DE29724584U1 - Wärmeempfindliche Zusammensetzung und damit hergestellter Vorläufer einer Lithographie-Druckform - Google Patents
Wärmeempfindliche Zusammensetzung und damit hergestellter Vorläufer einer Lithographie-DruckformInfo
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- 239000002243 precursor Substances 0.000 title claims 18
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract 31
- KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-6-methylphenol Chemical compound [CH]OC1=CC=CC([CH])=C1O KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 9
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 claims abstract 9
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 claims abstract 9
- SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N Quinoline Chemical class N1=CC=CC2=CC=CC=C21 SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims 22
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims 18
- -1 imidazoline compound Chemical class 0.000 claims 10
- 239000000049 pigment Substances 0.000 claims 7
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims 5
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims 4
- ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M thionine Chemical compound [Cl-].C1=CC(N)=CC2=[S+]C3=CC(N)=CC=C3N=C21 ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims 4
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims 3
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 claims 3
- 238000013517 stratification Methods 0.000 claims 3
- YYROPELSRYBVMQ-UHFFFAOYSA-N 4-toluenesulfonyl chloride Chemical compound CC1=CC=C(S(Cl)(=O)=O)C=C1 YYROPELSRYBVMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 claims 2
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 claims 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims 2
- JNELGWHKGNBSMD-UHFFFAOYSA-N xanthone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3OC2=C1 JNELGWHKGNBSMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- POVRXYLNLVVNGW-UHFFFAOYSA-N 2,3-Diphenyl-1-indanone Chemical compound C12=CC=CC=C2C(=O)C(C=2C=CC=CC=2)=C1C1=CC=CC=C1 POVRXYLNLVVNGW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- UXFWTIGUWHJKDD-UHFFFAOYSA-N 2-(4-bromobutyl)isoindole-1,3-dione Chemical compound C1=CC=C2C(=O)N(CCCCBr)C(=O)C2=C1 UXFWTIGUWHJKDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- XLLXMBCBJGATSP-UHFFFAOYSA-N 2-phenylethenol Chemical compound OC=CC1=CC=CC=C1 XLLXMBCBJGATSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- YYVYAPXYZVYDHN-UHFFFAOYSA-N 9,10-phenanthroquinone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C(=O)C3=CC=CC=C3C2=C1 YYVYAPXYZVYDHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 206010073306 Exposure to radiation Diseases 0.000 claims 1
- OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N Hydrazine Chemical compound NN OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- PEEHTFAAVSWFBL-UHFFFAOYSA-N Maleimide Chemical compound O=C1NC(=O)C=C1 PEEHTFAAVSWFBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- ZONYXWQDUYMKFB-UHFFFAOYSA-N SJ000286395 Natural products O1C2=CC=CC=C2C(=O)CC1C1=CC=CC=C1 ZONYXWQDUYMKFB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- GAMYVSCDDLXAQW-AOIWZFSPSA-N Thermopsosid Natural products O(C)c1c(O)ccc(C=2Oc3c(c(O)cc(O[C@H]4[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@H](CO)O4)c3)C(=O)C=2)c1 GAMYVSCDDLXAQW-AOIWZFSPSA-N 0.000 claims 1
- DPKHZNPWBDQZCN-UHFFFAOYSA-N acridine orange free base Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC2=NC3=CC(N(C)C)=CC=C3C=C21 DPKHZNPWBDQZCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 150000001251 acridines Chemical class 0.000 claims 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 claims 1
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 claims 1
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 claims 1
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 claims 1
- VDQQXEISLMTGAB-UHFFFAOYSA-N chloramine T Chemical compound [Na+].CC1=CC=C(S(=O)(=O)[N-]Cl)C=C1 VDQQXEISLMTGAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- VRZVPALEJCLXPR-UHFFFAOYSA-N ethyl 4-methylbenzenesulfonate Chemical compound CCOS(=O)(=O)C1=CC=C(C)C=C1 VRZVPALEJCLXPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229930003949 flavanone Natural products 0.000 claims 1
- 150000002207 flavanone derivatives Chemical class 0.000 claims 1
- 235000011981 flavanones Nutrition 0.000 claims 1
- 229930003944 flavone Natural products 0.000 claims 1
- 235000011949 flavones Nutrition 0.000 claims 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims 1
- 230000005660 hydrophilic surface Effects 0.000 claims 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims 1
- HOBCFUWDNJPFHB-UHFFFAOYSA-N indolizine Chemical compound C1=CC=CN2C=CC=C21 HOBCFUWDNJPFHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000001023 inorganic pigment Substances 0.000 claims 1
