CN1534314A - 防眩性反射防止膜的制造方法及其装置和防眩性反射防止膜 - Google Patents

Abstract

一种防眩性反射防止膜的制造方法，用压花辊(34)和支承辊(36)夹持反射防止膜(30)，在反射防止层(24)上复制压花辊(34)的凸凹形状，其特征在于，支承辊(36)的纵弹性模量及硬度比压花辊(34)的纵弹性模量及硬度小。由此，当利用压花加工在反射防止膜的反射防止层的表面附加凸凹时，能够制造复制精度高的防眩性反射防止膜，且在反射防止膜不产生开孔。

Description

防眩性反射防止膜的制造方法及其装置和防眩性反射防止膜

技术领域

本发明涉及防眩性反射防止膜的制造方法及其装置和防眩性反射防止膜，具体涉及用于液晶显示装置等的图像显示装置的防眩性反射防止膜的制造方法及其装置和防眩性反射防止膜。

背景技术

反射防止膜设置在液晶显示装置(LCD)、等离子体显示面板(PDP)、电致发光显示器(ELD)或阴极射线管显示装置(CRT)等多种图像显示装置。作为反射防止膜，以往，一般采用叠层金属氧化物的透明薄膜的多层膜。采用多种透明薄膜为的是防止反射不同波长的光。金属氧化物的透明薄膜采用化学蒸镀(CVD)法或物理蒸镀(PVD)法，特别是物理蒸镀法的一种即真空蒸镀法形成。金属氧化物的透明薄膜，作为反射防止膜，具有优良的光学性质，但是，蒸镀形成方法生产性低，不适合大批量生产。根据用途，PVD法形成的反射防止膜有时形成在具有基于表面凸凹而产生的防眩性的支持体上。利用形成在平滑支持体上的反射防止膜，减少平行光线透过滤，但由于因表面凸凹而散射，降低背景的映入，产生防眩性，结合反射防止效果，如果用于图像形成装置，可显著改进其显示质量。

除了蒸镀法，还提出了利用涂布无机粒子形成反射防止膜的方法。特公昭60-59250号公报公开了具有微细空孔和微粒子状无机物的反射防止层。通过涂布形成反射防止层。在层的涂布后，通过进行活性化气体处理，使气体从层脱离，从而形成微细空孔。特公昭59-50401号公报公开了按支持体和低折射率层的顺序叠层的反射防止膜。该公报还公开了在支持体和高折射率层的中间设置中等折射率层的反射防止膜。通过涂布聚合物或无机微粒子形成低折射率层。

作为在利用上述涂布形成的反射防止膜上附加防眩性的手段，研究了在具有表面凸凹的支持体上涂布反射防止层的方法或在形成反射防止层的涂布液中添加用于形成表面凸凹的粗糙粒子的方法。但是，前一种方法，由于反射防止层的涂布液从凸的部分向凹的部分流动，在面内产生膜厚不均，与平滑面上的涂布膜相比，存在大大降低反射防止性能的问题。此外，对于后一种方法，为了产生良好的防眩性，由于需要在膜厚大约0.1～0.3微米的薄膜中埋入粒径在1微米左右以上的粗糙粒子，存在粗糙粒子粉脱落的问题。

作为其对策，本申请人，在特开2000-275404号公报及特公昭59-50401号公报中提出的方法，不像以往那样，将透明支持体形成凸凹状，或在形成反射防止层的涂布液中添加粗糙粒子，在反射防止层的表面赋予凸凹，而是利用金属制的压花辊及金属制的支承辊挤压设有反射防止层的反射防止膜。

但是，利用压花辊和支承辊挤压反射防止膜的方法，在对反射防止膜施加挤压压力的过程中，在反射防止层的表面用于赋予凸凹的压花辊的凸部贯通反射防止膜，存在在反射防止膜上开孔的问题。作为其对策，通过调整挤压压力可有某种程度的改进，但不能完全解决开孔的问题。此外，如将挤压压力减小到确实去除开孔的程度，结果复制的精度极度下降。

