CN1406749A - 多层可热成像元件 - Google Patents
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- 238000001931 thermography Methods 0.000 title claims description 27
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 190
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 claims abstract description 71
- 238000007639 printing Methods 0.000 claims abstract description 44
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 35
- 239000002243 precursor Substances 0.000 claims abstract description 22
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 106
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 claims description 73
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 61
- 239000002585 base Substances 0.000 claims description 42
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 37
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims description 34
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 32
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 29
- 239000000975 dye Substances 0.000 claims description 29
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 29
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 28
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 27
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 claims description 27
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 claims description 26
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims description 25
- FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N methacrylamide Chemical compound CC(=C)C(N)=O FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 20
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 claims description 14
- 239000003513 alkali Substances 0.000 claims description 13
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 claims description 13
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 claims description 12
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 9
- HIDBROSJWZYGSZ-UHFFFAOYSA-N 1-phenylpyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1C=CC(=O)N1C1=CC=CC=C1 HIDBROSJWZYGSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 8
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 239000000049 pigment Substances 0.000 claims description 7
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N Methylacrylonitrile Chemical compound CC(=C)C#N GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 claims description 5
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 claims description 5
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 claims description 5
- NVBFHJWHLNUMCV-UHFFFAOYSA-N sulfamide Chemical compound NS(N)(=O)=O NVBFHJWHLNUMCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229940124530 sulfonamide Drugs 0.000 claims description 5
- 150000003456 sulfonamides Chemical class 0.000 claims description 5
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 claims description 4
- 229920002396 Polyurea Polymers 0.000 claims description 4
- 229920006243 acrylic copolymer Polymers 0.000 claims description 4
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 claims description 4
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 claims description 4
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 claims description 4
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 claims description 4
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 claims description 4
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 claims description 4
- YARNEMCKJLFQHG-UHFFFAOYSA-N prop-1-ene;styrene Chemical compound CC=C.C=CC1=CC=CC=C1 YARNEMCKJLFQHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 4
- 239000001003 triarylmethane dye Substances 0.000 claims description 2
- ADXCEOBGDCQCKM-UHFFFAOYSA-N quinoline-2,3-dione Chemical group C1=CC=CC2=NC(=O)C(=O)C=C21 ADXCEOBGDCQCKM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract description 5
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 64
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 56
- -1 hexafluorosilicic acid Chemical compound 0.000 description 36
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 27
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 21
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 16
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 16
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-O diazynium Chemical group [NH+]#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 13
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 13
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N diacetone alcohol Chemical compound CC(=O)CC(C)(C)O SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 12
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 11
- 239000012954 diazonium Substances 0.000 description 10
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 8
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000011161 development Methods 0.000 description 8
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N phenol group Chemical group C1(=CC=CC=C1)O ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 8
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 7
- 239000000047 product Substances 0.000 description 7
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 7
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 7
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Chemical compound NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000004411 aluminium Substances 0.000 description 6
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 6
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 6
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 description 6
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 6
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 6
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- UWQPDVZUOZVCBH-UHFFFAOYSA-N 2-diazonio-4-oxo-3h-naphthalen-1-olate Chemical group C1=CC=C2C(=O)C(=[N+]=[N-])CC(=O)C2=C1 UWQPDVZUOZVCBH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 5
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 5
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- JVICFMRAVNKDOE-UHFFFAOYSA-M ethyl violet Chemical compound [Cl-].C1=CC(N(CC)CC)=CC=C1C(C=1C=CC(=CC=1)N(CC)CC)=C1C=CC(=[N+](CC)CC)C=C1 JVICFMRAVNKDOE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 5
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 5
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 4
- 239000004202 carbamide Substances 0.000 description 4
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 4
- IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N cyclobenzothiazole Natural products C1=CC=C2SC=NC2=C1 IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 4
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 4
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 4
- FDPIMTJIUBPUKL-UHFFFAOYSA-N pentan-3-one Chemical compound CCC(=O)CC FDPIMTJIUBPUKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 4
