量资本支出，一般的大面积基板处理系统具有许多的处理反应室与一中央传送反应室耦接，以在一给定的工具面积下最大化制程弹性。
然而，此增加的设备尺寸与成本对制造商而言也意味着工厂可供此类设备摆置的有限空间的实质问题。此外，制造商寻求实施有限制程步骤的要求，不利于使用具有较大容量、制程性能与尺寸的设备以及实施有限制程于大面积基板上。
因此，极需小型的处理设备来处理大面积基板。
发明内容
本发明提供一种处理大面积基板的系统与方法。在一实施例中，处理系统包括一传送反应室，其中此传送反应室具有附属的至少一处理反应室以及基板台架系统与其耦接。台架系统包括负载阻隔反应室以及热处理站，其中此负载阻隔反应室具有第一端耦接至传送反应室，且热处理站耦接至负载阻隔反应室的第二端。负载阻隔机械手臂位于负载阻隔反应室中，以利在热处理站与负载阻隔反应室之间进行传送。
附图说明
通过本发明的更详细描述以及上述简短的发明内容，辅以下列附图上的实施例，可获得并详细地了解以上所引述的本发明特征。然而，值得注意的一点是，以下的附图只是作为本发明的典型实施例，并非用以限制本发明的范围，本发明尚包含其它等效的实施例。
图1A所示为用以处理大面积基板的处理系统的一实施例的俯视图；
图1B所示为图1A的处理系统的剖面图；
图2所示为传送机械手臂的侧视图；
图3所示为沿图2传送机械手臂的3-3剖面线所获得的剖面图；
图4所示为图2传送机械手臂的侧视图；
图5所示为沿图1A基板台架系统的一实施例的5-5剖面线所获得的剖面图；
图6所示为输入平台的一实施例的透视图；
图7所示为热处理台的一实施例的剖面图；
图8所示为负载阻隔反应室的一实施例的剖面图；以及
图9所示为负载阻隔机械手臂的一实施例放置在图8的负载阻隔反应室中的透视图。
在附图中，为了帮助了解，附图中尽可能使用一致的参考图号来表示在附图中共有的同一构件。
附图标记说明：
100处理系统           102工厂接口
104负载阻隔反应室     106传送反应室
108处理反应室         110台架系统
112面                 114容积
116循环或抽气系统     118排气端
120反应室主体         122进出端
124狭缝阀             126传送机械手臂
130基板               132基板储藏卡匣
134接口传送机械手臂   202主体
204托架               206接合组件
208底部               210轴
212第一促动器         214台架
216第二促动器         218终端受动器
220中心线             222箭头
224箭头               302凸缘
304凸缘               306轮毂
308连接构件           310轴承组件
312第二轴承组件       314轨
316导引件             318基板
320上凸缘             322下凸缘
324基板支撑件         402马达
404导螺杆             406螺帽
502传送站             504热处理站
506传递隔间           508端
510端                 512端
514输入平台           516输出平台
518上方区域           520传递机械手臂
522下方区域           524门
526出口               530负载阻隔机械手臂
602上表面            604第一信道
606第一端            608第一面
610第二信道          612第一端
614第二面            702基板接收架
704基板升降器        706加热组件
708轨                710墙
712墙                714促动器
716主要促动器        718升降板
720灯                722导线管
724电阻构件          730支撑表面
732信道              802反应室主体
804基板接收架        806墙
808墙                810墙
812抽气系统          814信道
816底部              818顶部
820排气孔            822狭缝阀