- DCYOBGZUOMKFPA-UHFFFAOYSA-N iron(2+);iron(3+);octadecacyanide Chemical compound [Fe+2].[Fe+2].[Fe+2].[Fe+3].[Fe+3].[Fe+3].[Fe+3].N#[C-].N#[C-].N#[C-].N#[C-].N#[C-].N#[C-].N#[C-].N#[C-].N#[C-].N#[C-].N#[C-].N#[C-].N#[C-].N#[C-].N#[C-].N#[C-].N#[C-].N#[C-] DCYOBGZUOMKFPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 125000005439 maleimidyl group Chemical group C1(C=CC(N1*)=O)=O 0.000 claims 1
- DZVCFNFOPIZQKX-LTHRDKTGSA-M merocyanine Chemical compound [Na+].O=C1N(CCCC)C(=O)N(CCCC)C(=O)C1=C\C=C\C=C/1N(CCCS([O-])(=O)=O)C2=CC=CC=C2O\1 DZVCFNFOPIZQKX-LTHRDKTGSA-M 0.000 claims 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims 1
- 229920003145 methacrylic acid copolymer Polymers 0.000 claims 1
- JESXATFQYMPTNL-UHFFFAOYSA-N mono-hydroxyphenyl-ethylene Natural products OC1=CC=CC=C1C=C JESXATFQYMPTNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 claims 1
- 239000012860 organic pigment Substances 0.000 claims 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims 1
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical compound N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229960003351 prussian blue Drugs 0.000 claims 1
- 239000013225 prussian blue Substances 0.000 claims 1
- WVIICGIFSIBFOG-UHFFFAOYSA-N pyrylium Chemical compound C1=CC=[O+]C=C1 WVIICGIFSIBFOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims 1
- 239000002594 sorbent Substances 0.000 claims 1
- 150000003852 triazoles Chemical class 0.000 claims 1
- VHBFFQKBGNRLFZ-UHFFFAOYSA-N vitamin p Natural products O1C2=CC=CC=C2C(=O)C=C1C1=CC=CC=C1 VHBFFQKBGNRLFZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical class C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 239000011358 absorbing material Substances 0.000 abstract 1
- IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N benzothiazole Chemical class C1=CC=C2SC=NC2=C1 IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 150000002462 imidazolines Chemical class 0.000 abstract 1
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
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- B41M5/368—Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used using a polymeric layer, which may be particulate and which is deformed or structurally changed with modification of its' properties, e.g. of its' optical hydrophobic-hydrophilic, solubility or permeability properties involving the creation of a soluble/insoluble or hydrophilic/hydrophobic permeability pattern; Peel development
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- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C1/00—Forme preparation
- B41C1/10—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme
- B41C1/1008—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
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- B41C1/00—Forme preparation
- B41C1/10—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme
- B41C1/1008—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials
- B41C1/1016—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials characterised by structural details, e.g. protective layers, backcoat layers or several imaging layers
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
- B41C2210/02—Positive working, i.e. the exposed (imaged) areas are removed
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
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- B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
- B41C2210/06—Developable by an alkaline solution
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
- B41C2210/14—Multiple imaging layers
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
- B41C2210/22—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation characterised by organic non-macromolecular additives, e.g. dyes, UV-absorbers, plasticisers
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
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-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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- B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
- B41C2210/26—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation characterised by a macromolecular compound or binder obtained by reactions not involving carbon-to-carbon unsaturated bonds
- B41C2210/262—Phenolic condensation polymers, e.g. novolacs, resols
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Claims (40)
1. Oleophile, wärmeempfindliche Zusammensetzung umfassend eine in wäßrigem
alkalischem Entwickler lösliche polymere Substanz und eine Verbindung, welche
die Löslichkeit der polymeren Substanz in wäßrigem Entwickler verringert, da
durch gekennzeichnet, daß die Löslichkeit der Zusammensetzung in wäßrigem
alkalischem Entwickler durch Erwärmen erhöht und die Löslichkeit der
Zusammensetzung in wäßrigem alkalischem Entwickler durch einfallende UV-
Strahlung nicht erhöht wird.
