CN1753136A - 等离子体显示屏、其制造方法及阻挡壁 - Google Patents

Abstract

一种等离子体显示屏包括彼此相对的第一基板和第二基板、沿第一方向布置在所述第一基板上的寻址电极、布置在第一基板和第二基板之间以界定多个放电单元的阻挡壁、以及沿相交于第一方向的第二方向布置在第二基板上的显示电极。所述阻挡壁包括布置在所述第一基板和第二基板中所提供的非显示区域中的伪阻挡壁，所述伪阻挡壁满足以下公式：2.4≤(h/l)×100≤6.0；其中l为沿第一方向测量的伪阻挡壁的长度，而h为沿显示屏的厚度方向测量的阻挡壁的高度。

Description

等离子体显示屏、其制造方法及阻挡壁

技术领域

本发明涉及等离子体显示屏，且更具体地，涉及等离子体显示屏的阻挡壁(barrier rib)及其制造方法。

背景技术

通常，等离子体显示屏(PDP)利用气体放电产生紫外线，紫外线激发荧光粉发射可见光来显示图像。可以制造具有大于60英寸的屏幕的PDP，而且它可以小于10厘米(cm)厚。另外，由于PDP是自发光的，类似于阴极射线管(CRT)，它展示出不受视角扭曲的令人满意的色彩复现能力。

此外，它的制造工艺比液晶显示器(LCD)简单。因此，PDP可以比LCD更简单更廉价地生产。因此，PDP越来越普及。

尽管已经有人建议过很多PDP结构，三电极表面放电PDP是非常通用的结构。三电极表面放电PDP包括具有一对电极的第一基板、与第一基板隔开且具有寻址电极的第二基板、以及由阻挡壁在第一和第二基板之间界定的多个放电单元。

用于形成PDP的阻挡壁的公知技术包括丝网印刷法、喷砂法等。

就丝网印刷法而言，将已构图的丝网放在基板上，在丝网和基板之间保持预定的间隙。然后压制、转移并以所需图案在基板上印刷阻挡壁物质。不过，要获得PDP所需高度尺寸的阻挡壁，丝网印刷法涉及复杂的工艺。

就喷砂法而言，在基板上涂布壁浆料，然后在其上喷洒磨料，由此形成具有预定图案的阻挡壁。更具体而言，形成阻挡壁包括在基板的整个表面上涂布壁浆料以形成阻挡壁层，在阻挡壁层上层压抗蚀剂，通过曝光和显影工艺构图抗蚀剂，通过涂布磨料去除暴露的壁浆料，除去抗蚀剂，以及退火形成阻挡壁图案的壁浆料。

如上所述，用于制造阻挡壁的常规方法涉及几个工艺步骤，由此使工艺复杂化并降低了制造效率。

PDP具有显示区域和非显示区域，图像显示基本发生在显示区域中。非显示区域不显示图像，包围一伪区域和端子区域，该端子区域将PDP中的电极和外部端子连接起来。在伪区域中设置伪单元。伪区域结构性地支撑着形成于显示区域中的放电单元，使它们可以具有基本均匀的放电或发射特性。

因此，需要一种优化伪区域中的阻挡壁的PDP。

发明内容

本发明提供了一种等离子体显示屏(PDP)以及制造该PDP的方法，其可以允许以简化的工艺制造阻挡壁。

本发明还提供了一种PDP以及制造该PDP的方法，该PDP能够通过伪阻挡壁设计提高形成于显示区域中的阻挡壁的均匀性。

本发明的其他特征将在后面的描述中加以阐述，它们的一部分将从描述变得明了，或者可以从实践本发明习得。

本发明公开了一种等离子体显示屏，包括彼此相对的第一基板和第二基板、沿第一方向布置在第一基板上的寻址电极、布置在第一基板和第二基板之间以界定多个放电单元的阻挡壁、以及沿相交于第一方向的第二方向布置在第二基板上的显示电极，其中阻挡壁包括布置于第一基板和第二基板所提供的非显示区域中的伪阻挡壁，所述伪阻挡壁形成得满足如下公式：

2.4≤(h/l)×100≤6.0

其中l为在第一方向上测量的伪阻挡壁的长度，h为在显示屏厚度方向上测量的阻挡壁的高度。

本发明还公开了一种制造等离子体显示屏的方法，该等离子体显示屏具有在彼此相对的第一基板和第二基板之间由阻挡壁界定的放电单元，以及对应相应放电单元的寻址电极和显示电极，该方法包括在第一基板上形成阻挡壁，其中形成阻挡壁包括：制备壁浆料，使用喷洒器在第一基板上方移动释放壁浆料以形成升起(rising)部分和平坦部分，以及干燥和烧制升起部分和平坦部分。