发明内容

本发明是针对上述问题而提出的，目的是提供一种防眩性反射防止膜的制造方法及其装置和防眩性反射防止膜，当利用压花加工在反射防止膜的反射防止层的表面赋予凸凹时，能够制造高精度复制的防眩性反射防止膜，且在反射防止膜不产生开孔。

本发明为达成上述目的，提供一种防眩性反射防止膜的制造方法，在透明支持体上至少设置一层反射防止层，形成反射防止膜后，用具有多个凸凹的压花部件和支持部件挤压反射防止膜，在上述反射防止层的表面复制上述压花部件的凸凹形状，其特征在于：在用上述压花部件和支持部件夹持反射防止膜时，该压花部件的凸部借助反射防止膜挤压支持部件的压力通过上述支持部件分散。

此外，本发明为达成上述目的，提供一种防眩性反射防止膜的制造装置，具有在透明支持体上至少设置一层反射防止层并形成反射防止膜的反射防止膜形成装置、用压花部件和支持部件夹持上述反射防止膜并在上述反射防止层的表面复制上述压花部件的凸凹形状的复制装置，其特征在于：使上述支持部件的纵弹性模量或铅笔硬度比上述压花部件的纵弹性模量或铅笔硬度小。

此外，本发明为达成上述目的，提供一种防眩性反射防止膜，其特征在于：采用本发明要求保护范围2～7中任何一项记载的防眩性反射防止膜的制造装置进行制造。

如果采用本发明，当利用基于压化部件和支持部件的压花加工在反射防止膜的反射防止层的表面附加凸凹时，由于使支持部件的纵弹性模量或硬度比压花部件的纵弹性模量或硬度小，因此在用压花部件和支持部件夹持上述反射防止膜时，压花部件的凸部能够利用支持部件分散借助反射防止膜挤压支持部件的压力。通过分散压力，压花部件的凸部不贯通反射防止膜，不在反射防止膜上形成开孔。此外，也能规定支持部件，以满足上述纵弹性模量及铅笔硬度的两方面的条件。

作为本发明的实施方式，支持反射防止膜的反射防止层背面侧的支持部件的纵弹性模量达到1×10⁴kgf/cm²以上、2.1×10⁶kgf/cm²以下。此外，支持部件的表层的铅笔硬度在2B以上、7H以下。这样，通过将支持部件的纵弹性模量的上限确定为2.1×10⁶kgf/cm²、支持部件的表层的铅笔硬度的上限确定在7H，在用压花部件和支持部件夹持上述反射防止膜时，压花部件的凸部能够利用支持部件，高效率地分散借助反射防止膜挤压支持部件的压力。而且，通过将支持部件的纵弹性模量的下限确定为1×10⁴kgf/cm²、支持部件的表层的铅笔硬度的下限确定为2B，对复制精度无不良影响。关于此时使用的压花部件，可以使用在复制面形成多个凸凹的版模，也可以与版模对置地配置平板的支持部件，但从制造的完全连续化的角度考虑，优选由在辊表面形成凸凹形状的压花辊和与其对置的支承辊形成的一对夹持辊构成。

此外，作为本发明的实施方式，优选在利用加热手段将支持部件和支持部件中的至少压花部件的表面温度加热到透明支持体的玻化温度以上的状态下，压花加工反射防止膜。这是因为，通过将透明支持体加热到玻化温度以上，由于可提高反射防止膜的耐冲击性，所以能进一步防止反射防止膜开孔。

