CN1624857A - 等离子显示板及其制造方法 - Google Patents

Abstract

在制造等离子显示板(PDP)的方法和利用该方法制造的PDP中，利用胶印技术将电极形成在基板上。此外，在该方法中，用非导电不透色浆料填充具有预定图案的凹版槽。将非导电不透色浆料从凹版槽经由印刷用毡转录到第一基板上从而使浆料对准相邻透明电极之间的非放电区。类似地，将总线电极浆料转录到透明电极上。干燥和焙烤浆料图案。将介电层形成在图案上，由此完成前基板。使后基板与前基板对准，并且将放电气体注入基板之间，然后将两基板彼此密封。

Description

等离子显示板及其制造方法

本申请要求于2003年11月29日向韩国知识产权局提交的序列号为10-2003-0086112、名称为“等离子显示板及其制造方法”(PLASMADISPLAY PANEL AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME)的专利申请的优先权，其全部内容在此引入作为参考。

技术领域

本发明涉及一种等离子显示板及其制造方法，尤其涉及一种利用胶印技术将电极形成在基板上的等离子显示板及其制造方法。

背景技术

通常，等离子显示板(PDP)是一种利用等离子放电来显示图像的显示装置。当向排列在PDP的放电空间内的电极施加电压时，会在电极间发生等离子放电并同时产生真空紫外线(VUV)。紫外线激发呈预定图案的磷光体，从而显示预期的图像。

PDP大致分为AC、DC、和混合型PDP。对于AC型PDP来说，地址电极以特定方向形成在后基板上，并且介电层形成在后基板的整个表面上同时覆盖地址电极。阻挡肋以条状图案形成在介电层上从而使每个阻挡肋设置在相邻的地址电极之间，并且红(R)、绿(G)、蓝(B)磷光层形成在相邻的阻挡肋之间。

放电维持电极形成在面对后基板的前基板的表面与地址电极的方向交叉的方向上。放电维持电极具有一对由氧化铟锡(ITO)形成的透明电极，以及由金属材料形成的总线电极。介电层和MgO保护层顺序形成在前基板的整个表面上同时覆盖放电维持电极。

形成在后基板上的地址电极和形成在前基板上的放电维持电极互相交叉，并且其交叉区域形成放电单元。

将寻址电压施加在地址电极和放电维持电极之间以发生寻址放电，并且将维持电压施加在一对放电维持电极之间以发生维持放电。此时，产生真空紫外线，它们激发相应的磷光体通过透明前基板发射可见光，由此显示预期的图像。

对于上述结构的PDP，总线电极通过光刻形成。在光刻工艺中，将感光银(Ag)浆料以预定厚度涂敷到后基板的整个表面上，并且通过干躁、曝光和显影步骤构图感光银浆料；或者将感光银(Ag)带(photosensitivesilver tape)附着到后基板的整个表面，并且通过曝光和显影步骤构图感光银带。

具体而言，总线电极具有黑、白双层结构以提高对比度。为了达到这个目的，将黑色浆料和白色浆料顺序涂敷在后基板的整个表面，并同时将其曝光。基于黑色浆料的黑色电极层由传导性材料形成。

当总线电极以上述方式形成时，它具有恒定的厚度。然而，在总线电极的两侧边易于形成边缘卷曲(随着电极的焙烤(firing)，其边缘变尖)。当在总线电极上形成介电层时，边缘卷曲使介电形成材料淀积在总线电极的侧边，从而在这些地方产生气泡。这种伴随着气泡产生的结构容易破坏总线电极的耐电压性。因此，总线电极区域的放电单元会在其放电状态出现不正常。

同时，黑条(black stripe)形成在前基板上其非放电区域处以提高对比度。黑条可以与总线电极一起形成，或者可在形成总线电极后单独形成。

当黑条和总线电极用同样的材料一起形成时，黑条与总线电极一样是导电的。因此，当将黑条形成在整个非放电区域中时，用于彼此靠近设置的放电单元的相邻放电维持电极就容易短路。此外，因为黑条包含导电材料，所以其密度削弱，限制了对比度的提高。

