CN116125746A - 一种快速真空纳米压印设备及其控制方法 - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 22
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 202
- 238000004049 embossing Methods 0.000 claims abstract description 11
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 claims description 50
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 12
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 12
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 claims description 8
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000003292 glue Substances 0.000 claims description 4
- 238000005086 pumping Methods 0.000 claims description 4
- 230000010076 replication Effects 0.000 claims description 4
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 4
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 239000002086 nanomaterial Substances 0.000 description 2
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 1
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
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- G03F7/0005—Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P70/00—Climate change mitigation technologies in the production process for final industrial or consumer products
- Y02P70/50—Manufacturing or production processes characterised by the final manufactured product
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- Shaping Of Tube Ends By Bending Or Straightening (AREA)
Abstract
本申请涉及纳米压印设备技术领域,具体涉及一种快速真空纳米压印设备及其控制方法。纳米压印设备包括真空腔区、交换仓区以及物料区;真空腔区位于设备左侧,为主要工作区域,真空腔区内部设有复制压印单元;交换仓区位于设备中部,交换仓区左右两侧均有门,左侧门控制与真空腔区的互通,右侧门控制与物料区互通,且两侧门不同时开启;交换仓区内部设置有上料机械手;物料区位于设备右侧,物料区设置有若干层物料架,物料架底部设置有用于支撑的PIN针,物料区右侧设置有输料门。本发明通过控制真空腔区长期保持真空状态,快速实现真空,节约时间成本。
Description