附图说明

图1是本发明的防眩性反射防止膜的制造装置的整体构成图。

图2是本发明的防眩性反射防止膜的制造装置中的复制装置，是由压花辊和支承辊形成的一对夹持辊构成的立体图。

图3是说明用复制装置在反射防止膜上复制的凸凹形状的说明图。

图4是说明在复制装置的压花辊的辊面上形成的凸凹形状的说明图。

图5是说明在复制时的本发明的作用的说明图。

图6是其他方式的复制装置，是由版模和支持部件构成的模式图。

图中：10：防眩性反射防止膜的制造装置，12：输出装置，14：反射防止膜形成装置，16：复制装置，18：卷取装置，20：透明支持体，22：涂布装置，24：反射防止层，26：干燥装置，28：固化装置，30：反射防止膜，32：防眩性反射防止膜，34：压花辊，36：支承辊

具体实施方式

下面，参照附图，详细说明本发明的防眩性反射防止膜的制造方法及其装置和防眩性反射防止膜的优选实施方式。

图1是本发明的防眩性反射防止膜的制造装置10的整体构成图，主要由输出装置12、反射防止膜形成装置14、复制装置16及卷取装置18构成。

反射防止膜形成装置14利用涂布装置22，在从输出装置12输出的透明支持体20上涂布反射防止层24(参照图2、图3)，在用干燥装置26将该反射防止层24干燥后，利用固化装置28，进行热处理或紫外线照射，固化反射防止层24。由此，形成反射防止膜30。此时，作为反射防止层24，可以是低折射率层的1层结构，也可以是在透明支持体20和低折射率层的之间设置高折射率层的2层结构，也可以是在透明支持体20和低折射率层的之间设置中折射率层和高折射率层的3层结构，此外，也可以进一步设置硬涂层、变形层、防湿层、抗静电层、衬底层、保护层的多层结构。关于涂布装置22，不局限于图1所示的挤出法，可以使用浸涂法、气刀涂敷法、帘式涂敷法、滚涂法、棒涂法、凹版涂敷法等已有的涂布装置。在涂布形成2层结构以上的反射防止层24时，可以用一台涂布装置22，如同具有多个歧管的挤出式那样，多层同时涂布，或通过多次重复涂布1层的涂布方式逐次涂布。此外，作为在透明支持体20上设置反射防止层24的方法，不限定涂布方法，也可以使用以往技术所介绍的方法。

干燥装置26可以是热风对流干燥方式及利用红外线等辐射热的辐射干燥方式等中的任何一种方式，关于干燥装置内的反射防止膜30的传送方式，可以是辊传送等接触传送方式、用空气及气体一边上浮一边传送的非接触方式中的任何一种。

下面，关于用反射防止膜形成装置14形成的反射防止膜30，在利用复制装置16将凸凹形状复制在反射防止层24的表面上后，卷入卷取装置18。由此，制造具有防眩性的反射防止膜30即防眩性反射防止膜32。此外，在图1中，示出了从输出装置12到卷取装置18的连续工序，但也可以用另外的卷取装置(未图示)辊状卷取由反射防止膜形成装置14形成的反射防止膜30，然后从该卷取装置向复制装置16输出反射防止膜30。

复制装置16，如图2所示，由在复制面即辊面具有多个凸凹的压花辊34及与压花辊34对置配置的支承辊36构成。压花辊34和支承辊36的辊径优选在100φ～800φ的范围。压花辊34的转动轴35、35的两端旋转自由地支承在各自的轴承38、38，同时，转动轴35的另一侧端部与马达40连接。压花辊34的各个轴承38、38支持在支持台44、44上，该支持台44、44从立设在压花辊34的轴向两侧的一对支柱42、42水平伸出。与压花辊34的下方相邻地平行配置支承辊36，支承辊36的转动轴37、37的两端旋转自由地支承在各自的轴承46、46中，同时，转动轴37的另一侧端部与马达48连接。支承辊36的各自的轴承46、46支持在从上述支柱42、42水平伸出的支持台50、50上，同时该支持台50借助线性轴承54滑动自由地安装在增设于支柱42上的垂直导轨52上。此外，在各自的支持台50、50的大致中央部，一体化设置螺母部件56、56，在该螺母部件56、56上螺合与可正逆转动的马达连接的进给丝杆60。由此，通过驱动马达58，转动进给丝杆60，支承辊36与压花辊34接近或分离，由此，调整压花辊34和支承辊36之间的间隙及由压花辊34和支承辊36夹持反射防止膜30时的挤压负荷。对于间隙的尺寸及挤压负荷，可根据要加工的反射防止膜30的厚度及形成在反射防止膜30的凸凹形状以及其他的压花加工的条件，适宜设定。设定间隙时的间隙的实测可采用微测器、激光测定器等。此外，在本实施方式中，在支承辊36也设置驱动马达的例子进行了说明，但也可以将支承辊36作为从动辊。