另一方面，当黑条在形成总线电极之后单独形成时，必须在执行用于形成总线电极的印刷、干燥、曝光、显影和焙烤的步骤之后重复用于形成黑条的印刷、干燥、曝光、显影和焙烤步骤。这涉及复杂的处理步骤和大量的时间消耗，因此，该方法不适合批量生产工艺。

发明内容

本发明的一个目的是提供一种PDP的制造方法，在该方法中利用胶印技术形成电极以减少电极材料消耗，并且形成细密且精确的电极图案。

本发明的另一目的是提供一种PDP的制造方法，在该方法中利用胶印技术将非导电黑色层形成在非放电区域中并将总线电极形成在前基板上从而用简化的方式提高对比度。

本发明的又一目的是提供一种具有改进的电极结构和增强的对比度的PDP。

在本发明的一个实施例中，PDP包括彼此面对的第一基板和第二基板，以及在第二基板上平行形成的地址电极。阻挡肋设置在第一和第二基板之间以限定多个放电单元，磷光层形成在每个放电单元内部。PDP还包括放电维持电极，该放电维持电极具有形成在第一基板上与地址电极交叉的方向上的透明电极，以及形成在透明电极上同时在平行于透明电极方向的方向上延伸的总线电极。用非导电不透色层(nonconductive opaque-coloredlayer)填充于地址电极的方向上彼此相邻设置的放电单元的相邻透明电极之间的间隙。

总线电极和非导电不透色层在其厚度方向是具有预定曲率的凸面形状。

非导电不透色层与透明电极部分地重叠。总线电极位于靠近非导电不透色层的位置，并且非导电不透色层可以与总线电极和透明电极部分地重叠。总线电极设置在透明电极和非导电不透色层上。

总线电极具有位于透明电极上的宽度方向的中心同时与透明电极电连接，并具有位于非导电不透色层上的外围。总线电极具有垂直于其纵向方向截取的椭圆形横截面。

总线电极可具有围绕形成于透明电极上的其宽度方向中心的一个侧面部分和一相对侧面部分，所述相对侧面部分与和透明电极一边的非导电不透色层的外围重叠。

非导电不透色层覆盖总线电极。

非导电不透色层是基于黑色的，总线电极用基于白色的电极材料形成。

对于PDP的制造方法，将多个具有预定图案的透明电极形成在第一基板上使得所述透明电极彼此平行延伸。用非导电不透色浆料填充具有预定图案的凹版槽(gravure groove)。将非导电不透色浆料从凹版槽转印到印刷用毡。将非导电不透色浆料从印刷用毡转录到第一基板上使得所述浆料对准相邻透明电极之间的非放电区域。用总线电极浆料填充具有预定总线电极图案的凹版槽。将总线电极浆料从凹版槽转印到印刷用毡。将总线电极浆料从印刷用毡转录到形成在第一基板上的透明电极上。将形成在第一基板上的非导电不透色浆料图案和总线电极浆料图案干燥并焙烤。将介电层形成在第一电极上使得该介电层覆盖透明电极、总线电极和非导电不透色层。将第二基板与第一基板对准使得第一和第二基板彼此面对，并且在第一和第二基板之间注入放电气体。然后将所述基板相互密封。