技术领域
本申请涉及纳米压印设备技术领域,具体涉及一种快速真空纳米压印设备及其控制方法。
背景技术
纳米压印技术是利用纯机械复刻将模板上的微纳结构复刻到基底上,实现所需微纳结构的转移,该技术凭借其高分辨率、高效率及低成本的优点,提出以来引起了科学界的广泛关注,目前已广泛应用于高精密存储、光学、电子、太阳能电池、传感器等领域,受到世界上各个科技与工业发达国家的极大重视。
但是在纳米压印的转移过程中,物料通常会有结构高度的损失,因此在现有设备的基础上提出了一种快速真空纳米压印设备。
发明内容
针对现有技术的上述不足,本发明提供一种快速真空纳米压印设备及其控制方法,通过控制真空腔区1长期保持真空状态,快速实现真空,节约时间成本。
为了对披露的实施例的一些方面有基本的理解,下面给出了简单的概括。所述概括不是泛泛评述,也不是要确定关键/重要组成元素或描绘这些实施例的保护范围,而是作为后面的详细说明的序言。
本发明的技术方案如下:
一种快速真空纳米压印设备,所述纳米压印设备包括真空腔区、交换仓区以及物料区;所述真空腔区位于设备左侧,为主要工作区域,所述真空腔区内部设有复制压印单元;所述交换仓区位于设备中部,交换仓区左右两侧均有门,左侧门控制与真空腔区的互通,右侧门控制与物料区互通,且两侧门不同时开启;所述交换仓区内部设置有上料机械手;所述物料区位于设备右侧,所述物料区设置有若干层物料架,物料架底部设置有用于支撑的PIN针,所述物料区右侧设置有输料门。
作为优选,所述物料区物料架为多层,每层物料架底部均带PIN针;所述物料区右侧门为带密封胶边的双开门。
作为优选,所述复制压印单元包括设置在真空腔区下部的吸附机构,所述吸附机构包括吸附盘,吸附盘的上表面设置有真空吸附槽,真空吸附槽以吸附盘的旋转中心为起点向外延伸至吸附盘上表面,所述旋转中心与真空吸附槽距离最远处的距离小于基片的半径。
作为优选,所述吸附盘的旋转中心向下设置有通孔,所述通孔通过设有的抽真空气路与真空泵相连接,所述吸附盘向下设置有旋转固定接头,所述旋转固定接头向下连接有旋转电机Ⅰ。
作为优选,所述交换仓区与真空腔区之间的门为电动闸门Ⅰ,交换仓区与物料区的门为电动闸门Ⅱ。
作为优选,所述上料机械手包括固定在交换仓区内顶部的升降模块,所述升降模块包括升降电机和顶杆,所述顶杆的前端设置有旋转电机Ⅱ,所述旋转电机Ⅱ通过轴承Ⅰ连接有支撑臂Ⅰ,所述支撑杆Ⅰ通过轴承Ⅱ连接有支撑臂Ⅱ,支撑臂Ⅱ通过轴承Ⅲ连接有支撑臂Ⅲ,所述轴承Ⅱ上连接有旋转电机Ⅲ,所述轴承Ⅲ上设置有旋转电机Ⅳ。
作为优选,所述支撑臂Ⅲ前端设置有固定抓手,所述固定抓手包括固定基片的硅胶片和设置在硅胶片后的金属抓手,所述金属抓手通过气缸提供动力;所述固定抓手与支撑臂Ⅲ设置有轴承Ⅳ,所述轴承Ⅳ上设置有旋转电机Ⅴ。
作为优选,所述上料机械伸长或收缩时,支撑臂Ⅰ相对于顶杆的旋转角速度、支撑臂Ⅲ相对于支撑臂Ⅱ的角速度与支撑臂Ⅱ相对于支撑臂Ⅰ的角速度、金属抓手对于支撑臂Ⅲ的角速度大小相同方向相反。
一种快速真空纳米压印设备的控制方法,包括以下控制步骤:第一步,将真空腔区保持真空状态,启动设备工作流程;第二步,将物料区输料门打开,把所需物料分层放入物料区后关闭输料门;第三步,将物料区左侧门打开,上料机械手进入物料区取出对应物料,上料机械手退出物料区,关闭物料区左侧门,将交换仓区抽真空至低于10Pa;第四步,将真空腔区右侧门打开,上料机械手将对应物料放入真空腔区复制压印单元,操作完成后上料机械手退出真空腔区并关闭真空腔区右侧门,可直接开始真空压印;第五步,压印完成后,真空腔区右侧门打开,上料机械手将压印片转移至交换仓区,关闭真空腔区右侧门,打开物料区左侧门,将上料机械手中的压印片转移至物料区物料架;第六步,压印片转移完成后上料机械手取下次所需物料,继续重复压印过程。