如图3所示，对于利用压花加工在反射防止膜30上形成的凸凹，从表面的凸部30A到相邻的凸部30A的平均间距(P)优选10～60μm的范围，更优选15～40μm的范围。从凸部30A上端到凹部30B的底部的平均深度(D)优选0.05～2μm的范围，更优选0.1～1μm的范围。因此，形成在图4(a)、(b)所示的压花辊34的辊面上的凸凹的间距尺寸(P)和深度尺寸(D)因制品防眩性反射防止膜32而异，但在考虑复制精度时，从辊面上的凸部34A到相邻的凸部34A的平均间距(P)优选10～30μm的范围，更优选10～15μm的范围。从凸部34A上端到凹部34B的底部的平均深度(D)优选0.3～1.5μm的范围，更优选0.5～1μm的范围。此外，复制后，由于利用透明支持体20的弹性复制的凸凹的尺寸多少减小，所以，使用的压花辊34的凸凹的间距尺寸(P)和深度尺寸(D)，最好根据透明支持体20的材质，采用比要在反射防止膜30复制的目标的平均间距(P)及平均深度(D)大0％～100％的尺寸。此时，反射防止层24的压花加工的凸凹的复制体虽有时在反射防止层24的背面露出，但压花加工后的反射防止膜30的背面可以不是完全平坦的。此外，形成在压花辊34的辊面上的凸部34A的形状优选是旋转椭圆体的一部份。关于在压花辊34的辊面上形成凸凹的方法，可以根据压花辊的材质及凸凹的形状，采用光蚀法、机械加工、电火花加工、激光加工等各种已知的方法。

关于支承辊36，采用辊的纵弹性模量或铅笔硬度比上述压花辊34的纵弹性模量或铅笔硬度小的辊。即，支承辊36的纵弹性模量优选规定在1×10⁴kgf/cm²以上、2.1×10⁶kgf/cm²以下，更优选规定在1×10⁴kgf/cm²以上、1.5×10⁵kgf/cm²以下。在按铅笔硬度规定时，支承辊36的表层的铅笔硬度优选规定在2B以上、7H以下，更优选规定在H以上、5H以下。此外，也可以从纵弹性模量和硬度两方面规定。只要是满足该纵弹性模量和硬度的条件的辊材质，哪种都可以。但优选使用塑料制的辊，特别是实施硬质处理的聚酰胺树脂(通称MC尼龙)或聚缩醛树脂。

这样，通过比压花辊34的纵弹性模量或硬度小地减小支承辊36的纵弹性模量或硬度，如5图所示，在通过用压花辊34和支承辊36夹持反射防止膜30，向反射防止层24的表面赋予凸凹时，利用支承辊36，能够分散压花辊34的凸部34A借助反射防止膜30挤压支承辊36的压力。通过分散该压力，能够防止压花辊34的凸部34A贯通反射防止膜30，在反射防止膜30上开孔。此外，如果过度减小支承辊36的纵弹性模量或硬度，复制精度下降，所以，通过将纵弹性模量下限定为1×10⁴kgf/cm²，支承辊36的表层铅笔硬度的下限定为2B，也不会对复制精度产生不良影响。关于该复制操作的其他条件，压花辊34和支承辊36夹持反射防止膜30的挤压力(线压)，优选100kgf/cm～3000kgf/cm，更优选500kgf/cm～1500kgf/cm。因此，为得到这样的挤压力，最好根据反射防止膜30的厚度，调整压花辊34与支承辊36间的间隙或挤压负荷。此时，如图2所示，利用测力传感器等负荷测定器39测定挤压负荷，掌握挤压负荷与反射防止膜30的开孔或复制精度的关系，根据此关系能进一步调整间隙或挤压负荷。关于复制处理速度，优选0.1m/分钟～50m/分钟的范围，更优选1m/分钟～20m/分钟的范围。

