CN102307716A - 具有内适形层的光学膜及其制备方法 - Google Patents

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Abstract

本发明公开一种用于制备复制膜的共挤出方法。所述方法包括提供至少三种材料并且将它们在压料辊和结构化辊之间共挤出的步骤。所述材料包括背面层材料、芯层材料和复制层材料。结构化辊具有被复制到复制层上的表面结构，并且芯层为与复制层适形的内适形层。

Description

具有内适形层的光学膜及其制备方法
背景技术
聚合物共挤出是一种通用技术并且用于多种聚合物膜应用中，例如用于有源显示装置、静态显示装置如图形标志、固态照明等等的光学膜。共挤出工艺使用结构化辊，以在共挤出工艺过程中将结构赋予膜的一个表面中。然而，可能难以获得所需的复制保真性，意味着膜上的结构并非充分地对应于辊上的结构。另外，制备光学膜的共挤出工艺通常使用昂贵的聚合物材料，提高了所得膜的成本。
因此，存在对制备膜的改进的共挤出工艺和对改进的复制膜如光学膜的需求。
发明内容
根据本发明的用于制备光学膜的共挤出方法包括提供至少两种材料并且将它们在压料辊和结构化辊之间共挤出的步骤。光学膜包含芯层材料和复制层材料。结构化辊具有被复制到复制层上的表面结构，并且芯层为与复制层适形的内适形层。膜可任选包括在与复制层相对侧上邻近芯层的背面层材料。背面层可任选具有经复制的表面结构。
附图说明
附图包含在本说明书中并构成本说明书的一部分，并且它们结合具体实施方式阐明本发明的优点和原理。附图中，
图1为用于共挤出产生内适形层的系统的图；
图2为复制膜构造的侧视图；
图3为在复制层上具有圆形峰和在芯层上具有尖峰的复制膜构造的侧视图；
图4为在复制层和芯层上均具有圆形峰的复制膜构造的侧视图；和
图5为具有偏移的模具图案的顶视图。
具体实施方式
本发明的实施例涉及一种膜制品和一种相关的制备膜的共挤出工艺，其中膜的内层或芯层适形于膜的一个或两个外表面上的复制结构。内部结构自动地与外部复制结构一致并且与其中内层基本上平行于膜的平面的膜相比，可影响膜的光学或其他特性。通过改变材料、处理参数和复制结构，共挤出工艺可用来产生一系列膜的可调光学性质并且改善膜的性能。例如，可以改变芯层聚合物的折射率或者芯层向外部结构的渗透深度。
图1为用于共挤出产生内适形层的系统10的图。系统10包括用于接纳背面层材料14、芯层材料16和复制层材料18的挤出模头12。挤出模头12在压料辊20和结构化辊22之间共挤出这三种材料，产生膜24。可以采用任意数目的共挤出层，这可以在膜内提供某些优点，如分级的光学或物理性质。在美国专利号6,767,492中描述了一种用于进行共挤出的设备，该专利以引用的方式并入本文，正如对其完全阐述那样。
图2是由共挤出工艺形成的复制膜24的构造的侧视图。膜24包括背面层30、复制层26和内适形芯层28。复制层26由结构化辊22产生并且具有复制自辊22上的结构的内部和外部结构化表面。产生复制层26的工艺还产生了内适形层28，内适形层28适形于复制层26的背面。因此，压料辊20和结构化辊22布置为使得结构均被复制在复制层26中，并且产生用于芯层的内适形层28。内适形层的使用导致复制层26的更佳复制保真性，并且还导致芯层的体积更大及复制层的体积更小，这通常给出更低的成本，因为用于复制层的材料会比用于芯层的材料成本更高。通过使用适当的树脂，内适形层还通过形成复制层的更为刚性的内支撑结构而为膜提供改进的热稳定性，并且可以为复制层提供更好的耐损性。
图3和4分别为其他复制膜32和36的实例的侧视图。膜32包括背面层35、具有尖峰的芯层34和在其外表面上具有圆形峰的复制层33。膜36包括背面层39、具有圆形峰的芯层38和在其外表面上具有圆形峰的复制层37。除了膜32和36中所示的结构的组合之外，芯层和复制层可以各自独立地具有尖峰或圆形峰。膜32和36可以使用上述工艺制得。
取决于模具结构，背面层、复制层和芯层可包含多种复制图案或结构。例如，层可包含棱镜、凹槽、交叉棱镜或凹槽、光学微型透镜，或其他分立的微结构。这些特征在本质上可以是有序的、无规的或者伪无规的。层中的任一个可具有一个或多个额外的涂层或者一种或多种额外的添加剂，例如以下的：UV吸收剂；UV稳定剂；静电耗散添加剂；或者光学增强剂。另外，膜的外表面可具有由施用于模具辊的减除、添加或位移工艺所产生的哑光表面。固定的研磨介质加工、表面形貌的电沉积或者疏松的介质冲击(喷丸)是这三种工艺各自的实例。
复制层的厚度与复制结构的高度之比决定了内适形芯层与复制层的适形程度。具有使得膜的结构化部分几乎完全由复制层组成的厚度的复制层将产生具有基本上平坦的内适形层的膜。薄的复制层将产生充分延伸进入膜结构中并且与所述结构更加紧密适形的内芯层。