作为优选,所述控制方法包括以下控制步骤:第一步,将真空腔区保持真空状态,启动设备工作流程;第二步,将物料区输料门打开,把所需物料分层放入物料区中的物料架上后关闭输料门;第三步,将物料区电动闸门Ⅱ打开,此时电动闸门Ⅰ关闭,上料机械手进入物料区选取对应物料并固定,上料机械手携带对应物料退出物料区,关闭物料区左侧门,将交换仓区抽真空至低于10Pa;第四步,将真空腔区电动闸门Ⅰ打开,此时电动闸门Ⅱ关闭,上料机械手将对应物料放入真空腔区复制压印单元上的吸附机构,操作完成后上料机械手退出真空腔区并关闭真空腔区右侧门,真空腔区可直接开始真空压印;第五步,压印完成后,真空腔区电动闸门Ⅰ打开,此时电动闸门Ⅱ关闭,上料机械手将压印片转移至交换仓区,关闭真空腔区电动闸门Ⅰ,打开物料区电动闸门Ⅱ,将上料机械手中的压印片转移至物料区物料架;第六步,压印片转移完成后上料机械手取下次所需物料,继续重复压印过程。
以上的总体描述和下文中的描述仅是示例性和解释性的,不用于限制本申请。
PIN针是连接器中用来完成电(信号)的导电(传输)的一种金属物质。PIN针可用于支撑PET、晶圆或者基片。
发明的有益效果
本发明通过设置真空腔区、交换仓区以及物料区,压印完成后迅速完成转移及提取新物料,物料区设置底部带有PIN针的物料架,最大程度保证结构高度。真空状态,软膜紧紧的覆盖在模板和基板上,避免了模板和基板之间气泡的产生;启动充气泵,使得第二密闭腔内开始增压避免压印过程中出现气泡等压印缺陷。
本发明真空腔区长期保持真空状态,在更换物料时真空腔区封闭,提取物料后,转运仓区快速实现真空,节约时间成本。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,对于本领域普通技术人员而言,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明实施例1的结构示意图。
图2为本发明实施例2的结构示意图。
图3为本发明实施例2上料机械手4的部分的结构示意图。
图4为本发明实3上料机械手4的部分的结构示意图。
其中,1-真空腔区,2-交换仓区,3-物料区,4-上料机械手,5-物料架,6-输料门,7-复制压印单元,8-吸附盘,9-真空吸附槽,10-旋转电机Ⅰ,11-电动闸门Ⅰ,12-电动闸门Ⅱ,13-升降模块,14-升降电机,15-顶杆,16-旋转电机Ⅱ,17-支撑臂Ⅰ,18-支撑臂Ⅱ,19-支撑臂Ⅲ,20-旋转电机Ⅲ,21-旋转电机Ⅳ,22-固定抓手,23-旋转电机Ⅴ,24-伸缩杆,25-万向轴。
具体实施方式
为了能够更加详尽地了解本公开实施例的特点与技术内容,下面结合附图对本公开实施例的实现进行详细阐述,所附附图仅供参考说明之用,并非用来限定本公开实施例。在以下的技术描述中,为方便解释起见,通过多个细节以提供对所披露实施例的充分理解。然而,在没有这些细节的情况下,一个或多个实施例仍然可以实施。在其它情况下,为简化附图,熟知的结构和装置可以简化展示。
本公开实施例的说明书和权利要求书及上述附图中的术语“第一”、“第二”等是用于区别类似的对象,而不必用于描述特定的顺序或先后次序。应该理解这样使用的数据在适当情况下可以互换,以便这里描述的本公开实施例的实施例。此外,术语“包括”和“具有”以及他们的任何变形,意图在于覆盖不排他的包含。
本公开实施例中,术语“上”、“下”、“内”、“中”、“外”、“前”、“后”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系。这些术语主要是为了更好地描述本公开实施例及其实施例,并非用于限定所指示的装置、元件或组成部分必须具有特定方位,或以特定方位进行构造和操作。并且,上述部分术语除了可以用于表示方位或位置关系以外,还可能用于表示其他含义,例如术语“上”在某些情况下也可能用于表示某种依附关系或连接关系。对于本领域普通技术人员而言,可以根据具体情况理解这些术语在本公开实施例中的具体含义。
另外,术语“设置”、“连接”、“固定”应做广义理解。例如,“连接”可以是固定连接,可拆卸连接,或整体式构造;可以是机械连接,或电连接;可以是直接相连,或者是通过中间媒介间接相连,又或者是两个装置、元件或组成部分之间内部的连通。对于本领域普通技术人员而言,可以根据具体情况理解上述术语在本公开实施例中的具体含义。