此外，优选在将压花辊34和支承辊36的辊面温度加热到使用的透明支持体20的玻化温度以上的状态下，压花加工反射防止膜30。这样，由于能够抑制透明支持体20因热膨胀而在辊34、36上起皱，因此可以提供压化加工制造没有褶皱的反射防止膜30。作为得到如此温度条件的加热手段，未特意图示，例如，可以通过将各自的通水管内设在压花辊34和支承辊36的辊内，借助各自的回转管接头，将该通水管连接在载热介质供给装置上，如此构成加热手段。然后，通过在辊间循环温水等载热介质体，将压花辊34和支承辊36的辊面温度加热到使用的透明支持体20的玻化温度以上。关于压花辊34和支承辊36的辊面温度的上限，优选使用的透明支持体20的玻化温度+50℃。此外，作为加热手段，不限定介质循环方式，可以采用感应加热及其它的加热方法。

此外，如图1及图4所示，从压花辊34和支承辊36的位置看，优选在反射防止膜30的传送方向的上游位置设置预加热反射防止膜30的预加热手段64。关于预加热手段64，不做特别限定，但最好能够使用一对辊加热器66、66。通过一边用一对辊加热器66、66加热反射防止膜30，一边进行夹持传送，不仅能将反射防止膜30的透明支持体20预加热到玻化温度以上，还能够通过预挤压复制凸凹形状前的反射防止层24，提高复制精度。

此外，在本发明的防眩性反射防止膜的制造方法中，在反射防止膜30上的复制操作不限定一次，也可以多次通过复制装置16。在这种情况下可以多级设置复制装置16，进行联系复制。此外，在本实施方式中，作为复制装置16，以在压花辊34和支承辊36上连续流动带状反射防止膜30的连续压花加工方式进行了说明，但也可以是一张一张地在压花辊34和支承辊36上夹持反射防止膜30的间歇式。在采用该间歇式时，也可以使用以下构成，即，采用在图6所示的复制面形成多个凸凹的版模70，代替压花辊34和支承辊36，与版模70对置地，将具有与上述的支承辊36同样的纵弹性模量或硬度的平板支持部件72配置在支持台74上，利用版模70和支持部件72挤压单页状的反射防止膜30。

下面，说明本发明的透明支持体20或反射防止层24的优选方式。

关于在本发明中使用的透明支持体20，优选采用约50μm～100μm厚的塑料薄膜。在塑料薄膜的材料的例子中，包括纤维酯(如，三乙酰基纤维素、二乙酰基纤维素、丙酰基纤维素、丁酰基纤维素、乙酰丙酰基纤维素、硝基纤维素)、聚酰胺、聚碳酸酯、聚酯(如，聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚-1，4-环己烷对苯二甲酸二甲酯、聚乙烯-1，2-二苯氧基乙烷-4，4’-二羧酸酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯)、聚苯乙烯(如，间规聚苯乙烯)、聚烯烃(如，聚丙烯、聚乙烯、聚甲基戊烯)、聚砜、聚醚砜、聚丙烯化合物、聚醚亚胺、聚甲基丙基烯酸甲酯及聚醚酮。优选三乙酰基纤维素、聚碳酸酯及聚对苯甲酸乙二醇酯。透明支持体20的透光率优选在80％以上，最优选在86％以上。透明支持体20的透射率尺度优选2.0％以下，最优选1.0％以下。透明支持体20的折射率优选在1.4～1.7。

