CN1794401A - 等离子显示面板及其制造方法 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及等离子显示面板及其制造方法,并且更具体地说,涉及等离子显示面板及其制造方法,其中可以改进黑色层的均匀性和产量。根据本发明的实施例的等离子显示面板包括前玻璃基片、在放电区域中的前玻璃基片上形成的透明电极、在非放电区域中的至少部分前玻璃基片上形成的粘合剂和在非放电区域中的粘合剂上形成的黑色层。在根据本发明的实施例的制造等离子显示面板的方法中,形成前面板的工艺包括步骤(a)在玻璃基片上涂覆透明电极软膏和粘合软膏,(b)在透明电极和粘合剂上放置掩模,(c)以光照射掩模的顶面以形成透明电极图形和粘合图形,和(d)在透明电极图形和粘合图形上涂覆黑色软膏以形成黑色层。
Description
技术领域
本文档涉及显示设备,并且更具体地说,涉及等离子显示面板及其制造方法。
背景技术
一般地,显示设备的等离子显示设备包括等离子显示面板和用于驱动等离子显示面板的驱动器。
等离子显示面板包括具有前基片和后基片的等离子显示面板。前基片和后基片之间形成的阻挡条形成一个单位单元。每个单元填充着比如氖(Ne)、氦(He)或Ne+He的混合气体的主要放电气体,和包含小量氙(Xe)的惰性气体。如果以高频电压放电惰性气体,产生真空紫外线。激励阻挡条之间形成的荧光材料以实现图像。可以将等离子显示面板制作得很薄,并且因而作为下一代显示设备备受关注。
图1是示出了现有等离子显示面板的结构的视图。
如图1所示,等离子显示面板包括前基片100和后基片110。在前基片100中,其中扫描电极102和维持电极103成对形成的多个维持电极被设置在前基片101上作为显示图像的显示表面。在后基片110中,在后基片111上设置与多个维持电极对交叉的多个寻址电极113作为后表面。同时,前基片100和后基片110之间具有预定距离地彼此平行。
前基片100包括互相放电并在一个放电单元内保持发光的成对的扫描电极102和成对维持电极103,也就是,每个扫描电极102和维持电极103具有由透明的氧化铟锡(ITO)材料形成的透明电极“a”和金属材料形成的总线电极“b”。以用于限制放电电流并在电极对之间提供绝缘的一个或多个介质层104覆盖扫描电极102和维持电极103。在介质层104上形成其上沉积了氧化镁(MgO)的保护层105以促进放电条件。
在后基片110中,相互平行地排列用于形成多个放电空间,即,放电单元的条形(或井形)的阻挡条112。此外,平行于阻挡条112平行设置通过执行寻址放电产生真空紫外线的多个寻址电极113。将放射可见光用于在寻址放电中显示图像的R、G和B荧光材料层114涂覆在后基片110的顶面上。在寻址电极113和荧光材料层114之间形成用于保护寻址电极113的介质层115。
通过基片制造工艺、前面板制造工艺、后面板制造工艺和装配工艺形成上述结构的等离子显示面板。更具体地说,是等离子显示面板制造工艺的前面板制造工艺。
图2是示出现有技术中的等离子显示面板的制造前面板的方法的流程图。如图2中所示,在步骤(a)中,将氧化铟和氧化锡制成的ITO在作为在其上显示图像的显示表面的前基片10上沉积预定的厚度,在前面板中通过E-光束或溅射法形成透明电极11a、12a。将光致抗蚀剂(A)涂覆在透明电极11a、12a上。在光致抗蚀剂(A)上放置光掩模(B),其中形成如图3中所示的预定图形。由放射光烧结光致抗蚀剂。将这个工艺称为“曝光工艺”。
在经历了曝光工艺的前基片中,经步骤(b),即,生长工艺清除未经烧结的光致抗蚀剂,并且然后在透明电极上进行喷沙或蚀刻。此后,在步骤(c)中从前基片剥离光致抗蚀剂。因此,形成扫描电极和维持电极中的透明电极11a、12a。
此后,在步骤(d)中,在包含透明电极11a、12a的前基片10上涂覆黑色层软膏20。在黑色层软膏20上涂覆光致抗蚀剂(C),然后如上所述经历曝光工艺。通过步骤(e)中的生长工艺和蚀刻工艺从经历了曝光工艺的前基片剥离光致抗蚀剂,从而形成黑色层20。