用非导电不透色浆料填充与非放电区域相对应的第一基板上相邻透明电极之间的间隙。所涂敷的非导电不透色浆料与透明电极的外围重叠。

总线电极浆料与非导电不透色浆料重叠。总线电极浆料可以完全覆盖非导电不透色浆料。

总线电极浆料可以与非导电不透色浆料的外围部分地重叠，并且与透明电极部分地重叠。

可以将总线电极浆料形成在透明电极上使得总线电极浆料设置为靠近与透明电极部分重叠的非导电不透色浆料的外围。

可将总线电极形成在透明电极上，并且非导电不透色浆料覆盖形成在透明电极上的总线电极。

非导电不透色浆料是基于黑色的，并且总线电极浆料用基于白色的电极材料形成。

附图说明

通过结合附图参考以下详细描述，对本发明更全面的理解以及本发明的许多优点将变得显而易见，附图中用相同的附图标记表示相同或相似的部分，其中：

图1是根据本发明第一实施例的PDP的局部分解透视图；

图2是根据本发明第一实施例的图1的PDP的截面图，其表示了在第一基板上形成有放电维持电极和黑色图案的结构；

图3A-3E顺序描述了利用胶印技术的电极印刷步骤；

图4示意性地表示在影印版(gravure plate)上形成凹槽、用浆料填充凹槽和将其转录到玻璃基板上的步骤；

图5示意性地表示在影印辊(gravure roll)上形成凹槽、用浆料填充凹槽和将其转录到玻璃基板上的步骤；

图6是根据本发明第二实施例的PDP的截面图，其表示了在第一基板上形成有放电维持电极和黑色图案的结构；

图7是根据本发明第三实施例的PDP的截面图，其表示了在第一基板上形成有放电维持电极和黑色图案的结构；

图8是根据本发明第四实施例的PDP的截面图，其中在第一基板上形成有放电维持电极和黑色图案；

图9是一种AC型PDP的分解透视图；以及

图10表示通过光刻将总线电极和黑条形成在前基板上的PDP的结构。

具体实施方式

下面将参考附图更充分地描述本发明，附图中表示了本发明的优选实施例。

图1是根据本发明第一实施例的PDP的局部分解透视图，图2是PDP的截面图，表示了其中在第一基板上形成有放电维持电极和黑色图案的PDP的结构。

如图所示，PDP包括以预定距离彼此隔开同时彼此面对的第一和第二基板10和20，以及排列在第一基板10和第二基板20之间以限定多个放电单元27的阻挡肋25，在放电单元中发生等离子放电。放电维持电极12、13和12’形成在第一基板10上，地址电极21形成在第二基板20上。红(R)、蓝(B)、绿(G)磷光体涂敷在放电单元27的内表面上以形成磷光层29。

更具体而言，多个地址电极21以某一方向(图中的Y轴方向)形成在与第一基板10面对的第二基板20的表面上。地址电极21以预定距离彼此隔开同时彼此平行延伸。介电层23形成在第二基板20上同时覆盖地址电极21。

多个放电维持电极12、13和12’沿着与地址电极21交叉的方向(图1中的X轴方向)形成在第一基板10上同时彼此平行延伸，其中一对放电维持电极彼此面对的放电单元形成一个像素。一对放电维持电极12和13用作X电极(共用电极)和Y电极(扫描电极)，并且放电维持电极12、13和12’还分别包括透明电极12a、13a和12’a以及总线电极12b、13b和12’b。透明电极12a、13a和12’a可以形成为条形，或者可以以突起形状分别形成在各个放电单元27处。

同时，总线电极12b、13b和12’b分别形成在透明电极12a、13a和12’a上同时与其平行地延伸，并且从宽度方向的中心向其一个侧部偏离。更具体地，在一对透明电极12a和13a对应地形成一放电单元的区域，总线电极12b和13b排列在各个透明电极12a和13a上使得它们位于透明电极的相对侧部，并且彼此相隔。总线电极12b、13b和12’b用银(Ag)电极材料形成并且是白色的。总线电极补偿用于透明电极12a、13a和12’a的ITO电极的高电阻从而减小在放电维持电极上的电压降。

非导电黑色层15形成在相邻透明电极13a和12’a之间的区域，透明电极13a和12’a位于在地址电极的方向(图中的Y轴方向)上彼此相邻的不同放电单元内，与非放电区域(下文简称‘非放电区’)相对应。非导电黑色层15与透明电极12a、13a和12’a重叠。也就是说，黑色层15占据了所有非放电区，并且与非放电区旁边的部分透明电极部分地重叠。