2. Zusammensetzung nach Anspruch 1, wobei die in wäßrigem alkalischem Ent
wickler lösliche polymere Substanz eine funktionelle Gruppe oder Gruppen, ausge
wählt aus Hydroxyl-, Carbonsäure-, Amino-, Amid- und Maleinimidgruppen,
umfaßt.
3. Zusammensetzung nach Anspruch 1, wobei die in wäßrigem alkalischem Ent
wickler lösliche polymere Substanz ausgewählt ist aus einem Polymer oder Copoly
mer von Hydroxystyrol, einem Polymer oder Copolymer von Acrylsäure, einem
Polymer oder Copolymer von Methacrylsäure, einem Polymer oder Copolymer
von Maleinimid, einem Polymer oder Copolymer von Maleinsäureanhydrid, einer
Hydroxycellulose, einer Carboxycellulose und einem Phenolharz.
4. Zusammensetzung nach Anspruch 1, wobei die in wäßrigem alkalischem Entwick
ler lösliche polymere Substanz ein Phenolharz ist.
5. Zusammensetzung nach Anspruch 1, wobei die Verbindung, welche die Löslichkeit
der polymeren Substanz in wäßrigem alkalischem Entwickler verringert, eine Ver
bindung ist, die mindestens ein Stickstoffatom umfaßt, welches quaternisiert ist.
6. Zusammensetzung nach Anspruch 1, wobei die Verbindung, welche die Löslichkeit
der polymeren Substanz in wäßrigem alkalischem Entwickler verringert, eine
Verbindung ist, die mindestens ein Stickstoffatom umfaßt, welches in einen
heterocyclischen Ring eingebunden ist.
7. Zusammensetzung nach Anspruch 6, wobei die Verbindung, welche die Löslichkeit
der polymeren Substanz in wäßrigem alkalischem Entwickler verringert, aus einem
Chinolin und einem Triazol ausgewählt ist.
8. Zusammensetzung nach Anspruch 1, wobei die Verbindung, welche die Löslichkeit
der polymeren Substanz in wäßrigem alkalischem Entwickler verringert, eine
Verbindung ist, die mindestens ein quaternisiertes, in einen heterocyclischen Ring
eingebundenes Stickstoffatom umfaßt.
9. Zusammensetzung nach Anspruch 8, wobei die Verbindung, welche die Löslichkeit
der polymeren Substanz in wäßrigem alkalischem Entwickler verringert, aus
gewählt ist aus einer Imidazolinverbindung, einer Chinoliniumverbindung, einer
Benzthiazoliumverbindung und einer Pyridiniumverbindung.
10. Zusammensetzung nach Anspruch 9, wobei die Chinoliniumverbindung ein
Cyaninfarbstoff ist.
11. Zusammensetzung nach Anspruch 9, wobei die Benzthiazoliumverbindung ein
Cyaninfarbstoff ist.
12. Zusammensetzung nach Anspruch 1, wobei die Verbindung, welche die Löslichkeit
der polymeren Substanz in wäßrigem alkalischem Entwickler verringert, eine
Triarylmethanverbindung ist.
13. Zusammensetzung nach Anspruch 1, wobei die Verbindung, welche die Löslichkeit
der polymeren Substanz in wäßrigem alkalischem Entwickler verringert, eine
Verbindung ist, die eine Carbonyl-Gruppe umfaßt.
