CN1487310A - 光学材料、光学元件、光学系统、层叠型衍射光学元件 - Google Patents

光学材料、光学元件、光学系统、层叠型衍射光学元件 Download PDF

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Abstract

提供一种光学材料、光学元件、光学系统、层叠型衍射光学元件。通过使用d线的折射率(nd)与阿贝数(νd)的关系是nd＞－6.667×10－3νd+1.07，以及阿贝数(νd)与二次分散性(θg，F)的关系是θg，F≤－2×10－3νd+0.59的光学材料，能够提供不发生由波长引起的部分效率的衰落，改善可视区整个区域中的各使用波长区的衍射效率，更正确地修正了色差的光学元件。

Description

光学材料、光学元件、 光学系统、层叠型衍射光学元件
技术领域
本发明涉及折射光学元件以及衍射光学元件等光学元件中使用的光学材料。特别是涉及折射率色散高的光学材料以及由其形成的光学元件，衍射光学元件，层叠型衍射光学元件。
背景技术
以往，在仅由光的折射构成的折射光学系统中，通过色散特性不同的玻璃组合减少色差。例如，在望远镜等物镜中把色散小的玻璃作为正透镜，色散大的玻璃作为负透镜，通过把它们组合使用，修正在轴上出现的色差。因而，在限制透镜的结构、片数的情况下或者限制所使用的玻璃的情况下等，非常难以充分地修正色差。
另外，在SPIE Vol.1354国际透镜设计会议(1990)中，公开了在透镜面或者光学系统的一部分上，通过使用具有衍射光栅的衍射光学元件减小色差的方法。该方法是利用了在作为光学元件的折射面和衍射面中，对于某种基准波长的光线的发生色差的方向成为相反为样的物理现象的方法。进而，这样的衍射光学元件通过使该衍射光栅的周期性构造的周期变化，能够具有与非球面透镜相同的效果。因此，在降低色差方面具有非常大的效果。
这里，说明光线的衍射作用。一般入射到作为折射系统的光学元件的球面以及非球面物镜中的一条光线在由其球面以及非球面折射了以后还成为一条光线。对此，入射到作为衍射系统的光学元件的衍射光学元件中的一条光线通过衍射作用分为各次的多条光线。
从而，为了充分地发挥作为光学系统所使用的衍射光学元件的特长，必须把使用波长区的光束集中在特定次数(以后也称为设计次数)。在使用波长区的光束集中在设计次数中的情况下，除此以外的衍射次数的衍射光的强度非常低。因此，设计次数以外的光线不会成为在与设计次数的光线不同的位置成像的光斑光。
预先决定衍射光栅的光栅构造，使得使用波长区的光束集中在设计次数，使衍射效率充分高的结构公开在特开平09-127321号(专利文献1)，特开平09-127322号(专利文献2)，特开平11-044808号(专利文件3)，特开平11-044810号(专利文献4)中。这些结构成为组合构成多个光学元件，通过最佳地选择各光学元件的折射率色散和光学元件边界面中所形成的光栅的形状，在大波长范围内具有高衍射效率的结构。具体地讲，通过在基板上层叠多个光学材料，在其边界面的至少一个上形成辅助图形，阶梯形状，奎诺仿等，形成所希望的衍射光学元件。
在这些以往专利中，为了得到具有大波长范围高衍射效率的结构，把折射率色散相对低的材料与折射率色散相对高的材料组合起来。具体地讲，在特开平09-127321号的情况下，作为折射率色散低的材料使用BMS81(nd＝1.64，νd＝60.1：ォハラ制)，作为折射率色散高的材料使用塑料光学材料PC(nd＝1.58，νd＝3.5：帝人化成)。同样，在特开平09-127322号的情况下，作为折射率色散低的材料使用LaL14(nd＝1.698，νd＝5.55：ォハラ制)，丙烯树脂(nd＝1.49，νd＝57.7)，Cytop(nd＝1.34149，νd＝93.8：旭玻璃制)，作为折射率色散高的材料使用塑料光学材料PC(nd＝1.58，νd＝30.5：帝人化成)。在特开平11-044808号以及特开平11-044810号的情况下，作为折射率色散低的材料，使用C001(nd＝1.525，νd＝50.8：大日本ィンキ制)，PMMA(nd＝1.4917，νd＝57.4)，BMS81(nd＝1.64，νd＝60.1：ォハラ制)，作为折射率色散高的材料使用塑料光学材料PC(nd＝1.58，νd＝30.5：帝人化成)，PS(nd＝1.5918，νd＝31.1)等。
另外，在折射率色散的高的材料和低的材料中，折射率色散的差越大所构成的光学元件的衍射效率越高，光学元件的视角越广。为此，需要使用折射率色散更高(阿贝数小)的材料，由此能够更正确地修正色差。
图1是示出作为光学材料，市场销售的材料的阿贝数和折射率的曲线图。图1中，纵轴是折射率(nd)，横轴是阿贝数(νd)。上述的特开平09-127321号，特开平09-127322号，特开平11-044808号，特开平11-044810号中记载的光学材料包括在图1中。如从图1所知，一般的光学材料的折射率满足nd＞-6.667×10-3νd+1.70。另外，图中所示的直线是nd＝-6.667×10-3νd+1.70。另外，在图1中所示的有机高分子的光学材料中阿贝数最小的是作为阿贝数为17.3的聚乙烯咔唑(PVCZ)。
但是，为了进一步提高衍射光学元件的性能，仅简单地使用折射率色散高(阿贝数小)的材料，虽然可视区整个区域的衍射效率高，但是在使用波长区将部分地发生衍射效率的衰落。图2是示出在作为折射率色散高的材料使用了聚乙烯咔唑的情况下，使用了聚乙烯咔唑的多层衍射光学元件的衍射效率的曲线图。图2的纵轴示出衍射效率，横轴示出波长。如图2所示，在使用波长区(400nm～700nm)中，400～420nm，630～700nm中的衍射效率是95％左右的非常低的程度，特别是在短波长区中的衍射效率的降低显著。为此需要进一步改良。
发明内容
本发明的目的在于提供仅简单地使用折射率色散高(阿贝数小)的材料，通过使用考虑了折射率nd，阿贝数νd，二次色散θg，F以及折射率nd与阿贝数νd的关系，阿贝数νd与二次色散θg，F的关系的光学材料，使可视区整个区域中的衍射效率提高的同时，不发生各波长区中部分衍射效率的衰落的光学材料以及光学元件。
本发明为解决上述的课题，提供d线的折射率与阿贝数的关系是nd＞-6.667×10-3νd+1.07，阿贝数νd与二次色散θg，F的关系是θg，F≤-2×10-3νd+0.59的光学材料。
另外本发明提供上述阿贝数νd是30以下的光学材料。
另外本发明提供上述光学材料由ITO构成的光学材料。
另外本发明提供包含上述二次色散θg，F为0.45以下无机纳微粒子的光学材料。
另外本发明提供上述光学材料是包括聚苯乙烯和ITO纳微粒子的光学材料。
另外本发明提供上述ITO纳微粒子的粒径是2～50nm的光学材料。
另外本发明提供从上述光学材料制作的光学元件。
另外本发明提供在上述光学元件的表面上形成衍射面的衍射光学元件以及以形成折射面为特征的折射光学材料。