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 4
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 4
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 4
- XLLXMBCBJGATSP-UHFFFAOYSA-N 2-phenylethenol Chemical class OC=CC1=CC=CC=C1 XLLXMBCBJGATSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PLXMOAALOJOTIY-FPTXNFDTSA-N Aesculin Natural products OC[C@@H]1[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@H]1Oc2cc3C=CC(=O)Oc3cc2O PLXMOAALOJOTIY-FPTXNFDTSA-N 0.000 description 3
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PEEHTFAAVSWFBL-UHFFFAOYSA-N Maleimide Chemical compound O=C1NC(=O)C=C1 PEEHTFAAVSWFBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 208000034189 Sclerosis Diseases 0.000 description 3
- 206010070834 Sensitisation Diseases 0.000 description 3
- 239000002250 absorbent Substances 0.000 description 3
- 230000002745 absorbent Effects 0.000 description 3
- DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N acetaldehyde Diethyl Acetal Natural products CCOC(C)OCC DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000004026 adhesive bonding Methods 0.000 description 3
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 3
- SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N anhydrous quinoline Natural products N1=CC=CC2=CC=CC=C21 SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000001540 azides Chemical class 0.000 description 3
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 3
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 3
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 3
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 description 3
- RLSSMJSEOOYNOY-UHFFFAOYSA-N m-cresol Chemical compound CC1=CC=CC(O)=C1 RLSSMJSEOOYNOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229940100630 metacresol Drugs 0.000 description 3
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 3
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 3
- 150000003009 phosphonic acids Chemical class 0.000 description 3
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 3
- 238000003847 radiation curing Methods 0.000 description 3
- 230000008313 sensitization Effects 0.000 description 3
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-N sulfonic acid Chemical compound OS(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 1,4-benzoquinone Chemical compound O=C1C=CC(=O)C=C1 AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001140 1,4-phenylene group Chemical group [H]C1=C([H])C([*:2])=C([H])C([H])=C1[*:1] 0.000 description 2
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JLZIIHMTTRXXIN-UHFFFAOYSA-N 2-(2-hydroxy-4-methoxybenzoyl)benzoic acid Chemical compound OC1=CC(OC)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O JLZIIHMTTRXXIN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PLIKAWJENQZMHA-UHFFFAOYSA-N 4-aminophenol Chemical compound NC1=CC=C(O)C=C1 PLIKAWJENQZMHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LPEKGGXMPWTOCB-UHFFFAOYSA-N 8beta-(2,3-epoxy-2-methylbutyryloxy)-14-acetoxytithifolin Natural products COC(=O)C(C)O LPEKGGXMPWTOCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 244000215068 Acacia senegal Species 0.000 description 2
- IKHGUXGNUITLKF-UHFFFAOYSA-N Acetaldehyde Chemical compound CC=O IKHGUXGNUITLKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZTQSAGDEMFDKMZ-UHFFFAOYSA-N Butyraldehyde Chemical compound CCCC=O ZTQSAGDEMFDKMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 206010013786 Dry skin Diseases 0.000 description 2
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 2
- 229920000084 Gum arabic Polymers 0.000 description 2
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 2
- NBBJYMSMWIIQGU-UHFFFAOYSA-N Propionic aldehyde Chemical compound CCC=O NBBJYMSMWIIQGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000205 acacia gum Substances 0.000 description 2
- 235000010489 acacia gum Nutrition 0.000 description 2
- 150000001241 acetals Chemical class 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 2
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 2
- HUMNYLRZRPPJDN-UHFFFAOYSA-N benzaldehyde Chemical compound O=CC1=CC=CC=C1 HUMNYLRZRPPJDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 2
- 150000001733 carboxylic acid esters Chemical class 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 2
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 2
- 125000000118 dimethyl group Polymers [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 description 2
- 235000013870 dimethyl polysiloxane Nutrition 0.000 description 2
- DMBHHRLKUKUOEG-UHFFFAOYSA-N diphenylamine Chemical compound C=1C=CC=CC=1NC1=CC=CC=C1 DMBHHRLKUKUOEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 2
- ODQWQRRAPPTVAG-GZTJUZNOSA-N doxepin Chemical compound C1OC2=CC=CC=C2C(=C/CCN(C)C)/C2=CC=CC=C21 ODQWQRRAPPTVAG-GZTJUZNOSA-N 0.000 description 2
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 2
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 2
- 238000007306 functionalization reaction Methods 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 150000004693 imidazolium salts Chemical class 0.000 description 2
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920003145 methacrylic acid copolymer Polymers 0.000 description 2
- WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N methanone Chemical compound O=[14CH2] WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 2
- 229940057867 methyl lactate Drugs 0.000 description 2
- 125000004957 naphthylene group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- IWDCLRJOBJJRNH-UHFFFAOYSA-N p-cresol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1 IWDCLRJOBJJRNH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 description 2
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 238000011907 photodimerization Methods 0.000 description 2
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 2
- 150000003222 pyridines Chemical class 0.000 description 2
- 125000002943 quinolinyl group Chemical group N1=C(C=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 2
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 230000003252 repetitive effect Effects 0.000 description 2
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 2
- 150000003440 styrenes Chemical class 0.000 description 2
- 150000003457 sulfones Chemical class 0.000 description 2
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GPRLSGONYQIRFK-MNYXATJNSA-N triton Chemical compound [3H+] GPRLSGONYQIRFK-MNYXATJNSA-N 0.000 description 2