14. Zusammensetzung nach Anspruch 13, wobei die Verbindung, welche die Lös
lichkeit der polymeren Substanz in wäßrigem alkalischem Entwickler verringert,
aus Flavonverbindungen ausgewählt ist.
15. Zusammensetzung nach Anspruch 13, wobei die Verbindung, welche die Lös
lichkeit der polymeren Substanz in wäßrigem alkalischem Entwickler verringert,
ausgewählt ist aus Flavanon, Xanthon, Benzophenon, N-(4-Brombutyl)phthalimid,
2,3-Diphenyl-1-indenon und Phenanthrenchinon.
16. Zusammensetzung nach Anspruch 1, wobei die Verbindung, welche die Löslichkeit
der polymeren Substanz in wäßrigem alkalischem Entwickler verringert, eine
Verbindung der allgemeinen Formel:
Q1 - S(O)n - Q2
ist,
worin Q1 einen gegebenenfalls substituierten Phenyl- oder Alkylrest darstellt, n für 0, 1 oder 2 steht und Q2 ein Halogenatom oder einen Alkoxyrest darstellt.
Q1 - S(O)n - Q2
ist,
worin Q1 einen gegebenenfalls substituierten Phenyl- oder Alkylrest darstellt, n für 0, 1 oder 2 steht und Q2 ein Halogenatom oder einen Alkoxyrest darstellt.
17. Zusammensetzung nach Anspruch 1, wobei die Verbindung, welche die Löslichkeit
der polymeren Substanz in wäßrigem alkalischem Entwickler verringert,
ausgewählt ist aus Ethyl-p-toluolsulfonat und p-Toluolsulfonylchlorid.
18. Zusammensetzung nach Anspruch 1, wobei die Verbindung, welche die Löslichkeit
der polymeren Substanz in wäßrigem alkalischem Entwickler verringert, Acridine
Orange Base (Cl solvent orange 15) ist.
19. Zusammensetzung nach Anspruch 1, wobei die Verbindung, welche die Löslichkeit
der polymeren Substanz in wäßrigem alkalischem Entwickler verringert, eine
Ferroceniumverbindung ist.
20. Vorläufer einer positiv arbeitenden Lithographie-Druckform mit einer Be
schichtung, die aus einer Zusammensetzung, wie in einem der vorhergehenden
Ansprüche beansprucht, besteht, aufgetragen auf einen Träger mit hydrophiler
Oberfläche.
21. Vorläufer einer Lithographie-Druckform nach Anspruch 20, wobei die Be
schichtung geeigneterweise daran angepaßt ist, vorzugsweise Strahlung zu ab
sorbieren und die Strahlung in Wärme umzuwandeln.
22. Vorläufer einer Lithographie-Druckform nach Anspruch 21, wobei die Be
schichtung eine strahlungsabsorbierende Verbindung umfaßt, die in der Lage ist,
einfallende Strahlung zu absorbieren und sie in Wärme umzuwandeln.
23. Vorläufer einer Lithographie-Druckform nach Anspruch 21, wobei die Be
schichtung eine zusätzliche Schicht umfaßt, die unter der Zusammensetzung nach
Anspruch 1 angeordnet ist, wobei die zusätzliche Schicht eine strahlungsab
sorbierende Verbindung umfaßt, die in der Lage ist, einfallende Strahlung zu
absorbieren und sie in Wärme umzuwandeln.
24. Vorläufer einer Lithographie-Druckform nach Anspruch 21, wobei die Ver
bindung, die die Löslichkeit der polymeren Substanz der Zusammensetzung nach
Anspruch 1 in wäßrigem Entwickler verringert, auch eine strahlungsabsorbierende
Verbindung ist, die in der Lage ist, einfallende Strahlung zu absorbieren und sie in
Wärme umzuwandeln.
25. Vorläufer einer Lithographie-Druckform nach den Ansprüchen 22 und 23, wobei
die strahlungsabsorbierende Verbindung Ruß ist.