另外本发明提供使上述衍射光学元件和具有与上述衍射光学元件不同的光学特性的衍射光学元件的相互的衍射面对峙后组合起来构成的层叠型衍射光学元件。
另外本发明提供以具有上述光学元件为特征的投影光学系统以及摄影光学系统。
附图说明
图1是示出一般的光学材料中的折射率与阿贝数的分布的曲线图。
图2是示出使用了PVCZ的多层衍射光学元件的可视波长区的衍射效率的曲线图。
图3是示出一般光学材料中的阿贝数与二次色散的分布的曲线图。
图4A、4B、4C是示出ITO的可视波长区的折射率的曲线图。
图5A、5B、5C是示出实施例1中的光学元件的成形工艺的剖面图。
图6A、6B、6C是示出实施例1中的光学元件的成形工艺的剖面图。
图7是示出实施例1中的多层衍射光学元件的构造的剖面图。
图8是示出实施例1中的多层衍射光学元件的一次衍射光强度的曲线图。
图9A、9B、9C是示出实施例2中的光学元件的成形工艺的剖面图。
图10是示出实施例2中的多层衍射光学元件的构造的剖面图。
图11是示出实施例2中的多层衍射光学元件的一次衍射光强度的曲线图。
图12A、12B、12C是示出实施例3中的光学元件的成形工艺的剖面图。
图13是示出实施例3中的多层衍射光学元件的构造的剖面图。
图14是示出实施例3中的多层衍射光学元件的一次衍射光强度的曲线图。
图15A、15B、15C、15D、15E、15F、15G、15H、15I是示出实施例4中的光学元件的成形工艺的剖面图。
图16是示出实施例4中的多层衍射光学元件的构造的剖面图。
图17是示出实施例4中的多层衍射光学元件的一次衍射光强度的曲线图。
图18A、18B、18C是示出比较例1中的光学元件的成形工艺的剖面图。
图19是示出比较例1中的多层衍射光学元件的构造的剖面图。
图20是示出比较例1中的多层衍射光学元件的一次衍射光强度的曲线图。
图21A、21B、21C是示出比较例2中的光学元件的成形工艺的剖面图。
图22是示出比较例2中的多层衍射光学元件的构造的剖面图。
图23是示出比较例2中的多层衍射光学元件的一次衍射光强度的曲线图。
图24A、24B、24C是示出比较例3中的光学元件的成形工艺的剖面图。
图25是示出比较例3中的多层衍射光学元件的构造的剖面图。
图26是示出比较例3中的多层衍射光学元件的一次衍射光强度的曲线图。
图27是第2实施形态中的投影光学系统的模式图。
图28是第3实施形态中的摄影光学系统的模式图。
具体实施方式
第1实施形态
通常，基于光学元件的光的折射率是波长越短越急剧地变化，与所设计的折射率的差增大。为此，波长越短对于设计次数的衍射效率越降低。本发明者们发现这种物质的波长色散的急剧变化起因于折射率的二次色散θg，F＝(ng-nf)/(nf-nc)，折射率的二次色散(θg，F)越小则衍射效率越提高。
图3是与图1相同，示出作为光学材料，市场销售的材料的阿贝数与二次色散的关系的曲线图。图3中，纵轴是二次色散(θg， F)，横轴是阿贝数(νd)。如从图3所知，一般的光学材料的二次色散满足θg，F＞-2×10-3νd+0.59
本发明者着眼于降低二次色散的值，研究了通过使在聚合物等光学材料中含有在通常光学材料中不使用的阿位数小的无机氧化物的纳微粒子，从而是否能够做成满足折射率的二次色散的光学材料。作为阿贝数小的无机氧化物，考虑TiO2(nd＝2.2652，νd＝11.8)，Nb2O5(nd＝2.367，νd＝14.0)，ITO(nd＝1.8581，νd＝5.53)，Cr2O3(nd＝2.2178，νd＝13.4)，BaTiO3(nd＝2.4362，νd＝11.3)等。研究的结果，通过使用ITO，能够得到满足以及折射率的二次色散满足θg，F≤-2×10-3νd+0.59的光学材料。另外，这时的光学材料的阿贝数最好是30以下。如果大于30，则与折射率色散低的材料的折射率色散的差减小，不能够得到所希望的衍射效率。
于是，详细地研究了ITO。ITO与其它的无机氧化物不同，除去由电子迁移引起的折射率的变化以外，通过锡的掺杂或者由氧的空穴发生自由载流子，折射率变化。图4A、4B以及4C示出ITO的波长与折射率的关系。图4A示出由电子迁移引起的各波长中的折射率的变化，图4B示出由自由载流子引起的各波长中的折射率的变化。另外，图4C示出由电子迁移引起的折射率的变化和由自由载流子引起的折射率的变化组合起来的实际的ITO的各波长中的折射率的变化。如从图4A所知，由电子迁移引起的折射率色散在可视区中在400nm～450nm的短波长一侧急剧地变化。另外如从图4B所示，由自由载流子引起的折射率色散在可视区中，在600nm～700nm的长波长一侧其变化剧烈。通过把这两种影响组合起来，与其它的无机氧化物相比较，折射率的二次色散(θg，F)非常小。从而，与ITO相同，能够使用透明的而且有自由载流子影响的SnO2以及ATO(掺杂了锑的SnO2)等。
另外，ITO通常是构成透明电极的材料，通常，在液晶显示元件、EL元件等中使用。大多在其厚度为50～500nm的范围内使用。但是，通过真空成膜整形，还能够在50nm以下厚度的衍射光学元件中使用。另外，由于ITO能够与作为主要聚合物的市场销售的UV硬化树脂相组合，因此作为光学材料能够非常容易地制造，特别是能够容易地适用在通过光硬化制造的衍射光学元件中。
另外，ITO，SnO2以及ATO等的无机氧化膜物粒子的二次色散(θg，F)最好是0.45以下。这是因为如果大于0.45，则与折射率色散低的材料的折射率色散的差减小，不能够得到所希望的衍射效率。
另外，在使用ITO纳微粒子时其粒径最好是2～50nm。如果粒径大于50nm则混合物的光散射加大，不能够作为光学元件使用。另外，如果粒径小于2nm，则表面量子效果加大，显示不出ITO的特性。
另外，含有ITO的光学材料在阿贝数νd相同的情况下，与满足nd≤-6.667×10-3νd+1.07条件的材料相比较，满足nd＞-6.667×10-3νd+1.07条件的材料的二次色散(θg，F)小。因此，降低设计次数以外的衍射光的效果大。
另外，作为含有ITO的聚合物，最适宜的是能够混合ITO纳微粒子均匀色散的聚苯乙烯。含有ITO的聚苯乙烯能够通过使在苯乙烯单体中添加了ITO纳微粒子的材料硬化得到。其中，含有ITO的聚合物不限于聚苯乙烯，作为光学材料满足nd＞-6.667×10-3νd+1.07而且θg，F≤-2×10-3νd+0.59即可。
如以上说明的那样，通过使用在聚合物等光学材料中添加ITO纳微粒子可以得到的，nd＞-6.667×10-3νd+1.07而且θg，F≤-2×10-3νd+0.59的特性的光学材料，能够提供更正确地修正色差的光学元件。另外，能够提供不发生部分衍射效率的衰落，在各使用波长区中衍射效率非常稳定的光学元件。
另外在本实施形态中仅说明了衍射光学系统，但是本发明不限于该系统。本发明还能够在使用了折射率色散的二次色散小的特性的衍射光学系统中利用。
实施例1
