JP2003084430A - 多層熱画像化可能構成体 - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 赤外線レーザー画像形成装置に対する感受性
が改善された、平版印刷版の製造のための感熱性構成体
を提供する。 【解決手段】 親水性基体；吸収層；及びトップ層；を
備え、前記トップ層が、第一ポリマー物質を含み；前記
トップ層が、インク受容性であり、水性アルカリ現像液
中に不溶性であり；前記トップ層及び前記吸収層のそれ
ぞれが、熱露光の後に水性アルカリ現像液によって除去
可能であり；さらに、前記吸収層が、本質的に、光熱転
換物質から、または光熱転換物質と任意に界面活性剤も
しくは界面活性剤の混合物との混合物からなる熱画像化
可能構成体を調製する。
が改善された、平版印刷版の製造のための感熱性構成体
を提供する。 【解決手段】 親水性基体；吸収層；及びトップ層；を
備え、前記トップ層が、第一ポリマー物質を含み；前記
トップ層が、インク受容性であり、水性アルカリ現像液
中に不溶性であり；前記トップ層及び前記吸収層のそれ
ぞれが、熱露光の後に水性アルカリ現像液によって除去
可能であり；さらに、前記吸収層が、本質的に、光熱転
換物質から、または光熱転換物質と任意に界面活性剤も
しくは界面活性剤の混合物との混合物からなる熱画像化
可能構成体を調製する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、平版印刷に関す
る。とりわけ、本発明は、平版印刷版前駆体として有用
であって、熱的に画像化し、水性アルカリ現像液で処理
することのできる、多層熱画像化可能構成体（多層熱画
像形成エレメント）に関する。
る。とりわけ、本発明は、平版印刷版前駆体として有用
であって、熱的に画像化し、水性アルカリ現像液で処理
することのできる、多層熱画像化可能構成体（多層熱画
像形成エレメント）に関する。
【０００２】
【従来の技術】平版印刷においては、画像領域として知
られるインク受容領域を、親水性表面上に生成させる。
前記表面が水で湿っており、インクが適用された場合に
は、親水性領域は水を保持してインクをはじき、前記イ
ンク受容領域がインクを受容して水をはじく。インクは
その表面上に画像が再生されることになる物質の表面に
転移される。典型的には、インクはまず中間ブランケッ
トへ転移されるが、これが今度はインクをその表面上で
画像が再生されることになる物質の表面へ転移させる。
られるインク受容領域を、親水性表面上に生成させる。
前記表面が水で湿っており、インクが適用された場合に
は、親水性領域は水を保持してインクをはじき、前記イ
ンク受容領域がインクを受容して水をはじく。インクは
その表面上に画像が再生されることになる物質の表面に
転移される。典型的には、インクはまず中間ブランケッ
トへ転移されるが、これが今度はインクをその表面上で
画像が再生されることになる物質の表面へ転移させる。
【０００３】平版印刷版として有用であり、印刷版前駆
体とも称される画像化可能構成体は、典型的には親水性
基体の表面上に適用された画像化可能層を備えている。
画像化可能層には、一以上の放射感受性成分が含まれる
が、これは適当なバインダ中に分散していても良い。あ
るいはまた、放射感受性成分はまた、バインダ物質であ
っても良い。
体とも称される画像化可能構成体は、典型的には親水性
基体の表面上に適用された画像化可能層を備えている。
画像化可能層には、一以上の放射感受性成分が含まれる
が、これは適当なバインダ中に分散していても良い。あ
るいはまた、放射感受性成分はまた、バインダ物質であ
っても良い。
【０００４】平版印刷版前駆体として有用であり、ネガ
を経る露光の必要性を排除する、熱画像化可能構成体
は、印刷工業においてますます重要になっている。画像
化のための熱露光の後には、露光領域が現像液によって
除去されて画像が形成されるように、現像液による露光
領域の除去速度が、非露光領域の除去速度よりも大とな
る。こうしたシステムは、例えば、Parsonsらの WO97/3
9894及びU. S. Appln. Ser. No. 08/981,620; Nagasaka
のEP 0823327; MiyakeのEP 0909627; WestのWO 98/4250
7及びU. S. Appln. Ser. No. 08/821,844;及びNguyenの
WO99/11458,及びU. S. Appln. Ser. No. 08/922,190に
開示されている。
を経る露光の必要性を排除する、熱画像化可能構成体
は、印刷工業においてますます重要になっている。画像
化のための熱露光の後には、露光領域が現像液によって
除去されて画像が形成されるように、現像液による露光
領域の除去速度が、非露光領域の除去速度よりも大とな
る。こうしたシステムは、例えば、Parsonsらの WO97/3
9894及びU. S. Appln. Ser. No. 08/981,620; Nagasaka
のEP 0823327; MiyakeのEP 0909627; WestのWO 98/4250
7及びU. S. Appln. Ser. No. 08/821,844;及びNguyenの
WO99/11458,及びU. S. Appln. Ser. No. 08/922,190に
開示されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】平版印刷版の製造のた
めの感熱性構成体の調製は進歩してきたものの、赤外線
レーザー画像形成装置に対する感受性が改善された構成
体には依然として需要がある。
めの感熱性構成体の調製は進歩してきたものの、赤外線
レーザー画像形成装置に対する感受性が改善された構成
体には依然として需要がある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は赤外線レーザー
画像形成装置に対する感受性を向上させた、熱画像化可
能構成体である。該構成体は、（ａ）親水性基体；
（ｂ）吸収層；及び（ｃ）トップ層；を備え、前記トッ
プ層が、第一ポリマー物質を含み；前記トップ層が、イ
ンク受容性であり、且つ水性アルカリ現像液中に不溶性
であり；前記トップ層及び前記吸収層のそれぞれが、熱
露光の後に水性アルカリ現像液によって除去可能であ
り；さらに前記吸収層が、本質的に、光熱転換物質か
ら、または光熱転換物質と任意に界面活性剤もしくは界
面活性剤の混合物との混合物からなる。
画像形成装置に対する感受性を向上させた、熱画像化可
能構成体である。該構成体は、（ａ）親水性基体；
（ｂ）吸収層；及び（ｃ）トップ層；を備え、前記トッ
プ層が、第一ポリマー物質を含み；前記トップ層が、イ
ンク受容性であり、且つ水性アルカリ現像液中に不溶性
であり；前記トップ層及び前記吸収層のそれぞれが、熱
露光の後に水性アルカリ現像液によって除去可能であ
り；さらに前記吸収層が、本質的に、光熱転換物質か
ら、または光熱転換物質と任意に界面活性剤もしくは界
面活性剤の混合物との混合物からなる。
【０００７】本発明の一つの実施態様においては、第二
ポリマー物質を含む下地層が、基体（支持体）と吸収層
との間にある。
ポリマー物質を含む下地層が、基体（支持体）と吸収層
との間にある。
【０００８】別の態様においては、本発明は平版印刷版
として有用な画像を形成するための方法である。前記方
法には、熱画像化可能構成体を画像化する工程及び、こ
れを水性アルカリ現像液で現像する工程が含まれる。別
の態様においては、本発明は、印刷版及び水性湿し水を
使用する印刷方法である。
として有用な画像を形成するための方法である。前記方
法には、熱画像化可能構成体を画像化する工程及び、こ
れを水性アルカリ現像液で現像する工程が含まれる。別
の態様においては、本発明は、印刷版及び水性湿し水を
使用する印刷方法である。
【０００９】
【発明の実施の形態】本発明は、熱画像化可能構成体で
ある。前記構成体は、親水性基体、吸収層、及びトップ
層を備える。吸収層は、光熱転換物質を含む。前記構成
体は、親水性基体と吸収層との間に下地層を更に備えて
いてよい。特に断らない限りにおいて、本明細書及び請
求項においては、「第一ポリマー物質」、「第二ポリマ
ー物質」、「光熱転換物質」、「溶解阻害剤」、及び類
似の用語は、こうした物質の混合物をも意味する。
ある。前記構成体は、親水性基体、吸収層、及びトップ
層を備える。吸収層は、光熱転換物質を含む。前記構成
体は、親水性基体と吸収層との間に下地層を更に備えて
いてよい。特に断らない限りにおいて、本明細書及び請
求項においては、「第一ポリマー物質」、「第二ポリマ
ー物質」、「光熱転換物質」、「溶解阻害剤」、及び類
似の用語は、こうした物質の混合物をも意味する。
【００１０】親水性基体
親水性基体、すなわち、少なくとも一の親水性表面を備
えた基体は、支持体を備えているが、これは平版印刷版
として有用な画像化可能構成体の調製に従来使用されて
いるあらゆる物質であってよい。前記支持体は、好まし
くは、強く、安定で、且つ可撓性である。カラーレコー
ドがフルカラー画像で記録されるように、これは使用の
条件下での寸法変化に耐えるべきである。典型的には、
これは、例えばポリエチレンテレフタレートフィルム等
のポリマーフィルム、セラミックス、金属、または薄板
紙、あるいはこれらの物質のいずれかの積層体を含む、
いかなる自己支持性物質であってもよい。金属支持体に
は、アルミニウム、亜鉛、チタン、及びこれらの合金が
含まれる。
えた基体は、支持体を備えているが、これは平版印刷版
として有用な画像化可能構成体の調製に従来使用されて
いるあらゆる物質であってよい。前記支持体は、好まし
くは、強く、安定で、且つ可撓性である。カラーレコー
ドがフルカラー画像で記録されるように、これは使用の
条件下での寸法変化に耐えるべきである。典型的には、
これは、例えばポリエチレンテレフタレートフィルム等
のポリマーフィルム、セラミックス、金属、または薄板