- QNODIIQQMGDSEF-UHFFFAOYSA-N (1-hydroxycyclohexyl)-phenylmethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1(O)CCCCC1 QNODIIQQMGDSEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGKMIGUHVLGJBR-UHFFFAOYSA-M (4z)-1-(3-methylbutyl)-4-[[1-(3-methylbutyl)quinolin-1-ium-4-yl]methylidene]quinoline;iodide Chemical compound [I-].C12=CC=CC=C2N(CCC(C)C)C=CC1=CC1=CC=[N+](CCC(C)C)C2=CC=CC=C12 QGKMIGUHVLGJBR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- KETQAJRQOHHATG-UHFFFAOYSA-N 1,2-naphthoquinone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C(=O)C=CC2=C1 KETQAJRQOHHATG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTQLUUDYDWDXNA-UHFFFAOYSA-N 1-ethyl-4-(1-ethylpyridin-1-ium-4-yl)pyridin-1-ium Chemical compound C1=C[N+](CC)=CC=C1C1=CC=[N+](CC)C=C1 QTQLUUDYDWDXNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CWLKTJOTWITYSI-UHFFFAOYSA-N 1-fluoronaphthalene Chemical compound C1=CC=C2C(F)=CC=CC2=C1 CWLKTJOTWITYSI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HIMXAERGQMNODV-UHFFFAOYSA-N 2-N,4-N,1,2,3,4-hexamethoxy-2-N-methyl-1,3,5-triazine-2,4,6-triamine Chemical compound CONC1(N(C(N(C(=N1)N)OC)(N(C)OC)OC)OC)OC HIMXAERGQMNODV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WGTDLPBPQKAPMN-KTKRTIGZSA-N 2-[2-[(z)-heptadec-8-enyl]-4,5-dihydroimidazol-1-yl]ethanol Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC1=NCCN1CCO WGTDLPBPQKAPMN-KTKRTIGZSA-N 0.000 description 1
- HNLXNOZHXNSSPN-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-[2-[2-[2-[2-[4-(2,4,4-trimethylpentan-2-yl)phenoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethanol Chemical compound CC(C)(C)CC(C)(C)C1=CC=C(OCCOCCOCCOCCOCCOCCOCCO)C=C1 HNLXNOZHXNSSPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-6-methylphenol Chemical compound [CH]OC1=CC=CC([CH])=C1O KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RIWRBSMFKVOJMN-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-phenylpropan-2-ol Chemical compound CC(C)(O)CC1=CC=CC=C1 RIWRBSMFKVOJMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KTALPKYXQZGAEG-UHFFFAOYSA-N 2-propan-2-ylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(C(C)C)=CC=C3SC2=C1 KTALPKYXQZGAEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PYSRRFNXTXNWCD-UHFFFAOYSA-N 3-(2-phenylethenyl)furan-2,5-dione Chemical compound O=C1OC(=O)C(C=CC=2C=CC=CC=2)=C1 PYSRRFNXTXNWCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RLUKWWYXGKDANZ-UHFFFAOYSA-N 3-ethyl-2-methyl-2,3-dihydro-1,3-benzothiazol-3-ium iodide Chemical compound [I-].C1=CC=C2[NH+](CC)C(C)SC2=C1 RLUKWWYXGKDANZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGHDLJAZIIFENW-UHFFFAOYSA-N 4-[1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2-(4-hydroxy-3-prop-2-enylphenyl)propan-2-yl]-2-prop-2-enylphenol Chemical group C1=C(CC=C)C(O)=CC=C1C(C(F)(F)F)(C(F)(F)F)C1=CC=C(O)C(CC=C)=C1 QGHDLJAZIIFENW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXACTUVBBMDKRW-UHFFFAOYSA-M 4-bromobenzenesulfonate Chemical compound [O-]S(=O)(=O)C1=CC=C(Br)C=C1 PXACTUVBBMDKRW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- WTQZSMDDRMKJRI-UHFFFAOYSA-N 4-diazoniophenolate Chemical compound [O-]C1=CC=C([N+]#N)C=C1 WTQZSMDDRMKJRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LZDOYVMSNJBLIM-UHFFFAOYSA-N 4-tert-butylphenol;formaldehyde Chemical compound O=C.CC(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 LZDOYVMSNJBLIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OZAIFHULBGXAKX-VAWYXSNFSA-N AIBN Substances N#CC(C)(C)\N=N\C(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-VAWYXSNFSA-N 0.000 description 1
- RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N Abietic-Saeure Natural products C12CCC(C(C)C)=CC2=CCC2C1(C)CCCC2(C)C(O)=O RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002126 Acrylic acid copolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 229920000945 Amylopectin Polymers 0.000 description 1
- 229920001342 Bakelite® Polymers 0.000 description 1
- BTBUEUYNUDRHOZ-UHFFFAOYSA-N Borate Chemical compound [O-]B([O-])[O-] BTBUEUYNUDRHOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDLFNDNDKKUTBN-UHFFFAOYSA-N CCN1C2=CC=CC=C2C=CC1C.I Chemical compound CCN1C2=CC=CC=C2C=CC1C.I XDLFNDNDKKUTBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004971 Cross linker Substances 0.000 description 1
- XZMCDFZZKTWFGF-UHFFFAOYSA-N Cyanamide Chemical compound NC#N XZMCDFZZKTWFGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001353 Dextrin Polymers 0.000 description 1
- 239000004375 Dextrin Substances 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 description 1
- 229920001503 Glucan Polymers 0.000 description 1
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SACYNIARRWMOLE-UHFFFAOYSA-N I.C1=CC=C2N(CC)CC=C(C)C2=C1 Chemical compound I.C1=CC=C2N(CC)CC=C(C)C2=C1 SACYNIARRWMOLE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000692870 Inachis io Species 0.000 description 1
- AMIMRNSIRUDHCM-UHFFFAOYSA-N Isopropylaldehyde Chemical compound CC(C)C=O AMIMRNSIRUDHCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PKHPGBJYRWCGMR-UHFFFAOYSA-N N(C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1.N1N=CC=C1 Chemical class N(C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1.N1N=CC=C1 PKHPGBJYRWCGMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical class CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930192627 Naphthoquinone Natural products 0.000 description 1
- 229910052779 Neodymium Inorganic materials 0.000 description 1
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930040373 Paraformaldehyde Natural products 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001665 Poly-4-vinylphenol Polymers 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 1
- WTKZEGDFNFYCGP-UHFFFAOYSA-N Pyrazole Chemical group C=1C=NNC=1 WTKZEGDFNFYCGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N Rosin Natural products O(C/C=C/c1ccccc1)[C@H]1[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H](CO)O1 KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N 0.000 description 1
- PJANXHGTPQOBST-VAWYXSNFSA-N Stilbene Natural products C=1C=CC=CC=1/C=C/C1=CC=CC=C1 PJANXHGTPQOBST-VAWYXSNFSA-N 0.000 description 1
- 229920000147 Styrene maleic anhydride Polymers 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HRDVCJYSDOQTHE-UHFFFAOYSA-N [N+](=O)([O-])[C-]1C=CC=C1.[CH-]1C=CC=C1.[Fe+2] Chemical compound [N+](=O)([O-])[C-]1C=CC=C1.[CH-]1C=CC=C1.[Fe+2] HRDVCJYSDOQTHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 1
- IKHGUXGNUITLKF-XPULMUKRSA-N acetaldehyde Chemical compound [14CH]([14CH3])=O IKHGUXGNUITLKF-XPULMUKRSA-N 0.000 description 1
- 239000003377 acid catalyst Substances 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 1
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 1
- 238000013019 agitation Methods 0.000 description 1
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 1
- 239000000783 alginic acid Substances 0.000 description 1
- 235000010443 alginic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229920000615 alginic acid Polymers 0.000 description 1
- 229960001126 alginic acid Drugs 0.000 description 1
- 150000004781 alginic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 description 1