参照图5A～5C至8，说明实施例1中的层叠型衍射光学元件的结构及其制造方法。首先，在使平均粒径10nm的ITO纳微粒子以4.4w％色散了的三氯甲烷溶液100g中添加了12g苯乙烯单体和0.15g光起始剂1-羟基-环己-苯-酮以后，减压去除三氯甲烷溶液，制造了光学原料2。
接着如图5A所示，在加工衍射光栅形状的模具1中供给光学原料2。然后，如图5B所示，在光学原料2上放入玻璃(BK7)平板3，用UV曝光机(EX250：HOYA-SCHOTT公司制)以20000mJ/cm2(100mW/cm2，200秒)进行照射。然后，如图5C所示，把硬化了的光学材料2’从模具1中脱模，制造了衍射光学元件4。另外，该光学原料2通过UV曝光硬化，形成进行了苯乙烯的聚合的聚苯乙烯和ITO纳微粒子的光学材料。从而，光学材料2’的光学特性是(nd＝1.606，νd＝22.7，θg，F＝0.495)。该光学特性同时满足nd＞-6.667×10-3νd+1.07，θg，F≤-2×10-3νd+0.59。
另一方面，为了形成又一个光学元件，作为光学材料准备了光学特性(nd＝1.513，νd＝51.0)的光硬化树脂6。如图6A所示，在氮气环境中把加工衍射光栅的模具5加热到280℃以后，使光硬化树脂6流入到加工成衍射光栅的模具5中。在其上面放上玻璃(BK7)平板7，如图B所示那样加压。然后，用未图示的UV曝光机(EX250：HOYA-SCHOTT公司制)照射了3000mJ/cm2(100mW/cm2，30秒)以后，如图6C所示，把硬化了的光学材料6’从模具5脱模，制造了衍射光学元件8。
接着，在衍射光学元件4和衍射光学元件8的衍射面上成膜了防反射膜以后，如图7所示那样，使相互的衍射光栅相对组合，制造了层叠型衍射光学元件10。9是决定衍射光学元件4与衍射光学元件8的间隔的空间。衍射光学元件4和衍射光学元件8的各个光栅之间的间隙都是80.00μm。衍射光学元件4与衍射光学元件8的相互的衍射光栅的谷间的间隔是24.00μm，峰间的间隔是1.50μm。衍射光学元件4的峰的高度是9.79μm，衍射光学元件8的峰的高度是12.71μm。
图8示出所制造的层叠型衍射光学元件10中的入射角0的一次衍射光的各波长(400nm～700nm)中的强度的曲线图。横轴示出波长，纵轴示出衍射效率。在图8中，波长400nm时的衍射效率是99.3％，波长500nm时的衍射效率是99.7％，波长700nm时的衍射效率是99.4％。从而，层叠型衍射光学元件10的衍射效率在使用波长的整个区域成为99％以上，可以说显示出非常良好的强度的波长分布。
实施例2
其次，参照图9A、9B、9C，图6A、6B、6C，图10，图11，说明实施例2中的层叠型衍射光学元件的结构及其制造方法。首先，在使平均粒径10nm的ITO纳微粒子以8.8w％色散了的三氯甲烷溶液100g中添加了12g苯乙烯单体和0.15g光起始剂1-羟基-环己-苯-酮以后，减压去除三氯甲烷溶液，制造了光学原料2。
接着如图9A所示，在加工衍射光栅形状的模具11中供给光学原料12。然后，如图9B所示，在光学原料12上放入玻璃(BK7)平板13，用UV曝光机(EX250：HOYA-SCHOTT公司制)以20000mJ/cm2(100mW/cm2，200秒)进行照射。然后，如图9C所示，把硬化了的光学材料12’从模具11中脱模，制造了衍射光学元件14。另外，该光学原料12通过UV曝光硬化，形成进行了苯乙烯的聚合的聚苯乙烯和ITO纳微粒子的光学材料。从而，光学材料12’的光学特性是(nd＝1.620，νd＝18.2，θg，F＝0.442)。该光学特性同时满足nd＞-6.667×10-3νd+1.07，θg，F≤-2×10-3νd+0.59。
另一方面，作为为了形成又一个光学元件的光学材料，准备了光学特性(nd＝1.513，νd＝51.0)的光硬化树脂6。通过与图6A～图6C所示的实施例1相同的方法，制造了衍射光学元件8。
接着，在衍射光学元件14和衍射光学元件8的衍射面上成膜了防反射膜以后，如图10所示那样，使相互的衍射光栅相对组合，制造了层叠型衍射光学元件20。19是决定衍射光学元件14与衍射光学元件8的间隔的空间。衍射光学元件14和衍射光学元件8的各个光栅之间的间隙都是85.00μm。衍射光学元件14与衍射光学元件8的相互的衍射光栅的谷间的间隔是18.67μm，峰间的间隔是1.50μm。衍射光学元件14的峰的高度是7.25μm，衍射光学元件8的峰的高度是9.29μm。
图11示出所制造的层叠型衍射光学元件20中的入射角0的一次衍射光的各波长(400nm～700nm)中的强度的曲线图。横轴示出波长，纵轴示出衍射效率。在图11中，波长400nm时的衍射效率是99.3％，波长500nm时的衍射效率是99.9％，波长700nm时的衍射效率是99.9％。从而，层叠型衍射光学元件20的衍射效率在使用波长的整个区域成为99％以上，可以说显示出非常良好的强度的波长分布。
实施例3
其次，参照图12A、12B、12C，图6A、6B、6C，图13，图14，说明实施例3中的层叠型衍射光学元件的结构及其制造方法。首先，在使平均粒径10nm的ITO纳微粒子以10w％色散了的三氯甲烷溶液200g中添加了12g苯乙烯单体和0.15g光起始剂1-羟基-环己-苯-酮以后，减压去除三氯甲烷溶液，制造了光学原料22。
接着如图12A所示，在加工衍射光栅形状的模具21中供给光学原料22。然后，如图12B所示，在光学原料22上放入玻璃(BK7)平板23，用UV曝光机(EX250：HOYA-SCHOTT公司制)以20000mJ/cm2(100mW/cm2，200秒)进行照射。然后，如图12C所示，把硬化了的光学材料22’从模具21中脱模，制造了衍射光学元件24。另外，该光学原料22通过UV曝光硬化，形成进行了苯乙烯的聚合的聚苯乙烯和ITO纳微粒子的光学材料。从而，光学材料22’的光学特性是(nd＝1.648，νd＝13.3，θg，F＝0.385)。该光学特性同时满足nd＞-6.667×10-3νd+1.07，θg，F≤-2×10-3νd+0.59。
另一方面，作为为了形成又一个光学元件的光学材料，与实施例1相同，准备了光学特性(nd＝1.513，νd＝51.0)的光硬化树脂6。通过与图6A～图6C所示的实施例1相同的方法，制造了衍射光学元件8。
接着，在衍射光学元件24和衍射光学元件8的衍射面上成膜了防反射膜以后，如图13所示那样，使相互的衍射光栅相对组合，制造了层叠型衍射光学元件30。29是决定衍射光学元件24与衍射光学元件8的间隔的空间。衍射光学元件24和衍射光学元件8的各个光栅之间的间隙都是80.00μm。衍射光学元件24与衍射光学元件8的相互的衍射光栅的谷间的间隔是13.21μm，峰间的间隔是1.50m。衍射光学元件24的峰的高度是4.66μm，衍射光学元件8的峰的高度是7.05μm。