其后,在步骤(f)中,通过丝网印刷方法在黑色层20上印刷光敏银(Ag)软膏。然后以如上所述的相同方法通过光刻方法形成总线电极11b、12b。其后,在大约550℃进行烧结以形成扫描电极和维持电极。
其后,在步骤(g)中,在形成了扫描电极和维持电极,以及黑色层20的前基片上涂覆介质基片软膏,然后干燥。然后在大约500到600℃的温度下进行烧结以形成介质层30。在介质层30的顶面上通过化学汽相淀积(CVD)方法、离子电镀法、真空淀积法等形成氧化镁(MgO)制成的保护层40,从而完成等离子显示面板的前面板。
在如上所述的等离子显示面板的制造工艺中形成前基片。因此,构成总线电极的银(Ag)不允许放电的光通过,但是允许外部光从其反射。因此,在透明电极和总线电极之间形成用于改进对比度的黑色层。但是,在前基片上形成的黑色层具有较差的与基片粘和强度,产生短的黑色层图形和部分分离现象。结果,由于故障率上升并且降低了等离子显示面板的产品产量而出现了问题。
发明内容
因此,本发明的实施例至少解决背景技术的问题和缺点。
本发明的实施例的目标是改进等离子显示面板的产量。
本发明的实施例的另一目标是通过改进黑色层与前面板中形成的前玻璃基片的粘合强度降低故障率。
为了实现上述目标,根据本发明的等离子显示面板包括前玻璃基片、在放电区域中的前玻璃基片上形成的透明电极、在非放电区域中的至少部分前玻璃基片上形成的粘合剂和在非放电区域中的粘合剂上形成的黑色层。
在根据本发明的实施例的制造等离子显示面板的方法中,形成前面板的工艺包括步骤(a)在玻璃基片上涂覆透明电极软膏和粘合软膏、(b)在透明电极和粘合剂上放置掩模、(c)以光照射掩模的顶面以形成透明电极图形和粘合图形,和(d)在透明电极图形和粘合图形上涂覆黑色软膏以形成黑色层。
根据本发明的实施例,在等离子显示面板的制造工艺中,改进了黑色层与前面板中形成的前基片的粘合强度。因此,在可以降低故障率和可以提高产量方面存在优点。
附图说明
将参考附图详细描述本发明的实施例,其中相似的标记表示相似元件。
图1是示出一般等离子显示面板的构造的透视图;
图2是示出制造现有技术中的等离子显示面板的前面板的方法的流程图;
图3示出用于制造现有技术中的等离子显示面板的前面板的掩模图形;
图4示出根据本发明的实施例的等离子显示面板的前面板的构造;
图5是示出制造根据本发明的实施例的等离子显示面板的方法的流程图;
图6是示出制造根据本发明的实施例的等离子显示面板的前面板的工艺的流程图;
图7示出用于制造根据本发明的实施例的等离子显示面板的前面板的掩模图形;和
图8示出用于制造根据本发明的实施例的等离子显示面板的前面板的掩模图形。
具体实施方式
将参考附图具体描述本发明的实施例。
根据本发明的实施例的等离子显示面板包括前玻璃基片、在放电区域中的前玻璃基片上形成的透明电极、在非放电区域中的至少部分前玻璃基片上形成的粘合剂和在非放电区域中的粘合剂上形成的黑色层。
进一步在透明电极的某些部分上形成黑色层。
等离子显示面板进一步包括在黑色层上形成的总线电极。
粘合剂和透明电极由ITO材料形成。
粘合剂具有点图形。
点图形包括一个或多个点。
粘合剂具有线图形。
线图形包括一个或多个线。
透明电极包括包含槽的图形。
包含槽的图形包括一个或多个槽。
在制造根据本发明的另一实施例的等离子显示面板的方法中,形成前面板的工艺包括步骤(a)在玻璃基片上涂覆透明电极软膏和粘合软膏,(b)在透明电极和粘合剂上放置掩模,(c)以光照射掩模的顶面以形成透明电极图形和粘合图形,和(d)在透明电极图形和粘合图形上涂覆黑色软膏以形成黑色层。
掩模包括点图形。
将点图形放置在其中黑色层形成的位置。
掩模包括线图形。
将线图形放置在黑色层形成的位置。
掩模包括包含槽的图形。
包含槽的图形位于透明电极上。
现在将参考附图描述本发明的实施例。
图4示出根据本发明的实施例等离子显示面板的前面板的构造。
如图4中所示,等离子显示面板包括前玻璃基片201和后玻璃基片210。在作为显示图像的显示表面的前玻璃基片201中,安排其中成对形成扫描电极202a、202b和维持电极203a、203b的多个维持电极对。在作为后表面的后玻璃基片210中,在后玻璃基片210上安排与多个维持电极对交叉的多个寻址电极211。前玻璃基片201和后玻璃基片210彼此平行。