要理解的是，前述一般性描述和后面的详细描述都是示例性和示范性的，旨在提供如所要求的本发明的进一步解释。

附图说明

本申请包括附图以提供本发明进一步的理解，将附图引入并构成本说明书的一部分，附图展示了本发明的实施例并和说明书一起解释本发明的原理。

图1为平面图，示出了根据本发明第一示范性实施例的等离子体显示屏(PDP)。

图2为部分分解透视图，示出了根据本发明第一示范性实施例的PDP。

图3为平面图，示意性地示出了根据本发明第一示范性实施例的PDP的阻挡壁和伪阻挡壁的结构。

图4为透视图，示出了根据本发明第一示范性实施例的PDP的阻挡壁的制造方法。

图5为曲线图，示出了剪切速率和壁浆料的粘度之间的关系。

图6A为曲线图，示出了随喷洒距离而变化的浆料释放压力；以及

图6B为曲线图，示出了随浆料释放距离而变化的阻挡壁高度。

具体实施方式

参考图1，根据本发明第一示范性实施例的等离子体显示屏(PDP)包括第一基板10(后基板)和第二基板20(前基板)，彼此基本平行地布置，之间有预定的间隙。后和前基板10和20彼此组合到一起，由此形成PDP的基本结构。

在后基板10和前基板20上提供显示区域100和非显示区域200，非显示区域200位于显示区域100的外侧。图像显示在显示区域100中。亦即，放电单元布置在显示区域100中以显示图像。非显示区域200包括伪区域和端子区域，在伪区域中布置了界定伪单元的阻挡壁和伪单元，端子区域将PDP中的电极与外部端子连接起来。非显示区域200不显示图像。

图2为部分分解透视图，示出了根据本发明第一示范性实施例的PDP，而图3为平面图，示意性地示出了根据本发明第一示范性实施例的PDP的阻挡壁和伪单元的结构。

参考图2，寻址电极12沿第一方向(图中的y轴方向)布置在后基板10的内表面上，介质层14覆盖着寻址电极12。寻址电极12基本上相互平行。

显示电极21和22沿相交于寻址电极12的第二方向(图中的x轴方向)布置在前基板20的内表面上。每个显示电极21和22分别包括汇流电极21b和22b，以及扩展电极21a和22a。汇流电极21b和22b沿着第一方向延伸，扩展电极21a和22a从汇流电极21b和22b向着相应放电单元的中心延伸。在此，汇流电极21b和22b可以是金属电极，而扩展电极21a和22a可以是透明电极，例如氧化铟锡(ITO)电极。

介质层24和保护层26依次形成在前基板20上以覆盖显示电极21和22。保护层26可以是氧化镁(MgO)层，它保护着介质层24免受等离子体放电期间离子化的离子撞击，并因其二次电子发射系数高改善着放电效率。

参考图2和图3，阻挡壁16和伪阻挡壁17布置在后基板10和前基板20之间。

阻挡壁16基本平行于寻址电极12延伸，它们形成于显示区域100中且界定放电单元18。

荧光层19形成于阻挡壁16的两侧和放电单元18之内的介质层14上，它吸收紫外线并发射可见光。放电单元18填充有放电气体(例如Xe和Ne的混合气体)，以引发等离子体放电。

从阻挡壁16延伸的伪阻挡壁17形成于非显示区域200中。在示例性实施例中，阻挡壁16和伪阻挡壁17可以通过喷洒(dispensing)法形成。

现在将描述用于制造阻挡壁和伪阻挡壁的喷洒法(也称为“喷嘴喷射法”)。

图4为透视图，示出了用于制造根据本发明第一示范性实施例的PDP的阻挡壁的方法，而图5为曲线图，示出了剪切速率和壁浆料粘度之间的关系。

参考图4和图5，制备壁浆料，壁浆料的粘度可以随着剪切速率的增大而降低。

喷洒器30喷洒壁浆料以形成阻挡壁。

喷洒器30位于具有寻址电极12和介质层14的后基板10的上方，然后在通过喷嘴32释放壁浆料的同时移动，由此在介质层14上形成阻挡壁的升起部分170和平坦部分160。

在示例性实施例中，在喷洒器30中沿直线布置了多个喷嘴32，彼此间隔预定的距离。喷洒器30在平行于寻址电极12的方向(图中的y轴方向)移动以形成平行于寻址电极12延伸的升起部分170和平坦部分160。