图14示出所制造的层叠型衍射光学元件30中的入射角0的一次衍射光的各波长(400nm～700nm)中的强度的曲线图。横轴示出波长，纵轴示出衍射效率。在图14中，波长400nm时的衍射效率是99.7％，波长500nm时的衍射效率是100％，波长700nm时的衍射效率是100％。从而，层叠型衍射光学元件30的衍射效率在使用波长的整个区域成为99％以上，可以说显示出非常良好的强度的波长分布。
实施例4
其次，参照图15A～15I，图6A～6C，图16，图17，说明实施例4中的层叠型衍射光学元件的结构及其制造方法。首先，装载添加了1％光起始剂1-羟基-环己-苯-酮的甲基丙烯酸甲酯，制造了光学原料32。接着如图15A所示，在加工衍射光栅形状的模具31中供给光学原料32。然后，如图15B所示，在光学原料32上放入玻璃(BK7)平板33，用UV曝光机(EX250：HOYA-SCHOTT公司制)照射了3000mJ/cm2(100mW/cm2，30秒)。然后，如图15C所示，把硬化了的光学材料32’从模具31中脱模，制造了衍射光学元件34。然后，如图15E所示，在真空度2×10-4pa下，在光学材料32’上作为光学材料成膜了2μm的ITO35。然后，如图15F所示，通过研磨ITO的表面，做成了1条牛顿线以下的平面。然后，如图15G所示，把涂敷了硅烷耦合剂的玻璃板36粘接在ITO上，然后，如图15H所示，通过加入甲基·异丁基甲酮溶剂使硬化了的PMMA溶解，制作了图15I所示的ITO的衍射元件形状37。作为这时的光学材料的ITO的光学特性是(nd＝1.857，νd＝5.7，θg，F＝0.291)。
另一方面，作为为了形成又一个光学元件的光学材料，与实施例1相同，准备了光学特性(nd＝1.513，νd＝51.0)的光硬化树脂6。通过与图6A～图6C所示的实施例1相同的方法，制造了衍射光学元件8。
接着，在衍射光学元件37和衍射光学元件8的衍射面上成膜了防反射膜以后，如图16所示那样，使相互的衍射光栅相对组合，制造了层叠型衍射光学元件40。39是决定衍射光学元件37与衍射光学元件8的间隔的空间。衍射光学元件37和衍射光学元件8的各个光栅之间的间隙都是80μm。衍射光学元件37与衍射光学元件8的相互的衍射光栅的谷间的间隔是6.22μm，峰间的间隔是1.5μm。衍射光学元件37的峰的高度是1.34μm，衍射光学元件8的峰的高度是3.38μm。
图17示出所制造的层叠型衍射光学元件40中的入射角0的一次衍射光的各波长(400nm～700nm)中的强度的曲线图。横轴示出波长，纵轴示出衍射效率。在图17中，波长400nm时的衍射效率是99.8％，波长500nm时的衍射效率是100％，波长700nm时的衍射效率是100％。从而，层叠型衍射光学元件40的衍射效率在使用波长的整个区域成为99％以上，可以说显示出非常良好的强度的波长分布。
比较例1
其次，参照图18A～18C，图6A～6C，图19，图20，说明比较例1中的折叠型衍射光学元件的结构及其制造方法。作为比较例1，代替实施例1所示的光学原料2，作为光学材料使用了光学特性(nd＝1.636，νd＝22.8，θg，F＝0.697)的光硬化树脂102。其光学特性满足nd＞-6.667×10-3νd+1.07，但是不满足θg，F≤-2×10-3νd+0.59。
如图18A所示，在模具101中供给了光硬化树脂102。如图18B所示，用玻璃(BZ7)平板103按压其表面，用未图示的UV曝光机(EX250：HOYA-SCHOTT公司制)照射了20000mJ/cm2(100mW/cm2，200秒)。然后，如图18C所示，把光硬化树脂102从模具101中脱模，制造了衍射光学元件104。
另一方面，作为为了形成又一个光学元件的光学材料，与实施例1相同，准备了光学特性(nd＝1.513，νd＝51.0)的光硬化树脂6。通过与图6A～图6C所示的实施例1相同的方法，制造了衍射光学元件8。
接着，在衍射光学元件104和衍射光学元件8的衍射面上成膜了防反射膜以后，如图19所示那样，使相互的衍射光栅相对组合，制造了层叠型衍射光学元件110。109是决定衍射光学元件104与衍射光学元件8的间隔的空间。衍射光学元件104和衍射光学元件8的各个光栅之间的间隙都是80μm。衍射光学元件104与衍射光学元件8的相互的衍射光栅的谷间的间隔是17.06μm，峰间的间隔是1.50μm。衍射光学元件104的峰的高度是6.43μm，衍射光学元件8的峰的高度是9.13μm。
图20示出所制造的层叠型衍射光学元件110中的入射角0的一次衍射光的各波长(400nm～700nm)中的强度的曲线图。横轴示出波长，纵轴示出衍射效率。在图20中，波长400nm时的衍射效率是97％，波长500nm时的衍射效率是98.3％，波长700nm时的衍射效率是95.3％。从而，层叠型衍射光学元件110的衍射效率与实施例1～4的层叠型衍射光学元件的衍射效率相比较，总体降低。特别是400～410nm，450～530nm，650～700nm中的衍射效率显著降低。
比较例2
其次，参照图21A～21C，图6A～6C，图22，图23，说明比较例2中的折叠型衍射光学元件的结构及其制造方法。作为比较例2，首先，在使平均粒径10nm的ITO纳微粒子以4.8w％色散了的MEK溶液100g中添加了12g甲基丙烯酸甲脂和0.15g光起始剂1-羟基-环己-苯-酮以后，用减压去除了MEK溶液的原料制造了光学原料112。
接着如图21A所示，在模具111中供给了光学原料112。接着如图21B所示，在光学原料112上用玻璃(BZ7)平板113按压，用未图示的UV曝光机(EX250：HOYA-SCHOTT公司制)照射了20000mJ/cm2(100mW/cm2，200秒)。然后，如图21C所示，把光学原料112从模具111中脱模，制造了衍射光学元件114。此时，硬化光学原料112后形成的光学材料的光学特性为(nd＝1.523，νd＝23.0，θg，F＝0.53)。该光学特性满足θg，F≤-2×10-3νd+0.59，但不满足nd＞-6.667×10-3νd+1.70。
另一方面，作为为了形成又一个光学元件的光学材料，与实施例1相同，准备了光学特性(nd＝1.513，νd＝51.0)的光硬化树脂6。通过与图6A～图6C所示的实施例1相同的方法，制造了衍射光学元件8。
接着，在衍射光学元件114和衍射光学元件8的衍射面上成膜了防反射膜以后，如图22所示那样，使相互的衍射光栅相对组合，制造了层叠型衍射光学元件120。119是决定衍射光学元件114与衍射光学元件8的间隔的空间。衍射光学元件114和衍射光学元件8的各个光栅之间的间隙都是80.0μm。衍射光学元件114与衍射光学元件8的相互的衍射光栅的谷间的间隔是23.56μm，峰间的间隔是1.50μm。衍射光学元件114的峰的高度是12.47μm，衍射光学元件8的峰的高度是11.09μm。