紙、あるいはこれらの物質のいずれかの積層体を含む、
いかなる自己支持性物質であってもよい。金属支持体に
は、アルミニウム、亜鉛、チタン、及びこれらの合金が
含まれる。
【００１１】アルミニウム支持体の表面は、物理的粗面
化、電気化学的粗面化、化学的粗面化、及び陽極酸化を
含む、当業界において既知の技術によって処理されてい
ても良い。前記基体は、印刷による摩耗に耐えるほど充
分な厚さのものであり、典型的には約１００乃至約６０
０μmであって、印刷フォームの周囲を覆うのに充分に
薄いものであるべきである。
化、電気化学的粗面化、化学的粗面化、及び陽極酸化を
含む、当業界において既知の技術によって処理されてい
ても良い。前記基体は、印刷による摩耗に耐えるほど充
分な厚さのものであり、典型的には約１００乃至約６０
０μmであって、印刷フォームの周囲を覆うのに充分に
薄いものであるべきである。
【００１２】典型的には、前記基体はアルミニウム支持
体と画像化可能層との間に内部層を備えている。前記内
部層は、例えばシリケート、デキストリン、ヘキサフル
オロケイ酸、ホスフェート／フルオリド、ポリビニルホ
スホン酸（ＰＶＰＡ）、またはポリビニルホスホン酸コ
ポリマーで支持体を処理することにより形成しても良
い。
体と画像化可能層との間に内部層を備えている。前記内
部層は、例えばシリケート、デキストリン、ヘキサフル
オロケイ酸、ホスフェート／フルオリド、ポリビニルホ
スホン酸（ＰＶＰＡ）、またはポリビニルホスホン酸コ
ポリマーで支持体を処理することにより形成しても良
い。
【００１３】吸収層
吸収層は、放射、好ましくは、熱画像化可能構成体の画
像化に従来使用されている放射の範囲である、約８００
nm乃至１２００nmの範囲内の放射を吸収する。ときに
「光熱転換物質」と呼称される吸収剤は、前記吸収層中
に存在する。光熱転換物質は放射を吸収し、これを熱に
転換させる。光熱転換物質は、紫外線、可視光線、及び
／または赤外線を吸収し、これを熱に転換しうる。
像化に従来使用されている放射の範囲である、約８００
nm乃至１２００nmの範囲内の放射を吸収する。ときに
「光熱転換物質」と呼称される吸収剤は、前記吸収層中
に存在する。光熱転換物質は放射を吸収し、これを熱に
転換させる。光熱転換物質は、紫外線、可視光線、及び
／または赤外線を吸収し、これを熱に転換しうる。
【００１４】光熱転換物質は、スクアリリウム（squary
lium）、メロシアニン、インドリジン、ピリリウム、ま
たは金属ジオチオレン族の染料または顔料等の染料また
は顔料のいずれであってもよい。吸収顔料の例は、Proj
et 900、Projet 860、及びProjet 830である（全てZene
ca Corporationより購入可能）。カーボンブラック顔料
もまた使用して良い。その吸収バンドが広いため、カー
ボンブラックベースの印刷版は、広範囲のピーク発光波
長を有する多重赤外線画像形成装置と共に使用可能であ
る。
lium）、メロシアニン、インドリジン、ピリリウム、ま
たは金属ジオチオレン族の染料または顔料等の染料また
は顔料のいずれであってもよい。吸収顔料の例は、Proj
et 900、Projet 860、及びProjet 830である（全てZene
ca Corporationより購入可能）。カーボンブラック顔料
もまた使用して良い。その吸収バンドが広いため、カー
ボンブラックベースの印刷版は、広範囲のピーク発光波
長を有する多重赤外線画像形成装置と共に使用可能であ
る。
【００１５】染料、特に水性アルカリ現像液に可溶性の
染料が不溶性物質による現像液のスラッジングを回避す
るために、好ましい。前記染料は、例えば、インドアニ
リン染料、オキソノール染料、ポルフィリン誘導体、ア
ントラキノン染料、メロスチリル（merostyryl）染料、
ピリリウム化合物、及びスクアリリウム（sqarylium）
誘導体から選択しても良い。吸収染料は、当該分野にお
ける多数の文献及び特許出願、例えば、Nagasakaの EP
0,823,327; Van Dammeの EP0,908,397; DeBoerの U. S.
Pat. No. 4,973,572; Jandrueの U. S. Pat. No. 5,24
4,771; 及びChapmanの U. S. Pat5,401,618等に開示さ
れている。有用な吸収染料の例には、ADS-830 WS及びAD
S-1064（いずれもAmerican Dye Source, Montreal, Can
adaより購入可能）、EC2117（FEW，Wolfen，Germanyよ
り購入可能）、Cyasorb IR 99及びCyasorb IR 165（い
ずれもGlendale Protective Technologyより購入可
能）、Epolite IV-62B及びEpolite III-178（いずれもE
politeより購入可能）、PINA-780（Allied Signal Corp
orationより購入可能）、SpectralR 830A及びSpectralR
840A（いずれもSpectra Colorsより購入可能）が含ま
れる。
染料が不溶性物質による現像液のスラッジングを回避す
るために、好ましい。前記染料は、例えば、インドアニ
リン染料、オキソノール染料、ポルフィリン誘導体、ア
ントラキノン染料、メロスチリル（merostyryl）染料、
ピリリウム化合物、及びスクアリリウム（sqarylium）
誘導体から選択しても良い。吸収染料は、当該分野にお
ける多数の文献及び特許出願、例えば、Nagasakaの EP
0,823,327; Van Dammeの EP0,908,397; DeBoerの U. S.
Pat. No. 4,973,572; Jandrueの U. S. Pat. No. 5,24
4,771; 及びChapmanの U. S. Pat5,401,618等に開示さ
れている。有用な吸収染料の例には、ADS-830 WS及びAD
S-1064（いずれもAmerican Dye Source, Montreal, Can
adaより購入可能）、EC2117（FEW，Wolfen，Germanyよ
り購入可能）、Cyasorb IR 99及びCyasorb IR 165（い
ずれもGlendale Protective Technologyより購入可
能）、Epolite IV-62B及びEpolite III-178（いずれもE
politeより購入可能）、PINA-780（Allied Signal Corp
orationより購入可能）、SpectralR 830A及びSpectralR
840A（いずれもSpectra Colorsより購入可能）が含ま
れる。
【００１６】吸収層は、本質的に、光熱転換物質から、
または光熱転換物質と任意にポリエトキシル化ジメチル
ポリシロキサンコポリマーなどの界面活性剤もしくは界
面活性剤の混合物との混合物からなる。特に、前記吸収
層は、第一ポリマー物質及び第二ポリマー物質として使
用されるもの等のバインダを実質的に含まない。前記界
面活性剤は、コーティング溶媒中での光熱転換物質の分
散を助けるために存在していても良い。
または光熱転換物質と任意にポリエトキシル化ジメチル
ポリシロキサンコポリマーなどの界面活性剤もしくは界
面活性剤の混合物との混合物からなる。特に、前記吸収
層は、第一ポリマー物質及び第二ポリマー物質として使
用されるもの等のバインダを実質的に含まない。前記界
面活性剤は、コーティング溶媒中での光熱転換物質の分
散を助けるために存在していても良い。
【００１７】吸収層の厚さは、一般的に画像化放射を少
なくとも９０％、好ましくは少なくとも９９％吸収する
ために充分なものである。当業者には周知の通り、特定
の量の放射を吸収するために要する吸収剤の量は、吸収
層の厚さ及び画像形成波長での吸収の消衰係数から、ベ
ールの法則を使用して決定することができる。典型的に
は、吸収層は約０．０２乃至約２g/m2、好ましくは約
０．０５乃至約１．５g/m2のコーティング重量を有す
る。
なくとも９０％、好ましくは少なくとも９９％吸収する
ために充分なものである。当業者には周知の通り、特定
の量の放射を吸収するために要する吸収剤の量は、吸収
層の厚さ及び画像形成波長での吸収の消衰係数から、ベ
ールの法則を使用して決定することができる。典型的に
は、吸収層は約０．０２乃至約２g/m2、好ましくは約
０．０５乃至約１．５g/m2のコーティング重量を有す
る。
【００１８】トップ層
トップ層は、インク受容性であり、下地層を現像液から
保護する。これは画像形成前には水性アルカリ現像液に
は不溶性である。しかしながら、トップ層の露光した
（すなわち画像化された）領域は、熱露光（すなわち熱
画像化）の後に水性アルカリ現像液によって除去可能で
ある。いかなる理論または説明にも拘束されないが、熱
露光により、トップ層は水性現像液中により容易に溶解
または分散し、及び／またはトップ層と吸収層との間の
接着を弱めると信じられている。これにより、前記現像
液がトップ層、吸収層、及び存在するならば下地層に浸
透し、吸収層が除去され、存在するならば下地層が溶解
され、親水性基体の下にある親水性表面が現れる。
保護する。これは画像形成前には水性アルカリ現像液に
は不溶性である。しかしながら、トップ層の露光した
（すなわち画像化された）領域は、熱露光（すなわち熱
画像化）の後に水性アルカリ現像液によって除去可能で
ある。いかなる理論または説明にも拘束されないが、熱
露光により、トップ層は水性現像液中により容易に溶解
または分散し、及び／またはトップ層と吸収層との間の
接着を弱めると信じられている。これにより、前記現像
液がトップ層、吸収層、及び存在するならば下地層に浸
透し、吸収層が除去され、存在するならば下地層が溶解
され、親水性基体の下にある親水性表面が現れる。
【００１９】トップ層は、第一ポリマー物質を含む。第
一ポリマー物質は、水性アルカリ現像液中に不溶性であ