830轨                832水平凸缘
834垂直边缘          840促动器
902主体              904托架
906接合组件          908底部
910轴                914台架
918终端受动器        920上凸缘
922下凸缘            924基板支撑件
940刻痕
具体实施方式
图1A-1B分别为大面积基板的处理系统100的一实施例的俯视图与剖面图。此处理系统100包括工厂接口1102，其中此工厂接口102通过负载阻隔反应室104而与传送反应室106耦接，而此传送反应室106具有至少一处理反应室108与其耦接。负载阻隔反应室104为台架系统110的一部分，其中此台架系统110适用以等候及/或热处理或调整在工厂接口102与传送反应室106之间传送的基板。工厂接口102具有各式表面配置，一般包括至少一基板储藏卡匣132以及接口传送机械手臂134以在基板储藏卡匣132与台架系统110之间传送基板130。
传送反应室106具有反应室主体120，其中此反应室主体120一般是由适合的材料，例如铝、不锈钢或聚丙烯，所制成。传送反应室106的剖面可以是矩形或如这里所描绘的圆形。传送反应室106具有多个面112在其外墙上，以利耦接处理反应室108或其它的反应室至传送反应室106。传送反应室106的内部定义出可抽气或可控制气压的容积114，其中容积114通过穿过反应室主体120的排气端118与循环或抽气系统116耦接。多个基板进出端122穿过反应室主体120而形成，以利基板进出传送反应室106内部的容积114。进出端122为狭缝阀124选择性地封住，其中狭缝阀124可使传送反应室106的环境选择性地被隔离。本发明可采用Ettinger等人于2000年6月27号所获准的美国专利编号第6,079,693号所介绍的一种狭缝阀，其全文在此并入本文参考文献中。
至少一处理反应室108以及至少一负载阻隔反应室104耦接至反应室主体120。这些处理反应室可设置来进行化学气相沉积、物理气相沉积、热处理、电镀或其它与在半导体基板上进行的集成电路制造有关的制程。这样的反应室可见于位在美国加州圣克拉拉的应用材料股份有限公司。
传送机械手臂126位于传送反应室106内部的容积114内，用以在处理反应室108与负载阻隔反应室104之间传送基板。传送机械手臂126可以是任何适合于在一真空环境传送大面积基板以及执行各种动作的机械手臂。
图2为传送机械手臂126的一实施例的侧视图。传送机械手臂126包括主体202、托架204以及接合组件206。主体202中心地耦接在传送反应室106的底部208，其中此主体202一般覆盖有马达(附图未标示)用以旋转托架204与接合组件206。在中心旋转基板是有利于最小系统尺寸的实现。
托架204将接合组件206耦接至主体202。在图2所描绘的实施例中，托架204通过轴210耦接至主体202，其中轴210可相对主体202旋转来定位传送机械手臂126，以利基板与任何周遭的反应室交换。轴210可随意地从主体202伸缩来控制托架204与接合组件206的高度。
接合组件206通常包括第一促动器212、台架214、第二促动器216以及终端受动器218。第一促动器212用以相对于托架204移动台架214。第二促动器216用以相对于台架214移动终端受动器218。终端受动器218用以在传送机械手臂126运送基板(图2中未标示)时支撑基板。
图3所示为沿图2传送机械手臂在支撑基板318时的3-3剖面线所获得的剖面图。在一实施例中，终端受动器218包括一对基板支撑件324。每一个基板支撑件324包括第一或上凸缘320耦接至第二或下凸缘322。上凸缘320以一分开关系配置以抓住位于其间的基板318，如此一来可防止基板318在基板传送期间从传送机械手臂126上掉落。下凸缘322从上凸缘320处辐射状地向内延伸以支撑基板318。终端受动器218可由一材料，例如具有抛光不锈钢或塑料支撑垫的铝，所制成或涂覆，借以防止或最小化基板的刮伤。
托架204包括一对凸缘302以及凸缘304通过多个连接构件308耦接至轮毂306。托架204一般是由铝或其它重量轻的材料所制成，以使惯性减到最小。轮毂306耦接至从传送机械手臂126的主体202延伸出来的轴210。每一个凸缘302与凸缘304位于轴210相对边并利用各自的连接构件308耦接至轮毂306。每一个凸缘302与凸缘304一般以分开的型态放置，且与轮毂306之间的距离相等。同时，凸缘302与凸缘304彼此互相平行并垂直托架204的旋转轴。