通常有利的是，共挤出膜沿着其中间面(mid-plane)对称，使得背面层和复制层具有相同的材料和大约相同的厚度。这种对称性均衡了最终膜中的内应力，或者降低了不均衡的应力，从而减少卷曲，并且对由模头中挤出膜也有帮助。在要加入诸如UV吸收剂、抗静电剂、着色剂和其他添加剂等的添加剂时，或者当要施用后续工艺如向背面层增加粘合剂涂层时，具有不同材料的背面层和复制层的膜可能是有利的。
膜24的不同层可以是参数匹配的。通过选择可以向哪一层中加入性能增强添加剂，可以实现特制的性质。另外，背面层30可以包含UV吸收剂，并且复制层26可以包含抗静电材料或涂层。或者，其他层可以包含UV吸收剂或者抗静电材料或涂层。也可以将其他涂层施涂于膜。或者，背面层可以设计为起到哑光扩散体的作用。背面层也可以形成为可剥离表层。也可以向膜的任一面或两个外表面均添加前掩模。用于不同层的材料对于复制膜用作显示装置的光学膜而言优选是透明或基本透明的。
可以用作复制层的聚合物包括以下的：苯乙烯-丙烯腈共聚物；苯乙烯-(甲基)丙烯酸酯共聚物；聚甲基丙烯酸甲酯；聚碳酸酯；苯乙烯马来酸酐共聚物；成核的半结晶聚酯；聚萘二甲酸乙二醇酯的共聚物；聚酰亚胺；聚酰亚胺共聚物；聚醚酰亚胺；聚苯乙烯；间规的聚苯乙烯；聚苯醚；环状烯烃聚合物；以及丙烯腈、丁二烯和苯乙烯的共聚物。一种优选的聚合物为可得自Ineos ABS(USA)Corporation的Lustran SAN Sparkle材料。
用于芯层的聚合物包括但不限于聚碳酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯和聚-丙烯腈-丁二烯苯乙烯。选择这些聚合物主要是为了它们相比于一些聚合物的高挠曲模量、热稳定性和相对较低的成本。一种优选的聚合物为可得自Bayer Corporation的Makrolon聚碳酸酯材料。
可以用于背面层的聚合物包括以下的：聚碳酸酯；聚酯；聚碳酸酯和聚酯的共混物；苯乙烯的共聚物；丙烯腈、丁二烯和苯乙烯的共聚物；苯乙烯与烯烃聚合的中间嵌段的嵌段共聚物；酸和/或酸酐官能化的聚烯烃；以及聚乙烯和聚丙烯的共聚物；
图5为具有偏移的模具图案的顶视图。辊40包含表面结构，例如线性棱镜、交叉棱镜、小透镜、微型透镜和分立或互连结构。辊40与结构化辊22对应，并且在该实例中包含两个方向上的结构。特别地，辊40包括在幅材纵向位置中的第一结构42和在幅材横向位置中的第二结构44。结构42和44可包括例如凹槽，或者从辊40的表面突出或缩进辊40的表面的任何其他表面结构。幅材横向结构44在该实例中包括以角度46从辊40的轴线的偏移。偏移角优选为自辊轴线约10°以及更优选约15°。偏移使得共挤出材料更易于填充共挤出工艺中的结构化辊图案，从而在膜中产生更好的复制保真性。在该实例中，幅材纵向上的结构42在辊40中使用快刀伺服(fasttool servo)制得，而幅材横向上的结构44在辊40中使用同步快速切削制得。用于制备在两个方向上具有结构的模具的方法描述于D.Ehnes等人的标题为“Method for Making an Optical Film Having a Variable PrismaticStructured Surface，”且与本文在同一天提交的美国专利申请中，该申请以引用的方式并入本文，正如全文阐述那样。
实例
实例1
使用10英寸宽的3-歧管挤出模头(由Extrusion Dies，Inc制造)将3层膜挤出到压料辊和结构化模具辊之间的辊隙中。结构化模具辊具有沿着辊的周长取向的线性凹槽作为其结构。这些凹槽具有90°夹角，间距为约356微米，凹槽深度为约178微米。在压料辊和模具辊之间施加辊隙压力产生结构化膜。使用常规金刚石车削产生仅在单一的幅材纵向上具有结构的结构化模具辊。
表1提供此实例的膜构造，而表2提供此实例的共挤出工艺参数。
Figure BPA00001409423200051
在此实例中，显示出芯层结构紧密适形于模具结构。特别地，显示出相比于复制层的更为圆形的外峰，膜具有内芯层的尖峰。使用可剥离层作为复制层，并且将其从这样的三层构造随后移除，可以使得尖锐的尖特征物得以形成，而不会完全填充模具结构。
实例2
使用送料区块将3种聚合物层送料到36英寸宽模头。将该共挤出膜直接挤出到结构化图案辊和光滑的金属压料辊之间的辊隙，并随后挤出到剥离辊周围，然后卷绕。所有三个辊都用水进行温度控制。辊隙压力施加于压料辊和模具辊之间的挤出物，在膜中产生了结构化图案。
模具中的通道的截面大约为三角形，深度为60微米，间距(凹槽之间的间隔)为约114微米。横向凹槽排列在与幅材纵向凹槽成10°偏置角处。模具辊图案如D.Ehnes等人的标题为“Method for Making an Optical FilmHaving a Variable Prismatic Structured Surface，”且与本文同一天提交的美国专利申请所述而产生。
表3提供此实例的膜构造，而表4提供此实例的共挤出工艺参数。
在此实例中，芯层延伸产生内芯层圆形峰的结构的高度的约三分之一。