除非另有说明,术语“多个”表示两个或两个以上。
本公开实施例中,字符“/”表示前后对象是一种“或”的关系。例如,A/B表示:A或B。
术语“和/或”是一种描述对象的关联关系,表示可以存在三种关系。例如,A和/或B,表示:A或B,或,A和B这三种关系。
需要说明的是,在不冲突的情况下,本公开实施例中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。
实施例1
一种快速真空纳米压印设备,纳米压印设备包括真空腔区1、交换仓区2以及物料区3;真空腔区1位于设备左侧,为主要工作区域,真空腔区1内部设有复制压印单元7;交换仓区2位于设备中部,交换仓区2左右两侧均有门,左侧门控制与真空腔区1的互通,右侧门控制与物料区3互通,且两侧门不同时开启;交换仓区2内部设置有上料机械手4;物料区3位于设备右侧,物料区3设置有若干层物料架5,物料架5底部设置有用于支撑的PIN针,物料区3右侧设置有输料门6。
控制方法,包括以下控制步骤:第一步,将真空腔区1保持真空状态,启动设备工作流程;第二步,将物料区3输料门6打开,把所需物料分层放入物料区3后关闭输料门6;第三步,将物料区3左侧门打开,上料机械手4进入物料区3取出对应物料,上料机械手4退出物料区3,关闭物料区3左侧门,将交换仓区2抽真空至低于10Pa;第四步,将真空腔区1右侧门打开,上料机械手4将对应物料放入真空腔区1复制压印单元7,操作完成后上料机械手4退出真空腔区1并关闭真空腔区1右侧门,可直接开始真空压印;第五步,压印完成后,真空腔区1右侧门打开,上料机械手4将压印片转移至交换仓区2,关闭真空腔区1右侧门,打开物料区3左侧门,将上料机械手4中的压印片转移至物料区3物料架5;第六步,压印片转移完成后上料机械手4取下次所需物料,继续重复压印过程。
实施例2
一种快速真空纳米压印设备,纳米压印设备包括真空腔区1、交换仓区2以及物料区3;真空腔区1位于设备左侧,为主要工作区域,真空腔区1内部设有复制压印单元7;交换仓区2位于设备中部,交换仓区2左右两侧均有门,左侧门控制与真空腔区1的互通,右侧门控制与物料区3互通,且两侧门不同时开启;交换仓区2内部设置有上料机械手4;物料区3位于设备右侧,物料区3设置有若干层物料架5),物料架5底部设置有用于支撑的PIN针,物料区3右侧设置有输料门6。
物料区3物料架5为多层,每层物料架5底部均带PIN针;物料区3右侧门为带密封胶边的双开门。
复制压印单元7包括设置在真空腔区1下部的吸附机构,吸附机构包括吸附盘8,吸附盘8的上表面设置有真空吸附槽9,真空吸附槽9以吸附盘8的旋转中心为起点向外延伸至吸附盘8上表面,旋转中心与真空吸附槽9距离最远处的距离小于基片的半径。
吸附盘8的旋转中心向下设置有通孔,通孔通过设有的抽真空气路与真空泵相连接,吸附盘8向下设置有旋转固定接头,旋转固定接头向下连接有旋转电机Ⅰ10。
交换仓区2与真空腔区1之间的门为电动闸门Ⅰ11,交换仓区2与物料区3的门为电动闸门Ⅱ12。
上料机械手4包括固定在交换仓区2内顶部的升降模块13,升降模块13包括升降电机14和顶杆15,顶杆15的前端设置有旋转电机Ⅱ16,旋转电机Ⅱ16通过轴承Ⅲ连接有支撑臂Ⅰ17,支撑杆Ⅰ通过轴承Ⅱ连接有支撑臂Ⅱ18,支撑臂Ⅱ18通过轴承Ⅲ连接有支撑臂Ⅲ19,轴承Ⅱ上连接有旋转电机Ⅲ20,所述轴承Ⅲ上设置有旋转电机Ⅳ21。
支撑臂Ⅲ19前端设置有固定抓手22,固定抓手22包括固定基片的硅胶片和设置在硅胶片后的金属抓手,金属抓手通过气缸提供动力;固定抓手22与支撑臂Ⅲ19设置有轴承Ⅳ,轴承Ⅳ上设置有旋转电机Ⅴ23。
上料机械手4伸长或收缩时,支撑臂Ⅰ17相对于顶杆15的旋转角速度、支撑臂Ⅲ19相对于支撑臂Ⅱ18的角速度与支撑臂Ⅱ18相对于支撑臂Ⅰ17的角速度、金属抓手对于支撑臂Ⅲ19的角速度大小相同方向相反。