尽管参照本发明的示例性实施例展示和描述了以条状图案平行于寻址电极形成的阻挡壁和伪阻挡壁的制造方法，但本发明并不限于此。利用喷嘴变化的布置和移动模式可以制造很多种阻挡壁和伪阻挡壁。

现在将参考图6A和6B更详细地描述形成升起部分170和平坦部分160的过程。图6A为曲线图，示出了释放压力随释放距离的变化，图6B为曲线图，示出了阻挡壁高度随释放距离的变化。

参考图6A和6B，形成升起部分170和平坦部分160的过程包括：在初始壁浆料释放阶段逐渐增大升起部分170的高度形成升起部分170，以及形成具有基本均匀高度的平坦部分160。

具体而言，在初始壁浆料释放阶段，在逐渐增大升起部分170的高度的同时形成升起部分170。这是因为，利用喷洒法的固有特性，从起始点直到预定的喷洒距离t₁释放压力都在逐渐增大，如图6A和6B所示。在这一步，可以将升起部分170形成为位于非显示区域200中。

如图6A和6B所示，在形成高度基本均匀的平坦部分160的步骤中，在预定喷洒距离t₁之后释放压力保持恒定，以便平坦部分160可以具有基本均匀的高度。在这一步，平坦部分160形成为位于显示区域100中。

在示例性实施例中，由于高度逐渐增大的升起部分170形成于非显示区域200中，高度基本均匀的平坦部分160形成于显示区域100中。因此，在初始释放阶段逐渐增加升起部分170的高度稳定了随后形成高度基本均匀的平坦部分160的步骤。

如上所述，本发明中所用的壁浆料的粘度随着剪切速率的增大而降低，如图5所示。在从喷嘴32释放时，壁浆料具有高的剪切速率。因此，当壁浆料通过喷嘴释放时，其粘度低，可以以预定形状形成升起部分。一旦升起部分在基板上形成，形成平坦部分的壁浆料具有低的剪切速率和高粘度，使平坦部分能保持预定形状。

接着，干燥并烧制位于显示区域100中的平坦部分160和位于非显示区域200中的升起部分170，以分别完成阻挡壁16和伪阻挡壁17的制作。由于位于显示区域100中的平坦部分160具有基本均匀的高度，因此阻挡壁16也具有基本均匀的高度。

为了允许阻挡壁16在显示区域100中形成为具有基本均匀的高度，应当对伪阻挡壁17的长度进行优化。现在将描述伪阻挡壁17的长度的最优长度范围。

为了形成高度基本均匀的阻挡壁16且优化非显示区域200的面积，可以形成阻挡壁16和伪阻挡壁17使之满足如下要求：

2.4≤(h/l)×100≤6.0

其中l沿平行于寻址电极12的方向(图中的y轴方向)测量的伪阻挡壁17的长度，而h为沿显示屏厚度方向(图中的z轴方向)测量的阻挡壁16的高度。

如果(h/l)×100超过了6.0，高度不均匀的升起部分可能位于显示区域中，由此使阻挡壁16具有了不均匀的高度。另一方面，如果(h/l)×100不到2.4，伪阻挡壁可能变得太长，由此不利地增加了不显示图像的非显示区域200的面积。在本例中，考虑到PDP的高度，l可以是约2mm到约5mm。

在根据本发明实施例的PDP中，位于显示区域中的阻挡壁可以形成为具有基本均匀的高度，同时通过优化设计相对于伪阻挡壁的长度(l)的阻挡壁的高度(h)，优化非显示区域的面积。

现在将参考实验例更详细地描述本发明的实施例。以下实验例仅为示例而提供，并非用于限制。

实验例

在本实验例中，阻挡壁是通过喷洒法形成的。在从起点(即阻挡壁的一端)到距离(a)之间的多个位置处测量阻挡壁的高度(b)。测量结果在表1中给出。在实验例的描述中，除非另有定义，所用的术语“阻挡壁”在广义上表示显示区域中的阻挡壁以及非显示区域中的伪阻挡壁。

将要在显示区域中形成的阻挡壁的高度(b)(即，在PDP的厚度方向上测量的阻挡壁的高度)设定为120μm。

表1

a[mm]	1.00	1.50	1.75	2.00	2.25	2.50	2.75	3.00	3.50	4.00	4.50	5.00
													b[μm]	88	101	109	117	117	117	117	118	118	118	118	118

