CN1819102A - 等离子显示面板及其制造方法 - Google Patents

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Abstract

提供了一种等离子显示面板，并且更具体地说，能够在简化基片的制造工艺的同时减少透明电极和总线电极之间的连续电阻的等离子显示面板及其制造方法。该等离子显示面板包括透明电极和总线电极。在透明电极和总线电极之间设置包括电各向异性的黑色材料。制造等离子显示面板的方法包括在前基片上沉积透明传导性材料以形成透明电极和在透明电极上形成具有各向异性的黑色材料层的步骤。

Description

等离子显示面板及其制造方法
技术领域
本发明涉及等离子显示面板，并且更具体地说，涉及能够减少透明电极和总线电极的连续电阻，同时简化制造基片的工艺的等离子显示面板及其制造方法。
背景技术
最近，比如液晶显示器(LCD)、场致发射显示器(FED)，和等离子显示面板(PDP)的平板显示器(FPD)发展活跃。其中，PDP由于结构简单而易于制造，且具有高亮度和高发射效率，具有记忆功能和不小于160°的宽视角，并且可实现不小于40英寸的大屏幕。
图1示出现有的三电极AC表面放电类型PDP的放电单元。
参考图1，在前基片46上形成扫描电极34Y和维持电极34Z并且在后基片44上形成寻址电极32X。
维持电极对34Y和34Z由透明电极34a和总线电极34b形成。总线电极34b由双层的黑色材料层34i和电极材料层34j形成。
前介电层42和保护层40层压在前基片46上，在该处扫描电极34Y和维持电极34Z互相平行地形成。在前介电层42上累积等离子放电期间产生的壁电荷。
保护层40防止前介电层42受到等离子放电期间产生的溅射的破坏并促进次级电子的放电效率。一般使用氧化镁(MgO)作为保护层40。
在其中形成寻址电极32X的后基片上形成后介电层48和阻挡条38。以荧光材料层36涂覆后介电层48和阻挡条38的表面。与扫描电极34Y和维持电极34Z交叉形成寻址电极32X。
与寻址电极32X平行形成阻挡条38以防止放电产生的紫外线(UV)和可见光泄漏到相邻放电单元。
荧光材料层36被等离子放电期间产生的UV射线激发，产生红(R)、绿(G)和蓝(B)可见光之一。将用于放电气体的惰性气体注入在前基片46/后基片44和阻挡条38之间提供的放电空间。
在PDP的前介电层42中平行于维持电极对34Y和34Z形成黑色基体(black matrix)52以改进屏幕的对比度。
黑色基体52吸收外部光线和相邻放电单元之间的内部传输光线以改进颜色饱和度和对比度。黑色基体52是可见光吸收剂。
通过将包含钌(Ru)基氧化物的传导材料或包含钴(Co)基氧化物的非传导材料与溶剂和感光树脂混合，使用印刷方法或光敏方法使其具有约5μm高度来形成黑色基体52。
下面将描述使用非传导黑色材料制造PDP的前基片的方法。
参考图2A至图2G，在前基片46上沉积透明传导材料以成型透明传导材料，使得如图2A中所示形成透明电极34a。在形成了透明电极34a的前基片46上印刷并烘干具有弱传导性的黑色材料层34i以覆盖透明电极34a，如图2B中所示。然后，使用具有发射单元60b和中止单元60a的第一光掩模60在黑色材料层34i上曝光对应于发射单元60b的黑色材料层61，如图2C中所示。
然后，如图2D中所示在形成部分曝光的黑色材料层34i的前基片46上印刷电极材料层34j并将其烘干。然后，如图2E中所示使用具有发射单元70b和中止单元70a的第二光掩模70曝光黑色材料层34i和与发射单元70b重叠的电极材料层34j。在通过显影工艺成型曝光的黑色材料层34i和电极材料层34j之后，如图2F所示进行冷却工艺以形成总线电极34b和黑色基体52。这里，总线电极由黑色材料层34i和电极材料层34j的双层形成并且黑色基体52由黑色材料层34i的单层形成。
以介电层材料涂覆其中形成了维持电极对34Y和34Z和黑色基体52的前基片46以形成前介电层42，如图2G中所示。
然后，以保护层材料MgO涂覆前介电层42以形成保护层40，如图2H中所示。
如上所述，当使用非传导性黑色材料时，可能简化工艺并节约费用。然而，总线电极34j和透明电极34a之间的电阻增加使得连续电阻下降。
另一方面，当使用传导性黑色材料时，由于总线电极34j和透明电极34a之间的电阻小，所以连续电阻高。然而，形成总线电极34j的工艺不同于形成黑色基体的工艺，使得工艺和费用方面的效率降低。
因此，寻找简化工艺并减少制造费用的同时减少总线电极和透明电极之间的电阻的方法。
发明内容
因此，本发明的目标是至少解决背景技术的问题和缺点。
本发明的目标是提供一种等离子显示面板(PDP)，其能够在简化工艺并节约制造费用的同时改进连续电阻。
根据本发明的等离子显示板包括透明电极和总线电极。在透明电极和总线电极之间安排具有电各向异性的黑色材料。
根据本发明的制造等离子显示面板的方法包括在前基片上沉积透明传导材料以形成透明电极和在透明电极上形成具有各向异性的黑色材料的步骤。