在一实施例中，轴承组件310架设在托架204的每一个凸缘302以及凸缘304与台架214之间。第二轴承组件312架设在台架214与终端受动器218之间。轴承组件310有利于台架214相对于托架204的线性运动，而第二轴承组件312则有利于台架214相对于终端受动器218的线性运动。在图2与图3所描绘的实施例中，轴承组件310为一线性轴承，其中轴承组件310包括轨314耦接至台架214以及一个或多个导引件316耦接至凸缘302。导引件316一般包括滚轴或矩形轴承，以增加导引件316沿着轨314的活动。轴承组件310可包括固体轴承或非接触轴承，例如磁性轴承、以及流体轴承等等。第二轴承组件312也具有如同轴承组件310的型态。
第一促动器212耦接在台架214与托架204之间以控制台架214相对于托架204的位置。可利用一个或多个第一促动器212。第一促动器212可至少包括任何适合摆放台架相对于基座的位置的致动组件。这样的促动器包括气动汽缸、液压汽缸、滚珠螺杆、伺服马达、索尔(Sawyer)马达、步进马达、螺线管、无杆汽缸、计时皮带、齿条与小齿轮排列、以及在其它组件中适合线性促动者。在一实施例中，第一促动器212是一微机电系统促动器。台架214一般是由铝或其它适合使用在传送反应室106的重量轻的材料所制成。
图4为第二促动器216的一实施例的侧视图。第二促动器216包括马达402耦接至终端受动器218，用以控制导螺杆404的旋转。与导螺杆404啮合的螺帽406耦接至台架214。当第二促动器216的马达402旋转导螺杆404时，螺帽406沿着导螺杆404行进，因而驱动终端受动器218相对于台架214运动。第一促动器212也具有如同第二促动器216的型态。因此，可对第一促动器212与第二促动器216提供能量，来使终端受动器218以如图2的箭头222与箭头224所示的相对方向线性伸缩而穿过传送机械手臂126的中心线220。
图5为沿图1A基板台架系统的一实施例的5-5剖面线所获得的剖面图。基板的台架系统110包括负载阻隔反应室104，其中负载阻隔反应室104将传送站502与热处理站504分隔开。在传送站502中基板通常在台架系统110与工厂接口102之间传送。传递隔间506位于负载阻隔反应室104上，其中传递隔间506包括传递机械手臂520，以利基板在越过负载阻隔反应室104时可于传送站502与热处理站504之间直接传送。负载阻隔反应室104装配有三个端508、510、512，而分别可使基板的传送发生在负载阻隔反应室104与传送站502之间、以及热处理站504与传送反应室106之间。二者择一地，传递隔间506亦可架设在负载阻隔反应室104下方。
在一实施例中，传送站502包括输入平台514以及输出平台516。输入平台514位于传送站502的上方区域518，且适用以接收从工厂接口102进入的基板。输入平台514一般与传递隔间506排成一行，如此一来放在输入平台514的基板可立即通过传递机械手臂520传送过传递隔间506。
图6所示为输入平台514的一实施例的透视图。输入平台514包括上表面602用以支撑基板，且此上表面602具有至少一第一信道604形成于其中。在图6所示的实施例中，有两个第一信道604形成于上表面602，且第一信道604具有至少一第一端606开启于输入平台514的面对工厂接口102的第一面608。这些第一信道604配置成可使接口传送机械手臂134(如图1A与图1B所示)的叶片穿过输入平台514与支撑于输入平台514上的基板之间，以利于基板的传送。
至少一第二信道610形成于输入平台514的上表面602。第二信道610一般是设置成与第一信道604正交，并用以使传递机械手臂520可放置及取回放在传送站502的输入平台514上的基板。在图6所示的实施例中，有两个第二信道610位于输入平台514的上表面602中，且第二信道610具有第一端612开启于输入平台514的面对传递隔间506与负载阻隔反应室104的第二面614。这些第二信道610配置成有利于基板在输入平台514与传递机械手臂520之间交换。二者择一地，输入平台514可包括一个或多个举升梢或其它适用以选择性地维持基板与输入平台514的上表面602之间呈分开关系的构件，以利通过接口传送机械手臂134(如图1A与图1B所示)或传递机械手臂520接收基板。