- 125000005250 alkyl acrylate group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001118 alkylidene group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001000 anthraquinone dye Chemical class 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N argon Substances [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004982 aromatic amines Chemical class 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 238000003556 assay Methods 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- 125000000751 azo group Chemical group [*]N=N[*] 0.000 description 1
- 239000004637 bakelite Substances 0.000 description 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- 235000013405 beer Nutrition 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N benzene Substances C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001588 bifunctional effect Effects 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 230000008033 biological extinction Effects 0.000 description 1
- ZCILODAAHLISPY-UHFFFAOYSA-N biphenyl ether Natural products C1=C(CC=C)C(O)=CC(OC=2C(=CC(CC=C)=CC=2)O)=C1 ZCILODAAHLISPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960001506 brilliant green Drugs 0.000 description 1
- 150000007942 carboxylates Chemical class 0.000 description 1
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 1
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 1
- 235000010980 cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 1
- DVBJBNKEBPCGSY-UHFFFAOYSA-M cetylpyridinium bromide Chemical compound [Br-].CCCCCCCCCCCCCCCC[N+]1=CC=CC=C1 DVBJBNKEBPCGSY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 230000001427 coherent effect Effects 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 description 1
- 239000007859 condensation product Substances 0.000 description 1
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 235000019425 dextrin Nutrition 0.000 description 1
- FHIVAFMUCKRCQO-UHFFFAOYSA-N diazinon Chemical compound CCOP(=S)(OCC)OC1=CC(C)=NC(C(C)C)=N1 FHIVAFMUCKRCQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000664 diazo group Chemical group [N-]=[N+]=[*] 0.000 description 1
- 150000004862 dioxolanes Chemical class 0.000 description 1
- USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N diphenyl ether Chemical compound C=1C=CC=CC=1OC1=CC=CC=C1 USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CDNGYFJXHJQTJJ-UHFFFAOYSA-N diphenylphosphorylformaldehyde 1,3,5-trimethylbenzene Chemical compound C(=O)P(C1=CC=CC=C1)(C1=CC=CC=C1)=O.CC1=CC(=CC(=C1)C)C CDNGYFJXHJQTJJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005518 electrochemistry Effects 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 150000002084 enol ethers Chemical class 0.000 description 1
- UVCJGUGAGLDPAA-UHFFFAOYSA-N ensulizole Chemical compound N1C2=CC(S(=O)(=O)O)=CC=C2N=C1C1=CC=CC=C1 UVCJGUGAGLDPAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960000655 ensulizole Drugs 0.000 description 1
- 230000003628 erosive effect Effects 0.000 description 1
- MTZQAGJQAFMTAQ-UHFFFAOYSA-N ethyl benzoate Chemical compound CCOC(=O)C1=CC=CC=C1 MTZQAGJQAFMTAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007765 extrusion coating Methods 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- VOOLKNUJNPZAHE-UHFFFAOYSA-N formaldehyde;2-methylphenol Chemical compound O=C.CC1=CC=CC=C1O VOOLKNUJNPZAHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 1
- 239000002223 garnet Substances 0.000 description 1
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 description 1
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 description 1
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 description 1
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 150000002391 heterocyclic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M hexanoate Chemical compound CCCCCC([O-])=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 150000003949 imides Chemical class 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- HOBCFUWDNJPFHB-UHFFFAOYSA-N indolizine Chemical compound C1=CC=CN2C=CC=C21 HOBCFUWDNJPFHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 125000000468 ketone group Chemical group 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- DZVCFNFOPIZQKX-LTHRDKTGSA-M merocyanine Chemical compound [Na+].O=C1N(CCCC)C(=O)N(CCCC)C(=O)C1=C\C=C\C=C/1N(CCCS([O-])(=O)=O)C2=CC=CC=C2O\1 DZVCFNFOPIZQKX-LTHRDKTGSA-M 0.000 description 1
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 1
- RUAIJHHRCIHFEV-UHFFFAOYSA-N methyl 4-amino-5-chlorothiophene-2-carboxylate Chemical compound COC(=O)C1=CC(N)=C(Cl)S1 RUAIJHHRCIHFEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XJRBAMWJDBPFIM-UHFFFAOYSA-N methyl vinyl ether Chemical compound COC=C XJRBAMWJDBPFIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 150000002791 naphthoquinones Chemical class 0.000 description 1
- QEFYFXOXNSNQGX-UHFFFAOYSA-N neodymium atom Chemical compound [Nd] QEFYFXOXNSNQGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052754 neon Inorganic materials 0.000 description 1
- GKAOGPIIYCISHV-UHFFFAOYSA-N neon atom Chemical compound [Ne] GKAOGPIIYCISHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- 229940098514 octoxynol-9 Drugs 0.000 description 1
- 229920002114 octoxynol-9 Polymers 0.000 description 1
- 238000007645 offset printing Methods 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000004880 oxines Chemical class 0.000 description 1
- AUONHKJOIZSQGR-UHFFFAOYSA-N oxophosphane Chemical compound P=O AUONHKJOIZSQGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010422 painting Methods 0.000 description 1
- 239000000123 paper Substances 0.000 description 1
- QNGNSVIICDLXHT-UHFFFAOYSA-N para-ethylbenzaldehyde Natural products CCC1=CC=C(C=O)C=C1 QNGNSVIICDLXHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002866 paraformaldehyde Polymers 0.000 description 1
- 239000012466 permeate Substances 0.000 description 1
- 125000002467 phosphate group Chemical group [H]OP(=O)(O[H])O[*] 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 230000002186 photoactivation Effects 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 1
- 229920002432 poly(vinyl methyl ether) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 description 1
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 description 1
- 229920001282 polysaccharide Polymers 0.000 description 1
- 239000005017 polysaccharide Substances 0.000 description 1
- 150000004804 polysaccharides Chemical class 0.000 description 1
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 description 1
- 150000004032 porphyrins Chemical class 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 238000007363 ring formation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007790 scraping Methods 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- PJANXHGTPQOBST-UHFFFAOYSA-N stilbene Chemical compound C=1C=CC=CC=1C=CC1=CC=CC=C1 PJANXHGTPQOBST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000021286 stilbenes Nutrition 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 125000005504 styryl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000000859 sublimation Methods 0.000 description 1