反射防止层24中的低折射率层的折射率优选为1.20～1.55，更优选1.30～1.55。高折射率层的折射率优选为1.65～2.40，更优选1.70～2.20。调整中折射率层的折射率，达到低折射率层和高折射率之间的值。中折射率层的折射率优选为1.55～1.80。

低折射率层优选采用无机微粒子和有机聚合物构成的多孔质层或由含氟聚合物构成的层。作为低折射率层的层厚，优选50～400nm，更优选50～200nm。在采用无机微粒子和有机聚合物构成的多孔质层时，通过修饰无机微粒子的表面，改善与有机聚合物的密合性，通过在聚合物中采用能够基于热或电离放射线交联的单体、聚合物或它们的混合物，能够得到膜强度优良的低折射率层。在采用含氟聚合物时，从低折射率角度考虑，优选含氟率高的，或自由体积大的，从密合性角度考虑，优选具有交联性的。关于交联的方式，可采用作为商品可得到的热固化型、电离放射线固化型的聚合物。

此外，在低折射率层和透明支持体20之间，也可以设置高折射率层，在高折射率层和透明支持体20之间，也可以设置中折射率层。高折射率层的折射率优选1.65～2.40，更优选1.70～2.20。调整中折射率层的折射率，使其达到低折射率层的折射率和高折射率层的折射率的之间的值。中折射率层的折射率优选1.55～1.80。中折射率层及高折射率层优选采用折射率比较高的聚合物形成。在折射率高的聚合物例中，包括聚苯乙烯、苯乙烯共聚物、聚碳酸酯、密胺树脂、酚醛树脂、环氧树脂及通过环状(脂环族或芳香族)异氰酸酯和多元醇反应得到的聚氨酯。折射率高的聚合物还有，具有其他环状(芳香族、杂环族、脂环族)基的聚合物或作为取代基具有氟以外的卤原子的聚合物。也可以通过引入双键，利用能进行自由基固化的单体的聚合反应形成聚合物。

此外，在反射防止层，也可以进一步设置硬涂层、变形层、防湿层、抗静电层、衬底层、保护层。硬涂层是为提高透明支持体的抗损伤性而设置的。硬涂层还具有强化透明支持体与其上层的接合的作用。可以采用丙烯系聚合物、氨基甲酸乙酯系聚合物、环氧系聚合物及二氧化硅系聚合物形成硬涂层。在硬涂层中也可以添加颜料。作为用于硬涂层的材料，优选作为主链具有饱和烃或聚醚的聚合物，更优选作为主链具有饱和烃的聚合物，优选具有交联结构。优选利用乙烯性不饱和单体的聚合反应得到作为主链具有饱和烃的聚合物。为得到交联的聚合物，优选采用两种以上的乙烯性不饱和基的单体。在具有两种以上的乙烯性不饱和基的单体例中，包括多元醇和(甲基)丙烯酸的酯(如，乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、1，4-环己烷二丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯)、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、1，2，3-环己烷四甲基丙烯酸酯、聚氨酯聚丙烯酸酯、聚酯聚丙烯酸酯、乙烯苯及其衍生物(如，1，4-二乙烯基苯、4-乙烯基苯甲酸-2-丙烯酰基乙酯、1，4-二乙烯基环己酮)、乙烯基砜(如，二乙烯基砜)、丙烯酰胺(如，亚甲基双丙烯酰胺)及甲基丙烯酰胺。