请再次参考图5，输出平台516位于传送站502的下方区域522并邻近于负载阻隔反应室104的端508。输出平台516的配置通常与输入平台514相似，以利于基板在负载阻隔反应室104中的负载阻隔机械手臂530与接口传送机械手臂134之间传送。
传递隔间506提供导管以使基板可在传送站502与热处理站504之间传送。传递机械手臂520位在传递隔间506中，以利基板传送于其中。虽然具有其它配置或传送机构的机械手臂可应用来传送基板通过传递隔间506，传递机械手臂520通常配置成与上述的传送机械手臂126相似。
非必须的门524可提供来选择性地关闭界定在传递隔间506与热处理站504之间的出口526。可关闭门524以减缓热在传递隔间506与热处理站504环境之间的传送。
在热处理基板时，热处理站504通常是用以从传递机械手臂520接收以及移动邻近于负载阻隔反应室104的信道510的基板。相对于在真空环境下进行基板的热处理，在台架系统110中进行基板的热处理时，在处理反应室108中热处理基板的制程次数减少下，以及由于省略禁得起真空状况的硬件以及节约与工厂底板空间设备(例如面积缩小)相关的空间，而可节省相当可观的成本。本发明可采用由Q.Shang在2000年12月29日申请的美国专利临时申请案编号第60/259,035号(代理人登录号为5163L)中描述一种热处理站，此全文在此并入本文的参考文献中。
图7所示为热处理台504的一实施例的剖面图。热处理台504通常包括基板接收架702、基板升降器704以及至少一加热组件706。基板接收架702一般放置在邻近于传递隔间506的出口526。基板接收架702是用以提供平台，以利传递机械手臂520与基板升降器704之间的交接。在一实施例中，基板接收架702包括一对相对的轨708耦接至热处理站504的相对的墙710、712。每一个轨708通过促动器714耦接至对应的墙710、712，其中促动器714是用以控制此对轨710、712之间的间隔。促动器714可将这对轨710、712放置在第一位置，如此一来这对轨710、712可将基板支撑于其上。在第一位置情况下，从这两个轨710、712之间将基板抬升时，基板升降器704可在这两个轨710、712之间移动。接着，可发动促动器714来分开这两个轨710、712，如此一来基板升降器704可下降以使基板从这两个轨710、712之间通过。基板接收架702可包括同样有利于基板传送于传递机械手臂520与基板升降器704之间的替代架构。
请同时参照图5与图7，基板升降器704通常包括主要促动器716耦接至升降板718。主要促动器716是用以控制升降板718的升降，如此一来可从基板接收架702取回基板，并可将基板下降至邻近于负载阻隔反应室104的第二信道510的位置。主要促动器716可以是气动汽缸、液压汽缸、滚珠螺杆、或其它有利于基板在垂直方向运动的线性促动器。
升降板718一般是利用铝或其它具有良好热传导特性的材料所制成。升降板718的支撑表面730一般包括一个或多个信道732形成于其中，而信道732的配置是有利于基板从支撑表面730至位于负载阻隔反应室104中的负载阻隔机械手臂530的传送。二者择一地，可利用举升梢或固定支撑来使基板相对于支撑表面730维持一分开关系，以利基板调换至负载阻隔机械手臂530。
加热组件706适用以将基板130加热至介于约150℃与约550℃之间。加热组件706至少包括电阻加热构件、辐射灯、用以使热传流体流通于其间的导线管、热电组件或用以热控位于升降板718上的基板温度的其它组件中的一者或上述组件的组合。在图7所示的实施例中，加热组件706包括至少一灯720、用以供热传流体流通于其间的导线管722、以及电阻构件724。灯720一般耦接在接近基板接收架702。导线管722与电阻构件724一般是位在或耦接在升降板718。
图8所示为负载阻隔反应室104的一实施例的剖面图。负载阻隔反应室104通常包括具有基板接收架804的反应室主体802以及负载阻隔机械手臂530位于其中。反应室主体802一般是由单块铝或焊接的不锈钢板所制成。反应室主体802包括第一端508以及第二端510位于反应室主体802相对的墙806与墙808上，其中第一端508与第二端510分别面对传送站502与热处理站504。端512穿透反应室主体802的墙810，其中第三端512位于墙806与墙808之间且面对传送反应室106(请参照图9)。狭缝阀822(仅显示出其中两个，第三端512的狭缝阀822可由此推得)可选择性地密封端508、510与512，而可选择性地将负载阻隔反应室104隔离于周围的传送站502、热处理站504与传送反应室106。