- 230000008022 sublimation Effects 0.000 description 1
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 1
- FDDDEECHVMSUSB-UHFFFAOYSA-N sulfanilamide Chemical compound NC1=CC=C(S(N)(=O)=O)C=C1 FDDDEECHVMSUSB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-O sulfonium Chemical compound [SH3+] RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 150000003462 sulfoxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000005207 tetraalkylammonium group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- WBYWAXJHAXSJNI-VOTSOKGWSA-M trans-cinnamate Chemical group [O-]C(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-VOTSOKGWSA-M 0.000 description 1
- KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N trans-cinnamyl beta-D-glucopyranoside Natural products OC1C(O)C(O)C(CO)OC1OCC=CC1=CC=CC=C1 KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920006337 unsaturated polyester resin Polymers 0.000 description 1
- HGBOYTHUEUWSSQ-UHFFFAOYSA-N valeric aldehyde Natural products CCCCC=O HGBOYTHUEUWSSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LLWJPGAKXJBKKA-UHFFFAOYSA-N victoria blue B Chemical compound [Cl-].C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(C=1C=CC(=CC=1)N(C)C)=C(C=C1)C2=CC=CC=C2C1=[NH+]C1=CC=CC=C1 LLWJPGAKXJBKKA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JEVGKYBUANQAKG-UHFFFAOYSA-N victoria blue R Chemical compound [Cl-].C12=CC=CC=C2C(=[NH+]CC)C=CC1=C(C=1C=CC(=CC=1)N(C)C)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 JEVGKYBUANQAKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ROVRRJSRRSGUOL-UHFFFAOYSA-N victoria blue bo Chemical compound [Cl-].C12=CC=CC=C2C(NCC)=CC=C1C(C=1C=CC(=CC=1)N(CC)CC)=C1C=CC(=[N+](CC)CC)C=C1 ROVRRJSRRSGUOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011179 visual inspection Methods 0.000 description 1
- 229920003169 water-soluble polymer Polymers 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
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-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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- B41C2201/00—Location, type or constituents of the non-imaging layers in lithographic printing formes
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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- B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
- B41C2210/14—Multiple imaging layers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
- B41C2210/22—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation characterised by organic non-macromolecular additives, e.g. dyes, UV-absorbers, plasticisers
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
- B41C2210/24—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation characterised by a macromolecular compound or binder obtained by reactions involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. acrylics, vinyl polymers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
- B41C2210/26—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation characterised by a macromolecular compound or binder obtained by reactions not involving carbon-to-carbon unsaturated bonds
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
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- B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
- B41C2210/26—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation characterised by a macromolecular compound or binder obtained by reactions not involving carbon-to-carbon unsaturated bonds
- B41C2210/262—Phenolic condensation polymers, e.g. novolacs, resols
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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- B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
- B41C2210/26—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation characterised by a macromolecular compound or binder obtained by reactions not involving carbon-to-carbon unsaturated bonds
- B41C2210/264—Polyesters; Polycarbonates
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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- B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
- B41C2210/26—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation characterised by a macromolecular compound or binder obtained by reactions not involving carbon-to-carbon unsaturated bonds
- B41C2210/266—Polyurethanes; Polyureas
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- Physics & Mathematics (AREA)
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Abstract
公开一种多层可热成像元件，可用作平印版前体。该元件包含面层、含有光热转换材料的吸收剂层以及亲水基材。一种任选的底层也可存在于吸收剂层与亲水基材之间。该元件可热成像并以含水碱性显影液冲洗加工。
Description
技术领域
本发明涉及平版印刷。更具体地说，本发明涉及一种可用作平印版前体、可热成像并以含水碱性显影液冲洗加工的多层可热成像元件。
背景技术
在平版印刷中，在亲水表面上产生若干油墨接受区，即所谓图像区。当表面用水润湿并施涂油墨时，亲水区保留水并排斥油墨，而油墨接受区则接受油墨并排斥水。油墨被转移到准备在其上复制图像的材料的表面。在典型情况下，油墨首先转移到中间垫层(blanket)上，然后再由垫层将油墨转移到准备在其上复制图像的材料表面。
可用作平印版的可成像元件，亦称印版前体，通常包含施涂在亲水基材表面上的可成像层。可成像层包括一种或多种辐射敏感成分，这些成分可分散在适当粘合剂中。替代地，辐射敏感成分也可以是粘合剂材料。
可作为平印版前体的可热成像元件，由于省去对透过负片曝光的需要，因而在印刷工业中日益受到重视。经按图像方式热曝光以后，显影液去除曝光区的速率大于去除未曝光区的速率，于是，曝光区被显影液清除从而形成图像。此种系统例如公开在Parsons，WO 97/39894和美国申请序列号08/981,620；Nagasaka，EP 0 823 327；Miyake，EP 0 909 627；West，WO 98/42507和美国申请序列号08/821,844和Nguyen，WO 99/11458和美国申请序列号08/922,190等文献中。
尽管在制备平印版生产用热敏感元件方面已取得许多进展，但此类元件在对红外激光成像装置的灵敏度(或感光性)方面仍需进一步改善。
发明概述
本发明是一种对红外激光成像装置的灵敏度改善的可热成像元件。该元件包含：
(a)亲水基材；
(b)吸收剂层；以及
(c)面层；
其中：
面层包含第一种聚合材料；
该面层为油墨接受性的，且不溶于含水碱性显影液；
面层与吸收剂层每一层都可在曝光后被含水碱性显影液去除；并且
吸收剂层主要由光热转换材料或者光热转换材料的混合物和任选的表面活性剂或表面活性剂的混合物组成。
在本发明的一种实施方案中，在支持体与吸收剂层之间设有包含第二种聚合材料的底层。
在另一个方面，本发明是一种产生可用作平印版的图像的方法。该方法包括使可热成像元件成像，以及用含水碱性显影液将其显影。在另一个方面，本发明是一种采用该印版和含水润版液(fountainsolution)进行印刷的方法。发明详述
本发明是一种可热成像元件。该元件包含亲水基材、吸收剂层和面层。吸收剂层包含光热转换材料。该元件还包含介于基材与吸收剂层之间的底层。除非本文及其权利要求中另行规定，术语“第一种聚合材料”、“第二种聚合材料”、“光热转换材料”、“溶解抑制剂”以及类似术语一律也指该类材料的混合物。亲水基材
亲水基材——即包含至少一个亲水表面的基材——包含支持体，该支持体可以是任何传统上用来制备用作平印版的可成像元件的材料。支持体优选结实、稳定和柔韧。它在使用条件下应保持尺寸不变，以便使诸彩色记录套准成为一幅全色图像。在典型情况下，它可以是任何自支撑材料，例如包括聚合物薄膜如聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜、陶瓷、金属或硬纸，或者这些材料的任意层合物。金属支持体包括铝、锌、钛及其合金。
铝支持体的表面可采用本领域已知的技术进行处理，包括物理磨版、电化学磨版、化学磨版和阳极氧化。基材应厚到足以耐受印刷过程的磨损，又应薄到足以围绕印版卷曲，一般介于约100～约600μm。
典型的基材包含介于铝支持体与可成像层之间的中间层。中间层可通过用例如硅酸盐、糊精、六氟硅酸、磷酸盐/氟化物、聚乙烯基膦酸(PVPA)或聚乙烯基膦酸共聚物处理支持体而形成。吸收剂层
吸收剂层能吸收辐射，优选约800nm～1200nm之间、可热成像元件成像常用辐射范围的辐射。吸收剂，有时亦称“光热转换材料”，存在于该吸收剂层中。光热转换材料能吸收辐射并将其转化为热。光热转换材料可吸收紫外、可见和/或红外辐射并将其转化为热。
光热转换材料可以是染料或颜料，例如squarylium、部花青、中氮茚、吡喃鎓或金属diothiolene类等染料或颜料。吸收性颜料的例子是Projet 900、Projet 860和Projet 830(全部由Zeneca公司供应)。碳黑颜料也可使用。由于吸收带很宽，基于碳黑的印版可用于具有宽峰值发射波长范围的多重红外成像装置。
优选用染料，特别是可溶于含水碱性显影液的染料，以防止显影液因不溶解物质造成的成渣现象。染料可选自，例如靛苯胺染料、氧杂菁染料、卟啉衍生物、蒽醌染料、部苯乙烯基染料、吡喃鎓化合物以及sqarylium衍生物。吸收性染料公开在许多本领域专利公开和专利申请中，例如，Nagasaka，EP 0,823,327；Van Damme，EP 9,908,397；DeBoer，美国专利4,973,572；Jandrue，美国专利5,244,771；和Chapman，美国专利5,401,618中。有用的吸收性染料的例子包括，ADS-830 WS和ADS-1064(二者皆可由American Dye Source(蒙特利尔，加拿大)获得)、EC2117(由FEW(Wolfen，德国)获得)、Cyasorb IR99和Cyasorb IR 165(二者皆可由Glendale Protective Technology获得)、Epolite IV-62B和Epolite III-178(二者皆可由Epoline获得)、PINA-780(可由联合信号公司获得)、Spectra IR 830A和Spectra IR 840A(二者皆可由Spectra Colors获得)。