26. Vorläufer einer Lithographie-Druckform nach den Ansprüchen 22 und 23, wobei
die strahlungsabsorbierende Verbindung ein Pigment ist.
27. Vorläufer einer Lithographie-Druckform nach Anspruch 26, wobei das Pigment ein
organisches Pigment ist.
28. Vorläufer einer Lithographie-Druckform nach Anspruch 27, wobei das Pigment ein
Phthalocyaninpigment ist.
29. Vorläufer einer Lithographie-Druckform nach Anspruch 26, wobei das Pigment ein
anorganisches Pigment ist.
30. Vorläufer einer Lithographie-Druckform nach Anspruch 26, wobei das Pigment
ausgewählt ist aus Preußischblau, Heliogen Green oder Nigrosine.
31. Vorläufer einer Lithographie-Druckform nach den Ansprüchen 22 und 23, wobei
die strahlungsabsorbierende Verbindung ein- Farbstoff ist, ausgewählt aus den
folgenden Klassen, Squarylium, Merocyanin, Cyanin, Indolizin, Pyrylium oder
Metall-Dithiolin.
32. Vorläufer einer Lithographie-Druckform nach Anspruch 23, wobei die separate
strahlungsabsorbierende Schicht eine dünne Schicht aus Farbstoff oder Pigment ist.
33. Vorläufer einer Lithographie-Druckform nach Anspruch 23, wobei die separate
strahlungsabsorbierende Schicht eine dünne Schicht aus Metall oder Metalloxid ist.
34. Vorläufer einer Lithographie-Druckform nach Anspruch 24, wobei die Ver
bindung, welche die Löslichkeit der polymeren Substanz in wäßrigem alkalischem
Entwickler verringert und welche ebenfalls eine strahlungsabsorbierende Ver
bindung ist, ein Cyaninfarbstoff ist, der eine Chinoliniumeinheit umfaßt.
35. Vorläufer einer Lithographie-Druckform nach Anspruch 26, 31 und 34, wobei die
strahlungsabsorbierende Verbindung bei über 600 nm absorbiert.
36. Vorläufer einer Lithographie-Druckform nach Anspruch 20, wobei die in
wäßrigem alkalischem Entwickler lösliche polymere Substanz ein Novolakharz ist
und die Verbindung, welche die Löslichkeit der polymeren Substanz in wäßrigem
alkalischem Entwickler verringert, eine Triarylmethanverbindung ist.
37. Bebilderte Druckform, erhältlich durch direkte bildweise Einwirkung von
Strahlung auf einen Druckformvorläufer nach einem der Ansprüche 20 bis 36.
38. Druckform nach Anspruch 37, wobei die Strahlung von einem Laser abgegeben
wird.
39. Druckform nach Anspruch 38, wobei der Laser Strahlung oberhalb 600 nm
aussendet.
40. Druckform nach Anspruch 27, wobei die Wärme von einem erwärmten Körper
abgegeben wird.