表1表明，在距阻挡壁端部不到2.00mm的位置，高度小于将要形成的阻挡壁的高度。此外，所形成的阻挡壁的高度是不均匀的。因此，为了在显示区域中形成阻挡壁的基本均匀的高度，伪阻挡壁可以至少约为2.00mm长。

此外，为了优化非显示区域的面积，伪阻挡壁可以不长于大约5.00mm。

换言之，伪阻挡壁可以为大约2mm到大约5mm长。在实验例中，由于将要在显示区域中形成的阻挡壁的高度(h)设为了120μm，满足了2.4≤(h/l)×100≤6.0的要求，这意味着阻挡壁具有基本均匀的高度。

如上所述，在根据本发明实施例的制造PDP的方法中，使用喷洒法形成阻挡壁，由此克服了常规阻挡壁制造方法的问题。

此外，本发明的实施例可以提供更简单更快速的形成阻挡壁的方法。这样，能够提高PDP的生产率和产量。

根据本发明的实施例的PDP使得位于显示区域中的阻挡壁能够形成为具有基本均匀的高度，而同时通过优化设计相对于伪阻挡壁的长度的阻挡壁的高度优化非显示区域的面积。

本领域的技术人员显然应理解，在不背离本发明的精神或范围的条件下可以在本发明中做出多种润饰和变化。因此，只要这些润饰或变化落在权利要求及其等同要件的范围内，本发明旨在覆盖这些润饰和变化。

Claims (15)

1.一种等离子体显示屏，包括：

第一基板和第二基板，彼此相对；

寻址电极，沿第一方向布置在所述第一基板上；

阻挡壁，布置在所述第一基板和所述第二基板之间以界定多个放电单元；以及

显示电极，沿相交于所述第一方向的第二方向布置在所述第二基板上，

其中，所述阻挡壁包括布置在所述第一基板和第二基板中提供的非显示区域中的伪阻挡壁，所述伪阻挡壁形成得满足以下公式：

2.4≤(h/l)×100≤6.0

其中，l为沿所述第一方向测量的伪阻挡壁的长度，而h为沿显示屏的厚度方向测量的阻挡壁的高度。

2.如权利要求1所述的等离子体显示屏，其中，所述伪阻挡壁的长度在大约2mm到大约5mm的范围内。

3.如权利要求1所述的等离子体显示屏，其中，所述阻挡壁沿所述第一方向形成，且每个所述伪阻挡壁从每个所述阻挡壁开始延伸。

4.如权利要求1所述的等离子体显示屏，还包括所述放电单元中的荧光层。

5.如权利要求1所述的等离子体显示屏，其中，所述伪阻挡壁的高度沿着所述第一方向增加。

6.一种制造等离子体显示屏的方法，所述等离子体显示屏具有由彼此相对的第一基板和第二基板之间的阻挡壁界定的放电单元，以及对应于相应放电单元的寻址电极和显示电极，所述方法包括：

在所述第一基板上形成所述阻挡壁，

其中，形成阻挡壁包括：

使用喷洒器形成升起部分和平坦部分，所述喷洒器在所述第一基板上方移动的同时释放壁浆料；以及

干燥所述升起部分和所述平坦部分。

7.如权利要求6所述的方法，其中，形成所述升起部分和平坦部分包括：

在初始壁浆料释放阶段在逐渐增加所述升起部分的高度的同时形成所述升起部分，以及形成高度基本均匀的平坦部分。

8.如权利要求6所述的方法，其中，所述阻挡壁由喷洒器形成，所述喷洒器通过沿直线布置的多个喷嘴释放所述壁浆料。

9.如权利要求6所述的方法，其中，所述升起部分和所述平坦部分形成为沿着所述寻址电极延伸的方向延伸。

10.如权利要求6所述的方法，其中，所述壁浆料的粘度随着其剪切速率的增加而降低。

11.一种包括利用权利要求6的方法形成的阻挡壁的等离子体显示屏。

12.一种平板显示器的阻挡壁，包括：

形成于所述平板显示器的非显示区域中的升起部分；以及

形成于所述平板显示器的显示区域中的平坦部分，

其中，2.4≤(h/l)×100≤6.0，

其中l为所述升起部分的长度，而h为所述平坦部分的高度。

13.如权利要求12所述的阻挡壁，其中，所述平板显示器为等离子体显示屏。

14.如权利要求12所述的阻挡壁，其中，所述升起部分具有变化的高度，而所述平坦部分基本平坦。

15.如权利要求14所述的阻挡壁，其中，所述升起部分的高度在从所述非显示区域到所述显示区域的方向上增加。

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