总线电极12b、13b和12’b设置在透明电极12a、13a和12’a以及非导电黑色层15上。也就是说，总线电极的宽度方向的中心位于透明电极12a、13a和12’a上同时与其电连接，总线电极的外围在非导电黑色层15上。为了达到这个目的，使总线电极12b、13b和12’b具有垂直于其纵向方向得到的椭圆形截面。总线电极可以通过胶印技术形成。

因为非导电黑色层15用非导电材料形成以提高对比度，其包含足够的不透明度。因此，黑色层15可以形成在整个非放电区中，而在相邻的放电维持电极之间不产生短路，由此发挥了可靠的对比度提高效果。

现在将参考图3-5解释利用胶印技术在PDP的基板上形成电极的方法。

图3A-3E顺序地表示采用胶印技术的电极印刷步骤。

如图3A所示，在具有目标电极图案的板31中形成凹槽，并且用电极浆料34填充该凹槽。使用刀片32去除在凹槽板(grooved plate)31上溢出的电极浆料34。

此后，如图3B和3C所示，将填充在凹槽板31的凹槽内的电极浆料34转印到印刷用毡35上。如图3D和3E所示，然后将电极浆料34从印刷用毡35转录到玻璃基板37上，之后干燥和焙烤它。

图4表示在影印版中形成凹槽、用浆料填充凹槽、以及将浆料转录到玻璃基板上的过程，图5表示在影印辊中形成凹槽、用浆料填充凹槽、以及将浆料转录到玻璃基板上的过程。

通过在影印版31或影印辊39中制成凹槽、用浆料填充凹槽、将浆料转印到毡35上、并且将浆料转录到玻璃基板37上，来形成总线电极图案和非导电黑色层图案。

现将更具体地解释形成在PDP的基板上形成总线电极和非导电黑色层的胶印技术。

首先，参考图2，将具有预定图案的多个透明电极12a、13a和12’a形成在第一基板10上使得它们彼此平行延伸。

此后，用非导电黑色浆料填充具有预定图案的凹版槽。凹版槽的图案是基于预先形成的透明电极12a、13a和12’a的形状而形成，使得目标层覆盖非放电区，同时与部分透明电极12a、13a和12’a部分地重叠。可以选择性地将凹版槽形成在影印版31(图4)或影印辊39上(图5)。在用浆料填充凹槽后，用刀片32将溢出的浆料去除(图3A)。

将填充在凹版槽内的非导电黑色浆料转印到印刷用毡35上(图3B和3C)。

然后将非导电黑色浆料从印刷用毡35转录到第一基板10上(图2)。此时，非导电黑色浆料对准第一基板10上的非放电区同时与透明电极12a、13a和12’a部分地重叠。

在涂敷非导电黑色浆料之后，将总线电极浆料涂敷到基板10上。涂敷总线电极浆料的方法与涂敷非导电黑色浆料的方法类似。

也就是说，用总线电极浆料填充具有预定总线电极图案的凹版槽。此时，考虑到预先形成的透明电极12a、13a和12’a以及非导电黑色层15的形状，将总线电极12b、13b和12’b形成在透明电极12a、13a和12’a上从而使它们平行于透明电极延伸。

更具体而言，为了形成总线电极12b、13b和12’b，优选总线电极浆料完全覆盖涂敷在第一基板10上的非导电黑色浆料。因为非导电黑色浆料在干燥之前具有某种流动性，所以非导电黑色浆料流出到总线电极中心(宽度方向)周围的侧部，从而使总线电极浆料直接接触透明电极同时与其电连接。