基板接收架804位于负载阻隔机械手臂530上方并邻近于第三端512。基板接收架804是用以与负载阻隔机械手臂530以及传送机械手臂126进行基板的交接。在一实施例中，基板接收架804包括两对相对的轨830分别耦接至端508与端510上方的墙806与墙808。
一个或多个轨的促动器840耦接每一个轨830与对应的墙806与墙808。促动器840可以是螺线管、气动汽缸、液压汽缸、线性促动器、或适合用以控制轨830间的间隔的其它组件。
每一个轨830包括水平凸缘832，其中此水平凸缘832具有从水平凸缘832的接近每一墙806或墙808处向上凸出的垂直边缘834。每一对轨830在墙806与墙808上呈分开状，如此一来基板的角落为轨830所支撑，而每一对轨830之间所留下的空间可供机械手臂530、126的终端受动器通过。当轨830为促动器840分隔开而处于第一位置时，轨830的配置为用以接收从传送机械手臂126已处理基板。在基板由传送机械手臂126传送至轨830上时，负载阻隔机械手臂530抬高至邻近于信道512的位置，在此位置时，传送机械手臂126可直接从负载阻隔机械手臂530抬高基板并将基板移动至传送反应室106中以进行处理。一般，负载阻隔机械手臂530旋转放置于其上的基板90度以在将基板交递至传送机械手臂126前先恰当地定位基板。
接着，升高负载阻隔机械手臂530以通过轨830之间来从轨830上取回已处理的基板。促动器840将轨830往外移动至第二位置。在第二位置时，此时基板由负载阻隔机械手臂530所承载，基板下降至介于轨830之间并旋转至邻近信道508的位置，在此处可将基板传送至传送站502且最后将基板归回工厂接口102的卡匣。
图9所示为负载阻隔机械手臂530的一实施例放置在负载阻隔反应室104中的透视图。负载阻隔机械手臂530的架构相似于传送机械手臂126，且此负载阻隔机械手臂530包括主体902、托架904以及接合组件906。主体902耦接在负载阻隔反应室104中心的底部908，其中此主体902一般覆盖有马达(附图未标示)用以旋转托架904与接合组件906。
托架904将接合组件906耦接至主体902。在图9所示的实施例中，托架904通过轴910耦接至主体902，其中轴910可从主体902伸缩来控制托架904与接合组件906的所需高度，而将基板放置在接合组件906上接近端口508、510与512的位置，以供基板交流，并从基板接收架804取回基板。
接合组件906通常包括第一促动器、台架914、第二促动器以及终端受动器918。其中，第一促动器、第二促动器以及相关轴承并未标示于图9中，但相似于图2至图4所示的第一促动器、第二促动器以及相关轴承。第一促动器用以相对于托架904移动台架914。第二促动器用以相对于台架914移动终端受动器918。终端受动器918用以在负载阻隔机械手臂530运送基板(图9中未标示)时支撑基板。
在一实施例中，终端受动器918包括一对基板支撑件924。每一个基板支撑件924包括第一或上凸缘920耦接至第二或下凸缘922。上凸缘920以一分开关系配置以抓住位于其间的基板，如此一来可防止基板在基板传送期间从负载阻隔机械手臂530上掉落。下凸缘922从上凸缘920处辐射状地向内延伸而与上凸缘920呈L型架构，以支撑位于基板支撑件924之间的基板。
为了有利于传送机械手臂126的终端受动器218与负载阻隔机械手臂530的终端受动器918之间的直接交递，多个刻痕940形成于终端受动器918的每一基板支撑件924的端点。一般，两个刻痕940延伸过每一个基板支撑件924的整个上凸缘920并至少延伸至部分的下凸缘922。刻痕940的深度直至下凸缘922，借以使终端受动器218的基板支撑件324可通过终端受动器918与支撑于其上的基板之间。当终端受动器218上升及/或终端受动器918下降时，基板从负载阻隔机械手臂530传送至传送机械手臂126。接着，传送机械手臂126的终端受动器218缩回，而将基板移至传送反应室106。
请再次参照图8，抽气系统812一般通过穿透负载阻隔反应室104的底部816的信道814耦接至负载阻隔反应室104。抽气系统812有利于排空负载阻隔反应室104的内部容积至使其压力实质等于传送反应室106的压力，以在不产生真空损失下进行基板的交递。可密封的排气孔820穿过负载阻隔反应室104的顶部818，以选择性地过滤进入负载阻隔反应室104的空气，借以提升负载阻隔反应室104的压力至周遭的传送站502与热处理站504的压力，而有利于与传送站502以及热处理站504之间进行基板传递。