此外，也可以利用交联性基团的反应引入交联结构，代替具有两种以上的乙烯性不饱和基的单体或在此基础上增加交联结构。在交联性官能基的例中，作为引入交联结构的单体，也可以利用异氰酸酯基、环氧基、氮丙啶基、噁唑啉基、醛基、羰基、肼氨基丙烯酸酯衍生物、三聚氰胺、醚化羟甲基、酯及氨基甲酸酯。如嵌段异氰酸酯基，也可以采用分解反应结果显示交联性的官能基。此外，在本发明中，所谓的交联基，不局限于上述化合物，也可以是上述官能基分解的结果显示反应性的化合物。优选在溶剂中溶解聚合物及聚合引发剂，涂布后，通过聚合反应(如果需要，进一步交联反应)形成硬涂层。关于聚合引发剂，优选在涂布液中，与聚合物一起，单独或合并添加二苯甲酮系等脱氢型、苯乙酮系、三连氮系等自由基断裂型引发剂。在硬涂层中，也可以添加少量的聚合物(如，聚甲基丙基烯酸甲酯、聚甲基丙烯酸酯、二乙酰基纤维素、三乙酰基纤维素、硝基纤维素、聚酯、醇酸树脂)。

在低折射率层上，也可以设置保护层。保护层起到滑移层或防污层的作用。在用于滑移层的滑动剂中，包括聚有机硅氧烷(如，聚二甲基硅氧烷、聚二乙基硅氧烷、聚二苯基硅氧烷、聚甲基苯基硅氧烷、烷基改性聚二甲基硅氧烷)、天然蜡(如，巴西棕榈蜡、小烛树蜡、荷荷芭油、大米蜡、木蜡、蜜蜡、羊毛酯、鲸蜡、竭煤蜡)、石油蜡(如，石蜡、微晶蜡)、合成蜡(如，聚乙烯蜡、费-托合成蜡)、高级脂肪酸酰胺(如，硬脂酰胺、油酰胺、N，N’-亚甲基双硬脂酰胺、高级脂肪酸酯(如，硬脂酸甲酯、硬脂酸乙酯、甘油单硬脂酸酯、山梨糖醇单油酸酯)、高级脂肪酸金属盐(如，硬脂酸锌)及含氟聚合物(如，全氟主链型全氟聚醚、全氟侧链型全氟聚醚、乙醇改性全氟聚醚、异氰酸脂改性全氟聚醚)。在防污层中添加含氟疏水性化合物(如，含氟聚合物、含氟表面活性剂、含氟油)。保护层的厚度优选在20nm以下，以不影响反射防止性能。

此外，在本发明中，在透明支持体和硬涂层之间也可以设置变形层。由于硬涂层几乎不引起塑性变形，所以利用透明支持体的塑性变形形成凸凹形状，但通过在透明支持体和硬涂层之间设置由比透明支持体容易变形的(甲基)丙烯酸酯构成的聚合物层，能进一步增大基于外部压力施加的塑性变形，结果容易在表面形成凸凹。该变形不只是利用压力，也可以并用热能。通过在比(甲基)丙烯酸酯的玻化点温度高的温度下进行，能够更加促进塑性变形。此外，通过变化该(甲基)丙烯酸酯的酯部的结构，能够任意设定聚合物的玻化点温度，但玻化点温度作为常温和透明支持体的玻化点温度，一般优选在140℃～200℃之间，具体优选在80℃～110℃之间。这是因为，在常温下，由于比玻化温度低，不损伤反射防止膜30的硬涂层性能，在凸凹形成时，可以不改变透明支持体的光学、力学等物理性能，而只促进变形层的塑性变形。

作为(甲基)丙烯酸酯的具体例，可以列举甲基(甲基)丙烯酸酯、乙基(甲基)丙烯酸酯、丁基(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸、缩水甘油(甲基)丙烯酸酯、羟乙基(甲基)丙烯酸酯等均聚物或共聚物。此外，为调整涂布性或与透明支持体的密合性、玻化温度，也可以并用如表面活性剂这样的低分子化合物或其他聚合物。作为该聚合物，除明胶、聚乙烯醇、聚海藻酸(盐)这样的水溶性聚合物外，还可以采用纤维素酯(如，三乙酰基纤维素、二乙酰基纤维素、丙酰基纤维素、丁酰基纤维素、乙酰丙酰基纤维素、硝基纤维素、羟乙基纤维素、羟丙基纤维素)、聚苯乙烯及聚醚酮以及它们的共聚物。这样形成的变形层的玻化温度优选60℃～130℃，更优选80℃～110℃。