吸收剂层主要由光热转换材料或光热转换材料的混合物，以及任选地，表面活性剂如聚乙氧基化二甲基聚硅氧烷共聚物，或表面活性剂的混合物组成。特别是，该吸收剂层基本上不合诸如用作第一种聚合材料和第二种聚合材料之类的粘合剂。可存在表面活性剂，用以促进光热转换材料在涂布溶剂中的分散。
吸收剂层的厚度通常应足以吸收成像辐射的至少90％，优选至少99％。正如本领域技术人员熟知的，吸收特定数量辐射所需要的吸收剂数量可由吸收剂层的厚度和吸收剂在成像波长处的消光系数按照Beers定律来确定。典型吸收剂层的涂布量为约0.02g/m2～约2g/m2，优选约0.05g/m2～约1.5g/m2。面层
面层是油墨接受性的，起到保护一个或多个下面的层免遭显影液侵蚀。成像前，它不溶于含水碱性显影液。然而热曝光(即热成像)后，面层的曝光(即成像)区则可被含水显影液除掉。虽不限于任何理论或解释，但可以认为，热曝光使得面层更容易溶解或分散在含水显影液中和/或削弱面层与吸收剂层之间的结合。这使得显影液得以渗透通过面层、吸收剂层以及如果存在的底层，并除掉曝光区内的吸收剂层如果存在底层，从而显露出底下的亲水基材的亲水表面。
面层包含第一种聚合材料。第一种聚合材料可不溶解于含水碱性显影液。当显影液渗透过曝光区内的面层并溶解或分散这些区的一个或多个下面的层时，第一种聚合材料便被剥离并分散在显影液中。有用的此类型聚合物包括：丙烯酸类聚合物和共聚物；聚苯乙烯；苯乙烯-丙烯酸类共聚物；聚酯、聚酰胺；聚脲；聚氨酯；硝基纤维素；环氧树脂；和它们的组合。优选的此类型聚合物是聚甲基丙烯酸甲酯、硝基纤维素和聚苯乙烯。
面层可以是正性可光成像组合物。在此种情况下，在热曝光后面层的曝光区将变得更容易溶解于含水碱性显影液中。
正性可光成像组合物是熟知的。它们在例如，《PhotoreactivePolymers：the Science and Technology of Resists(光反应性聚合物：光刻胶的科学与技术)》，第五章(A.Reiser，Wiley，纽约，1989，pp.178～225)中做了探讨。这类组合物包含：第一种聚合材料，该材料是不溶于水但溶于碱的粘合剂，以及含感光部分的材料。感光部分可键合在第一种聚合材料上和/或以单独化合物形式存在。
优选的是包含酚羟基基团的聚合物，即，酚醛树脂。优选该第一种聚合材料是光稳定、不溶于水、可溶于含水碱性显影液、具有多个在聚合物主链或者在侧基上的酚羟基的成膜聚合材料。酚基给面层提供含水碱性显影液中的溶解性，还可以认为能与溶解抑制剂形成热不稳定络合物。线型酚醛树脂、酚树脂、含酚侧基的丙烯酸类树脂和聚乙烯基酚醛树脂是优选的酚醛树脂。线型酚醛树脂则更为优选。
线型酚醛树脂有市售供应并且是本领域技术人员熟知的。它们典型地利用酚类，例如苯酚、间甲酚、邻甲酚和对甲酚等与醛类，如甲醛、多聚甲醛、乙醛等，或酮如丙酮，在酸催化剂存在下的缩合反应来制备。典型的重均分子量为约1,000～15,000。典型的线型酚醛树脂包括，例如苯酚-甲醛树脂、甲酚-甲醛树脂、苯酚-甲酚-甲醛树脂、对叔丁基苯酚-甲醛树脂和连苯三酚-丙酮树脂。尤其有用的线型酚醛树脂是通过间甲酚、间甲酚与对甲酚的混合物或者苯酚，与甲醛采用传统条件进行反应制备的。
其它可用作第一种聚合材料的酚醛树脂包括具有酚羟基基团的聚乙烯基化合物。此类化合物包括，例如，聚羟基苯乙烯和包含羟基苯乙烯重复单元的共聚物，以及包含取代的羟基苯乙烯重复单元的聚合物和共聚物。第一种聚合材料也可以是具有磺酰胺侧基的不溶于水但溶于碱的聚合化合物，例如描述在Aoshima，美国专利5,141,838(EP330,239)中的那些。
典型的感光部分是邻重氮萘醌部分。包含邻重氮萘醌部分的化合物(即，醌-二叠氮化物(diazides))，优选所包含的邻重氟萘醌部分连接着一使其稳定的部分的化合物，其中使其稳定的部分的分子量优选至少是1500但小于约5000。此类化合物的典型制备利用在4-或5-位具有卤代磺酰，典型的为磺酰氯基团的1，2-萘醌二叠氮化物，与诸如单-或多-羟基二苯酮的单-或多-羟苯基化合物之间的反应来实现。
聚合重氮萘醌化合物包括由包含重氮萘醌部分的反应性衍生物与包含诸如羟基或氨基基团的合适反应性基团的聚合材料之间的反应生成的衍生树脂。适合制备这些衍生树脂的聚合材料包括线型酚醛树脂、可溶酚醛树脂、聚乙烯基酚类、诸如羟基苯乙烯的含羟基单体的丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯共聚物。代表性反应性衍生物包括重氮萘醌部分的磺酸、羧酸、酯或酰胺衍生物。酚醛树脂用包含重氮萘醌部分的化合物实现衍生是本领域熟知的，例如公开在West，美国专利5,705,308和5,705,322中。
一方面，正性可热成像面层包含第一种聚合材料和溶解抑制剂。此种体系公开在，例如Parsons，WO 97/39894；Nagasaka，EP 0 823327；Miyake，EP 0 909 627；West，WO 98/42507；和Nguyen，WO99/11458等文献中。典型的第一种聚合材料是酚醛树脂，例如线型酚醛树脂。
溶解抑制剂可以认为能可逆地降低第一种聚合材料在含水碱性显影液中的溶解速率。一般地，此类化合物应具有至少是0.5，优选至少5的“抑制系数”。抑制系数可采用Shih等人在《大分子》，27，3330(1994)中描述的程序来测定。
溶解抑制剂可采用的极性基团包括，例如重氮基团；重氮鎓基团；酮基团；磺酸酯基团；磷酸酯基团；三芳基甲烷基团；鎓基团如锍、碘鎓和磷鎓；杂环中引入氮原子的基团；以及包含带正电的原子，尤其是带正电氮原子，其典型为季氮原子的基团，即，铵基。包含其它极性基团，例如含醚、胺、偶氮、硝基、二茂铁、亚砜、砜和二砜的化合物也可用作溶解抑制剂。具有缩醛或缩酮重复基团的单体或聚合缩醛、具有至少一个原羧酸酯或酰胺基团的单体或聚合原羧酸酯、烯醇醚、N-酰基亚氨基碳酸酯、环状缩醛或缩酮、β-酮酯或β-酮酰胺，也可用作溶解抑制剂。
可用作溶解抑制剂的包含带正电(即，季铵化)氮原子的化合物包括，例如，四烷基铵化合物、喹啉鎓化合物、苯并噻唑鎓化合物、吡啶鎓化合物和咪唑鎓化合物。
季铵化杂环化合物可用作溶解抑制剂。代表性咪唑鎓化合物包括Monazolin C、Monazoline O、Monazoline CY和Monazoline T，全部由Mona工业公司制造。代表性喹啉鎓溶解抑制剂包括1-乙基-2-甲基喹啉鎓碘化物、1-乙基-4-甲基喹啉鎓碘化物和包含喹啉鎓部分的花青染料如Quinoldine Blue。代表性苯并噻唑鎓化合物包括3-乙基-2-(3H)-亚苯并噻唑基)-2-甲基-1-(丙烯基)苯并噻唑鎓阳离子染料以及3-乙基-2-甲基苯并噻唑鎓碘化物。合适的吡啶鎓溶解抑制剂包括鲸蜡基吡啶鎓溴化物和乙基viologen二价阳离子。
重氮盐可用作溶解抑制剂，例如包括取代和未取代的二苯基胺重氮盐，例如甲氧基取代的二苯基胺重氮六氟硼酸盐。这类化合物在非预热版中特别有用。
一类优选的溶解抑制剂是三芳基甲烷染料，例如乙基紫、结晶紫、孔雀绿、碱性亮绿、维多利亚蓝B、维多利亚蓝R和维多利亚蓝BO。这些化合物也可当作反衬染料，用于在显影的可成像元件中将未成像区与成像区区别开来。
溶解抑制剂可以是包含邻重氮萘醌部分的化合物，例如下面所讨论的那些。包含邻重氮萘醌部分的衍生树脂可起第一种聚合材料和溶解抑制剂的双重作用。它们可单独使用，或者它们可与其它聚合材料和/或溶解抑制剂组合使用。
当面层中存在溶解抑制剂时，其用量可在宽范围内变化，但它至少为约0.1wt％，典型值约0.5wt％～约30wt％，优选约1wt％～15wt％，以该层的组合物总干重为基准。
替代或附加地，第一种聚合材料本身可包含起到与聚合材料中存在的羟基基团氢键键合的受体部位作用的极性基团，并因此起到溶解抑制剂作用。采用熟知的方法，粘合剂的一部分羟基可通过衍生来引入极性基团，例如引入羧酸酯如苯甲酸酯；磷酸酯；醚如苯基醚；以及磺酸酯如甲基磺酸酯、苯基磺酸酯、对甲苯磺酸酯(甲苯磺酸酯)以及对溴苯磺酸酯。用包含重氮萘醌部分的化合物衍生的树脂的例子是P3000，即一种连苯三酚/丙酮树脂的萘醌二叠氮化物(由PCAS(法国)供应)。这些衍生聚合材料可起到第二种聚合材料和溶解抑制剂的双重作用。它们可单独用于面层中，或者它们可与其它聚合材料和/或溶解抑制剂组合使用。
替代地，面层可包含第一种聚合材料但不含起第一种聚合材料的溶解抑制剂作用的材料。在这种情况下，面层主要由第一种聚合材料构成。这些体系公开在Hauck，美国专利申请序列号09/638,556中，2000-08-14提交。这些体系在pH值至少是7～约11的碱性溶液中显影。优选的是，这些体系所采用的含水碱性显影液的pH值为约8～约10.5，更优选约9～10，进一步优选约10。pH值在等于或大于13范围的显影液则不能用于这些体系。
面层还可包含染料，用来帮助对曝光和/或显影后元件的肉眼检查。冲洗加工期间，晒出的颜色(染料)将曝光区与未曝光区区别开来。反衬染料将显影版内未成像区与成像区区别开来。
基本上全部成像辐射都应被吸收剂层吸收。虽然面层可能吸收紫外和/或可见辐射，例如当用诸如乙基紫的染料作为溶解抑制剂时或者当在面层中加入染料以便于检查时，但面层应基本上不含能吸收成像辐射的材料，其中典型的成像辐射为约800nm～约1200nm的红外辐射，更典型的辐射位于约830nm或者位于约1056nm。特别是，面层应基本上不含光热转换材料。底层
当存在时，底层位于亲水基材的亲水表面与吸收剂层之间。成像后，在成像区它随同吸收剂层和面层一起被含水碱性显影液除掉，结果暴露出下面的基材亲水表面。它优选可溶于含水碱性显影液，以防止显影液成渣。优选的是，它可溶于完全水性的显影液，即，不包括外加有机溶剂的显影液。
底层包含第二种聚合材料。第二种聚合材料优选可溶于含水碱性显影液中。另外，第二种聚合材料应不溶于涂布面层用的溶剂，以便既能在底层上涂布面层又不使底层溶解。
可用作第二种聚合材料的聚合材料包括包含酸和/或酚官能团的那些以及此类材料的混合物。有用的聚合材料包括羧基官能丙烯酸类、乙酸乙烯酯/-巴豆酸酯/新癸酸乙烯酯共聚物、苯乙烯-马来酐共聚物、酚醛树脂、马来酸化松香以及它们的组合。
耐溶剂的底层公开在Shimazu，WO 01/46318中。尤其有用的聚合材料是包含N-取代的马来酰亚胺，特别是N-苯基马来酰亚胺的共聚物；聚乙烯基缩醛；甲基丙烯酰胺类，尤其是甲基丙烯酰胺；以及丙烯酸和/或甲基丙烯酸，尤其是甲基丙烯酸。更优选的是，两种官能团存在于该聚合材料中，最优选的是，所有这三种官能团都存在于该聚合材料中。优选的此类型聚合材料是N-苯基马来酰亚胺、甲基丙烯酰胺和甲基丙烯酸的共聚物，更优选包含约25～约75mol％，优选约35～约60mol％N-苯基马来酰亚胺；约10～约50mol％，优选约15～约40mol％甲基丙烯酰胺；以及约5～约30mol％，优选约10～约30mol％甲基丙烯酸的那些。其它亲水单体，如甲基丙烯酸羟乙基酯，可用来替代甲基丙烯酰胺的一部分或全部。其它含水碱性可溶单体，如丙烯酸，可用来替代甲基丙烯酸的一部分或全部。
这些聚合材料可溶于含水碱性显影液中。另外，它们还可溶于乳酸甲酯/甲醇/二氧戊环(15∶42.5∶42.5wt％)混合物中，该混合物可用作底层的涂布溶剂。然而，此类聚合材料在诸如丙酮、异丙醇、乙酸丁酯和丁醇这样一些可用于在底层上涂布面层而不溶解底层的溶剂中的溶解性很小。这些聚合材料通常耐受80wt％双丙酮醇/20wt％水的洗涤。
另一类优选用于第二种聚合材料的聚合材料是在其侧链中包含具有脲键(即，脲侧基)的单体的含水碱性显影液可溶共聚物，例如公开在Ishizuka，美国专利5,731,127中。这些共聚物包含约10～80wt％，优选约20～80wt％一种或多种由下列通式代表的单体：
CH2＝C(R)-CO2-X-NH-CO-NH-Y-Z其中R是-H或-CH3；X是二价连接基团；Y是取代或未取代的二价芳基；Z是-OH、-COOH或-SO2NH2。
R优选是CH3。X优选是取代或未取代的亚烷基、取代或未取代的亚苯基[C6H4]，或者取代或未取代的亚萘基[C10H6]；例如-(CH2)n-，其中n为2～8；1，2-、1，3-和1，4-亚苯基；以及1，4-、2，7-和1，8-亚萘基。更优选X是未取代的，进一步优选n是2或3；最优选X是-(CH2CH2)-。优选Y是取代或未取代的亚苯基或取代或未取代的亚萘基；例如1，2-、1，3-和1，4-亚苯基；以及1，4-、2，7-和1，8-亚萘基。更优选Y是未取代的，最优选未取代的1，4-亚苯基。Z是-OH、-COOH或-SO2NH2，优选-OH。优选的单体是：
CH2＝C(CH3)-CO2-CH2CH2-NH-CO-NH-p-C6H4-Z其中Z是-OH、-COOH或-SO2NH2，优选-OH。
在共聚物的合成中，可使用一种或多种含脲基的单体。该共聚物还可包含20～90wt％其它可聚合单体，如马来酰亚胺、丙烯酸、甲基丙烯酸、丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯、丙烯腈、甲基丙烯腈、丙烯酰胺和甲基丙烯酰胺。当共聚物除了丙烯酰胺和/或甲基丙烯酰胺以外，还包含超过60mol％但不足90mol％丙烯腈和/或甲基丙烯腈时，将提供卓越物理性能。更优选的是，该碱性可溶共聚物包含30～70wt％含脲基单体；20～60wt％丙烯腈或甲基丙烯腈，优选丙烯腈；以及5～25wt％丙烯酰胺或甲基丙烯酰胺，优选甲基丙烯酰胺。
上面所描述的聚合材料可溶于含水碱性显影液。另外，它们可溶于诸如乙二醇单甲醚之类可用作底层涂布溶剂的极性溶剂中。然而，它们很难溶解在诸如2-丁酮(甲基乙基甲酮)之类极性较小的溶剂中，后者可用作在底层上涂布面层而不溶解底层的溶剂。
这两类聚合材料皆可采用诸如本领域技术人员熟知的自由基聚合方法来制备。侧链中包含脲键的含水碱性可溶共聚物的合成，例如公开在Ishizuka，美国专利5,731,127中。
其它含水碱性显影液可溶聚合材料也可用于底层中。包含N-取代的环状酰亚胺部分的甲基乙烯基醚/马来酐共聚物的衍生物，以及包含N-取代的环状酰亚胺部分的苯乙烯/马来酐共聚物的衍生物也可使用，只要它们具有所要求的溶解性特征。这些共聚物的制备可利用马来酐共聚物与诸如对氨基苯磺酰胺或对氨基苯酚之类的胺起反应，随后在酸作用下环合来实现。
另一类可用于底层中的聚合材料包括包含约10～90mol％磺酰胺单体单元的含水碱性显影液可溶共聚物，尤其是包含-N-(对氨基磺酰苯基)甲基丙烯酰胺、N-(间氨基磺酰苯基)甲基丙烯酰胺、N-(邻氨基磺酰苯基)甲基丙烯酰胺和/或对应的丙烯酰胺的那些。包含磺酰胺侧基的有用碱性显影液可溶聚合材料、其制备方法及其制备所使用的单体，公开在Aoshima，美国专利5,141,838中。尤其有用的聚合材料包含(1)磺酰胺单体单元，尤其是N-(对氨基磺酰苯基)甲基丙烯酰胺；(2)丙烯腈和/或甲基丙烯腈；以及(3)甲基丙烯酸甲酯和/或丙烯酸甲酯。
碱性显影液可溶聚合材料的组合也可用于底层中，以改善耐化学侵蚀性，即，耐润版液和侵蚀性洗涤。耐80wt％双丙酮醇/20wt％水，即耐紫外洗涤能力的试验的聚合材料，与耐80wt％2-丁氧基乙醇/20wt％水，即耐醇底层(sub)润版液试验的聚合材料的组合，令人惊奇的产生显示对这两种溶剂的混合物有良好耐受性的层。优选的是，第二种聚合材料在80wt％双丙酮醇/20wt％水中的一分钟浸泡损失小于约20％，更优选小于约10％，最优选小于约5％，并且该第二种聚合材料在80wt％丁氧基乙醇/20wt％水中的一分钟浸泡损失小于约20％，更优选小于约10％，最优选小于约10％。一分钟浸泡损失的测定方法是，在基材上按约1.5g/m2的典型涂布量涂布一层聚合材料，将涂布的基材在室温下的适当溶剂中浸泡一分钟，干燥该涂布基材，然后测定基材上存在的聚合材料总重量的重量损失百分数。
底层耐润版液和侵蚀性洗涤的能力可由下面规定的耐化学参数(CRP)来估计：
CRP＝[(100-a)(100-b)]/104其中：