请参照图1A、图1B以及图5，接口传送机械手臂134从一基板储藏卡匣132中取出基板，并将此基板传送至传送站502的输入平台514。通过传递机械手臂520将此基板取出并传送至热处理站504。在热处理站504中，基板加热至一预设温度，一般是介于150℃至约550℃之间。加热后，利用负载阻隔机械手臂530从热处理站504中取出基板并传送至负载阻隔反应室104。将负载阻隔反应室104排空至一压力，使此压力实质等于传送反应室106的压力。将狭缝阀822所关闭的负载阻隔反应室104的信道512开启，并利用传送机械手臂126将一已处理基板从传送反应室106传送至架子上。接着，传送机械手臂126从负载阻隔机械手臂530取回欲处理的基板。关闭信道512，并且将负载阻隔反应室104排气至实质等于周遭的传送站502与热处理站504的压力。升高负载阻隔机械手臂530以将已处理基板抬离基板接收架804。缩回这些基板接收架804以使基板坐落在负载阻隔机械手臂530上，其中此负载阻隔机械手臂530将下降至接近信道508之处。
将狭缝阀822所关闭的信道508开启，并利用负载阻隔机械手臂530将基板传送至传送站502的输出平台516。接着，接口传送机械手臂134从输出平台516取回机械手臂，并将在制基板送回基板储藏卡匣132。
如熟悉此技术的人员所了解的，以上所述仅为本发明的较佳实施例而已，并非用以限定本发明的权利要求所保护的范围；凡其它未脱离本发明所公开的精神下所完成的等效改变或修饰，均应包含在权利要求书所界定的范围内。

Claims (50)

1.一种大面积基板传送机械手臂，至少包括：
一主体；
一基座，是耦接至该主体，并用以相对于该主体旋转；
一台架，是耦接至该基座，并用以在一第一方向下双边移动，其中该第一方向实质上垂直于该台架的一旋转轴；以及
一终端受动器，是耦接至该台架，并用以在该第一方向移动。
2.如权利要求1所述的大面积基板传送机械手臂，其特征在于，所述的台架相对于该终端受动器线性移动。
3.如权利要求1所述的大面积基板传送机械手臂，其特征在于，所述的台架与该终端受动器以相对于该第一方向的一第二方向延伸。
4.如权利要求1所述的大面积基板传送机械手臂，其特征在于，所述的台架与该终端受动器共中心且位于该主体上方。
5.如权利要求1所述的大面积基板传送机械手臂，其特征在于，所述的终端受动器穿过该基座的旋转中心的隔间。
6.如权利要求1所述的大面积基板传送机械手臂，其特征在于，所述的终端受动器相对于该台架独立移动。
7.如权利要求1所述的大面积基板传送机械手臂，其特征在于，还至少包括：
一第一促动器，位于该终端受动器与该台架之间；以及
一第二促动器，位于该台架与该基座之间。
8.如权利要求7所述的大面积基板传送机械手臂，其特征在于，所述的第一促动器为适用以线性促动的一组件，且该组件是选自于由气动汽缸、液压汽缸、滚珠螺杆、伺服马达、索尔(Sawyer)马达、步进马达、螺线管、无杆汽缸、计时皮带、齿条与小齿轮排列、以及微机电系统促动器所组成的一族群。
9.如权利要求7所述的大面积基板传送机械手臂，其特征在于，还至少包括多个固体或非接触轴承位于该终端受动器以及该台架之间，以有利于该终端受动器相对于该台架的线性运动。
10.如权利要求1所述的大面积基板传送机械手臂，其特征在于，所述的终端受动器还至少包括：
一对上凸缘，是相间隔设置；以及
一对下凸缘，其中每一该下凸缘分别与其中一上凸缘耦接，且该下凸缘从该上凸缘处向内辐射地延伸，而该下凸缘用以支撑位于该下凸缘之间的基板。
11.一种处理系统，至少包括：
一传送反应室；
至少一处理反应室耦接至该传送反应室；以及
一基板传送机械手臂位于该传送反应室中，其中该基板传送机械手臂至少包括：
一基座；
一台架，可旋转地耦接至该基座，其中该台架也可转移并用来以实质垂直于该台架旋转轴的一第一方向相对于该基座移动；以及
一终端受动器，耦接至该台架，并以该第一方向移动。
12.一种处理系统，至少包括：
一传送反应室；
至少一处理反应室耦接至该传送反应室；以及
一基板台架系统耦接至该传送反应室，其中该基板台架系统至少包括：
一负载阻隔反应室具有一第一端，该第一端耦接至该传送反应室；
一负载阻隔机械手臂位于该负载阻隔反应室中；以及
一热处理站耦接至该负载阻隔反应室的一第二端。
13.如权利要求12所述的处理系统，其特征在于，所述的基板台架系统还至少包括：
一传送站耦接至该负载阻隔反应室的一第三端；以及
一传递隔间具有一传递机械手臂位于其中，且该传递机械手臂是用以在该传送站与该热处理站之间传送基板。