って良い。露光領域においてトップ層に現像液が浸透
し、これらの領域で下地層を溶解するかまたは分散させ
ると、これは除去されて現像液中に分散される。このタ
イプの有用なポリマーには、アクリルポリマー及びコポ
リマー；ポリスチレン；スチレン−アクリルコポリマ
ー；ポリエステル；ポリアミド；ポリウレア；ポリウレ
タン；ニトロセルロース；エポキシ樹脂；及びこれらの
混合物が含まれる。このタイプの好ましいポリマーは、
ポリメチルメタクリレート、ニトロセルロース、及びポ
リスチレンである。
一ポリマー物質は、水性アルカリ現像液中に不溶性であ
って良い。露光領域においてトップ層に現像液が浸透
し、これらの領域で下地層を溶解するかまたは分散させ
ると、これは除去されて現像液中に分散される。このタ
イプの有用なポリマーには、アクリルポリマー及びコポ
リマー；ポリスチレン；スチレン−アクリルコポリマ
ー；ポリエステル；ポリアミド；ポリウレア；ポリウレ
タン；ニトロセルロース；エポキシ樹脂；及びこれらの
混合物が含まれる。このタイプの好ましいポリマーは、
ポリメチルメタクリレート、ニトロセルロース、及びポ
リスチレンである。
【００２０】トップ層は、ポジ型光画像化可能組成物で
あってよい。この場合には、トップ層の露光領域は、熱
露光に次いで水性アルカリ現像液中により容易に可溶に
なる。
あってよい。この場合には、トップ層の露光領域は、熱
露光に次いで水性アルカリ現像液中により容易に可溶に
なる。
【００２１】ポジ型光画像化可能組成物は、周知であ
る。これらは例えば、PhotoreactivePolymers: the Sci
ence and Technology of Resists, A. Reiser, Wiley,
New York, 1989, pp. 178-225の第５章に記載されてい
る。これら組成物は、水不溶性であってアルカリ可溶性
のバインダである第一ポリマー物質、並びに、光感受性
部分を含む物質を含む。光感受性部分は、第一ポリマー
物質に結合し、及び／または別の化合物中に存在してい
てよい。
る。これらは例えば、PhotoreactivePolymers: the Sci
ence and Technology of Resists, A. Reiser, Wiley,
New York, 1989, pp. 178-225の第５章に記載されてい
る。これら組成物は、水不溶性であってアルカリ可溶性
のバインダである第一ポリマー物質、並びに、光感受性
部分を含む物質を含む。光感受性部分は、第一ポリマー
物質に結合し、及び／または別の化合物中に存在してい
てよい。
【００２２】フェノール性ヒドロキシル基を含むポリマ
ー、即ちフェノール樹脂が好ましい。好ましくは、第一
ポリマー物質は、光安定性であり、水不溶性であり、水
性アルカリ現像液可溶性のフィルム形成性ポリマー物質
であって、ポリマー骨格上及びペンダント基上のいずれ
かに多数のフェノール性ヒドロキシル基を有するもので
ある。フェノール基は、トップ層に水性アルカリ現像液
への可溶性を授け、溶解阻害剤と共に熱に弱い複合体を
形成するとも信じられている。ペンダントフェノール基
を含むノボラック樹脂、レゾール樹脂、アクリル樹脂、
及びポリビニルフェノール樹脂は、好ましいフェノール
樹脂である。ノボラック樹脂がより好ましい。
ー、即ちフェノール樹脂が好ましい。好ましくは、第一
ポリマー物質は、光安定性であり、水不溶性であり、水
性アルカリ現像液可溶性のフィルム形成性ポリマー物質
であって、ポリマー骨格上及びペンダント基上のいずれ
かに多数のフェノール性ヒドロキシル基を有するもので
ある。フェノール基は、トップ層に水性アルカリ現像液
への可溶性を授け、溶解阻害剤と共に熱に弱い複合体を
形成するとも信じられている。ペンダントフェノール基
を含むノボラック樹脂、レゾール樹脂、アクリル樹脂、
及びポリビニルフェノール樹脂は、好ましいフェノール
樹脂である。ノボラック樹脂がより好ましい。
【００２３】ノボラック樹脂は、購入可能であり、当業
者には周知である。これらは典型的には、フェノール、
ｍ-クレゾール、ｏ-クレゾール、ｐ-クレゾールなどの
フェノールの、ホルムアルデヒド、パラホルムアルデヒ
ド、アセトアルデヒド等のアルデヒドとの、またはアセ
トン等のケトンとの、酸触媒の存在下における縮合反応
によって調製される。重量平均分子量は、典型的には約
１０００乃至１５０００である。典型的なノボラック樹
脂には、例えば、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、
クレゾール−ホルムアルデヒド樹脂、フェノール−クレ
ゾール−ホルムアルデヒド樹脂、ｐ-t-ブチルフェノー
ル-ホルムアルデヒド樹脂、及びピロガロール-アセトン
樹脂が含まれる。特に有用なノボラック樹脂は、ｍ-ク
レゾール、m-クレゾールとp-クレゾールとの混合物、ま
たはフェノールを、従来の条件を用いてホルムアルデヒ
ドと反応させることによって調製される。
者には周知である。これらは典型的には、フェノール、
ｍ-クレゾール、ｏ-クレゾール、ｐ-クレゾールなどの
フェノールの、ホルムアルデヒド、パラホルムアルデヒ
ド、アセトアルデヒド等のアルデヒドとの、またはアセ
トン等のケトンとの、酸触媒の存在下における縮合反応
によって調製される。重量平均分子量は、典型的には約
１０００乃至１５０００である。典型的なノボラック樹
脂には、例えば、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、
クレゾール−ホルムアルデヒド樹脂、フェノール−クレ
ゾール−ホルムアルデヒド樹脂、ｐ-t-ブチルフェノー
ル-ホルムアルデヒド樹脂、及びピロガロール-アセトン
樹脂が含まれる。特に有用なノボラック樹脂は、ｍ-ク
レゾール、m-クレゾールとp-クレゾールとの混合物、ま
たはフェノールを、従来の条件を用いてホルムアルデヒ
ドと反応させることによって調製される。
【００２４】第一ポリマー物質として有用な他のフェノ
ール樹脂には、フェノール性ヒドロキシル基を有するポ
リビニル化合物が含まれる。こうした化合物には、例え
ば、ポリヒドロキシスチレン及びヒドロキシスチレンの
繰り返し単位を含むコポリマー、及び置換ヒドロキシス
チレンの繰り返し単位を含むポリマー及びコポリマーが
含まれる。第一ポリマー物質は、ペンダントスルホンア
ミド基を有する水不溶性で塩基可溶性のポリマー化合
物、例えばAoshima, U. S. Pat. No. 5,141,838(EP330,
239)に記載のものなどであってもよい。
ール樹脂には、フェノール性ヒドロキシル基を有するポ
リビニル化合物が含まれる。こうした化合物には、例え
ば、ポリヒドロキシスチレン及びヒドロキシスチレンの
繰り返し単位を含むコポリマー、及び置換ヒドロキシス
チレンの繰り返し単位を含むポリマー及びコポリマーが
含まれる。第一ポリマー物質は、ペンダントスルホンア
ミド基を有する水不溶性で塩基可溶性のポリマー化合
物、例えばAoshima, U. S. Pat. No. 5,141,838(EP330,
239)に記載のものなどであってもよい。
【００２５】光感受性部分は、典型的には、o-ジアゾナ
フトキノン部分である。o-ジアゾナフトキノン部分を含
む化合物（キノンジアジド）、好ましくは少なくとも１
５００であるが約５０００より小である分子量を有する
バラスト部分に結合したo-ジアゾナフトキノン部分を有
する化合物が、好ましい。典型的には、これらの化合物
は、４または５位にハロゲンスルホニル基、典型的には
スルホニルクロライド基を有する１，２-ナフトキノン
ジアジドと、モノ-またはポリ-ヒドロキシフェニル化合
物、例えばモノ-またはポリ-ヒドロキシベンゾフェンと
の反応によって調製される。
フトキノン部分である。o-ジアゾナフトキノン部分を含
む化合物（キノンジアジド）、好ましくは少なくとも１
５００であるが約５０００より小である分子量を有する
バラスト部分に結合したo-ジアゾナフトキノン部分を有
する化合物が、好ましい。典型的には、これらの化合物
は、４または５位にハロゲンスルホニル基、典型的には
スルホニルクロライド基を有する１，２-ナフトキノン
ジアジドと、モノ-またはポリ-ヒドロキシフェニル化合
物、例えばモノ-またはポリ-ヒドロキシベンゾフェンと
の反応によって調製される。
【００２６】ポリマー性ジアゾナフトキノン化合物に
は、ジアゾナフトキノン部分を含む反応性誘導体と、適
当な反応性基、例えばヒドロキシルまたはアミノ基を含
むポリマー性物質との反応によって形成される、誘導化
樹脂が含まれる。これらの誘導化樹脂の形成に適当なポ
リマー性物質には、ノボラック樹脂、レゾール樹脂、ポ
リビニルフェノール、ヒドロキシスチレンなどのヒドロ
キシ含有モノマーのアクリレート及びメタクリレートコ
ポリマーが含まれる。代表的な反応性誘導体には、ジア
ゾナフトキノン部分のスルホン酸及びカルボン酸、エス
テルまたはアミド誘導体が含まれる。ジアゾナフトキノ
ン部分を含む化合物を用いるフェノール樹脂の誘導化
は、当業界においては周知であり、例えば、West, U.
S. Pat. Nos.5,705,308及び5,705,322に記載されてい
る。
は、ジアゾナフトキノン部分を含む反応性誘導体と、適
当な反応性基、例えばヒドロキシルまたはアミノ基を含
むポリマー性物質との反応によって形成される、誘導化
樹脂が含まれる。これらの誘導化樹脂の形成に適当なポ
リマー性物質には、ノボラック樹脂、レゾール樹脂、ポ
リビニルフェノール、ヒドロキシスチレンなどのヒドロ
キシ含有モノマーのアクリレート及びメタクリレートコ
ポリマーが含まれる。代表的な反応性誘導体には、ジア
ゾナフトキノン部分のスルホン酸及びカルボン酸、エス
テルまたはアミド誘導体が含まれる。ジアゾナフトキノ
ン部分を含む化合物を用いるフェノール樹脂の誘導化
は、当業界においては周知であり、例えば、West, U.