控制方法包括以下控制步骤:第一步,将真空腔区1保持真空状态,启动设备工作流程;第二步,将物料区3输料门6打开,把所需物料分层放入物料区3中的物料架5上后关闭输料门6;第三步,将物料区3电动闸门Ⅱ12打开,此时电动闸门Ⅰ11关闭,上料机械手4进入物料区3选取对应物料并固定,上料机械手4携带对应物料退出物料区3,关闭物料区3左侧门,将交换仓区2抽真空至低于10Pa;第四步,将真空腔区1电动闸门Ⅰ11打开,此时电动闸门Ⅱ12关闭,上料机械手4将对应物料放入真空腔区1复制压印单元7上的吸附机构,操作完成后上料机械手4退出真空腔区1并关闭真空腔区1右侧门,真空腔区1可直接开始真空压印;第五步,压印完成后,真空腔区1电动闸门Ⅰ11打开,此时电动闸门Ⅱ12关闭,上料机械手4将压印片转移至交换仓区2,关闭真空腔区1电动闸门Ⅰ11,打开物料区3电动闸门Ⅱ12,将上料机械手4中的压印片转移至物料区3物料架5;第六步,压印片转移完成后上料机械手4取下次所需物料,继续重复压印过程。
实施例3
一种快速真空纳米压印设备,纳米压印设备包括真空腔区1、交换仓区2以及物料区3;真空腔区1位于设备左侧,为主要工作区域,真空腔区1内部设有复制压印单元7;交换仓区2位于设备中部,交换仓区2左右两侧均有门,左侧门控制与真空腔区1的互通,右侧门控制与物料区3互通,且两侧门不同时开启;交换仓区2内部设置有上料机械手4;物料区3位于设备右侧,物料区3设置有若干层物料架5,物料架5底部设置有用于支撑的PIN针,物料区3右侧设置有输料门6。
物料区3物料架5为多层,每层物料架5底部均带PIN针;物料区3右侧门为带密封胶边的双开门。
复制压印单元7包括设置在真空腔区1下部的吸附机构,吸附机构包括吸附盘8,吸附盘8的上表面设置有真空吸附槽9,真空吸附槽9以吸附盘8的旋转中心为起点向外延伸至吸附盘8上表面,旋转中心与真空吸附槽9距离最远处的距离小于基片的半径。
吸附盘8的旋转中心向下设置有通孔,通孔通过设有的抽真空气路与真空泵相连接,吸附盘8向下设置有旋转固定接头,旋转固定接头向下连接有旋转电机Ⅰ10。
交换仓区2与真空腔区1之间的门为电动闸门Ⅰ11,交换仓区2与物料区3的门为电动闸门Ⅱ12。
上料机械手4包括固定在交换仓区2内顶部的升降模块13,升降模块13包括升降电机14和顶杆15,顶杆15的前端设置有旋转电机Ⅱ16,旋转电机Ⅱ16通过轴承Ⅰ连接有支撑臂Ⅰ17,支撑杆Ⅰ通过轴承Ⅱ连接有支撑臂Ⅱ18,支撑臂Ⅱ18通过轴承Ⅲ连接有支撑臂Ⅲ19,轴承Ⅱ上连接有旋转电机Ⅲ20,所述轴承Ⅲ上设置有旋转电机Ⅳ21。
支撑臂Ⅲ19前端设置有固定抓手22,固定抓手22包括固定基片的硅胶片和设置在硅胶片后的金属抓手,金属抓手通过气缸提供动力;固定抓手22与支撑臂Ⅲ19设置有轴承Ⅳ,轴承Ⅳ上设置有旋转电机Ⅴ23。
上料机械手4伸长或收缩时,支撑臂Ⅰ17相对于顶杆15的旋转角速度、支撑臂Ⅲ19相对于支撑臂Ⅱ18的角速度与支撑臂Ⅱ18相对于支撑臂Ⅰ17的角速度、金属抓手对于支撑臂Ⅲ19的角速度大小相同方向相反。
轴承Ⅰ和轴承Ⅲ之间设置有伸缩杆,伸缩杆分别通过万向轴与25轴承Ⅰ和轴承Ⅲ。
控制方法包括以下控制步骤:第一步,将真空腔区1保持真空状态,启动设备工作流程;第二步,将物料区3输料门6打开,把所需物料分层放入物料区3中的物料架5上后关闭输料门6;第三步,将物料区3电动闸门Ⅱ12打开,此时电动闸门Ⅰ11关闭,上料机械手4进入物料区3选取对应物料并固定,上料机械手4携带对应物料退出物料区3,关闭物料区3左侧门,将交换仓区2抽真空至低于10Pa;第四步,将真空腔区1电动闸门Ⅰ11打开,此时电动闸门Ⅱ12关闭,上料机械手4将对应物料放入真空腔区1复制压印单元7上的吸附机构,操作完成后上料机械手4退出真空腔区1并关闭真空腔区1右侧门,真空腔区1可直接开始真空压印;第五步,压印完成后,真空腔区1电动闸门Ⅰ11打开,此时电动闸门Ⅱ12关闭,上料机械手4将压印片转移至交换仓区2,关闭真空腔区1电动闸门Ⅰ11,打开物料区3电动闸门Ⅱ12,将上料机械手4中的压印片转移至物料区3物料架5;第六步,压印片转移完成后上料机械手4取下次所需物料,继续重复压印过程。