在80μm的三乙酰基纤维素薄膜上，涂布形成干膜厚100nm的反射防止层，在120℃干燥后，进行热效应处理，形成反射防止膜。用100φ的金属制压花辊34和100φ的MC尼龙制支承辊36夹持该反射防止膜，在反射防止膜上复制形成在压花辊34辊面上的凸凹形状。压花辊34的凸凹的间距尺寸(P)设定为15μm、深度尺寸(D)设定为0.8μm。该复制操作中的复制处理速度设定为1m/分钟，压花辊34辊面温度设定为150℃。压花辊34和支承辊36的间隙设定为0.05mm，挤压压力(线压)设定为500kgf/cm。

此外，在变化支承辊36的纵弹性模量(kgf/cm²)时，评价了反射防止膜有无开孔及复制精度。

结果表明，如果支承辊的纵弹性模量在1×10⁴kgf/cm²以上、2.1×10⁶kgf/cm²以下的范围，反射防止膜上无开孔，复制精度也良好。相反，如果支承辊的纵弹性模量超过2.1×10⁶kgf/cm²，反射防止膜上偶尔发现开孔。此外，如果支承辊的纵弹性模量低于1×10⁴kgf/cm²，复制精度下降。

同样，在变化支承辊36的表层的铅笔硬度时，评价了反射防止膜有无开孔及复制精度，发现，如果支承辊36的表层的铅笔硬度在2B以上、7H以下的范围，反射防止膜上无开孔，复制精度也良好。相反，如果支承辊36的表层的铅笔硬度在超过7H，反射防止膜上偶尔发现开孔。如果铅笔硬度低于2B，复制精度下降。

如以上说明所述，如果采用本发明的防眩性反射防止膜的制造方法，当利用压花加工在反射防止膜的反射防止层的表面上赋予凸凹时，能够制造在反射防止膜上无开孔的、且复制精度高的防眩性反射防止膜。

Claims (8)

1.一种防眩性反射防止膜的制造方法，在透明支持体上至少设置一层反射防止层，形成反射防止膜后，用具有多个凸凹的压花部件和支持部件夹持反射防止膜，在上述反射防止层的表面复制上述压花部件的凸凹形状，其特征在于：

在用上述压花部件和支持部件夹持反射防止膜时，该压花部件的凸部借助反射防止膜挤压支持部件的压力通过上述支持部件分散。

2.一种防眩性反射防止膜的制造装置，具有在透明支持体上至少设置一层反射防止层并形成反射防止膜的反射防止膜形成装置、用压花部件和支持部件夹持上述反射防止膜并在上述反射防止层的表面复制上述压花部件的凸凹形状的复制装置，其特征在于：

上述支持部件的纵弹性模量或铅笔硬度比上述压花部件的纵弹性模量或铅笔硬度小。

3.如权利要求2所述的防眩性反射防止膜的制造装置，其特征在于：上述支持部件的纵弹性模量在1×10⁴kgf/cm²以上、2.1×10⁶kgf/cm²以下。

4.如权利要求2或3所述的防眩性反射防止膜的制造装置，其特征在于：上述支持部件的表层的铅笔硬度在2B以上、7H以下。

5.如权利要求2～4中任一项所述的防眩性反射防止膜的制造装置，其特征在于：设置加热手段，将上述压化部件和上述支持部件中的至少压花部件的表面温度加热到上述透明支持体的玻化温度以上。

6.如权利要求2～5中任一项所述的防眩性反射防止膜的制造装置，其特征在于：上述压花部件为压花辊，同时，上述支持部件为支承辊。

7.如权利要求2～6中任一项所述的防眩性反射防止膜的制造装置，其特征在于：在上述透明支持体上设置至少一层反射防止层的手段为涂布装置。

8.一种防眩性反射防止膜，其特征在于：采用如权利要求2～7中任一项所述的防眩性反射防止膜的制造装置进行制造。

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