S. Pat. Nos.5,705,308及び5,705,322に記載されてい
る。
【００２７】一つの態様において、ポジ型熱画像化可能
トップ層には、第一ポリマー物質及び溶解阻害剤が含ま
れる。こうしたシステムは、例えば、Parsonsの WO97/3
9894；Nagasakaの EP 0823327; Miyakeの EP 0909627;
Westの WO 98/42507;及びNguyenの WO99/11458に開示さ
れている。第一ポリマー物質は、典型的にはフェノール
樹脂、例えばノボラック樹脂である。
トップ層には、第一ポリマー物質及び溶解阻害剤が含ま
れる。こうしたシステムは、例えば、Parsonsの WO97/3
9894；Nagasakaの EP 0823327; Miyakeの EP 0909627;
Westの WO 98/42507;及びNguyenの WO99/11458に開示さ
れている。第一ポリマー物質は、典型的にはフェノール
樹脂、例えばノボラック樹脂である。
【００２８】溶解阻害剤は、第一ポリマー物質が水性ア
ルカリ現像液中に溶解する速度を、逆に減少させると信
じられている。一般的に、こうした化合物は、少なくと
も０．５、好ましくは少なくとも５の「阻害因子」を有
するべきである。阻害因子は、Shihらの Macromolecule
s, 27, 3330 (1994)に記載された手順を用いて測定する
ことができる。
ルカリ現像液中に溶解する速度を、逆に減少させると信
じられている。一般的に、こうした化合物は、少なくと
も０．５、好ましくは少なくとも５の「阻害因子」を有
するべきである。阻害因子は、Shihらの Macromolecule
s, 27, 3330 (1994)に記載された手順を用いて測定する
ことができる。
【００２９】溶解阻害剤に有用な極性基には、例えば、
ジアゾ基；ジアゾニウム基；ケト基；スルホン酸エステ
ル基；ホスフェートエステル基；トリアリールメタン
基；オニウム基、例えばスルホニウム、ヨードニウム、
及びホスホニウム；窒素原子が複素環に結合した基；及
び正に荷電した原子、特に正に荷電した窒素原子、典型
的には第四級窒素原子を含む基、すなわちアンモニウム
基、が含まれる。他の極性基、例えばエーテル、アミ
ン、アゾ、ニトロ、フェロセニウム、スルホキシド、ス
ルホン、及びジスルホンを含む化合物もまた、溶解阻害
剤として有用でありうる。アセタールまたはケタール基
の繰り返しを有するモノマー性またはポリマー性のアセ
タール、少なくとも一のオルトカルボン酸エステルまた
はアミド基を有するモノマー性またはポリマー性のオル
トカルボン酸エステル、エノールエーテル、Ｎ-アシル
イミノカルボネート、環状アセタールまたはケタール、
β-ケトエステルまたはβ-ケトアミドもまた溶解阻害剤
として有用であり得る。
ジアゾ基；ジアゾニウム基；ケト基；スルホン酸エステ
ル基；ホスフェートエステル基；トリアリールメタン
基；オニウム基、例えばスルホニウム、ヨードニウム、
及びホスホニウム；窒素原子が複素環に結合した基；及
び正に荷電した原子、特に正に荷電した窒素原子、典型
的には第四級窒素原子を含む基、すなわちアンモニウム
基、が含まれる。他の極性基、例えばエーテル、アミ
ン、アゾ、ニトロ、フェロセニウム、スルホキシド、ス
ルホン、及びジスルホンを含む化合物もまた、溶解阻害
剤として有用でありうる。アセタールまたはケタール基
の繰り返しを有するモノマー性またはポリマー性のアセ
タール、少なくとも一のオルトカルボン酸エステルまた
はアミド基を有するモノマー性またはポリマー性のオル
トカルボン酸エステル、エノールエーテル、Ｎ-アシル
イミノカルボネート、環状アセタールまたはケタール、
β-ケトエステルまたはβ-ケトアミドもまた溶解阻害剤
として有用であり得る。
【００３０】溶解阻害剤として有用な、正に荷電した
（すなわち第四級化）窒素原子を含む化合物には、例え
ばテトラアルキルアンモニウム化合物、キノリニウム化
合物、ベンゾチアゾリウム化合物、ピリジニウム化合
物、及びイミダゾリウム化合物が含まれる。
（すなわち第四級化）窒素原子を含む化合物には、例え
ばテトラアルキルアンモニウム化合物、キノリニウム化
合物、ベンゾチアゾリウム化合物、ピリジニウム化合
物、及びイミダゾリウム化合物が含まれる。
【００３１】第四級化複素環化合物は、溶解阻害剤とし
て有用である。代表的なイミダゾリウム化合物には、Mo
nazoline C、Monazoline O、Monazoline CY、及びMonaz
oline T（全てMona Industriesにより製造）が含まれ
る。代表的なキノリニウム溶解阻害剤には、１-エチル-
２-メチルキノリニウムヨーダイド、１-エチル-４-メチ
ルキノリニウムヨーダイド、及びキノリニウム部分を含
む、Quinoldine Blue等のシアニン染料が含まれる。代
表的なベンゾチアゾリウム化合物には、３-エチル-２
（３Ｈ）-ベンゾチアゾリリデン）-２-メチル-１-（プ
ロペニル）ベンゾチアゾリウムカチオン性染料及び３-
エチル-２-メチルベンゾチアゾリウムヨーダイドが含ま
れる。好適なピリジニウム溶解阻害剤には、セチルピリ
ジニウムブロミド及びエチルビオロゲンジカチオンが含
まれる。
て有用である。代表的なイミダゾリウム化合物には、Mo
nazoline C、Monazoline O、Monazoline CY、及びMonaz
oline T（全てMona Industriesにより製造）が含まれ
る。代表的なキノリニウム溶解阻害剤には、１-エチル-
２-メチルキノリニウムヨーダイド、１-エチル-４-メチ
ルキノリニウムヨーダイド、及びキノリニウム部分を含
む、Quinoldine Blue等のシアニン染料が含まれる。代
表的なベンゾチアゾリウム化合物には、３-エチル-２
（３Ｈ）-ベンゾチアゾリリデン）-２-メチル-１-（プ
ロペニル）ベンゾチアゾリウムカチオン性染料及び３-
エチル-２-メチルベンゾチアゾリウムヨーダイドが含ま
れる。好適なピリジニウム溶解阻害剤には、セチルピリ
ジニウムブロミド及びエチルビオロゲンジカチオンが含
まれる。
【００３２】ジアゾニウム塩は、溶解阻害剤として有用
であり、例えば置換及び無置換のジフェニルアミンジア
ゾニウム塩、例えばメトキシ置換ジフェニルアミンジア
ゾニウムヘキサフルオロボレートを含む。これらの化合
物は、特に非予熱印刷版において有用である。
であり、例えば置換及び無置換のジフェニルアミンジア
ゾニウム塩、例えばメトキシ置換ジフェニルアミンジア
ゾニウムヘキサフルオロボレートを含む。これらの化合
物は、特に非予熱印刷版において有用である。
【００３３】溶解阻害剤の好ましい群は、トリアリール
メタン染料、例えばエチルバイオレット、クリスタルバ
イオレット、マラカイトグリーン、ブリリアントグリー
ン、ビクトリアブルーＢ、ビクトリアブルーＲ、及びビ
クトリアブルーＢＯである。これらの化合物は、現像し
た画像化可能構成体において、画像化領域から非画像化
領域を区別する、造影染料（contrast dyes）としても
作用することができる。
メタン染料、例えばエチルバイオレット、クリスタルバ
イオレット、マラカイトグリーン、ブリリアントグリー
ン、ビクトリアブルーＢ、ビクトリアブルーＲ、及びビ
クトリアブルーＢＯである。これらの化合物は、現像し
た画像化可能構成体において、画像化領域から非画像化
領域を区別する、造影染料（contrast dyes）としても
作用することができる。
【００３４】溶解阻害剤は、o-ジアゾナフトキノン部分
を含む化合物、例えば以下に述べるもの等であってよ
い。o-ジアゾナフトキノン部分を含む誘導化樹脂は、第
一ポリマー物質と溶解阻害剤との両方として作用するこ
とができる。これらは単独で使用可能であり、あるいは
他のポリマー物質及び／または溶解阻害剤と組み合わせ
可能である。
を含む化合物、例えば以下に述べるもの等であってよ
い。o-ジアゾナフトキノン部分を含む誘導化樹脂は、第
一ポリマー物質と溶解阻害剤との両方として作用するこ
とができる。これらは単独で使用可能であり、あるいは
他のポリマー物質及び／または溶解阻害剤と組み合わせ
可能である。
【００３５】溶解阻害剤がトップ層中に存在する場合に
は、その量は大幅に変化可能であるが、一般的には、前
記層の全乾燥組成重量に基づいて少なくとも０．１重量
％、典型的には約０．５乃至約３０重量％、好ましくは
約１乃至１５重量％である。
は、その量は大幅に変化可能であるが、一般的には、前
記層の全乾燥組成重量に基づいて少なくとも０．１重量
％、典型的には約０．５乃至約３０重量％、好ましくは
約１乃至１５重量％である。
【００３６】あるいは、もしくは更にまた、第一ポリマ
ー物質それ自体が、ポリマー物質中に存在するヒドロキ
シ基との水素結合のためのアクセプター部位として作用
する極性基を含み、溶解阻害剤として作用することが可
能である。周知の方法を利用して、バインダのヒドロキ
シル基の部分を誘導化して極性基、例えば安息香酸エス
テルなどのカルボン酸エステル；リン酸エステル；フェ
ニルエーテルなどのエーテル；及びメチルスルホネー
ト、フェニルスルホネート、p-トルエンスルホネート
（トシレート）、及びp-ブロモフェニルスルホート（ブ
ロシレート）等のスルホン酸エステルを導入することが
可能である。ジアゾナフトキノン部分を含む化合物で誘
導化された樹脂の例は、P-3000、ピロガロール／アセト
ン樹脂のナフトキノンジアジド（PCAS, France）であ
る。これらの誘導化ポリマー物質は、第二ポリマー物質
及び溶解阻害剤の両方として作用することができる。こ
れらは、トップ層中において単独で使用することがで
き、あるいは他のポリマー物質及び／または溶解阻害剤
と組み合わせて使用することができる。
ー物質それ自体が、ポリマー物質中に存在するヒドロキ
シ基との水素結合のためのアクセプター部位として作用
する極性基を含み、溶解阻害剤として作用することが可
能である。周知の方法を利用して、バインダのヒドロキ
シル基の部分を誘導化して極性基、例えば安息香酸エス
テルなどのカルボン酸エステル；リン酸エステル；フェ