图23示出所制造的层叠型衍射光学元件120中的入射角0的一次衍射光的各波长(400nm～700nm)中的强度的曲线图。横轴示出波长，纵轴示出衍射效率。在图23中，波长400nm时的衍射效率是99.1％，波长500nm时的衍射效率是99.5％，波长700nm时的衍射效率是98.6％。从而，层叠型衍射光学元件120的衍射效率与实施例1～4的层叠型衍射光学元件的衍射效率相比较，总体降低。
比较例3
其次，参照图24A～24C，图6A～6C，图25，图26，说明比较例3中的折叠型衍射光学元件的结构及其制造方法。作为比较例3，代替实施例1所示的光学原料2，使用了由添加了1％的光起始剂1-羟基-环己-苯-酮的N-乙烯基咔唑(东京化成工业制造)构成的光学材料122。
接着如图24A所示，在模具121中供给了光学材料122。如图24B所示，在光学材料122上用玻璃(BZ7)平板103按压，在每个模具保持为70℃的状态下，用未图示的UV曝光机(EX250：HOYA-SCHOTT公司制)照射了20000mJ/cm2(100mW/cm2，200秒)。在经过4小时冷却到室温以后，如图24C所示，把硬化了的光学材料122’从模具121中脱模，制造了衍射光学元件124。形成该光学元件122’的光学材料的光学特性是(nd＝1.699，νd＝17.4，θg，F＝0.694)，该光学特性满足nd＞-6.667×10-3νd+1.07，但是不满足θg，F≤-2×10-3νd+0.59。
另一方面，作为为了形成又一个光学元件的光学材料，与实施例1相同，准备了光学特性(nd＝1.513，νd＝51.0)的光硬化树脂6。通过与图6A～图6C所示的实施例1相同的方法，制造了衍射光学元件8。
接着，在衍射光学元件124和衍射光学元件8的衍射面上成膜了防反射膜以后，如图25所示那样，使相互的衍射光栅相对组合，制造了层叠型衍射光学元件130。129是决定衍射光学元件124与衍射光学元件8的间隔的空间。衍射光学元件124和衍射光学元件8的各个光栅之间的间隙都是80.00μm。衍射光学元件124与衍射光学元件8的相互的衍射光栅的谷间的间隔是11.87μm，峰间的间隔是1.50μm。衍射光学元件124的峰的高度是3.91μm，衍射光学元件8的峰的高度是6.45μm。
图26示出所制造的层叠型衍射光学元件130中的入射角0的一次衍射光的各波长(400nm～700nm)中的强度的曲线图。横轴示出波长，纵轴示出衍射效率。在图26中，波长400nm时的衍射效率是95.0％，波长500nm时的衍射效率是98.4％，波长700nm时的衍射效率是95.4％。从而，层叠型衍射光学元件130的衍射效率与实施例1～4的层叠型衍射光学元件的衍射效率相比较，总体降低。
这里，在表1中示出了实施例1～4以及比较例1～3的入射角0度的一次衍射光的各波长(400nm，500nm，700nm)中的衍射效率。表1中，作为条件1是，作为条件2是。在各光学材料满足条件的情况下用○表示，如果不满足则用×表示。一般层叠型衍射光学元件的折射效率如果是99％以上则可以说是良好的。因此，本次实验中的是否良好的判断根据在400nm～700nm的可视区整个区域中，衍射效率是否为99％以上决定。
表1
  条件1   条件2   400nm时的衍射效率   500nm时的衍射效率   700nm时的衍射效率    是否良好
实施例1     ○     ○     99.3％     99.7％     99.4％     ○
实施例2     ○     ○     99.3％     99.9％     99.9％     ○
实施例3     ○     ○     99.7％     100％     100％     ○
实施例4     ○     ○     99.8％     100％     100％     ○
比较例1     ○     ×     97.0％     98.3％     95.3％     ×
比较例2     ×     ○     99.1％     99.5％     98.6％     ×
比较例3     ○     ×     95.0％     98.4％     95.4％     ×
如从表1所示，在实施例1～4的光学材料中，与比较例1～3的光学材料相比较，可知可视区的整个区域(400nm～700nm)中的各使用波长区的衍射效率非常稳定。
第2实施形态
第2实施形态是示出在投影光学系统中使用了在上述第1实施形态中所示的衍射光学元件的情况。图27中示出投影光学系统。图30中，71是光源，72是十字线，73是投影光学系统78的透镜镜筒，74是透镜，75是本发明的衍射光学元件，76是晶片，77是晶片载置台。
衍射光学元件75设置成使得修正透镜74的色差。由晶片载置台77把晶片76定位在所希望的位置，由未图示的聚焦检测装置，把晶片的高度调整到焦点位置。这里，根据情况，用未图示的检测系统，对于在晶片上已经处于曝光下的层的标志，对准十字线。当结束了聚焦和对准时，打开未图示的快门，由来自光源71的照明光照明十字线，由投影光学系统78在晶片76的抗蚀剂层上投影曝光十字线72上的电路图形。
这样曝光了的晶片76经过众所周知的显像处理工艺或者腐蚀工艺的成为多个器件。具有本发明的光学元件的光学系统同样也能够适用在图像形成用的光学设备或者透明用的照明装置等中。另外，作为本发明的光学元件，除去衍射光学元件以外还能够使用具有所希望形状的光学元件。
第3实施形态
第3实施形态在摄影光学系统中使用了在上述第1实施形态中所示的衍射光学元件。图28示出摄影光学系统。图28中，摄影光学系统88分别各至少具有一个以上的衍射光学元件85，折射光学元件83，光圈84。图28中示出在摄影光学系统88中来自入射物体的光束在感光单元(摄影装置)86上成像的状态。
衍射光学元件85的设计次数的衍射光与折射光学元件83的合成下进行象差修正，使得在特定的波长区可以得到良好的光学特性。感光单86由具有不同的分光灵敏度的多个感光体构成，成为通过合成来自不同的分光灵敏度的感光体的图像可以得到全彩色图像的结构。另外，作为感光单元86通常使用CCD，氯银酸钠胶卷，感光体，以及人眼等。
如果依据本发明，则通过使用d线的折射率(nd)与阿贝数(νd)的关系是nd＞-6.667×10-3νd+1.07，阿贝数(νd)与二次色散(θg，F)的关系是θg，F≤-2×10-3νd+0.59的光学材料，能够提供不发生由波长引起的部分衍射效率的衰落，可视区整个区域中的各使用波长区的衍射效率良好的光学元件。换言之，即使是折射率大，nd＜-6.667×10-3νd+1.07的光学材料，但是如果二次色散(θg，F)满足θg，F≤-2×10-3νd+0.59，则成为衍射效率稳定的光学材料，能够提供更正确地修正了色差的光学元件。