14.如权利要求13所述的处理系统，其特征在于，所述的传递机械手臂还至少包括：
一主体；
一台架，耦接至该主体，并用以沿界定于该传送站与该热处理站间的一线进行线性移动；以及
一终端受动器，耦接至该台架，并用以沿界定于该传送站与该热处理站间的该线相对于该台架进行线性移动。
15.如权利要求13所述的处理系统，其特征在于，所述的传递隔间位于该负载阻隔反应室的上方或下方。
16.如权利要求12所述的处理系统，其特征在于，所述的热处理站还至少包括：
一基板接收架；以及
一基板升降器用以从该基板接收架以及邻近于该负载阻隔反应室的该第二端口的一位置移动基板。
17.如权利要求16所述的处理系统，其特征在于，所述的基板接收架还至少包括：
一第一轨；
一第二轨，以相间隔关系相对于该第一轨；
一第一促动器，耦接至该第一轨；以及
一第二促动器，耦接至该第二轨，该第一促动器与该第二促动器控制界定于该第一轨与该第二轨间的一距离。
18.如权利要求16所述的处理系统，其特征在于，所述的基板升降器还至少包括：
一平板用以支撑位于其上的基板；以及
一促动器耦接至该平板。
19.如权利要求18所述的处理系统，其特征在于，所述的平板还至少包括：
一支撑表面，该支撑表面具有一个或多个信道形成于其中。
20.如权利要求12所述的处理系统，其特征在于，所述的热处理站还至少包括：
至少一加热组件，该加热组件适用以加热位于该基板接收架或该基板升降器至少一者上的一基板。
21.如权利要求20所述的处理系统，其特征在于，所述的至少一加热组件是选自由一电阻加热构件、一辐射灯、用以使一热传流体流通于其间的一导线管、一热电组件或上述组件的组合所组成的群组。
22.如权利要求20所述的处理系统，其特征在于，所述的至少一加热组件加热位于该热处理站中的基板至一温度，该温度介于约150℃与550℃之间。
23.如权利要求12所述的处理系统，其特征在于，所述的负载阻隔反应室还至少包括：
一第三端相对于该第二端并与该第一端正交。
24.如权利要求23所述的处理系统，其特征在于，所述的负载阻隔反应室还至少包括：
一第一轨邻近于该负载阻隔机械手臂上方的该第一端设置；
一第二轨以一水平相间隔关系相对于该第一轨；
一第一促动器耦接至该第一轨；以及
一第二促动器耦接至该第二轨，该第一促动器与该第二促动器控制该第一轨与该第二轨间的一距离。
25.如权利要求24所述的处理系统，其特征在于，所述的负载阻隔机械手臂还至少包括：
一主体；
一台架耦接至该主体，并用以沿界定于该第二端与该第三端间的一线进行线性移动；以及
一终端受动器耦接至该台架，其中该终端受动器是用以沿界定于该第二端与该第三端间的该线相对于该台架进行线性移动，且该终端受动器用以在由该第一轨与该第二轨之间所界定的一上高度与一低高度之间移动。
26.如权利要求23所述的处理系统，其特征在于，所述的传送站还至少包括：
一输出平台邻近于该负载阻隔反应室的该第三端；及
一输入平台位于该输出平台上方。
27.如权利要求26所述的处理系统，其特征在于，所述的输入平台还至少包括：
一支撑表面用以支撑一基板；
一个或多个第一信道形成在该支撑表面；以及
一个或多个第二信道形成在该支撑表面中，且该第二信道的方位与该第一信道正交。
28.如权利要求12所述的处理系统，其特征在于，还至少包括：
一工厂接口邻近于该基板台架系统；以及
一接口机械手臂位于该工厂接口中，用以在该工厂接口与该传送站之间传送多个基板。
29.如权利要求12所述的处理系统，其特征在于，所述的传送反应室还至少包括：
一机械手臂本体；
一基座耦接至该机械手臂本体，且在该机械手臂本体周围旋转；
一台架耦接至该基座，并以一第一方向移动，该第一方向实质垂直于该台架的一旋转轴；以及
一终端受动器耦接至该台架，其中该终端受动器在该第一方向内移动。
30.一种处理系统，至少包括：
一传送反应室；
至少一处理反应室耦接至该传送反应室；以及
一基板台架系统耦接至该传送反应室，其中该基板台架系统至少包括：
一传送站；
一热处理站；
一负载阻隔反应室，具有一第一端耦接至该传送站、一第二端耦接至该热处理站、以及一第三端耦接至该传送反应室；以及
一传递隔间耦接该传送站与该负载阻隔反应室。
31.如权利要求30所述的处理系统，其特征在于，还至少包括：
一第一机械手臂位于该传递隔间中，并用以在一输入平台与一第一基板接收架之间传送基板，该输入平台位于该传送站中，而该第一基板接收架位于该热处理站中；