ニルエーテルなどのエーテル；及びメチルスルホネー
ト、フェニルスルホネート、p-トルエンスルホネート
（トシレート）、及びp-ブロモフェニルスルホート（ブ
ロシレート）等のスルホン酸エステルを導入することが
可能である。ジアゾナフトキノン部分を含む化合物で誘
導化された樹脂の例は、P-3000、ピロガロール／アセト
ン樹脂のナフトキノンジアジド（PCAS, France）であ
る。これらの誘導化ポリマー物質は、第二ポリマー物質
及び溶解阻害剤の両方として作用することができる。こ
れらは、トップ層中において単独で使用することがで
き、あるいは他のポリマー物質及び／または溶解阻害剤
と組み合わせて使用することができる。
【００３７】あるいはまた、トップ層は第一ポリマー物
質を含んで良いが、第一ポリマー物質にとって溶解阻害
剤として機能する物質を含まない。この場合は、トップ
層は本質的に第一ポリマー物質からなる。これらのシス
テムは、2000年8月14日に出願されたHauckの U. S. Pa
t. Appln. Ser. No. 19/638,556に開示されている。こ
れらのシステムは、少なくとも７乃至約１１のｐＨを有
するアルカリ溶液中で現像される。好ましくは、これら
のシステムのための水性アルカリ現像液は、約８乃至約
１０．５、より好ましくは約９乃至１０、更にいっそう
好ましくは約１０のｐＨを有する。１３以上の範囲のｐ
Ｈを有する現像液は、これらのシステムに使用すること
はできない。
質を含んで良いが、第一ポリマー物質にとって溶解阻害
剤として機能する物質を含まない。この場合は、トップ
層は本質的に第一ポリマー物質からなる。これらのシス
テムは、2000年8月14日に出願されたHauckの U. S. Pa
t. Appln. Ser. No. 19/638,556に開示されている。こ
れらのシステムは、少なくとも７乃至約１１のｐＨを有
するアルカリ溶液中で現像される。好ましくは、これら
のシステムのための水性アルカリ現像液は、約８乃至約
１０．５、より好ましくは約９乃至１０、更にいっそう
好ましくは約１０のｐＨを有する。１３以上の範囲のｐ
Ｈを有する現像液は、これらのシステムに使用すること
はできない。
【００３８】トップ層はまた、露光及び／または現像し
た構成体の目視による検査における一助として、染料を
含んでも良い。プリントアウト染料は、処理工程の間に
非露光領域から露光領域を区別する。造影染料は、現像
した印刷版において画像化領域から非画像化領域を区別
する。
た構成体の目視による検査における一助として、染料を
含んでも良い。プリントアウト染料は、処理工程の間に
非露光領域から露光領域を区別する。造影染料は、現像
した印刷版において画像化領域から非画像化領域を区別
する。
【００３９】実質的に全ての画像化放射が、吸収層によ
って吸収されるべきである。トップ層は紫外線及び／ま
たは可視光線を吸収しうるが、エチルバイオレットなど
の染料が溶解阻害剤として使用される場合または検査目
的でトップ層に染料が添加される場合などには、トップ
層は画像化放射、典型的には約８００nm乃至約１２００
nmの範囲の赤外線、さらに典型的には約８３０nmまたは
約１０５６nmの放射を吸収する物質を実質的に含むべき
でない。特に、トップ層は、光熱転換物質を実質的に含
むべきでない。
って吸収されるべきである。トップ層は紫外線及び／ま
たは可視光線を吸収しうるが、エチルバイオレットなど
の染料が溶解阻害剤として使用される場合または検査目
的でトップ層に染料が添加される場合などには、トップ
層は画像化放射、典型的には約８００nm乃至約１２００
nmの範囲の赤外線、さらに典型的には約８３０nmまたは
約１０５６nmの放射を吸収する物質を実質的に含むべき
でない。特に、トップ層は、光熱転換物質を実質的に含
むべきでない。
【００４０】下地層
存在する場合には、下地層は、親水性基体の親水性表面
と吸収層との間に存在する。画像形成の後、これは画像
化領域において吸収層及びトップ層と共に水性アルカリ
現像液によって除去され、下にある基体親水性表面を露
出する。これは、現像液のスラッジングを回避するため
に、好ましくは水性アルカリ現像液中に可溶性である。
好ましくは、これは完全に水性の、即ち有機溶媒が添加
されていない現像液に可溶性である。
と吸収層との間に存在する。画像形成の後、これは画像
化領域において吸収層及びトップ層と共に水性アルカリ
現像液によって除去され、下にある基体親水性表面を露
出する。これは、現像液のスラッジングを回避するため
に、好ましくは水性アルカリ現像液中に可溶性である。
好ましくは、これは完全に水性の、即ち有機溶媒が添加
されていない現像液に可溶性である。
【００４１】下地層は、第二ポリマー物質を含む。前記
第二ポリマー物質は、好ましくは水性アルカリ現像液中
に可溶性である。更に、前記第二ポリマー物質はトップ
層をコーティングするために使用される溶媒中に不溶性
であって、トップ層は下地層を溶解させることなく下地
層上にコーディングできるべきである。
第二ポリマー物質は、好ましくは水性アルカリ現像液中
に可溶性である。更に、前記第二ポリマー物質はトップ
層をコーティングするために使用される溶媒中に不溶性
であって、トップ層は下地層を溶解させることなく下地
層上にコーディングできるべきである。
【００４２】第二ポリマー物質として有用なポリマー物
質には、酸及び／またはフェノール官能性を含むもの、
及びこうした物質の混合物が含まれる。有用なポリマー
物質には、カルボキシ官能性ポリアクリレート、酢酸ビ
ニル／クロトン酸ビニル／ネオデカン酸ビニルコポリマ
ー、スチレン無水マレイン酸コポリマー、フェノール樹
脂、マレアート化ウッドロジン、及びこれらの混合物が
含まれる。
質には、酸及び／またはフェノール官能性を含むもの、
及びこうした物質の混合物が含まれる。有用なポリマー
物質には、カルボキシ官能性ポリアクリレート、酢酸ビ
ニル／クロトン酸ビニル／ネオデカン酸ビニルコポリマ
ー、スチレン無水マレイン酸コポリマー、フェノール樹
脂、マレアート化ウッドロジン、及びこれらの混合物が
含まれる。
【００４３】溶媒耐性下地層は、Shimazuの WO 01/4631
8に開示されている。とりわけ有用なポリマー物質は、
Ｎ-置換マレイミド、特にＮ-フェニルマレイミド；ポリ
ビニルアセタール；メタクリルアミド類、特にメタクリ
ルアミド；及びアクリル及び／またはメタクリル酸、特
にメタクリル酸、を含むコポリマーである。更に好まし
くは、二つの官能基が前記ポリマー物質中に存在してお
り、最も好ましくは三つ全ての官能基が前記ポリマー物
質中に存在している。このタイプの好ましいポリマー物
質は、Ｎ-フェニルマレイミド、メタクリルアミド、及
びメタクリル酸、のコポリマーであり、更に好ましく
は、約２５乃至約７５mol％、好ましくは約３５乃至約
６０mol％のＮ-フェニルマレイミド；約１０乃至約５０
mol％、好ましくは約１５乃至約４０mol％のメタクリル
アミド；及び約５乃至約３０mol％、好ましくは約１０
乃至約３０mol％のメタクリル酸を含むものである。他
の親水性モノマー、例えばヒドロキシエチルメタクリレ
ートを、メタクリルアミドのいくらかもしくは全てに代
えて使用しても良い。他の水性アルカリ可溶性モノマ
ー、例えばアクリル酸を、メタクリル酸のいくらかもし
くは全てに代えて使用しても良い。
8に開示されている。とりわけ有用なポリマー物質は、
Ｎ-置換マレイミド、特にＮ-フェニルマレイミド；ポリ
ビニルアセタール；メタクリルアミド類、特にメタクリ
ルアミド；及びアクリル及び／またはメタクリル酸、特
にメタクリル酸、を含むコポリマーである。更に好まし
くは、二つの官能基が前記ポリマー物質中に存在してお
り、最も好ましくは三つ全ての官能基が前記ポリマー物
質中に存在している。このタイプの好ましいポリマー物
質は、Ｎ-フェニルマレイミド、メタクリルアミド、及
びメタクリル酸、のコポリマーであり、更に好ましく
は、約２５乃至約７５mol％、好ましくは約３５乃至約
６０mol％のＮ-フェニルマレイミド；約１０乃至約５０
mol％、好ましくは約１５乃至約４０mol％のメタクリル
アミド；及び約５乃至約３０mol％、好ましくは約１０
乃至約３０mol％のメタクリル酸を含むものである。他
の親水性モノマー、例えばヒドロキシエチルメタクリレ
ートを、メタクリルアミドのいくらかもしくは全てに代
えて使用しても良い。他の水性アルカリ可溶性モノマ
ー、例えばアクリル酸を、メタクリル酸のいくらかもし
くは全てに代えて使用しても良い。
【００４４】これらのポリマー物質は、水性アルカリ現
像液中に可溶性である。更に、これらは、下地層用のコ
ーティング溶媒として使用可能なメチルラクテート／メ
タノール／ジオキソラン（１５：４２．５：４２．５重
量％）混合物中に可溶性である。しかしながら、これら
は、下地層を溶解させることなく下地層上にトップ層を
コーティングするための溶媒として使用可能な、アセト
ン、イソ-プロピルアルコール、ブチルアセテート、及
びブタノール等の溶媒中にはうまく溶けない。これらの
ポリマー物質は、典型的には、ジアセトンアルコール８
０重量％／水２０重量％での洗浄に耐性である。
像液中に可溶性である。更に、これらは、下地層用のコ
ーティング溶媒として使用可能なメチルラクテート／メ
タノール／ジオキソラン（１５：４２．５：４２．５重
量％）混合物中に可溶性である。しかしながら、これら
は、下地層を溶解させることなく下地層上にトップ層を
コーティングするための溶媒として使用可能な、アセト
ン、イソ-プロピルアルコール、ブチルアセテート、及
びブタノール等の溶媒中にはうまく溶けない。これらの
ポリマー物質は、典型的には、ジアセトンアルコール８
０重量％／水２０重量％での洗浄に耐性である。
【００４５】第二のポリマー物質として好ましいポリマ
ー物質の別の群は、その側鎖中に尿素結合を有する（す
なわちペンダントウレア基を有する）モノマーを含む、
水性アルカリ現像液可溶性コポリマーであり、例えばIs
hizukaの U. S. Pat. No. 5,731,127に開示されてい