根据本发明的制造PDP的方法，在单片上进行一次曝光和显影工艺，在该单片中，将所制造的黑色材料层和电极材料层彼此结合以形成黑色基体和总线电极，使得制造工艺被简化。而且，由于简化了制造工艺，可能防止设备的特性由于比如空气中的灰尘的外部物质而恶化。
附图说明
将参考下面的附图具体描述本发明，其中相似的数字表示相似的元件。
图1是示出现有三电极AC类型PDP的放电单元的结构的截面图。
图2A至2H是示出制造现有PDP的前基片的方法的工艺的截面图。
图3A至3F是示出根据本发明的制造PDP的前基片的方法的工艺的截面图。
图4是示出根据本发明的PDP的维持电极对的透视图。
具体实施方式
将参考附图更具体地描述本发明的优选实施例。
根据本发明的等离子显示面板包括透明电极和总线电极。在透明电极和总线电极之间安排具有各向电异性的黑色材料。
通过将传导金属材料或传导金属氧化物添加至非传导材料获得黑色材料。
以球或颗粒的形式形成传导金属材料或传导金属氧化物。
传导金属材料或传导金属氧化物的比率在从5wt％到30wt％的范围内。
传导金属材料或传导金属氧化物包括Au、Ag、Cu和Ru中的至少一种。
传导金属材料或传导金属氧化物包括Au+Ag、Au+Cu、Au+Ru、Ag+Cu、Ag+Ru和Cu+Ru中的一种。
传导金属材料或传导金属氧化物包括Au+Ag+Cu、Au+Ag+Ru、Au+Cu+Ru、Ag+Cu+Ru和Au+Ag+Cu+Ru中的一种。
制造根据本发明的等离子显示面板的方法包括在前基片上沉积透明传导材料以形成透明电极和在透明电极上形成具有各向异性的黑色材料的步骤。
形成具有各向异性的黑色材料的步骤包括使用第一光掩模曝光黑色材料层和使用第二光掩模曝光黑色材料层和电极材料层的步骤。
以下，将参考图3A至图4描述本发明的优选实施例。
将参考图3A至图3G描述制造根据本发明的PDP的工艺。
参考图3A，在前基片146上沉积透明传导材料并且成型其以形成透明电极134a，如图3A中所示。
参考图3B，在形成了透明电极134a的前基片146上印刷黑色材料层134i以覆盖透明电极134a，如图3B中所示，并将其烘干。这里，黑色材料层134i是各向异性的黑色导体。也就是，使用通过将比如Au、Ag、Cu和Ru的金属材料或金属氧化物以球体或颗粒的形式添加至非传导性黑色材料获得的材料。因此，可能解决发生在根据现有技术仅使用非传导性材料时的透明电极134a和总线电极134j之间的电阻大的问题。
参考图3C，使用在黑色材料层134i上包括发射单元160b和中止单元160a的第一光掩模160曝光对应于发射单元160b的黑色材料层161。
参考图3D，在形成了部分曝光的黑色材料层134i的前基片146上印刷电极材料层134j并烘干。
参考图3E，使用具有发射单元170b和中止单元170a的第二光掩模170曝光黑色材料层134i和与发射单元170b重叠的电极材料层134j。在经过显影工艺成型曝光的黑色材料层134i和电极材料层134j之后，进行冷却工艺以形成总线电极134b和黑色基体152。
图4是示出根据本发明的使用各向异性黑色材料层134i形成总线电极和透明电极的透视图。
参考图4，以插入的各向异性黑色材料层134i形成根据本发明的总线电极134j和透明电极134a。
通过以球体或颗粒的形式向非传导性氧化物90添加金属材料或金属氧化物80制造黑色材料层134i。可使用Au、Ag、Cu和Ru作为金属材料或金属氧化物。
也就是，传导性金属材料或传导性金属氧化物至少包括Au、Ag、Cu和Ru中的一种，Au+Ag、Au+Cu、Au+Ru、Ag+Cu、Ag+Ru和Cu+Ru中的一种，或Au+Ag+Cu、Au+Ag+Ru、Au+Cu+Ru、Ag+Cu+Ru和Au+Ag+Cu+Ru中的一种。
以颗粒形式添加至非传导性氧化物90的传导性氧化物80的比率在5wt％到30wt％范围内。当传导性氧化物80的比率过小时，透明电极134a和总线电极134j之间的传导率会恶化。当传导性氧化物80的比率过大时，工艺是复杂的并且未显示出各向异性的电特性。因此，以5wt％到30wt％的比率添加传导性氧化物80。
当制造根据本发明的PDP的前基片时，主要使用非传导性氧化物90作为黑色材料层134i使得可能简化工艺并节约制造费用。以颗粒的形式将金属氧化物80添加至非传导性氧化物90使得可能解决在透明电极134a和总线电极134j之间的连续电阻过大的问题，根据现有技术，该问题发生在黑色材料层134i仅由非传导性氧化物90形成时。
根据现有技术，将高电压应用于考虑压降的电极。然而，可能通过减少连续电阻来减少应用于扫描电极和维持电极的电压幅度。因此，可能减少作为现有PDP的最大缺点的能耗。
黑色材料层134i的电特性是各向异性的。当减少透明电极134a和总线电极134j之间的连续电阻时，在从透明电极134a到总线电极134j的垂直截面上形成电流流经的路径，使得可防止电流流经黑色材料层134i中的水平截面。因此，可通过均匀地分布电极减少电压损耗并均匀地形成电压，使得可改进放电的可靠性。
很明显可以许多方式变更如上所述的本发明。不应认为这样的变更脱离本发明的精神和范围，并且意在在以下的权利要求的范围内包括对本领域的技术人员来说明显的所有这样的修正。