凹版槽内的总线电极浆料被转印到印刷用毡35上(图3B和图3C)，然后从印刷用毡35被转录到第一基板10上(图2)。

然后干燥并焙烤非导电黑色浆料图案和总线电极浆料图案。将介电层形成在第一基板10上以使其覆盖透明电极12a、13a和12’a、总线电极和非导电黑色层15，并且将保护层形成在介电层上，由此完成用于PDP的前基板。当利用胶印技术形成总线电极和非导电黑色层15时，对比度提高黑色层和总线电极12b、13b和12’b可以以简化的方式形成。因为不需要使总线电极的一部分形成为黑色电极，所以可以保持极佳的电导率。在工艺中的这点上，总线电极或非导电黑色层15是在其厚度方向上具有预定曲率的凸面形状。

前基板与通过单独的工艺制造的后基板对准使得它们互相面对，并且将放电气体注入基板之间。然后将基板彼此密封，由此完成PDP。

用于形成非导电黑色层15的非导电浆料不限于黑色的一种浆料。也可以使用其他能很好地适用于提高对比度的非导电不透色浆料。此外，白色电极材料、如银(Ag)，也可以用作形成总线电极的总线电极浆料，但是，也可以为了这一目的而采用不同颜色的材料，只要其具有适当的电导率。

现将详细解释根据本发明第二至第四实施例的PDP。对于这些PDP，可以利用胶印技术来形成总线电极12b、13b和12’b以及非导电黑色层15。

图6是根据本发明第二实施例的PDP的截面图，其表示了其中放电维持电极和黑色图案一起形成在第一基板上的PDP的结构。

如图6所示，非导电黑色层45占据了整个非放电区同时与透明电极42a、43a和42’a部分地重叠。也就是说，黑色层45覆盖非放电区同时与非放电区旁边的部分透明电极42a、43a和42’a部分地重叠。

总线电极42b、43b和42’b位于透明电极42a、43a和42’a以及非导电黑色层45上，正如在与本发明第一实施例相关的结构中那样。然而，在本实施例中，总线电极42b、43b和42’b的一侧位于透明电极42a、43a和42’a上同时与其电连接，而总线电极42b、43b和42’b的另一侧与非导电黑色层45的外围重叠，该非导电黑色层45与透明电极42a、43a和42’a部分地重叠。

图7是根据本发明第三实施例的PDP的截面图，其表示了放电维持电极和黑色图案一起形成在第一基板上的PDP的结构。

如图7所示，非导电黑色层55占据了整个非放电区同时与透明电极52a、53a和52’a部分地重叠。也就是说，黑色层55覆盖非放电区并与非放电区旁边的部分透明电极52a、53a和52’a部分地重叠。

总线电极52b、53b和52’b设置在透明电极52a、53a和52’a上同时与其平行延伸，并且设置在非导电黑色层55附近，该非导电黑色层与透明电极52a、53a和52’a部分地重叠。

图8是根据本发明第四实施例的PDP的截面图，其表示了在第一基板上形成有放电维持电极和黑色图案的结构。

如图8所示，非导电黑色层65占据整个非放电区同时与透明电极62a、63a和62’a部分地重叠。在该实施例中，非导电黑色层65覆盖总线电极62b、63b和62’b。

为了这个目的，首先将总线电极浆料涂敷到透明电极62a、63a和62’a上，并且将非导电黑色浆料涂敷于其上。

图9是一种AC型PDP的分解透视图，图10表示了其中通过光刻将总线电极和黑条形成在前基板上的PDP的结构。

如图9所示，在AC型PDP中，地址电极112形成在后基板110上一特定方向(图9中的X轴方向)上，介电层113形成在后基板110的整个表面上同时覆盖地址电极112。阻挡肋115以条状图案形成在介电层113上使得每个阻挡肋115位于相邻的地址电极112之间，并且红(R)、绿(G)、和蓝色(B)磷光层117形成在相邻的阻挡肋115之间。

放电维持电极102和103形成在面对后基板110的前基板100的表面上与地址电极112交叉的方向(图9的Y轴方向)。放电维持电极102和103分别具有一对由氧化铟锡(ITO)形成的透明电极102a和103a并分别具有由金属材料形成的总线电极102b和103b。介电层106和MgO保护层108顺序形成在前基板100的整个表面上同时覆盖放电维持电极102和103。