另外，通过使用阿贝数(νd)为30以下的光学材料，能够得到衍射效率高的光学材料。另外，通过使用硬化时的二次色散(θg， F)为0.45以下而且与无机纳微粒子的混合体构成的光学材料，能够得到衍射效率高的光学材料。另外，通过使用聚苯乙烯和ITO纳微粒子，特别是包括粒径2～50nm的ITO纳微粒子的光学材料，能够得到不发生光散射，或者不会由于表面的量子效果增大而不显示ITO的特性的衍射效率高的光学材料。

Claims (14)

1.一种光学材料，其特征在于满足下面的条件：
如果把对于d线的折射率记为nd，对于d线的阿贝数记为νd，则
nd＞-6.667×10-3νd+1.07
如果把对于d线的二次分散性记为θg，F，对于d线的阿贝数记为νd，则
θg，F≤-2×10-3νd+0.59
2.根据权利要求1所述的光学材料，其特征在于：
上述阿贝数νd是30以下。
3.根据权利要求1所述的光学材料，其特征在于：
该光学材料由包含有二次分散性θg，F的值为0.45以下的无机纳微粒子的聚合物构成。
4.根据权利要求1所述的光学材料，其特征在于：
上述无机纳微粒子是ITO纳微粒子。
5.根据权利要求4所述的光学材料，其特征在于：
上述ITO纳微粒子的粒径是2～50nm。
6.根据权利要求1所述的光学材料，其特征在于：
该光学材料由ITO形成。
7.根据权利要求3所述的光学材料，其特征在于：
上述聚合物是聚苯乙烯。
8.一种光学元件，该光学元件由权利要求1的光学材料构成，其特征在于：
该光学元件通过硬化反应形成为所希望的形状。
9.根据权利要求8所述的光学元件，其特征在于：
一方的表面是具有衍射形状的衍射面。
10.根据权利要求8所述的光学元件，其特征在于：
一方的表面是具有折射形状的折射面。
11.一种光学系统，其特征在于：
该光学系统是在同一个光路中配置权利要求7的光学元件和其它的光学元件而形成。
12.根据权利要求11所述的光学系统，其特征在于：
该光学系统是拍摄预定物体的摄影光学系统。
13.根据权利要求11所述的光学系统，其特征在于：
该光学系统是在预定的物体上投影光的投影光学系统。
14.一种层叠型衍射光学元件，其特征在于由下述元件构成：
第1衍射光学元件，其一方的表面是具有衍射形状的衍射面，且由如果把对于d线的折射率记为nd，对于d线的阿贝数记为νd，则nd>-6.667×10-3vd+10.7,如果把对于d线的二次分散性记为θg，F，对于d线的阿贝数记为νd，则θg，F≤-2×10-3νd+0.59的光学材料形成；
第2衍射光学元件，其比第1衍射光学元件的阿贝数大，且其一方的表面是具有衍射形状的衍射面，该衍射面配置成与第1衍射光学元件的衍射面相互对峙。
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN100470291C (zh) * 2005-12-08 2009-03-18 佳能株式会社 光学系统和包含该光学系统的光学设备
CN102040852A (zh) * 2009-10-19 2011-05-04 佳能株式会社 光学材料和用该光学材料形成的多层衍射光学元件
US7957063B2 (en) 2006-06-16 2011-06-07 Nikon Corporation Diffractive optical device, optical system using the diffractive optical device and method for manufacturing diffractive optical device
CN102627706A (zh) * 2011-02-03 2012-08-08 佳能株式会社 有机-无机复合树脂组合物、有机-无机复合树脂材料、光学元件和层叠衍射光学元件
CN111670403A (zh) * 2018-03-28 2020-09-15 迪斯帕列斯有限公司 衍射光栅

Families Citing this family (40)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4411026B2 (ja) * 2002-08-30 2010-02-10 キヤノン株式会社 光学材料及び、光学素子、回折光学素子、積層型回折光学素子、光学系
JP4266732B2 (ja) * 2002-08-30 2009-05-20 キヤノン株式会社 積層型回折光学素子
JP2005181392A (ja) * 2003-12-16 2005-07-07 Canon Inc 光学系
JP4956062B2 (ja) * 2005-06-15 2012-06-20 キヤノン株式会社 光学系
SG150514A1 (en) * 2005-08-12 2009-03-30 Cambrios Technologies Corp Nanowires-based transparent conductors
CN102109626A (zh) * 2005-10-07 2011-06-29 株式会社尼康 微小光学元件
CN1996083A (zh) * 2006-01-05 2007-07-11 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司 镜头模块
WO2007119681A1 (ja) * 2006-04-13 2007-10-25 Panasonic Corporation 回折光学素子及びその製造方法
JP5049508B2 (ja) * 2006-05-01 2012-10-17 パナソニック株式会社 回折光学素子、それを備えた対物光学系、及びそれを備えた光ピックアップ装置
EP1882961A1 (en) * 2006-07-28 2008-01-30 CSEM Centre Suisse d'Electronique et de Microtechnique SA Zero-order diffractive filter
US7821691B2 (en) 2006-07-28 2010-10-26 CSEM Centre Suisse d'Electronique et de Microtechnique SA—Recherche et Développement Zero-order diffractive filter
EP2082436B1 (en) 2006-10-12 2019-08-28 Cambrios Film Solutions Corporation Nanowire-based transparent conductors and method of making them
US8018568B2 (en) * 2006-10-12 2011-09-13 Cambrios Technologies Corporation Nanowire-based transparent conductors and applications thereof
JP4847351B2 (ja) * 2007-01-11 2011-12-28 キヤノン株式会社 回折光学素子及びそれを用いた回折格子