前玻璃基片201包括成对的扫描电极202a、202b和维持电极203a、203b,其在一个放电单元内互相放电并维持单元的发光。换言之,扫描电极202a、202b和维持电极203a、203b包含由透明ITO材料组成的透明电极202a、202b和由金属材料组成的总线电极202b、203b。在放电区域中的前玻璃基片201上形成透明电极202a、203a并且在非放电区域中的至少部分前玻璃基片201上形成透明电极202a、203a。
此外,如果在包含部分透明电极202a、203a和粘合剂207的前玻璃基片上形成黑色层205,在黑色层205上提供总线电极202b、203b。
其后,以限制放电电流并在电极对之间提供绝缘的一个或多个上介质层204覆盖黑色层205和扫描电极202a、202b和维持电极203a、203b。在上介质层204上沉积具有沉淀的氧化镁(MgO)的保护层206以促进放电条件。可以使用ITO材料形成粘合剂207和透明电极202a、203a。
在后玻璃基片210中,平行地布置用于形成多个放电空间,即放电单元的条形(或井形)的阻挡条214。此外,平行阻挡条214放置多个寻址电极211,其进行寻址放电以产生真空紫外线。
在后玻璃基片210的顶面上涂覆在寻址放电期间用于显示图像的放射可见光的R、G和B荧光材料层215。在寻址电极211和荧光材料层215之间形成用于保护寻址电极211的下介质层212。
下面参考图5描述制造上述构造的等离子显示面板的方法。
图5是示出根据本发明的实施例的制造等离子显示面板的方法的流程图。
制造等离子显示面板的方法包括前面板制造工艺,如图5的左边所示、后面板制造工艺,如图5的右边所示,和包含密封工艺等的装配工艺,如图5的底部所示。
下面将首先描述图5左边的前面板制造工艺。准备好用作前面板的基础材料的前玻璃基片(100)。在前基片上形成透明电极和粘合剂(110)。然后在包含透明电极和粘合剂的前玻璃基片上涂覆黑色层软膏以形成黑色层(120)。
其后,在黑色层上形成总线电极(130)。在包含透明电极、黑色层和总线电极的前玻璃基片上形成上介质层(140)。然后在上介质层上形成用于保护电极的MgO形成的保护层(150)。
现在将描述等离子显示面板的后面板制造工艺。首先制备好后玻璃基片(200)。在后玻璃基片中形成与前面板中形成的维持电极对交叉的寻址电极(210)。其后,在寻址电极的顶面上形成下介质层(220)。在下介质层的顶面上形成荧光材料层(230)。
密封如上所述制造的前面板和后面板(300)以形成等离子显示面板(400)。
其间,在根据本发明的实施例的如上所述的制造等离子显示面板的方法中,将参考图6具体描述制造前面板的工艺。
图6是示出根据本发明的实施例的制造等离子显示面板的前面板的工艺的流程图。
如图6中所示,在步骤(a)中,在依靠E光束或溅射方法的前面板中,在作为在其上显示图像的显示表面的前玻璃基片50上沉淀氧化铟和氧化锡制成的ITO到预定厚度,从而形成透明电极51a、52a和粘合剂。在透明电极51a、52a和粘合剂上涂覆光致抗蚀剂(A)。
在光致抗蚀剂(A)上以预定距离放置其中形成如图7中所示的预定图形的定形的光掩模(D)(例如,(a)或(b))。然后通过放射光线在光致抗蚀剂上完成曝光工艺使得烧结光致抗蚀剂。
通过步骤(b),即,生长工艺,从未经历曝光工艺的前玻璃基片清除未经烧结的光致抗蚀剂。然后在透明电极51a、52a和粘合剂上进行喷沙或蚀刻工艺。
其后,在步骤(c)中,剥离光致抗蚀剂。因此,在前玻璃基片50上的放电区域中形成扫描电极和维持电极中的透明电极,并且对应于后面板中形成的阻挡条在前玻璃基片50的非放电区域中形成一个或多个粘合剂70。
可以依靠如图7的(a)中所示的点图形的光掩膜在前玻璃基片50上以点的形式形成,或可以依靠如图7的(b)中所示的线图形的光掩膜在前玻璃基片50上以线的形式形成前玻璃基片50的非放电区域上形成的粘合剂70。