a是在80wt％双丙酮醇/20wt％水中的一分钟浸泡损失百分数，b是在80wt％2-丁氧基乙醇/20wt％水中的一分钟浸泡损失百分数。
耐化学参数应大于约0.4，优选大于约0.5，更优选大于约0.6。在有利的情况下，可获得至少约0.65的耐化学参数。在每一种溶剂中的一分钟浸泡损失应小于约60％，优选小于约40％，更优选小于约35％。优选的是，在一种溶剂中的一分钟浸泡损失应小于约60％，优选小于约40％，更优选小于约35％，并且在另一种溶剂中的一分钟浸泡损失应小于约40％，更优选小于约30％，更优选小于约20％，最优选小于约10％。
由(1)包含N-取代的马来酰亚胺，尤其是N-苯基马来酰亚胺；甲基丙烯酰胺类，尤其是甲基丙烯酰胺；和丙烯酸和/或甲基丙烯酸，尤其是甲基丙烯酸的共聚物，与(2)侧链中包含脲的碱性可溶共聚物或者与包含10～90mol％磺酰胺单体单元的碱性可溶共聚物，尤其是包含N-(对氨基磺酰苯基)甲基丙烯酰胺、N-(间氨基磺酰苯基)甲基丙烯酰胺、N-(邻氨基磺酰苯基)甲基丙烯酰胺和/或相应的丙烯酰胺的碱性可溶共聚物的组合，是尤其有利的。一种或多种其它聚合材料如酚醛树脂，也可存在于该组合中。优选的其它聚合材料，当存在时，是线型酚醛树脂。
当使用聚合材料的组合时，底层通常包含约10％～约90wt％耐80wt％双丙酮醇/20wt％水的聚合材料，和约10％～约90wt％耐80wt％2-丁氧基乙醇/20wt％水的聚合材料，以底层中这些聚合材料的总重量为基准。优选的是，底层包含约40％～约85wt％的耐80wt％双丙酮醇/20wt％水的聚合材料，和约15％～约60wt％的耐80wt％2-丁氧基乙醇/20wt％水的聚合材料，以底层中第一种与第二种聚合材料的总重量为基准。这些聚合材料合在一起一般占到底层的至少约50wt％，优选至少约60wt％，更优选至少与65wt％，以底层中材料的总重量为基准。最高约20wt％，优选约1～约20wt％其它聚合材料可存在于底层中，以底层中所有聚合材料的总量为基准。
底层可包含负性、碱可溶感光组合物。此种组合物通常被称之为“光坚膜组合物”或“光致不溶组合物”，因为一经辐照它们将变得不溶于显影液。典型的此类组合物包含在暴露于光化辐射，典型的光化辐射为紫外光时，将发生光交联、光二聚和/或光聚合的材料。光坚膜组合物产生高耐印力和耐印刷车间化学品的印版。负性体系例如在《Photoreactive Polymers：the Science and Technology ofResists(光反应性聚合物：光刻胶的科学与技术)》，第2章(A.Reiser，Wiley，纽约，1989)，pp.22～64中做了讨论。
底层可包含负性含重氮鎓组合物。典型的含重氮鎓化合物是重氮鎓缩聚产物。重氮鎓缩聚产物乃是本领域技术人员熟知的。它们可以例如通过如Toyama在美国专利4,687,727中所述，使重氮单体与缩合剂如甲醛、乙醛、丙醛、丁醛、异丁醛或苯甲醛之间的缩合来制备。另外，混合的缩合产物也可使用，其中除了重氮盐单元之外，还包含由可缩合化合物，特别是由芳族胺、酚类、酚醚类、芳族硫醚、芳烃、芳族杂环或有机酸酰胺衍生的其它非感光单元。尤其有利的重氮鎓缩聚产物的例子是二苯基胺-4-重氮盐，任选地在带有重氮基团的苯基基团中具有甲氧基基团，与甲醛或4，4’-双-甲氧基甲基联苯醚的反应产物。芳族磺酸根如4-甲苯基-磺酸根或1，3，5-三甲基苯磺酸根，四氟硼酸根、六氟磷酸根、六氟锑酸根和六氟砷酸根，特别适合作为这些重氮树脂的阴离子。重氮缩聚产物在感光混合物中优选以3～60wt％的数量存在。
已知有许多粘合剂(第二种聚合材料)。此类体系之一描述在Baumann，美国专利5,700,619中。该粘合剂是一种缩醛化的聚乙烯醇，带有羧基侧基。
底层可包含可光聚合组合物。优选的感光组合物是这样的可光聚合组合物，其包含一种或多种单体、一种或多种粘合剂(第二种聚合材料)以及一种或多种光引发剂体系。此种体系是本领域熟知的，例如参见“Photopolymers：Radiation Curable Imaging Systems(光聚合物：辐射固化成像体系)”，B.M.Monroe，《Radiation Curing：Scienceand Technology(辐射固化：科学与技术)》S.Pappas主编，Plenum，纽约，1992，pp.399～440。
可光聚合组合物包含至少一种能发生自由基引发聚合的通常被称之为单体的至少一种烯键不饱和化合物。此类单体通常为多官能的，即，它们包含一个以上烯键不饱和、可自由基聚合的基团。典型的多官能单体是醇的不饱和酯，优选的是多元醇的丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯。低聚物和/或预聚物，例如氨酯-丙烯酸酯和-甲基丙烯酸酯、环氧化物-丙烯酸酯和-甲基丙烯酸酯、聚酯丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯、聚醚丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯或者不饱和聚酯树脂，也可使用。许多其它可自由基引发聚合并可用于可光聚合组合物中的不饱和单体都是本领域技术人员已知的。
该组合物包含至少一种预先形成的大分子聚合材料，通常被称之为粘合剂(第二种聚合材料)。一般而言，粘合剂应在涂布溶剂中可溶胀或，优选地可溶解，并且与可光聚合体系的其它组分相容。代表性粘合剂或第二种聚合材料，是聚(甲基丙烯酸甲酯)和甲基丙烯酸甲酯与其它丙烯酸烷基酯、甲基丙烯酸烷基酯、甲基丙烯酸和/或丙烯酸的共聚物。许多其它可用于可光聚合组合物中的粘合剂是本领域技术人员已知的。
当成像并显影后采用紫外或可见辐射照射使该材料固化时，可存在一种可由紫外或可见辐射激活的自由基生成、引发体系，亦称光引发体系，用以促使可聚合单体的聚合。光引发剂体系吸收光谱的紫外和/或可见光区域，即，300～800nm范围，优选紫外区域，即，300nm～400nm。
光引发体系可以是单一化合物或者是化合物的混合物。合适的光引发体系公开在“自由基引发光成像体系用引发剂”，作者B.M.Monroe和G.C.Weed，《Chem.Rev.(化学评论)》，
93，435～448(1993)；以及“自由基聚合”，作者K.K.Dietliker，《Chemistry and Technologyof UV and EB Formulation for Coatings，Inks and Paints(涂料、油墨及油漆紫外和电子束制剂的化学与工艺)》，P.K.T.Oldring主编，SITA技术公司，伦敦，1991，卷3，pp.59～525。典型的自由基光引发化合物包括米蚩酮/二苯酮；二苯酮、2-羟基-2-甲基-1-苯基丙-1-酮(DAROCUR 1173)；2，4，6-三甲基苯甲酰-二苯基膦氧化物(LUCERINTPO)；2-异丙基噻吨酮；2-氯噻吨酮；2，2-二甲氧基-2-苯基乙酰苯(IGACURE651、LUCERINBDK)；2-甲基-1-[4-(甲硫基)苯基]-2-吗啉基丙酮-1(IRGACURE907)；1-羟基-环己基苯基甲酮(HCPK，IRGACURE184)；双(2，6-二甲氧基苯甲酰)-2，4，4-三甲基-戊基膦氧化物；以及它们的组合。
包含重氮缩聚产物与可自由基聚合体系的组合的混杂体系可能有利于某些领域的应用。此种混杂体系的组合物优选包含1～50％重氮缩聚产物、0.5～20％光引发剂以及5～80％可自由基聚合组分。
典型的可光交联体系包含至少一种粘合剂和可光活化的至少双官能交联剂，后者在辐照后使粘合剂发生交联。有机叠氮化物，据信辐照后可生成氮宾的那些，已被用来交联粘合剂。二叠氮基化合物，如4，4’-二叠氮基茋的二磺化衍生物是优选的光交联用氮化物。
可光二聚的体系包含辐照时形成交联的粘合剂。可光交联粘合剂包括，例如以肉桂酸酯基团官能化的聚乙烯醇，例如描述在Minsk的美国专利2,690,966和2,725,372，或者以N-烷基苯乙烯基吡啶鎓或N-烷基苯乙烯基喹啉鎓基团官能化的聚乙烯醇，例如描述在Ichimura的美国专利4,272,620、4,287,335、4,339,524、4,564,580和4,777,114中。其它可光交联体系描述在例如Osada的美国专利3,804,628和Aoshima的美国专利5,240,808中。
传统添加剂，例如染料、颜料、增塑剂、增感剂、稳定剂、表面活性剂、涂布助剂以及诸如能产生晒出图像的隐色染料等组分，均可包括在该负性、可碱性显影组合物中。
虽然在底层中使用负性感光组合物，但该体系是正性。成像和显影除掉的是成像区而不是未成像区内的面层、吸收剂层和底层。然而，即便该体系是正性的，但它仍然可以在通常用于传统负性印版前体的显影液中进行显影。若印版前体包含可光聚合组合物，则热成像并显影之后，它优选地用紫外辐射进行整体或表层曝光，以便使图像不溶解或“硬化”。若印版包含酚醛树脂和光致酸生成剂(photoacidgenerator)，则热成像并显影后它优选用紫外辐射进行整体或表层曝光，然后加热或烘烤以便使图像不溶化或“硬化”。可热成像元件的制备
该可热成像元件可这样制备：采用传统涂布和/或层合方法在亲水基材的亲水表面上顺序地施涂底层(若存在的话)，在底层或者在亲水基材的亲水表面(若不存在底层的话)上施涂吸收剂层，然后在吸收层上施涂面层。然而，重要的是在此过程中应避免层与层之间互混。特别重要的是，面层应基本不含光热转换材料。
如果存在，底层可通过任何传统方法施涂在亲水基材上。通常将成分分散或溶解在适当涂布溶剂中，然后所获得的混合物采用诸如旋涂、刮涂、凹版印刷或辊涂进行涂布。吸收剂层可以涂布在底层，通常在底层表面上，或者在亲水基材上(若不存在底层的话)，通常在亲水基材的亲水表面上，可采用任何传统方法，例如上面列举的那些。术语“溶剂”包括溶剂的混合物，尤其是有机溶剂的混合物。
各层涂布所用溶剂的选择取决于第一种聚合材料、光热转换材料和存在的话，第二种聚合材料，以及相应层中存在的(存在的话)其它成分的本性。为防止在底层上涂布吸收剂层时底层被溶解或与吸收剂层混合，吸收剂层应由基本上不溶解第二种聚合材料的溶剂中涂布。因此，吸收剂层的涂布溶剂应当是一种在其中光转化材料能充分溶解从而可形成吸收剂层，并且在其中第二种聚合材料和底层中存在的任何其它组分，基本上不溶解的溶剂。若光热转换材料是颜料，则它应当被分散在基本上不溶解第二种聚合材料和底层中存在的任何其它组分的溶剂中。
为防止在底层上涂布吸收剂层时吸收剂层被溶解和与面层混合，面层应由基本上不溶解光热转换材料的溶剂中涂布。尽管所用溶剂取决于聚合材料的性质，但该第二种聚合材料通常可溶于极性较大的溶剂中，而不溶于极性较小的溶剂中，因此涂布底层使用的溶剂比涂布面层使用的溶剂极性更大。
面层可以水分散体形式涂布，以避免涂布过程中溶解吸收剂层。替代地，底层、面层或者这两层可采用传统挤出涂布方法由层的诸组分的熔融混合物施涂而成。这样的熔融混合物通常不含挥发性有机溶剂。如果光热转换材料是可升华染料，则吸收剂层可通过光热转换材料向底层表面(若存在的话)或者亲水基材的亲水表面(若底层不存在的话)的升华来沉积。成像和冲洗加工
可热成像元件的成像可采用熟知的方法进行。该元件可采用发射吸收剂层吸收的波长范围内调制的近红外或红外辐射的激光器或激光器阵列达到成像。红外辐射，特别是约800nm～约1200nm范围的红外辐射是可热成像元件成像使用的典型射线。成像可方便地采用发射约830nm或约1056nm射线的激光器。合适的市售成像装置包括图像定影器(setters)如Creo Trendsetter(CREO，British Columbia，加拿大)和Gerber Crescent 42T(Gerber)。
替代地，可热成像元件可采用装有热印片头的传统设备来成像。适于配合可热成像元件使用的成像设备包括至少一个热头，然而通常包括热头阵列，例如热传真机中使用的TDK型号LV5416和升华印片机或者GS618-400热绘图机(Oyo Instruments，休斯顿，TX，USA)。
成像产生成像(的)元件，其中含有由图像(未曝光)区和非图像(曝光)区组成的潜影。成像元件形成印版或印刷版的显影过程，通过去除非图像(曝光)区从而揭示下面的基材亲水表面将潜影转变为图像。
显影液可以是任何能够渗透并除掉面层曝光区、其下面的吸收剂层区以及，存在的话，下面的底层区，同时基本不影响互补的未曝光区的液体或溶液。虽不局限于任何理论或解释，但是可以认为，图像分辨过程基于动力学效应。面层的曝光区在显影液中被去除得比其未曝光区快。显影进行的时间长到足以去除面层曝光区、其下面的吸收剂层区以及，如果存在的话，下面的底层区，然而又不足以长到除掉面层的未曝光区。因此，曝光区被说成是在显影液中“可溶”或“可去除”的，因为它们在显影液中被去除和溶解和/或分散得比未曝光区快。底层如果存在的话，通常溶解在显影液中，吸收剂层或者溶解或者分散在显影液中，而面层则分散到显影液中。
在面层包含溶解抑制剂的情况下，有用的显影液是pH值等于或大于约7的水溶液。优选的含水碱性显影液是pH值为约8～约13.5，通常至少约11，优选至少约12的那些。完全水性显影液，即，不含外加有机溶剂的那些是优选的。有用的显影液包括市售的显影液，例如PC3000、PC955和PC9000，它们每一种皆为Kodak PolychromeGraphics LLC供应的含水碱性显影液。显影液例如描述在Yamasue的美国专利4,259,434；Seino的美国专利4,452,880；Miller的美国专利5,851,735；Eckler的美国专利5,998,102；Miro的EB-A-0 732628；Toyama的GB-A-2,276,729(DE-A-4 411 176)；以及Fiebag的美国专利6,143,479等文献中。
显影一般在配备浸泡型显影浴、水漂洗段、涂胶段、干燥段和电导率测量单元的洗片机中进行。显影液通常通过用含有显影液的涂布器刮擦或刮抹该元件而施涂到成像的前体上。替代地，成像的前体可刷涂上显影液，或者显影液可通过以足以除掉曝光区的力量喷淋该元件而施涂到前体上。在二者中任何一种情况下，都将产生印版。显影可在诸如Mercury Processor(Kodak Polychrome Graphics)的市售洗片机中进行。
显影之后，印版用水漂洗并干燥。干燥可采用红外辐射器或用热空气方便地完成。干燥后，印版可用涂胶溶液处理。涂胶溶液包含一种或多种水溶性聚合物，例如聚乙烯醇、聚甲基丙烯酸、聚甲基丙烯酰胺、聚甲基丙烯酸羟乙基酯、聚乙烯基甲基醚、明胶以及多糖如葡聚糖、支链淀粉、纤维素、阿拉伯树胶和海藻酸。优选的材料是阿拉伯树胶。
显影并涂胶后的印版还可进行烘烤以延长版的使用寿命。烘烤例如可在约220℃～约240℃下进行约7～10min，或者在120℃下进行30min。
如果底层包含负性、碱可溶感光组合物，则显影的元件可暴露于光化辐射以便使组合物硬化。任何方便的光化辐射源，只要能提供覆盖该感光组合物吸收带光谱区间的波长，均可用来激活光反应。所谓“光化辐射”是指任何能在底层中诱导光反应，或者硬化底层的辐射。传统光源包括荧光灯、汞灯、金属添加剂灯和弧光灯。相干光源是激光器，例如氙、氩离子和电离的氖激光器，以及可调染料激光器和倍频钕(激光器)：YAG(钇铝石榴石)激光器。该曝光优选是整体的或垫层曝光。
一旦可成像元件经过成像和显影，便可通过先施涂润版液，然后在其表面的图像上施涂胶印油墨来进行印刷。润版液被成像(曝光)区，即因成像和显影处理而暴露出来的亲水基材的表面吸留，而油墨则被未成像(未曝光区)吸留。随后，油墨直接，或通过胶印垫层间接地转移到适当接受材料上(例如布、纸、金属、玻璃或塑料)，从而在其上提供所要求的图像印张。在印张与印张之间的间隙，需要的话，成像元件可采用传统清洗手段进行清洗。
具体实施方式
本发明的卓越性能可通过下列实施例看出，给出它们仅为说明而不是限制本发明。在本说明书，实施例和权利要求中，除非另外指出，所有百分数均指重量百分数，以显影液重量为基准。
实施例词汇ADS-830 WS 红外吸收染料(λmax＝830nm)(American Dye
Source，蒙特利尔，加拿大)共聚物A N-苯基马来酰亚胺、甲基丙烯酰胺和甲基丙烯
酸(45∶35∶20mol％)的共聚物Cymel-303 六甲氧基甲基蜜胺(American Cyanamid，多伦