EP1947488B1 (en) * 2007-01-22 2010-05-12 Canon Kabushiki Kaisha Laminated diffraction optical element
DE102007011062B4 (de) * 2007-03-07 2009-09-17 Eschenbach Optik Gmbh Lupe
JP4944652B2 (ja) * 2007-03-28 2012-06-06 キヤノン株式会社 回折光学素子及びそれを用いた光学系
KR101456838B1 (ko) 2007-04-20 2014-11-04 캄브리오스 테크놀로지즈 코포레이션 복합 투명 도전체 및 그 제조 방법
US7961395B2 (en) * 2007-07-17 2011-06-14 Northrop Grumman Systems Corporation Wideband diffraction limited optical receiver
KR101464469B1 (ko) 2007-07-24 2014-11-24 체에스에엠 센트레 스위쎄 데 엘렉트로니크 에트 데 미크로 테크니크 에스 아 제로 차수 회절 필터
JP5424623B2 (ja) * 2008-01-21 2014-02-26 キヤノン株式会社 樹脂組成物およびそれにより成形された光学素子、回折光学素子及び積層型回折光学素子
DE102008038910A1 (de) * 2008-08-13 2010-02-18 Schott Ag Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung eines strukturierten Gegenstands sowie strukturierter Gegenstand
SG183138A1 (en) * 2010-02-05 2012-09-27 Cambrios Technologies Corp Photosensitive ink compositions and transparent conductors and method of using the same
JP5652747B2 (ja) * 2010-11-12 2015-01-14 株式会社ニコン 光学系、画像表示装置及び画像撮像装置
JP5854593B2 (ja) 2010-11-17 2016-02-09 キヤノン株式会社 積層型回折光学素子
JP5790178B2 (ja) 2011-03-14 2015-10-07 オムロン株式会社 共焦点計測装置
JP5863265B2 (ja) * 2011-04-08 2016-02-16 キヤノン株式会社 光学素子および多層回折光学素子
JP5843524B2 (ja) 2011-09-02 2016-01-13 キヤノン株式会社 有機無機複合組成物、有機無機複合材料、光学素子および積層型回折光学素子
WO2014129175A1 (ja) * 2013-02-25 2014-08-28 パナソニック株式会社 光学レンズ
US10000665B2 (en) 2014-02-28 2018-06-19 Az Electronic Materials (Luxembourg) S.A.R.L. Hybrid material for optoelectronic applications
DE102015119255A1 (de) 2015-11-09 2017-05-11 Carl Zeiss Microscopy Gmbh Einstellbare Phasenmaske, Mikroskop und Verfahren zur Phasenkontrastmikroskopie
JP6282257B2 (ja) * 2015-12-10 2018-02-21 キヤノン株式会社 積層型の回折光学素子及び光学系
CN107024730B (zh) * 2017-06-21 2019-03-12 福建中科晶创光电科技有限公司 一种采用lift-off原理制作方形光栅的方法
WO2019103871A1 (en) * 2017-11-21 2019-05-31 Applied Materials, Inc. Method of fabrication of waveguide combiners
KR102438014B1 (ko) 2017-11-29 2022-08-31 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 도파관 결합기들의 방향성 식각 제조 방법
JP2020140110A (ja) * 2019-02-28 2020-09-03 国立研究開発法人産業技術総合研究所 ナノ結晶分散ポリマー光学用途膜およびその製造方法、ナノ結晶分散ポリマー透明誘電膜およびその製造方法
DE102019109944A1 (de) 2019-04-15 2020-10-15 Carl Zeiss Ag Diffraktives optisches Element, Verfahren zum Entwerfen einer effizienzachromatisierten diffraktiven Struktur und Verfahren zur Herstellung eines effizienzachromatisierten diffraktiven Elementes
DE102020105201A1 (de) 2020-02-27 2021-09-02 Carl Zeiss Ag Kompaktes Teleobjektiv mit diffraktivem optischen Element
DE102021103587B4 (de) 2021-02-16 2022-09-29 Carl Zeiss Ag Kompaktes Teleobjektiv mit Materialien mit anomaler relativer Teildispersion, Kamera sowie mobiles Gerät
DE102021121562A1 (de) 2021-08-19 2023-02-23 Carl Zeiss Ag Wellenfrontmanipulator und optisches Gerät

Family Cites Families (25)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3914129A (en) * 1972-09-05 1975-10-21 Eastman Kodak Co High index optical glass