形成在后基板110上的地址电极112和形成在前基板100上的放电维持电极102和103彼此交叉，其交叉区域形成放电单元。

将寻址电压Va施加在地址电极112和放电维持电极102、103之间以产生寻址放电，并且将维持电压Vs施加在一对放电维持电极102和103之间以产生维持放电。此时，产生真空紫外线，并且真空紫外线激发相应的磷光体以通过透明前基板100发射可见光，由此显示预期的图像。

对于上述结构的PDP，总线电极102b和103b通过光刻形成。在光刻工艺中，感光银(Ag)浆料被涂敷到后基板110的整个表面上达到预定的厚度，并通过干燥、曝光和显影步骤被构图；或者感光银(Ag)带附着到后基板110的整个表面，并通过曝光和显影步骤被构图。

具体地，总线电极102b和103b具有黑色和白色的双层结构以提高对比度。为了这个目的，黑色浆料和白色浆料被顺序涂敷到后基板110的整个表面上，并且同时曝光。基于黑色浆料的黑色电极层用导电材料形成。

当总线电极102b和103b按上述方式形成时，其具有恒定的厚度。然而，如图10所示，在总线电极102b和103b的横向两侧易形成边缘卷曲(随着电极的焙烤，其边缘变尖)。当在总线电极102b和103b上形成介电层时，边缘卷曲使介电形成材料淀积在总线电极的横向侧上，这样就在这些位置产生了气泡。伴随气泡产生的结构容易使总线电极的耐电压性变差。因此，在总线电极区域的放电单元的放电状态就出现了不正常。

同时，如图10所示，黑条120形成在前基板100的非放电区域以提高对比度。可以将黑条120与总线电极102和103一起形成，或者可以在形成总线电极102和103之后单独形成。

当将黑条120与总线电极102、103用同样的材料一起形成时，黑条120就与总线电极102、103一样是导电的。因此，当将黑条120形成在整个非放电区域中时，用于彼此靠近的放电单元的相邻放电维持电极就容易短路。此外，因为黑条120包含导电材料，所以其密度削弱，限制了对比度的提高。

如上所述，对于制造PDP的本发明的方法，对比度提高黑色层和总线电极用简化的方式形成，而不必用黑色电极部分地形成总线电极，由此保持非常好的电导率。

进一步地，对于本发明的PDP，使用非导电材料来提高对比度，由此得到足够的强度，并且黑色层形成在整个非放电区中而在相邻的放电维持电极之间没有引起短路，这样就可靠地提高了对比度。

尽管以上已详细描述了本发明的优选实施例，但应清楚理解的是，本领域技术人员对基本发明构思的多种变化和/或修改仍将落入由所附权利要求限定的本发明的主旨和范围内。

Claims (25)