Claims (20)

1.一种等离子显示面板，其包括：
透明电极；和
总线电极，
其中在透明电极和总线电极之间设置包括电各向异性的黑色材料。
2.如权利要求1所述的等离子显示面板，其中，该黑色材料是通过将传导性金属材料或传导性金属氧化物添加至非传导性材料获得的。
3.如权利要求2所述的等离子显示面板，其中，该传导性金属材料或传导性金属氧化物是以球体或颗粒的形式形成的。
4.如权利要求2所述的等离子显示面板，其中，该传导性金属材料或传导性金属氧化物的比率在5wt％到30wt％的范围内。
5.如权利要求4所述的等离子显示面板，其中，该传导性金属材料或传导性金属氧化物包括Au，Ag，Cu和Ru中的至少一种。
6.如权利要求5所述的等离子显示面板，其中，该传导性金属材料或传导性金属氧化物包括Au+Ag、Au+Cu、Au+Ru、Ag+Cu、Ag+Ru和Cu+Ru中的一种。
7.如权利要求5所述的等离子显示面板，其中，该传导性金属材料或传导性金属氧化物包括Au+Ag+Cu、Au+Ag+Ru、Au+Cu+Ru、Ag+Cu+Ru和Au+Ag+Cu+Ru中的一种。
8.一种等离子显示面板，其包括：
透明电极；和
总线电极，
其中，在透明电极和总线电极之间提供通过以球体或颗粒的形式将传导性金属材料或传导性金属氧化物添加至非传导性材料获得的黑色材料。
9.如权利要求8所述的等离子显示面板，其中，该传导性金属材料或传导性金属氧化物的比率在5wt％到30wt％的范围内。
10.如权利要求8所述的等离子显示面板，其中，该传导性金属材料或传导性金属氧化物包括Au、Ag、Cu和Ru中的至少一种。
11.如权利要求10所述的等离子显示面板，其中，该传导性金属材料或传导性金属氧化物包括Au+Ag、Au+Cu、Au+Ru、Ag+Cu、Ag+Ru和Cu+Ru中的一种。
12.如权利要求10所述的等离子显示面板，其中，该传导性金属材料或传导性金属氧化物包括Au+Ag+Cu、Au+Ag+Ru、Au+Cu+Ru、Ag+Cu+Ru和Au+Ag+Cu+Ru中的一种。
13.一种制造等离子显示面板的方法，该方法包括步骤：
在前基片上沉积透明传导材料以形成透明电极；和
在透明电极上形成具有各向异性的黑色材料层。
14.如权利要求13所述的方法，形成包括各向异性的黑色材料的步骤包括步骤：
使用第一光掩模曝光黑色材料层；和
使用第二光掩模曝光黑色材料层和电极材料层。
15.如权利要求13所述的方法，其中，该黑色材料是通过将传导性金属材料或传导性金属氧化物添加至非传导性材料获得的。
16.如权利要求15所述的方法，其中，该传导性金属材料或传导性金属氧化物是以球体或颗粒的形式形成的。
17.如权利要求15所述的方法，其中，该传导性金属材料或传导性金属氧化物的比率在5wt％到30wt％的范围内。
18.如权利要求17所述的等离子显示面板，其中，该传导性金属材料或传导性金属氧化物包括Au、Ag、Cu和Ru中的至少一种。
19.如权利要求18所述的等离子显示面板，其中，该传导性金属材料或传导性金属氧化物包括Au+Ag、Au+Cu、Au+Ru、Ag+Cu、Ag+Ru和Cu+Ru中的一种。
20.如权利要求18所述的等离子显示面板，其中，该传导性金属材料或传导性金属氧化物包括Au+Ag+Cu、Au+Ag+Ru、Au+Cu+Ru、Ag+Cu+Ru和Au+Ag+Cu+Ru中的一种。
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PB01 Publication
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