Claims (29)

1.一种用于制备膜的共挤出方法，其包括：
向挤出模头提供背面层材料、芯层材料和复制层材料；和
在压料辊和结构化辊之间共挤出所述背面层材料、所述芯层材料和所述复制层材料，以产生具有背面层、芯层和复制层的膜，其中所述结构化辊具有被复制到所述复制层上的表面结构，并且其中所述芯层为与所述复制层适形的内适形层。
2.根据权利要求1所述的共挤出方法，其中所述表面结构包括凹槽。
3.根据权利要求2所述的共挤出方法，其中所述凹槽在所述结构化辊上在幅材纵向位置和幅材横向位置中排列。
4.根据权利要求3所述的共挤出方法，其中在幅材横向上的所述凹槽相对于所述结构化辊的轴线具有偏移。
5.根据权利要求4所述的共挤出方法，其中所述偏移为约10°。
6.根据权利要求4所述的共挤出方法，其中所述偏移为约15°。
7.根据权利要求1所述的共挤出方法，其中所述背面层、所述芯层和所述复制层中的至少一个层包含以下的添加剂中的至少一种或多种：UV吸收剂；UV稳定剂；静电耗散添加剂；或者光学增强剂。
8.根据权利要求1所述的共挤出方法，其中所述芯层材料包含聚碳酸酯。
9.根据权利要求1所述的共挤出方法，其中所述芯层包括不止一个层。
10.根据权利要求1所述的共挤出方法，其中所述芯层材料、所述背面层材料和所述复制层材料是透明的。
11.根据权利要求1所述的共挤出方法，其中所述背面层为哑光扩散体。
12.根据权利要求1所述的共挤出方法，其中所述复制层为可剥离表层。
13.根据权利要求1所述的共挤出方法，其中除所述复制层以外的层具有几何形状不同于所述复制层的结构。
14.根据权利要求1所述的共挤出方法，其中所述复制层具有外峰并且所述芯层具有比所述外峰更尖锐的内峰。
15.一种膜，其包含：
具有第一表面的第一层；和
具有第二表面的第二层以及在所述第一层和所述第二层之间的第一界面，
其中所述第一界面适形于所述第一表面和所述第二表面，所述第一表面包含光学微结构，并且所述第一表面和所述第二表面具有复制的图案。
16.根据权利要求15所述的膜，还包含与所述第二表面相对的邻近所述第二层的第三层。
17.根据权利要求15所述的膜，其中所述第二表面包括哑光表面。
18.根据权利要求15所述的膜，其中所述第二表面包含光学微结构。
19.根据权利要求16所述的膜，其中所述第一层、所述第二层或所述第三层中的至少一个层包含以下的添加剂中的至少一种：UV吸收剂；UV稳定剂；静电耗散添加剂；或者光学增强剂。
20.根据权利要求15所述的膜，其中所述第一层为可剥离表层。
21.根据权利要求15所述的膜，其中所述第一表面和第二表面中的至少一个表面包含涂层。
22.根据权利要求15所述的膜，其中所述第一表面包含复制的凹槽。
23.根据权利要求15所述的膜，其中所述第一表面包含复制的交叉凹槽。
24.根据权利要求15所述的膜，其中所述第一表面包含微型透镜。
25.根据权利要求15所述的膜，其中所述第二表面包含由喷丸产生的哑光微结构。
26.根据权利要求15所述的膜，其中所述第一表面包含复制的交叉凹槽，其中所述凹槽之间间隔114微米。
27.根据权利要求15所述的膜，其中所述膜的至少一个外表面具有与其附接的保护性前掩模。
28.一种膜，其包含：
具有第一表面的复制层；
具有第二表面的芯层以及在所述复制层和所述芯层之间的第一界面；和
与所述第二表面相对的邻近所述芯层的背面层，
其中所述第一界面适形于所述第一表面和所述第二表面，所述第一表面包含光学微结构，并且所述第一表面和所述第二表面具有复制的图案。
29.根据权利要求28所述的膜，其中所述背面层具有哑光涂层。
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