る。これらのコポリマーは、下記一般式： ＣＨ２＝Ｃ（Ｒ）-ＣＯ２-Ｘ-ＮＨ-ＣＯ-ＮＨ-Ｙ-Ｚ [式中、Ｒは-Ｈ、または-ＣＨ３であり；Ｘは二価の結
合基であり；Ｙは置換もしくは無置換の二価の芳香族基
であり；及びＺは-ＯＨ、-ＣＯＯＨ、または-ＳＯ２Ｎ
Ｈ２である]によって表されるモノマーの一つを約１０
乃至８０重量％、好ましくは約２０乃至８０重量％含
む。
ー物質の別の群は、その側鎖中に尿素結合を有する（す
なわちペンダントウレア基を有する）モノマーを含む、
水性アルカリ現像液可溶性コポリマーであり、例えばIs
hizukaの U. S. Pat. No. 5,731,127に開示されてい
る。これらのコポリマーは、下記一般式： ＣＨ２＝Ｃ（Ｒ）-ＣＯ２-Ｘ-ＮＨ-ＣＯ-ＮＨ-Ｙ-Ｚ [式中、Ｒは-Ｈ、または-ＣＨ３であり；Ｘは二価の結
合基であり；Ｙは置換もしくは無置換の二価の芳香族基
であり；及びＺは-ＯＨ、-ＣＯＯＨ、または-ＳＯ２Ｎ
Ｈ２である]によって表されるモノマーの一つを約１０
乃至８０重量％、好ましくは約２０乃至８０重量％含
む。
【００４６】Ｒは好ましくは-ＣＨ３である。好ましく
は、Ｘは置換もしくは無置換のアルキレン基、置換もし
くは無置換のフェニレン[Ｃ６Ｈ４]基、または置換もし
くは無置換のナフタレン[Ｃ１０Ｈ６]基であり；例えば
-（ＣＨ２）ｎ-において、式中ｎが２乃至８のもの；
１，２-、１，３-、及び１，４-フェニレン；及び１，
４-、２，７-、及び１，８-ナフタレンである。更に好
ましくは、Ｘは無置換であり、いっそう好ましくはｎが
２または３であり；最も好ましくはＸは-（ＣＨ ２ＣＨ
２）-である。好ましくは、Ｙは置換もしくは無置換の
フェニレン基、または置換もしくは無置換のナフタレン
基；例えば１，２-、１，３-、及び１，４-フェニレ
ン；及び１，４-、２，７-、及び１，８-ナフタレンで
ある。更に好ましくは、Ｙは無置換であり、最も好まし
くは無置換の１，４-フェニレンである。Ｚは、-ＯＨ、
-ＣＯＯＨ、または-ＳＯ２ＮＨ２であｒ、好ましくは-
ＯＨである。好ましいモノマーは、下記： ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）-ＣＯ２-ＣＨ２ＣＨ２-ＮＨ-ＣＯ
-ＮＨ-p-Ｃ６Ｈ４-Ｚ [式中、Ｚは、-ＯＨ、-ＣＯＯＨ、または-ＳＯ２ＮＨ２
であり、好ましくは-ＯＨである]のものである。
は、Ｘは置換もしくは無置換のアルキレン基、置換もし
くは無置換のフェニレン[Ｃ６Ｈ４]基、または置換もし
くは無置換のナフタレン[Ｃ１０Ｈ６]基であり；例えば
-（ＣＨ２）ｎ-において、式中ｎが２乃至８のもの；
１，２-、１，３-、及び１，４-フェニレン；及び１，
４-、２，７-、及び１，８-ナフタレンである。更に好
ましくは、Ｘは無置換であり、いっそう好ましくはｎが
２または３であり；最も好ましくはＸは-（ＣＨ ２ＣＨ
２）-である。好ましくは、Ｙは置換もしくは無置換の
フェニレン基、または置換もしくは無置換のナフタレン
基；例えば１，２-、１，３-、及び１，４-フェニレ
ン；及び１，４-、２，７-、及び１，８-ナフタレンで
ある。更に好ましくは、Ｙは無置換であり、最も好まし
くは無置換の１，４-フェニレンである。Ｚは、-ＯＨ、
-ＣＯＯＨ、または-ＳＯ２ＮＨ２であｒ、好ましくは-
ＯＨである。好ましいモノマーは、下記： ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）-ＣＯ２-ＣＨ２ＣＨ２-ＮＨ-ＣＯ
-ＮＨ-p-Ｃ６Ｈ４-Ｚ [式中、Ｚは、-ＯＨ、-ＣＯＯＨ、または-ＳＯ２ＮＨ２
であり、好ましくは-ＯＨである]のものである。
【００４７】コポリマーの合成において、一以上のウレ
ア基含有モノマーを使用しても良い。該コポリマーはま
た、２乃至９０重量％の他の重合化可能モノマー、例え
ばマレイミド、アクリル酸、メタクリル酸、アクリルエ
ステル、メタクリルエステル、アクリロニトリル、メタ
クリロニトリル、アクリルアミド、及びメタクリルアミ
ド等を含む。アクリルアミド及び／またはメタクリルア
ミドに加えて６０mol％を越えるが９０mol％以下のアク
リロニトリル及び／またはメタクリロニトリルを含むコ
ポリマーは、優れた物理特性を提供する。更に好ましく
は、前記アルカリ溶解性コポリマーは、３０乃至７０重
量％のウレア基含有モノマー；２０乃至６０重量％のア
クリロニトリルまたはメタクリロニトリル、好ましくは
アクリロニトリル；及び５乃至２５重量％のアクリルア
ミドまたはメタクリルアミド、好ましくはメタクリルア
ミドを含む。
ア基含有モノマーを使用しても良い。該コポリマーはま
た、２乃至９０重量％の他の重合化可能モノマー、例え
ばマレイミド、アクリル酸、メタクリル酸、アクリルエ
ステル、メタクリルエステル、アクリロニトリル、メタ
クリロニトリル、アクリルアミド、及びメタクリルアミ
ド等を含む。アクリルアミド及び／またはメタクリルア
ミドに加えて６０mol％を越えるが９０mol％以下のアク
リロニトリル及び／またはメタクリロニトリルを含むコ
ポリマーは、優れた物理特性を提供する。更に好ましく
は、前記アルカリ溶解性コポリマーは、３０乃至７０重
量％のウレア基含有モノマー；２０乃至６０重量％のア
クリロニトリルまたはメタクリロニトリル、好ましくは
アクリロニトリル；及び５乃至２５重量％のアクリルア
ミドまたはメタクリルアミド、好ましくはメタクリルア
ミドを含む。
【００４８】上述のポリマー物質は、水性アルカリ現像
液中に可溶性である。更に、これらは、下地層用のコー
ティング溶媒として使用可能な、エチレングリコールモ
ノメチルエーテル等の極性溶媒中に可溶性である。しか
しながら、これらは、下地層を溶解させることなく下地
層の上にトップ層をコーティングするための溶媒として
使用可能な、２-ブタノン（メチルエチルケトン）など
のより極性の低い溶媒にはうまく溶けない。
液中に可溶性である。更に、これらは、下地層用のコー
ティング溶媒として使用可能な、エチレングリコールモ
ノメチルエーテル等の極性溶媒中に可溶性である。しか
しながら、これらは、下地層を溶解させることなく下地
層の上にトップ層をコーティングするための溶媒として
使用可能な、２-ブタノン（メチルエチルケトン）など
のより極性の低い溶媒にはうまく溶けない。
【００４９】これらのいずれの群のポリマー物質も、当
業者には周知の、例えばフリーラジカル重合などの方法
によって調製可能である。その側鎖中に尿素結合を有す
る水性アルカリ可溶性コポリマーの合成は、例えば、Is
hizukaの U. S. Pat. No. 5,731,127に開示されてい
る。
業者には周知の、例えばフリーラジカル重合などの方法
によって調製可能である。その側鎖中に尿素結合を有す
る水性アルカリ可溶性コポリマーの合成は、例えば、Is
hizukaの U. S. Pat. No. 5,731,127に開示されてい
る。
【００５０】別の水性アルカリ現像液可溶性ポリマー物
質を、下地層中に使用しても良い。Ｎ-置換環状イミド
部分を含むメチルビニルエーテル／無水マレイン酸コポ
リマーの誘導体及び、Ｎ-置換環状イミド部分を含むス
チレン／無水マレイン酸コポリマーの誘導体は、必要と
される溶解度特性を有するならば有用であり得る。これ
らのコポリマーは、無水マレイン酸コポリマーと、ｐ-
アミノベンゼンスルホンアミド、またはｐ-アミノフェ
ノールなどのアミンとの反応、及びこれに次ぐ酸による
閉環によって調製可能である。
質を、下地層中に使用しても良い。Ｎ-置換環状イミド
部分を含むメチルビニルエーテル／無水マレイン酸コポ
リマーの誘導体及び、Ｎ-置換環状イミド部分を含むス
チレン／無水マレイン酸コポリマーの誘導体は、必要と
される溶解度特性を有するならば有用であり得る。これ
らのコポリマーは、無水マレイン酸コポリマーと、ｐ-
アミノベンゼンスルホンアミド、またはｐ-アミノフェ
ノールなどのアミンとの反応、及びこれに次ぐ酸による
閉環によって調製可能である。
【００５１】下地層中において有用なポリマー物質の別
の群には、約１０乃至９０mol％のスルホンアミドモノ
マー単位を含む水性アルカリ現像液可溶性コポリマー、
特にＮ-（ｐ-アミノスルホニルフェニル）メタクリルア
ミド、Ｎ-（ｍ-アミノスルホニルフェニル）メタクリル
アミド、Ｎ-（ｏ-アミノスルホニルフェニル）メタクリ
ルアミド、及び／または対応するアクリルアミドを含む
ものが含まれる。ペンダントスルホンアミド基を含む、
有用なアルカリ現像液可溶性ポリマー物質、その調製方
法、及びその調製のために有用なモノマーは、Aoshima
の U. S. Pat. No. 5,141,838に開示されている。特に
有用なポリマー物質には、（１）スルホンアミドモノマ
ー単位、特にＮ-（ｐ-アミノスルホニルフェニル）メタ
クリルアミド；（２）アクリロニトリル及び／またはメ
タクリロニトリル；及び（３）メチルメタクリレート及
び／またはメチルアクリレートが含まれる。
の群には、約１０乃至９０mol％のスルホンアミドモノ
マー単位を含む水性アルカリ現像液可溶性コポリマー、
特にＮ-（ｐ-アミノスルホニルフェニル）メタクリルア
ミド、Ｎ-（ｍ-アミノスルホニルフェニル）メタクリル
アミド、Ｎ-（ｏ-アミノスルホニルフェニル）メタクリ
ルアミド、及び／または対応するアクリルアミドを含む
ものが含まれる。ペンダントスルホンアミド基を含む、
有用なアルカリ現像液可溶性ポリマー物質、その調製方
法、及びその調製のために有用なモノマーは、Aoshima
の U. S. Pat. No. 5,141,838に開示されている。特に
有用なポリマー物質には、（１）スルホンアミドモノマ
ー単位、特にＮ-（ｐ-アミノスルホニルフェニル）メタ
クリルアミド；（２）アクリロニトリル及び／またはメ
タクリロニトリル；及び（３）メチルメタクリレート及
び／またはメチルアクリレートが含まれる。
【００５２】アルカリ現像液可溶性ポリマー物質の組み
合わせを下地層中に使用して、化学耐性、すなわち湿し
水及び激しい洗浄の両方に対する耐性を向上させうる。
ＵＶ洗浄に対する耐性を試験する、ジアセトンアルコー