US5048925A (en) 1985-05-28 1991-09-17 Advanced Environmental Research Group Quasi volume diffracting structures
JP2759461B2 (ja) * 1988-10-12 1998-05-28 ヤマハ発動機株式会社 エンジンの吸気装置
JP2774168B2 (ja) 1989-12-20 1998-07-09 オリンパス光学工業株式会社 位相格子部材
US5847877A (en) * 1994-09-12 1998-12-08 Olympus Optical Co., Ltd. Diffractive optical element
JP3717555B2 (ja) 1994-09-12 2005-11-16 オリンパス株式会社 回折光学素子
US6061110A (en) * 1994-10-18 2000-05-09 Kabushiki Kaisha Toshiba Reflection type liquid crystal display device and method of manufacturing the same
BR9608514A (pt) * 1995-05-30 1999-06-08 Sola Int Holdings Composição com alto numero de abbe e de alto indice
US6157488A (en) 1995-08-29 2000-12-05 Olympus Optical Company Ltd. Diffractive optical element
JP3618464B2 (ja) 1995-08-29 2005-02-09 オリンパス株式会社 回折光学素子、およびそれを用いる光学装置
US6606200B1 (en) * 1996-09-19 2003-08-12 Canon Kabushiki Kaisha Zoom lens device and optical apparatus provided with the same
JP3495884B2 (ja) 1997-07-28 2004-02-09 キヤノン株式会社 回折光学素子及びそれを用いた光学系
JP3472092B2 (ja) 1997-07-28 2003-12-02 キヤノン株式会社 回折光学素子及びそれを用いた光学系
JP4439608B2 (ja) * 1997-12-24 2010-03-24 キヤノン株式会社 ファインダ光学系
US6560019B2 (en) * 1998-02-05 2003-05-06 Canon Kabushiki Kaisha Diffractive optical element and optical system having the same
JP3472154B2 (ja) 1998-09-17 2003-12-02 キヤノン株式会社 回折光学素子及びこれを有する光学系
JP2000081569A (ja) * 1998-07-03 2000-03-21 Sekinosu Kk 投影レンズ装置
JP3950571B2 (ja) * 1999-03-10 2007-08-01 キヤノン株式会社 撮影光学系
DE19924520C1 (de) * 1999-05-28 2000-06-21 Schott Glas Kurzflintsondergläser
JP3517625B2 (ja) 1999-07-01 2004-04-12 キヤノン株式会社 光学材料及びそれを用いた光学系
JP3588283B2 (ja) * 1999-09-24 2004-11-10 松下電器産業株式会社 投写レンズとそれを用いたプロジェクター
US6778240B2 (en) * 2000-03-28 2004-08-17 Fuji Photo Film Co., Ltd. Anti-glare and anti-reflection film, polarizing plate, and image display device
EP1376161B1 (en) * 2002-06-17 2008-10-15 Canon Kabushiki Kaisha Diffractive optical element and optical system provided with the same
JP4266732B2 (ja) * 2002-08-30 2009-05-20 キヤノン株式会社 積層型回折光学素子
JP4411026B2 (ja) * 2002-08-30 2010-02-10 キヤノン株式会社 光学材料及び、光学素子、回折光学素子、積層型回折光学素子、光学系

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN100470291C (zh) * 2005-12-08 2009-03-18 佳能株式会社 光学系统和包含该光学系统的光学设备
US7957063B2 (en) 2006-06-16 2011-06-07 Nikon Corporation Diffractive optical device, optical system using the diffractive optical device and method for manufacturing diffractive optical device
CN102040852A (zh) * 2009-10-19 2011-05-04 佳能株式会社 光学材料和用该光学材料形成的多层衍射光学元件
CN102040852B (zh) * 2009-10-19 2013-05-29 佳能株式会社 光学材料和用该光学材料形成的多层衍射光学元件
CN102627706A (zh) * 2011-02-03 2012-08-08 佳能株式会社 有机-无机复合树脂组合物、有机-无机复合树脂材料、光学元件和层叠衍射光学元件
CN103926640A (zh) * 2011-02-03 2014-07-16 佳能株式会社 有机-无机复合树脂组合物、有机-无机复合树脂材料、光学元件和层叠衍射光学元件
CN103926640B (zh) * 2011-02-03 2016-08-24 佳能株式会社 层叠衍射光学元件
CN111670403A (zh) * 2018-03-28 2020-09-15 迪斯帕列斯有限公司 衍射光栅
CN111670403B (zh) * 2018-03-28 2022-04-08 迪斯帕列斯有限公司 衍射光栅

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