Applications Claiming Priority (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
GBGB9608394.4A GB9608394D0 (en) | 1996-04-23 | 1996-04-23 | Lithgraphic plates |
GBGB9614693.1A GB9614693D0 (en) | 1996-07-12 | 1996-07-12 | Lithographic plates |
PCT/GB1996/001973 WO1997007986A2 (en) | 1995-08-15 | 1996-08-13 | Water-less lithographic plates |
GBGB9700884.1A GB9700884D0 (en) | 1997-01-17 | 1997-01-17 | Lithographic plates |
PCT/GB1997/001117 WO1997039894A1 (en) | 1996-04-23 | 1997-04-22 | Heat-sensitive composition and method of making a lithographic printing form with it |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE29724584U1 true DE29724584U1 (de) | 2002-04-18 |
Family
ID=27268256
Family Applications (4)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE69700397T Revoked DE69700397T2 (de) | 1996-04-23 | 1997-04-22 | Vorläufer einer lithographischen druckform und ihre verwendung bei der bebilderung durch wärme |
DE29724584U Expired - Lifetime DE29724584U1 (de) | 1996-04-23 | 1997-04-22 | Wärmeempfindliche Zusammensetzung und damit hergestellter Vorläufer einer Lithographie-Druckform |
DE69714225T Expired - Fee Related DE69714225T2 (de) | 1996-04-23 | 1997-04-22 | Wärmeempfindliche Zusammensetzung zur Herstellung eines lithographischen Druckformvorläufers |
DE0825927T Pending DE825927T1 (de) | 1996-04-23 | 1997-04-22 | Warmeempfindliche zusammensetzung und verfahren zur herstellung einer lithographischen druckform damit |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE69700397T Revoked DE69700397T2 (de) | 1996-04-23 | 1997-04-22 | Vorläufer einer lithographischen druckform und ihre verwendung bei der bebilderung durch wärme |
Family Applications After (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE69714225T Expired - Fee Related DE69714225T2 (de) | 1996-04-23 | 1997-04-22 | Wärmeempfindliche Zusammensetzung zur Herstellung eines lithographischen Druckformvorläufers |
DE0825927T Pending DE825927T1 (de) | 1996-04-23 | 1997-04-22 | Warmeempfindliche zusammensetzung und verfahren zur herstellung einer lithographischen druckform damit |
Country Status (16)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US6280899B1 (de) |
EP (2) | EP0825927B1 (de) |
JP (1) | JP3147908B2 (de) |
CN (1) | CN1078132C (de) |
AT (2) | ATE183136T1 (de) |
AU (1) | AU707872B2 (de) |
BR (1) | BR9702181A (de) |
CA (1) | CA2225567C (de) |
CZ (1) | CZ292739B6 (de) |
DE (4) | DE69700397T2 (de) |
ES (2) | ES2114521T3 (de) |
IL (1) | IL122318A (de) |
NO (1) | NO976002L (de) |
PL (1) | PL324248A1 (de) |
RU (1) | RU2153986C2 (de) |
WO (1) | WO1997039894A1 (de) |
Families Citing this family (227)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB9516723D0 (en) | 1995-08-15 | 1995-10-18 | Horsell Plc | Water-less lithographic plates |
JP3814961B2 (ja) | 1996-08-06 | 2006-08-30 | 三菱化学株式会社 | ポジ型感光性印刷版 |
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- 1997-04-22 CN CN97190751A patent/CN1078132C/zh not_active Expired - Fee Related
- 1997-04-22 AT AT97919526T patent/ATE183136T1/de not_active IP Right Cessation
- 1997-04-22 AT AT98203153T patent/ATE220991T1/de active
- 1997-04-22 EP EP97919526A patent/EP0825927B1/de not_active Revoked
- 1997-04-22 DE DE29724584U patent/DE29724584U1/de not_active Expired - Lifetime
- 1997-04-22 BR BR9702181-4A patent/BR9702181A/pt not_active IP Right Cessation
- 1997-04-22 RU RU98101117/12A patent/RU2153986C2/ru not_active IP Right Cessation
- 1997-04-22 DE DE69714225T patent/DE69714225T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1997-04-22 JP JP53785097A patent/JP3147908B2/ja not_active Expired - Fee Related
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- 1997-04-22 IL IL12231897A patent/IL122318A/xx not_active IP Right Cessation
- 1997-04-22 AU AU23966/97A patent/AU707872B2/en not_active Ceased
- 1997-04-22 ES ES97919526T patent/ES2114521T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1997-04-22 CZ CZ19974008A patent/CZ292739B6/cs not_active IP Right Cessation
- 1997-04-22 DE DE0825927T patent/DE825927T1/de active Pending
- 1997-04-22 ES ES98203153T patent/ES2181120T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1997-04-22 PL PL97324248A patent/PL324248A1/xx unknown
- 1997-12-19 NO NO976002A patent/NO976002L/no not_active Application Discontinuation
-
2000
- 2000-01-18 US US09/483,990 patent/US6280899B1/en not_active Expired - Lifetime
-
2001
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