ル８０重量％／水２０重量％に耐性であるポリマー物質
と、アルコール／湿し水に対する耐性を試験する、２-
ブトキシエタノール２０重量％／水２０重量％に耐性で
あるポリマー物質との組み合わせは、驚くべきことに、
両方の溶媒混合物に優れた耐性を示す層を形成する。好
ましくは、第二ポリマー物質は、ジアセトンアルコール
８０重量％／水２０重量％中における一分間のソークロ
スが、約２０％未満、更に好ましくは約１０％未満、最
も好ましくは約５％未満であり、第二ポリマー物質は、
２-ブトキシエタノール８０重量％／水２０重量％中に
おける一分間のソークロスが、約２０％未満、更に好ま
しくは約１０％未満、最も好ましくは約１０％未満であ
る。一分間のソークロスは、基体上のポリマー物質の層
を、典型的には約１．５g/m2のコーティング重量でコー
ティングし、コーティングした基体を適当な溶媒中に室
温にて１分間浸し、前記のコーティングした基体を乾燥
させ、さらに前記基体上に存在するポリマー物質の全重
量のパーセントとして、重量損失を計量することによっ
て測定される。
合わせを下地層中に使用して、化学耐性、すなわち湿し
水及び激しい洗浄の両方に対する耐性を向上させうる。
ＵＶ洗浄に対する耐性を試験する、ジアセトンアルコー
ル８０重量％／水２０重量％に耐性であるポリマー物質
と、アルコール／湿し水に対する耐性を試験する、２-
ブトキシエタノール２０重量％／水２０重量％に耐性で
あるポリマー物質との組み合わせは、驚くべきことに、
両方の溶媒混合物に優れた耐性を示す層を形成する。好
ましくは、第二ポリマー物質は、ジアセトンアルコール
８０重量％／水２０重量％中における一分間のソークロ
スが、約２０％未満、更に好ましくは約１０％未満、最
も好ましくは約５％未満であり、第二ポリマー物質は、
２-ブトキシエタノール８０重量％／水２０重量％中に
おける一分間のソークロスが、約２０％未満、更に好ま
しくは約１０％未満、最も好ましくは約１０％未満であ
る。一分間のソークロスは、基体上のポリマー物質の層
を、典型的には約１．５g/m2のコーティング重量でコー
ティングし、コーティングした基体を適当な溶媒中に室
温にて１分間浸し、前記のコーティングした基体を乾燥
させ、さらに前記基体上に存在するポリマー物質の全重
量のパーセントとして、重量損失を計量することによっ
て測定される。
【００５３】湿し水及び激しい洗浄の両方に耐える、下
地層の能力は、下式： ＣＲＰ＝[（１００−ａ）（１００−ｂ）]／１０４ [式中、ａは、ジアセトンアルコール８０重量％／水２
０重量％中への一分間ソークロス（％）である；及びｂ
は、２-ブトキシエタノール８０重量％／水２０重量％
中への一分間ソークロス（％）である]に定義される化
学耐性パラメータ（ＣＲＰ）によって評価することがで
きる。
地層の能力は、下式： ＣＲＰ＝[（１００−ａ）（１００−ｂ）]／１０４ [式中、ａは、ジアセトンアルコール８０重量％／水２
０重量％中への一分間ソークロス（％）である；及びｂ
は、２-ブトキシエタノール８０重量％／水２０重量％
中への一分間ソークロス（％）である]に定義される化
学耐性パラメータ（ＣＲＰ）によって評価することがで
きる。
【００５４】化学耐性パラメータは、約０．４より大で
あり、好ましくは約０．５より大であり、いっそう好ま
しくは約０．６より大である。好ましい場合には、少な
くとも約０．６５の化学耐性パラメータが得られる。各
溶媒中への一分間ソークロスは、約６０％未満、好まし
くは約４０％未満、いっそう好ましくは約３５％未満で
ある。好ましくは、一分間ソークロスは、一方の溶媒中
で約６０％未満、好ましくは約４０％未満、いっそう好
ましくは約３５％未満であり、他方の溶媒中で約４０％
未満、より好ましくは約３０％未満、いっそう好ましく
は約２０％未満、最も好ましくは約１０％未満である。
あり、好ましくは約０．５より大であり、いっそう好ま
しくは約０．６より大である。好ましい場合には、少な
くとも約０．６５の化学耐性パラメータが得られる。各
溶媒中への一分間ソークロスは、約６０％未満、好まし
くは約４０％未満、いっそう好ましくは約３５％未満で
ある。好ましくは、一分間ソークロスは、一方の溶媒中
で約６０％未満、好ましくは約４０％未満、いっそう好
ましくは約３５％未満であり、他方の溶媒中で約４０％
未満、より好ましくは約３０％未満、いっそう好ましく
は約２０％未満、最も好ましくは約１０％未満である。
【００５５】（１）Ｎ-置換マレイミド、特にＮ-フェニ
ルマレイミド；メタクリルアミド、特にメタクリルアミ
ド；及びアクリルおよび／またはメタクリル酸、特にメ
タクリル酸を含むコポリマーと、（２）その側鎖中にウ
レアを含むアルカリ可溶性コポリマーとの、または、１
０乃至９０mol％のスルホンアミドモノマー単位を含む
アルカリ可溶性コポリマー、特にＮ-（ｐ-アミノスルホ
ニルフェニル）メタクリルアミド、Ｎ-（ｍ-アミノスル
ホニルフェニル）メタクリルアミド、Ｎ-（ｏ-アミノス
ルホニルフェニル）メタクリルアミド、及び／または対
応するアクリルアミドを含むものとの組み合わせが、特
に有利である。一以上の他のポリマー物質、例えばフェ
ノール樹脂もまた、前記組み合わせ中に存在して良い。
存在する場合だが、好ましい他のポリマー物質は、ノボ
ラック樹脂である。
ルマレイミド；メタクリルアミド、特にメタクリルアミ
ド；及びアクリルおよび／またはメタクリル酸、特にメ
タクリル酸を含むコポリマーと、（２）その側鎖中にウ
レアを含むアルカリ可溶性コポリマーとの、または、１
０乃至９０mol％のスルホンアミドモノマー単位を含む
アルカリ可溶性コポリマー、特にＮ-（ｐ-アミノスルホ
ニルフェニル）メタクリルアミド、Ｎ-（ｍ-アミノスル
ホニルフェニル）メタクリルアミド、Ｎ-（ｏ-アミノス
ルホニルフェニル）メタクリルアミド、及び／または対
応するアクリルアミドを含むものとの組み合わせが、特
に有利である。一以上の他のポリマー物質、例えばフェ
ノール樹脂もまた、前記組み合わせ中に存在して良い。
存在する場合だが、好ましい他のポリマー物質は、ノボ
ラック樹脂である。
【００５６】ポリマー物質の組み合わせを使用する場合
には、下地層は、典型的には、該下地層中の以下のポリ
マー物質全重量に基づいて、ジアセトンアルコール８０
重量％／水２０重量％に耐性であるポリマー物質を約１
０乃至約９０重量％、及び２-ブトキシエタノール８０
重量％／水２０重量％に耐性であるポリマー物質を約１
０乃至約９０重量％を含む。好ましくは、下地層は、該
下地層中の第一及び第二のポリマー物質全重量に基づい
て、ジアセトンアルコール８０重量％／水２０重量％に
耐性であるポリマー物質を約４０乃至約８５重量％、及
び２-ブトキシエタノール８０重量％／水２０重量％に
耐性であるポリマー物質を約１５乃至約６０重量％含
む。これらのポリマー物質は、合わせて、典型的には、
下地層中の前記物質全重量に基づいて下地層の少なくと
も５０重量％、好ましくは少なくとも約６０重量％、い
っそう好ましくは少なくとも約６５重量％を構成する。
下地層中のポリマー物質の全量に基づいて、約２０重量
％まで、好ましくは約１乃至約２０重量％までの他のポ
リマー物質が、下地層中に存在して良い。
には、下地層は、典型的には、該下地層中の以下のポリ
マー物質全重量に基づいて、ジアセトンアルコール８０
重量％／水２０重量％に耐性であるポリマー物質を約１
０乃至約９０重量％、及び２-ブトキシエタノール８０
重量％／水２０重量％に耐性であるポリマー物質を約１
０乃至約９０重量％を含む。好ましくは、下地層は、該
下地層中の第一及び第二のポリマー物質全重量に基づい
て、ジアセトンアルコール８０重量％／水２０重量％に
耐性であるポリマー物質を約４０乃至約８５重量％、及
び２-ブトキシエタノール８０重量％／水２０重量％に
耐性であるポリマー物質を約１５乃至約６０重量％含
む。これらのポリマー物質は、合わせて、典型的には、
下地層中の前記物質全重量に基づいて下地層の少なくと
も５０重量％、好ましくは少なくとも約６０重量％、い
っそう好ましくは少なくとも約６５重量％を構成する。
下地層中のポリマー物質の全量に基づいて、約２０重量
％まで、好ましくは約１乃至約２０重量％までの他のポ
リマー物質が、下地層中に存在して良い。
【００５７】下地層は、ネガ型の塩基可溶性光感受性組
成物を含んで良い。こうした組成物は、照射に際して現
像液不溶性になるため、しばしば「光硬化可能組成物」
または「光不溶解化可能組成物」と呼称される。典型的
には、これらの組成物は、化学作用のある放射、典型的
には紫外光への曝露に際して、光架橋、光二量体化、及
び／または光重合を経る物質を含む。光硬化可能組成物
は、優れた印刷寿命及び印刷室化学品に対する耐性を備
えた印刷板を形成する。ネガ型システムは、例えば、Ph
otoreactive Polymers: the Science and Technology o
f Resists, A.Reiser, Wiley, New York, 1989, pp. 22
-64の第二章に記載されている。
成物を含んで良い。こうした組成物は、照射に際して現
像液不溶性になるため、しばしば「光硬化可能組成物」
または「光不溶解化可能組成物」と呼称される。典型的
には、これらの組成物は、化学作用のある放射、典型的
には紫外光への曝露に際して、光架橋、光二量体化、及
び／または光重合を経る物質を含む。光硬化可能組成物
は、優れた印刷寿命及び印刷室化学品に対する耐性を備
えた印刷板を形成する。ネガ型システムは、例えば、Ph
otoreactive Polymers: the Science and Technology o
f Resists, A.Reiser, Wiley, New York, 1989, pp. 22
-64の第二章に記載されている。
【００５８】下地層は、ネガ型ジアゾニウム含有組成物
を含んで良い。典型的には、ジアゾニウム含有化合物
は、ジアゾニウム多重縮合生成物である。ジアゾニウム
多重縮合生成物は、当業者には周知である。これらは、
例えばジアゾモノマー、例えばToyamaのU. S. Pat. No.