一第二机械手臂位于该负载阻隔反应室中，并用以在一第二基板接收架、一输出平台以及该热处理站之间传送基板，该第二基板接收架位于该负载阻隔反应室中，而该输出平台位于该传送站中；以及
一第三机械手臂位于该传送反应室中，并用以从该第二基板接收架与该至少一处理反应室传送基板。
32.如权利要求31所述的处理系统，其特征在于，所述的热处理站还至少包括：
一基板升降器，用以从该第一基板接收架与邻近于该负载阻隔反应室的该第二端口的一位置来移动基板。
33.如权利要求32所述的处理系统，其特征在于，所述的第一基板接收架还至少包括：
一第一轨；
一第二轨以相间隔关系相对于该第一轨；
一第一促动器耦接至该第一轨；以及
一第二促动器耦接至该第二轨，该第一促动器与该第二促动器控制界定于该第一轨与该第二轨间的一距离，借以选择性地容纳该基板升降器于其间。
34.如权利要求32所述的处理系统，其特征在于，所述的基板升降器还至少包括：
一平板具有一个或多个信道形成于其中，并用以支撑位于其上的基板；以及
一促动器耦接至该平板。
35.如权利要求30所述的处理系统，其特征在于，所述的热处理站还至少包括：
至少一加热组件，适用以加热位于该基板接收架或该基板升降器至少一者上的基板。
36.如权利要求35所述的处理系统，其特征在于，所述的至少一加热组件是选自于由一电阻加热构件、一辐射灯、用以使一热传流体流通于其间的一导线管、一热电组件或上述组件的组合所组成的群组。
37.如权利要求35所述的处理系统，其特征在于，所述的至少一加热组件加热位于该热处理站中的基板至一温度，该温度介于约150℃与550℃之间。
38.一种在一处理系统中传送大面积基板的方法，其特征在于，至少包括：
在一第一方向内延伸一台架，该台架耦接至一机械手臂主体；
相对于该台架并在该第一方向内延伸一终端受动器，该终端受动器耦接至该台架；
传送一大面积基板至该终端受动器；以及
相对于该机械手臂主体而缩回该台架与该终端受动器，借以将该大面积基板放置在该机械手臂主体的上方或下方。
39.如权利要求38所述的方法，其特征在于，还至少包括：
相对于该机械手臂主体，并以相对于该第一方向之一第二方向延伸该终端受动器与该台架。
40.如权利要求39所述的方法，其特征在于，以该第二方向延伸该终端受动器与该台架的步骤还至少包括：
相对于该机械手臂主体旋转该台架与该终端受动器。
41.如权利要求39所述的方法，其特征在于，所述的终端受动器以该第二方向移动通过该机械手臂主体的一中线。
42.如权利要求38所述的方法，其特征在于，相对于该台架而延伸该终端受动器的步骤还至少包括：
促动一微机电系统促动器。
43.一种在一处理系统中处理基板的方法，其特征在于，至少包括：
传送一基板从一储藏卡匣至一台架系统的一输入平台；
传送该基板至一热处理站；
在该热处理站中热处理该基板；
传送该基板从该热处理站至一负载阻隔反应室；
传送该基板从该负载阻隔反应室至一传送反应室；以及
在一处理反应室中处理该基板，该处理反应室耦接至该传送反应室。
44.如权利要求43所述的方法，其特征在于，所述的热处理步骤至少包括：
加热该基板至一温度，该温度介于约150℃与约550℃之间。
45.如权利要求43所述的方法，其特征在于，所述的热处理步骤至少包括：
移动该基板至一高度，且该高度接近该负载阻隔反应室的一端。
46.如权利要求45所述的方法，其特征在于，移动该基板的步骤还至少包括：
移动一基板支撑件平板于支撑基板的一对轨之间；
将该基板从该些轨传送至该平板；
隔开该些轨以清洗支撑于该平板上的该基板；以及
下降支撑该基板的该平板。
47.如权利要求43所述的方法，其特征在于，传送该基板从该输入平台至该热处理站的步骤还至少包括：
传递该基板经过该负载阻隔反应室的上方或下方。
48.如权利要求43所述的方法，其特征在于，还至少包括：
传送一处理基板从该传送反应室至位于该负载阻隔反应室中的一基板接收架；
移动该处理基板从该基板接收架至一第二位置；以及
传送该处理基板从该第二位置通过该负载阻隔反应室的一端口至该台架系统的一输出平台。
49.如权利要求48所述的方法，其特征在于，传送该处理基板至该输出平台的步骤至少包括以正交于该处理基板于该传送反应室与该基板接收架间的一移动的一方向移动该处理基板。
50.如权利要求43所述的方法，其特征在于，传送该基板从该热处理站至该负载阻隔反应室的步骤至少包括以正交于该处理基板于该传送反应室与该负载阻隔反应室间的一移动的一方向移动该处理基板。
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