1.一种等离子显示板，包括：

彼此面对的第一基板和第二基板；

形成在所述第二基板上并且彼此平行延伸的地址电极；

设置在所述第一和第二基板之间以限定多个放电单元的阻挡肋；

形成在所述各个放电单元中的每一个内部的磷光层；以及

放电维持电极，其包括形成在所述第一基板上与所述地址电极交叉的方向上的透明电极以及形成在所述透明电极上并且平行于所述透明电极延伸的总线电极，

其中用非导电不透色层填充在所述地址电极的方向上彼此靠近设置的所述放电单元的相邻透明电极之间的间隙。

2.根据权利要求1所述的等离子显示板，其中每个所述总线电极是具有预定曲率的凸面形状并在其厚度方向上延伸。

3.根据权利要求1所述的等离子显示板，其中所述非导电不透色层是具有预定曲率的凸面形状并在其厚度方向上延伸。

4.根据权利要求1所述的等离子显示板，其中所述非导电不透色层与所述透明电极部分地重叠。

5.根据权利要求4所述的等离子显示板，其中所述总线电极设置为靠近所述非导电不透色层。

6.根据权利要求4所述的等离子显示板，其中所述非导电不透色层与所述总线电极和所述透明电极部分地重叠。

7.根据权利要求6所述的等离子显示板，其中所述总线电极设置在所述透明电极和所述非导电不透色层上。

8.根据权利要求7所述的等离子显示板，其中每个所述总线电极具有位于所述透明电极中相应的一个透明电极上的宽度方向的中心同时与所述相应的一个透明电极电连接，并具有位于所述非导电不透色层上的外围。

9.根据权利要求8所述的等离子显示板，其中每个所述总线电极具有垂直于其纵向方向延伸的椭圆形横截面。

10.根据权利要求7所述的等离子显示板，其中每个所述总线电极具有在形成于所述透明电极中对应的一个透明电极上的其宽度方向的中心附近的一个侧部，以及与相邻于所述对应的一个透明电极的非导电不透色层的外围重叠的一相对侧部。

11.根据权利要求6所述的等离子显示板，其中所述非导电不透色层覆盖所述总线电极。

12.根据权利要求1所述的等离子显示板，其中所述非导电不透色层是基于黑色的。

13.根据权利要求1所述的等离子显示板，其中每个所述总线电极用基于白色的电极材料形成。

14.根据权利要求1所述的等离子显示板，其中所述非导电不透色层利用胶印技术形成。

15.根据权利要求1所述的等离子显示板，其中每个所述总线电极利用胶印技术形成。

16.一种等离子显示板的制造方法，该方法包括以下步骤：

在第一基板上形成多个具有预定图案的透明电极，使得所述透明电极彼此平行延伸；

用非导电不透色浆料填充具有预定图案的凹版槽；

将所述非导电不透色浆料从所述凹版槽转印到印刷用毡上；

将所述非导电不透色浆料从所述印刷用毡转录到所述第一基板上使得所述浆料对准相邻透明电极之间的非放电区；

用总线电极浆料填充具有预定总线电极图案的凹版槽；

将所述总线电极浆料从所述凹版槽转印到所述印刷用毡上；

将所述总线电极浆料从所述印刷用毡转录到形成在所述第一基板上的所述透明电极上；

干燥和焙烤形成在所述第一基板上的非导电不透色浆料图案和总线电极浆料图案；

在所述第一基板上形成介电层使得该介电层覆盖所述透明电极、所述总线电极和非导电不透色层；以及

将第二基板与所述第一基板对准，使得所述第一和第二基板彼此面对，在所述第一和第二基板之间注入放电气体，并将所述第一和第二基板彼此密封。

17.根据权利要求16所述的方法，其中用所述非导电不透色浆料填充与所述非放电区相对应的所述第一基板上的相邻透明电极之间的间隙。

18.根据权利要求17所述的方法，其中所述非导电不透色浆料与所述透明电极的外围重叠。

19.根据权利要求18所述的方法，其中所述总线电极浆料与所述非导电不透色浆料重叠。

20.根据权利要求19所述的方法，其中所述总线电极浆料设置在整个所述非导电不透色浆料上。

21.根据权利要求19所述的方法，其中所述总线电极浆料与所述非导电不透色浆料的外围部分地重叠，并且与所述透明电极部分地重叠。

22.根据权利要求16所述的方法，其中所述总线电极浆料形成在所述透明电极上使得所述总线电极浆料设置为靠近所述非导电不透色浆料的外围，该非导电不透色浆料与所述透明电极部分地重叠。

23.根据权利要求16所述的方法，其中所述总线电极形成在所述透明电极上，并且所述非导电不透色浆料覆盖形成在所述透明电极上的所述总线电极。

24.根据权利要求16所述的方法，其中所述非导电不透色浆料是基于黑色的。

25.根据权利要求16所述的方法，其中所述总线电极浆料用基于白色的电极材料形成。

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