在不脱离本发明的精神和实质的前提下,本领域普通技术人员可以对本发明的实施例进行各种等效的修改或替换,而这些修改或替换都应在本发明的涵盖范围内/任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内,可轻易想到变化或替换,都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此,本发明的保护范围应所述以权利要求的保护范围为准。
Claims (10)
1.一种快速真空纳米压印设备,其特征在于:所述纳米压印设备包括真空腔区(1)、交换仓区(2)以及物料区(3);
所述真空腔区(1)位于设备左侧,为主要工作区域,所述真空腔区(1)内部设有复制压印单元(7);
所述交换仓区(2)位于设备中部,交换仓区(2)左右两侧均有门,左侧门控制与真空腔区(1)的互通,右侧门控制与物料区(3)互通,且两侧门不同时开启;所述交换仓区(2)内部设置有上料机械手(4);
所述物料区(3)位于设备右侧,所述物料区(3)设置有若干层物料架(5),物料架(5)底部设置有用于支撑的PIN针,所述物料区(3)右侧设置有输料门(6)。
2.根据权利要求1所述的一种快速真空纳米压印设备,其特征在于:所述物料区(3)物料架(5)为多层,每层物料架(5)底部均带PIN针;所述物料区(3)右侧门为带密封胶边的双开门。
3.根据权利要求1所述的一种快速真空纳米压印设备,其特征在于:所述复制压印单元(7)包括设置在真空腔区(1)下部的吸附机构,所述吸附机构包括吸附盘(8),吸附盘(8)的上表面设置有真空吸附槽(9),真空吸附槽(9)以吸附盘(8)的旋转中心为起点向外延伸至吸附盘(8)上表面,所述旋转中心与真空吸附槽(9)距离最远处的距离小于基片的半径。
4.根据权利要求3所述的一种快速真空纳米压印设备,其特征在于:所述吸附盘(8)的旋转中心向下设置有通孔,所述通孔通过设有的抽真空气路与真空泵相连接,所述吸附盘(8)向下设置有旋转固定接头,所述旋转固定接头向下连接有旋转电机Ⅰ(10)。
5.根据权利要求1所述的一种快速真空纳米压印设备,其特征在于:所述交换仓区(2)与真空腔区(1)之间的门为电动闸门Ⅰ(11),交换仓区(2)与物料区(3)的门为电动闸门Ⅱ(12)。
6.根据权利要求1所述的一种快速真空纳米压印设备,其特征在于:所述上料机械手(4)包括固定在交换仓区(2)内顶部的升降模块(13),所述升降模块(13)包括升降电机(14)和顶杆(15),所述顶杆(15)的前端设置有旋转电机Ⅱ(16),所述旋转电机Ⅱ(16)通过轴承Ⅰ连接有支撑臂Ⅰ(17),所述支撑杆Ⅰ通过轴承Ⅱ连接有支撑臂Ⅱ(18),支撑臂Ⅱ(18)通过轴承Ⅲ连接有支撑臂Ⅲ19,所述轴承Ⅱ上连接有旋转电机Ⅲ(20),所述轴承Ⅲ上设置有旋转电机Ⅳ(21)。
7.根据权利要求6所述的一种快速真空纳米压印设备,其特征在于:所述支撑臂Ⅲ19前端设置有固定抓手(22),所述固定抓手(22)包括固定基片的硅胶片和设置在硅胶片后的金属抓手,所述金属抓手通过气缸提供动力;所述固定抓手(22)与固定抓手(22)设置有轴承Ⅳ,所述轴承Ⅳ上设置有旋转电机Ⅴ(23)。
8.根据权利要求1所述的一种快速真空纳米压印设备,其特征在于:所述上料机械手(4)伸长或收缩时,支撑臂Ⅰ(17)相对于顶杆(15)的旋转角速度、支撑臂Ⅲ19相对于支撑臂Ⅱ(18)的角速度与支撑臂Ⅱ(18)相对于支撑臂Ⅰ(17)的角速度、金属抓手对于支撑臂Ⅲ19的角速度大小相同方向相反。
9.根据权利要求1所述一种快速真空纳米压印设备的控制方法,其特征在于包括以下控制步骤:
第一步,将真空腔区(1)保持真空状态,启动设备工作流程;
第二步,将物料区(3)输料门(6)打开,把所需物料分层放入物料区(3)后关闭输料门(6);
第三步,将物料区(3)左侧门打开,上料机械手(4)进入物料区(3)取出对应物料,上料机械手(4)退出物料区(3),关闭物料区(3)左侧门,将交换仓区(2)抽真空至低于10Pa;