点图形包括一个或多个点。此外,线图形包括一个或多个线。
此外,在前玻璃基片50的放电区域中形成的透明电极51a、52a中,使用包括掩模图形中的预定形状的图形,其中如图8的(a)或(b)中所示形成透明电极51a、52a,在透明电极51a、52a中形成预定的槽。从而可能提高放电效率。
可以在透明电极51a、52a上放置包括预定形状的图形。不仅可以通过比如激光的工艺,而且也可通过使用掩模图形的曝光工艺形成透明电极51a、52a中形成的槽。
在步骤(d)中,在包括透明电极51a、52a和在非放电区域中形成的一个或多个粘合剂70的前玻璃基片50上涂覆黑色层软膏60。在黑色层软膏60上涂覆光致抗蚀剂(E)并且在光致抗蚀剂(E)上进行前述的曝光工艺。
在步骤(e)中,通过生长工艺和蚀刻工艺从经历了曝光工艺的前玻璃基片剥离光致抗蚀剂,从而形成黑色层60。
其后,在步骤(f)中,通过丝网印刷方法在黑色层60上印刷光敏银(Ag)软膏。然后通过光刻法以如上的相同方式形成总线电极51b、52b。其后,在大约550℃的温度下进行烧结以形成扫描电极和维持电极。
其后,在步骤(g)中,在其中形成了并随后干燥扫描电极、维持电极和黑色层60的前玻璃基片上涂覆绝缘基片软膏。然后在500到600℃的温度下进行烧结工艺以形成介质层80。通过CVD方法、离子电镀方法、真空淀积方法等在介质层80的整个表面上形成由MgO形成的保护层90,从而完成等离子显示面板的前面板。
通过提高的与前玻璃基片的顶部粘合的强度,通过根据本发明的实施例的上述工艺制造的等离子显示面板的前玻璃基片的黑色层可具有一致的厚度。从而可能改进对比度特性。
在制造等离子显示面板的工艺中,提高了黑色层和前面板中形成的前玻璃基片的粘合强度。因此,在可以降低故障率和可以提高产量方面具有优点。
这样描述了本发明,很明显可以以多种方式变更其等价物。不认为这样的变更是脱离本发明的精神和范围的,并且意在将对于本领域的技术人员来说很明显的所有的这样的修正包括在下面的权利要求的范围内。
Claims (17)
1.一种等离子显示面板,其包括:
前玻璃基片;
透明电极,其在放电区域中的前玻璃基片上形成;
粘合剂,其在非放电区域中的至少部分前玻璃基片上形成;和
黑色层,其在非放电区域中的粘合剂上形成。
2.如权利要求1所述的等离子显示面板,其中,该黑色层进一步在透明电极的一些部分上形成。
3.如权利要求1所述的等离子显示面板,进一步包括在黑色层上形成的总线电极。
4.如权利要求3所述的等离子显示面板,其中,该粘合剂和透明电极由ITO材料形成。
5.如权利要求4所述的等离子显示面板,其中,该粘合剂具有点图形。
6.如权利要求5所述的等离子显示面板,其中,该点图形包括一个或多个点。
7.如权利要求4所述的等离子显示面板,其中,该粘合剂具有线图形。
8.如权利要求7所述的等离子显示面板,其中,该线图形包括一个或多个线。
9.如权利要求1所述的等离子显示面板,其中,该透明电极包括包含槽的图形。
10.如权利要求9所述的等离子显示面板,其中,该包含槽的图形包括一个或多个槽。
11.一种制造包括前面板的等离子显示面板的方法,其中,形成前面板的工艺包括以下步骤:
(a)在玻璃基片上涂覆透明电极软膏和粘合软膏;
(b)在透明电极和粘合剂上设置掩模;
(c)以一定量的光照射掩模的顶面以形成透明电极图形和粘合图形;和
(d)在透明电极图形和粘合图形上涂覆黑色软膏以形成黑色层。
12.如权利要求11所述的方法,其中,该掩模包括点图形。
13.如权利要求12所述的方法,其中,该点图形被设置在其中形成黑色层的位置。
14.如权利要求11所述的方法,其中,该掩模包括线图形。
15.如权利要求14所述的方法,其中,该线图形被设置在其中形成黑色层的位置。
16.如权利要求11所述的方法,其中,该掩模包括包含槽的图形。
17.如权利要求16所述的方法,其中,该包含槽的图形位于透明电极上。
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