多，安大略，加拿大)Byk 307 聚乙氧基化二甲基聚硅氧烷共聚物(Bky-
Chemie，Wallingford，CT，USA)Ethyl Violet C.I.42600；CAS2390-59-2(λmax＝596nm)(乙基紫) [(p-(CH3CH2)2NC6H4)3C+Cl-]Nacure 2530 胺封闭的对甲苯磺酸(King Industries
Speciality Chemicals，Norwalk，CT，USA)TRITONX-100 Octoxynol-9，乙氧基化烷基苯酚(Rohm &
Haas，费城，PA)Trump IR Dye 红外吸收染料(λmax＝830nm)(Eastman
Kodak，Rochester，NY，USA)Witco Bond W-240 聚氨酯树脂(Crompton公司，芝加哥，IL，USA)
实例1
按如下程序制备平印版：
底层：通过将10.81g共聚物A溶解在94.32g乳酸甲酯、75.46g二乙基甲酮和18.86g水中制成一种溶液。向该溶液中加入0.34g乙基紫和0.21g的10％BYK307在丙二醇甲基醚中的溶液。溶液搅拌至各成分完全溶解。然后，该溶液利用绕线刮涂器涂布在基材上。该基材是铝板基材，0.3标准号，预先经过电磨版，阳极氧化并以聚乙烯基膦酸溶液处理过。涂布的基材在90℃下干燥120s，从而提供1.732g/m2的底层。
吸收剂层：通过将1.66g ADS-830 WS IR染料和0.009g BYK307溶解在43.49g水和4.83g甲醇中制成一种溶液。溶液搅拌至各成分完全溶解。然后，制成的溶液利用绕线刮涂器涂布在底层上，在90℃下干燥120s，从而提供0.728g/m2的吸收剂层。
面层：通过将16.67g聚(甲基丙烯酸甲酯)溶解在83.33g甲苯中制成一种溶液。制成的分散体被旋涂在吸收剂层上，并在90℃下干燥120s，从而提供0.807g/m2的面层。
该印版前体采用一种试验图案在Creo Trendsetter热曝光装置上进行激光成像，所述装置具有发射830nm激光的激光二极管阵列，其输出为100mJ～300mJ，成像能量密度120mJ。在以显影液956负性显影液(来自Kodak Polychrome Graphics)进行手工(25℃，30s)碱显影之后，所有层的曝光区均被去除，而各层的未曝光区则不受影响。复制出成像试验图案的精确拷贝。实例2
重复实例1的过程，不同的是吸收剂层是0.3g/m2 Trump IR Dye。按实例1进行成像和显影后，复制出成像试验图案的精确拷贝。实例3
重复实例2的过程，不同的是吸收剂层是0.03g/m2 Trump IRDye。按实例1进行成像和显影后，复制出成像试验图案的精确拷贝。对比例1
重复实例2的过程，不同的是吸收剂层和底层换成单一一层85％共聚物A和25％Trump IR Dye，涂布量2.0g/m2(Trump IR Dye涂布量0.3g/m2)。按实例1进行成像和显影后，复制出成像试验图案的精确拷贝。实例4
按如下程序制备平印版：
吸收剂层：通过将1.66g的ADS-830 WS IR Dye和0.009g BYK307溶解在43.49g水和4.83g甲醇中制成一种溶液。溶液搅拌至各成分完全溶解。然后，制成的溶液被旋涂到底层上，在90℃下干燥120s，从而提供0.428g/m2的吸收剂层。该底层是传统Vistar-360负性版层(Kodak Polychrme Graphics)。
面层：通过将16.67g聚(甲基丙烯酸甲酯)溶解在88.33g甲苯中制成一种溶液。制成的分散体被旋涂在吸收剂层上，并在90℃下干燥120s，从而提供0.807g/m2的面层。
该印版前体按照实例1中所述成像并显影。所有层的曝光区均被去除，而各层的未曝光区则不受影响。复制出成像试验图案的精确拷贝。实例5
按如下程序制备平印版：
底层：底层按照实例1制备。
吸收剂层：通过将12.50g碳黑(在39.6％甲苯中)分散到87.49g甲苯与0.002g BYK 307中制成一种溶液。制成的分散体被旋涂在底层上，并在90℃干燥120s，从而提供0.23g/m2的吸收剂层。
面层：通过将2.714g的Witco Bond W-240溶解在91.05g水和2.87g丁氧基乙醇中制成一种溶液。在该溶液中加入0.482g的Cymel-303、0.676g的Nacure 2530和0.28g的TRITONX 100，然后搅拌至所有成分溶解。制成的分散体被旋涂在吸收剂层上，并在90℃干燥120秒，从而提供0.2g/m2的面层。该面层随后通过所获得的版在150℃加热10min而达到固化。
该元件按照实例1那样曝光和显影。所有层的曝光区均被除掉，而这些层的未曝光区则不受影响。复制出成像试验图案的精确拷贝。实例6
吸收剂层：通过将2.4g Trump IR Dye溶解在28.5g二乙基甲酮和19.1g甲醇中制成一种溶液。该溶液搅拌至染料溶解。获得的溶液旋涂在实施例1所描述的基材上以及在仅仅经过清洗的0.3标准号铝板基材上。该层在90℃干燥120s，从而提供1.4g/m2的吸收剂层。
面层：面层的制备和施涂按照实例1所述。
获得的每一块印版前体采用一种试验图案在Creo Trendsetter中进行激光成像，成像能量密度分别为198mJ、254mJ和304mJ。
在以显影液956负性显影液(得自Kodak Polychrome Graphics)进行手工(25℃，30s)碱显影之后，然后用水漂洗，每块印版前体的所有层的曝光区均被去除，而各层的未曝光区则不受影响。这两决印版前体以及在所有成像能量密度下，均复制出载有成像试验图案的精确拷贝的印版。
所获得的各印版在水存在下手工上墨。油墨仅驻留在图像区，留出没有油墨的基材。实例7
吸收剂层：吸收剂层按照实例5中所述制备。将其涂布在两块基材，即实例1的基材和一块仅经过清洁的0.3标准号铝板基材上。
面层：按照实例6中所述，在每一块基材/吸收剂层元件上制备并施涂面层。
获得的每一块印版前体采用试验图案在Creo Trendsetter中进行激光成像，成像能量密度分别为290mJ、240mJ和190mJ。涂布在实例1基材(阳极氧化并涂布聚乙烯基膦酸的铝)上的前体用以水稀释到50％的二合一负性显影液进行显影。涂布在未涂布铝板上的前体用以水稀释到75％的二合一负性显影液进行显影。显影后用水漂洗，从而除掉每块印版前体的曝光区，而各层的未曝光区则不受影响。这两块印版前体以及在所有成像能量密度下，均复制出载有成像试验图案的精确拷贝的印版。
获得的各印版在水存在下手工上墨。油墨仅驻留在图像区，留出没有油墨的基材。实例8
本实例描述共聚物A的制备。乙二醇一甲醚(800mL)加入到1L备有搅拌器、温度计、氮气进口和回流冷凝器的圆底烧瓶中。甲基丙烯酸(36.12g)、N-苯基马来酰亚胺(165.4g)和甲基丙烯酰胺(62.5g)在搅拌下加入并溶解。加入2，2-偶氮二异丁腈(AIBN)(3.4g)，然后反应混合物在60℃搅拌、加热22h。随后，加入甲醇，沉淀出来的共聚物经过滤、用甲醇洗涤两遍，在40℃的烘箱内干燥2日。
倘若聚合在1，3-二氧戊环中进行，则某些情况下则可避免再沉淀。反应期间，这些单体可溶于1，3-二氧戊环，但聚合材料则不溶，因此沉淀出来。
在描述了本发明之后，下面提出我们的权利要求及其等价物。
Claims (38)
1.一种可热成像元件，包含：
(a)亲水基材；
(b)吸收剂层；以及
(c)面层；
其中：
面层包含第一种聚合材料；
该面层为油墨接受性的，且不溶于含水碱性显影液；
面层与吸收剂层每一层都可在热曝光后被含水碱性显影液去除；并且
吸收剂层基本由光热转换材料或者光热转换材料的混合物和任选的表面活性剂或表面活性剂的混合物组成。
2.权利要求1的元件，其中吸收剂层的涂布量为约0.02g/m2～约2g/m2。
3.权利要求1的元件，其中光热转换材料是染料。
4.权利要求1的元件，其中光热转换材料是颜料。
5.权利要求1的元件，其中第一种聚合材料选自丙烯酸类聚合物和共聚物；聚苯乙烯；苯乙烯-丙烯酸类共聚物；聚酯；聚酰胺；聚脲；聚氨酯；硝基纤维素；环氧树脂；和它们的组合。
6.权利要求1的元件，其中第一种聚合材料是酚醛树脂或具有磺酰胺侧基的不溶于水但溶于碱的聚合化合物。
7.权利要求6的元件，其中第一种聚合材料是线型酚醛树脂。
8.权利要求7的元件，其中面层包含一种含有邻二重氮萘醌部分的化合物。
9.权利要求7的元件，其中面层包含溶解抑制剂。
10.权利要求9的元件，其中溶解抑制剂是三芳基甲烷染料。
11.权利要求7的元件，其中面层基本由线型酚醛树脂组成。
12.权利要求7的元件，其中吸收剂层的涂布量为约0.02g/m2～约2g/m2。
13.权利要求7的可热成像元件，另外还包含在亲水基材与吸收剂层之间的底层，该底层包含可溶解或可分散在含水碱性显影液中的第二种聚合材料。
14.权利要求1的可热成像元件，另外还包含在亲水基材与吸收剂层之间的底层，该底层包含可溶解或可分散在含水碱性显影液中的第二种聚合材料。
15.权利要求14的元件，其中底层的耐化学性参数大于约0.5。
16.权利要求15的元件，其中第二种聚合材料包含约35～约60mol％N-苯基马来酰亚胺；约15～约40mol％甲基丙烯酰胺；以及约10～约30mol％甲基丙烯酸。
17.权利要求15的元件，其中第二种聚合材料包含丙烯腈或甲基丙烯腈；甲基丙烯酸甲酯或丙烯酸甲酯；以及约10～90mol％磺酰胺单体单元。
18.权利要求14的元件，其中底层包含可光聚合组合物。
19.一种形成图像的方法，该方法包括下列步骤：
使可热成像元件进行热曝光，从而在元件中形成曝光区和未曝光区；
用含水碱性显影液除去曝光区，从而形成图像；
其中：
可热成像元件包含：
(a)亲水基材；
(b)吸收剂层；以及
(c)面层；
其中
面层包含第一种聚合材料；
该面层为油墨接受性的，且不溶于含水碱性显影液；
面层与吸收剂层每一层都可在热曝光后被含水碱性显影液去除；
吸收剂层基本由光热转换材料或者光热转换材料的混合物和任选的表面活性剂或表面活性剂的混合物组成；并且
含水碱性显影液的pH值至少是7～约11。
20.权利要求19的方法，其中曝光步骤采用800nm～1200nm范围的辐射进行。
21.权利要求20的方法，其中吸收剂层的涂布量为约0.02g/m2～约2g/m2。
22.权利要求21的方法，其中第一种聚合材料选自丙烯酸类聚合物和共聚物；聚苯乙烯；苯乙烯-丙烯酸类共聚物；聚酯；聚酰胺；聚脲；聚氨酯；硝基纤维素；环氧树脂；和它们的组合。
23.权利要求21的方法，其中第一种聚合材料是酚醛树脂或具有磺酰胺侧基的不溶于水但溶于碱的聚合化合物。
24.权利要求23的方法，其中第一种聚合材料是线型酚醛树脂。
25.权利要求24的方法，其中面层包含一种含有邻二重氮萘醌部分的化合物。
26.权利要求24的方法，其中面层包含溶解抑制剂。
27.权利要求24的方法，其中面层基本由线型酚醛树脂组成。
28.权利要求20的方法，其中可热成像元件另外包含在亲水基材与吸收剂层之间的底层，该底层包含可溶或可分散在含水碱性显影液中的第二种聚合材料。
29.权利要求28的方法，其中底层的耐化学参数大于约0.5。
30.权利要求29的方法，其中第二种聚合材料选自(i)聚合材料，含有约35～约60mol％N-苯基马来酰亚胺、约15～约40mol％甲基丙烯酰胺以及约10～约30mol％甲基丙烯酸，以及(ii)聚合材料，含有丙烯腈或甲基丙烯腈、甲基丙烯酸甲酯或丙烯酸甲酯以及约10～90mol％磺酰胺单体单元。
31.权利要求22的方法，其中底层包含可光聚合组合物。
32.一种印刷方法，该方法包括下列步骤：
形成印版，包括
使印版前体进行热曝光，从而在前体中形成曝光区和未曝光区；
将含水碱性显影液施加在该印版前体上并形成印版，由此除掉曝光区，从而露出下面的基材；
其中：
可热成像元件包含：
(a)亲水基材；
(b)吸收剂层；以及
(c)面层；
其中
面层包含第一种聚合材料；
该面层为油墨接受性的，且不溶于含水碱性显影液；
面层与吸收剂层每一层都可在热曝光后被含水碱性显影液去除；
吸收剂层基本由光热转换材料或者光热转换材料的混合物和任选的表面活性剂或表面活性剂的混合物组成；并且
含水碱性显影液的pH值至少是7～约11，以及
在印版上施涂润版液，然后施涂胶印油墨，因此油墨被未曝光区吸留；以及
将油墨转移到接受材料上。
33.权利要求32的方法，其中曝光步骤采用800nm～1200nm范围的辐射进行。
34.权利要求33的方法，其中吸收剂层的涂布量为约0.02g/m2～约2g/m2。
35.权利要求34的方法，其中第一种聚合材料选自丙烯酸类聚合物和共聚物；聚苯乙烯；苯乙烯-丙烯酸类共聚物；聚酯；聚酰胺；聚脲；聚氨酯；硝基纤维素；环氧树脂；和它们的组合。
36.权利要求34的方法，其中第一种聚合材料是酚醛树脂或具有磺酰胺侧基的不溶于水但溶于碱的聚合化合物。
37.权利要求36的方法，其中第一种聚合材料是线型酚醛树脂。
38.权利要求33的方法，其中可热成像元件另外包含在亲水基材与吸收剂层之间的底层，该底层包含可溶或可分散在含水碱性显影液中的第二种聚合材料。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US09/946720 | 2001-09-05 | ||
| US09/946,720 US6593055B2 (en) | 2001-09-05 | 2001-09-05 | Multi-layer thermally imageable element |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN1406749A true CN1406749A (zh) | 2003-04-02 |
Family
ID=25484879
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN02131874A Pending CN1406749A (zh) | 2001-09-05 | 2002-09-05 | 多层可热成像元件 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6593055B2 (zh) |
| EP (1) | EP1291172B1 (zh) |
| JP (1) | JP2003084430A (zh) |
| CN (1) | CN1406749A (zh) |
| BR (1) | BR0203629A (zh) |
| CA (1) | CA2400912A1 (zh) |
| DE (1) | DE60208124T2 (zh) |
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- 2002-09-04 BR BR0203629-0A patent/BR0203629A/pt not_active Application Discontinuation
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| JP2003084430A (ja) | 2003-03-19 |
| DE60208124T2 (de) | 2006-08-03 |
| CA2400912A1 (en) | 2003-03-05 |
| BR0203629A (pt) | 2003-06-03 |
| US6593055B2 (en) | 2003-07-15 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C06 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| C10 | Entry into substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| AD01 | Patent right deemed abandoned | ||
| C20 | Patent right or utility model deemed to be abandoned or is abandoned |