第四步,将真空腔区(1)右侧门打开,上料机械手(4)将对应物料放入真空腔区(1)复制压印单元(7),操作完成后上料机械手(4)退出真空腔区(1)并关闭真空腔区(1)右侧门,可直接开始真空压印;
第五步,压印完成后,真空腔区(1)右侧门打开,上料机械手(4)将压印片转移至交换仓区(2),关闭真空腔区(1)右侧门,打开物料区(3)左侧门,将上料机械手(4)中的压印片转移至物料区(3)物料架(5);
第六步,压印片转移完成后上料机械手(4)取下次所需物料,继续重复压印过程。
10.根据权利要求9所述一种快速真空纳米压印设备的控制方法,其特征在于包括以下控制步骤:
第一步,将真空腔区(1)保持真空状态,启动设备工作流程;
第二步,将物料区(3)输料门(6)打开,把所需物料分层放入物料区(3)中的物料架(5)上后关闭输料门(6);
第三步,将物料区(3)电动闸门Ⅱ(12)打开,此时电动闸门Ⅰ(11)关闭,上料机械手(4)进入物料区(3)选取对应物料并固定,上料机械手(4)携带对应物料退出物料区(3),关闭物料区(3)左侧门,将交换仓区(2)抽真空至低于10Pa;
第四步,将真空腔区(1)电动闸门Ⅰ(11)打开,此时电动闸门Ⅱ(12)关闭,上料机械手(4)将对应物料放入真空腔区(1)复制压印单元(7)上的吸附机构,操作完成后上料机械手(4)退出真空腔区(1)并关闭真空腔区(1)右侧门,真空腔区(1)可直接开始真空压印;
第五步,压印完成后,真空腔区(1)电动闸门Ⅰ(11)打开,此时电动闸门Ⅱ(12)关闭,上料机械手(4)将压印片转移至交换仓区(2),关闭真空腔区(1)电动闸门Ⅰ(11),打开物料区(3)电动闸门Ⅱ(12),将上料机械手(4)中的压印片转移至物料区(3)物料架(5);
第六步,压印片转移完成后上料机械手(4)取下次所需物料,继续重复压印过程。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202310008564.9A CN116125746A (zh) | 2023-01-04 | 2023-01-04 | 一种快速真空纳米压印设备及其控制方法 |
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Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN116125746A true CN116125746A (zh) | 2023-05-16 |
Family
ID=86304123
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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CN202310008564.9A Pending CN116125746A (zh) | 2023-01-04 | 2023-01-04 | 一种快速真空纳米压印设备及其控制方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN116125746A (zh) |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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CN113311890A (zh) * | 2021-04-20 | 2021-08-27 | 中国科学院微电子研究所 | 极紫外光刻机物料传递及污染控制系统、方法 |
-
2023
- 2023-01-04 CN CN202310008564.9A patent/CN116125746A/zh active Pending
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