4,687,727に記載のもの等と、縮合剤、例えばホルムア
ルデヒド、アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド、
ブチルアルデヒド、イソブチルアルデヒド、またはベン
ズアルデヒド等との縮合によって調製しても良い。さら
にまた、混合縮合生成物が使用されるが、これらはジア
ゾニウム塩単位とは別に、縮合可能化合物から、特に芳
香族アミン、フェノール、フェノールエーテル、芳香族
チオエーテル、芳香族炭化水素、芳香族複素環、または
有機酸アミドから誘導される他の非光感受性単位を含
む。ジアゾニウム光重縮合生成物の特に有利な例は、ジ
フェニルアミン-４-ジアゾニウム塩（任意にジアゾ基を
担持するフェニル基中にメトキシ基を有するもの）と、
ホルムアルデヒドまたは４，４’-ビス-メトキシメチル
ジフェニルエーテルとの反応生成物である。芳香族スル
ホネート、例えば４-トリイルスルホネートまたはメシ
チレンスルホネート、テトラフルオロボレート、ヘキサ
フルオロホスフェート、ヘキサフルオロアンチモネー
ト、及びヘキサフルオロアーセネート等が、特にこれら
ジアゾ樹脂のアニオンとして適当である。ジアゾニウム
重縮合生成物は、好ましくは３乃至６０重量％の量で光
感受性混合物中に存在する。
を含んで良い。典型的には、ジアゾニウム含有化合物
は、ジアゾニウム多重縮合生成物である。ジアゾニウム
多重縮合生成物は、当業者には周知である。これらは、
例えばジアゾモノマー、例えばToyamaのU. S. Pat. No.
4,687,727に記載のもの等と、縮合剤、例えばホルムア
ルデヒド、アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド、
ブチルアルデヒド、イソブチルアルデヒド、またはベン
ズアルデヒド等との縮合によって調製しても良い。さら
にまた、混合縮合生成物が使用されるが、これらはジア
ゾニウム塩単位とは別に、縮合可能化合物から、特に芳
香族アミン、フェノール、フェノールエーテル、芳香族
チオエーテル、芳香族炭化水素、芳香族複素環、または
有機酸アミドから誘導される他の非光感受性単位を含
む。ジアゾニウム光重縮合生成物の特に有利な例は、ジ
フェニルアミン-４-ジアゾニウム塩（任意にジアゾ基を
担持するフェニル基中にメトキシ基を有するもの）と、
ホルムアルデヒドまたは４，４’-ビス-メトキシメチル
ジフェニルエーテルとの反応生成物である。芳香族スル
ホネート、例えば４-トリイルスルホネートまたはメシ
チレンスルホネート、テトラフルオロボレート、ヘキサ
フルオロホスフェート、ヘキサフルオロアンチモネー
ト、及びヘキサフルオロアーセネート等が、特にこれら
ジアゾ樹脂のアニオンとして適当である。ジアゾニウム
重縮合生成物は、好ましくは３乃至６０重量％の量で光
感受性混合物中に存在する。
【００５９】多数のバインダ（第二ポリマー物質）が既
知である。こうしたシステムの一つは、Baumanの U. S.
Pat. No. 5,700,619に記載されている。前記バインダ
は、ペンダントカルボキシル基を有するアセタール化ポ
リビニルアルコールである。
知である。こうしたシステムの一つは、Baumanの U. S.
Pat. No. 5,700,619に記載されている。前記バインダ
は、ペンダントカルボキシル基を有するアセタール化ポ
リビニルアルコールである。
【００６０】下地層は、光重合化可能組成物を含んで良
い。好ましい光感受性組成物は、光重合化可能組成物で
あって、これは一以上のモノマー、一以上のバインダ
（第二ポリマー物質）、及び一以上の光開始剤システム
を含む。こうしたシステムは当業界においては周知であ
り、例えば、Photopolymers: Radiation Curable Imagi
ng Systems, B. M. Monroe, in Radiation Curing: Sci
ence and Technology, S. P. Pappas, Ed., Plenum, Ne
w York, 1992, pp. 399-440に議論されている。
い。好ましい光感受性組成物は、光重合化可能組成物で
あって、これは一以上のモノマー、一以上のバインダ
（第二ポリマー物質）、及び一以上の光開始剤システム
を含む。こうしたシステムは当業界においては周知であ
り、例えば、Photopolymers: Radiation Curable Imagi
ng Systems, B. M. Monroe, in Radiation Curing: Sci
ence and Technology, S. P. Pappas, Ed., Plenum, Ne
w York, 1992, pp. 399-440に議論されている。
【００６１】光重合化可能組成物は、一般にモノマーと
して知られ、フリーラジカル重合を経る、少なくとも一
のエチレン性不飽和化合物を含む。前記モノマーは、典
型的には多官能性であり、すなわちこれらは一以上のエ
チレン性不飽和であるフリーラジカル重合化可能基を含
む。典型的な多官能性モノマーは、アルコールの不飽和
エステル、好ましくはポリオールのアクリレート及びメ
タクリレートエステルである。オリゴマー及び／または
プレポリマー、例えばウレタンアクリレート及びメタク
リレート、エポキシドアクリレート及びメタクリレー
ト、ポリエステルアクリレート及びメタクリレート、ポ
リエーテルアクリレート及びメタクリレート、または不
飽和ポリエステル樹脂もまた使用して良い。フリーラジ
カルに開始される重合化により重合化可能であり、光重
合化可能組成物中において有用な、多数の他の不飽和モ
ノマーが当業者には知られている。
して知られ、フリーラジカル重合を経る、少なくとも一
のエチレン性不飽和化合物を含む。前記モノマーは、典
型的には多官能性であり、すなわちこれらは一以上のエ
チレン性不飽和であるフリーラジカル重合化可能基を含
む。典型的な多官能性モノマーは、アルコールの不飽和
エステル、好ましくはポリオールのアクリレート及びメ
タクリレートエステルである。オリゴマー及び／または
プレポリマー、例えばウレタンアクリレート及びメタク
リレート、エポキシドアクリレート及びメタクリレー
ト、ポリエステルアクリレート及びメタクリレート、ポ
リエーテルアクリレート及びメタクリレート、または不
飽和ポリエステル樹脂もまた使用して良い。フリーラジ
カルに開始される重合化により重合化可能であり、光重
合化可能組成物中において有用な、多数の他の不飽和モ
ノマーが当業者には知られている。
【００６２】前記組成物は、一般的にバインダ（第二ポ
リマー物質）として既知の少なくとも一の予備生成させ
た巨大分子ポリマー物質を含む。一般的に、前記バイン
ダは、コーティング溶媒中で膨潤可能または、好ましく
は可溶性であって、光重合化可能システムの他の成分と
適合性であるべきである。代表的なバインダ、すなわち
第二ポリマー物質は、ポリ（メチルメタクリレート）及
び、メチルメタクリレートの他のアルキルアクリレー
ト、アルキルメタクリレート、メタクリル酸、及び／ま
たはアクリル酸とのコポリマーである。光重合化可能組
成物中において有用は多数の別のバインダが、当業者に
は既知である。
リマー物質）として既知の少なくとも一の予備生成させ
た巨大分子ポリマー物質を含む。一般的に、前記バイン
ダは、コーティング溶媒中で膨潤可能または、好ましく
は可溶性であって、光重合化可能システムの他の成分と
適合性であるべきである。代表的なバインダ、すなわち
第二ポリマー物質は、ポリ（メチルメタクリレート）及
び、メチルメタクリレートの他のアルキルアクリレー
ト、アルキルメタクリレート、メタクリル酸、及び／ま
たはアクリル酸とのコポリマーである。光重合化可能組
成物中において有用は多数の別のバインダが、当業者に
は既知である。
【００６３】前記物質を、画像化及び現像後に紫外線ま
たは可視光線で照射して硬化させようとする場合、光開
始剤システムとして既知の、紫外線または可視光線によ
って活性化可能なフリーラジカル発生開始システムが、
重合化可能モノマーの重合化を促進するために存在して
も良い。光開始剤システムは、スペクトルの紫外及び／
または可視領域内、すなわち３００乃至８００nmの範囲
内、好ましくは紫外線、すなわち３００乃至４００nmの
範囲内で吸収する。
たは可視光線で照射して硬化させようとする場合、光開
始剤システムとして既知の、紫外線または可視光線によ
って活性化可能なフリーラジカル発生開始システムが、
重合化可能モノマーの重合化を促進するために存在して
も良い。光開始剤システムは、スペクトルの紫外及び／
または可視領域内、すなわち３００乃至８００nmの範囲
内、好ましくは紫外線、すなわち３００乃至４００nmの
範囲内で吸収する。
【００６４】光開始剤システムは、単独の化合物または
化合物の混合物であって良い。好適な光開始剤システム
は、"Photoinitiators for Free-Radical-Initiated Ph
otoimaging Systems," by B. M. Monroe and G. C. Wee
d, Chem. Rev., 93, 435-448(1993)及び"Free Radical
Polymerization" by K. K. Dietliker, in Chemistryan
d Technology of UV and EB Formulatino for Coating
s, Inks, and Paints,P. K. T. Oldring, ed, SITA Tec
hnology Ltd., London, 1991, Vol 3, pp. 59-525に開
示されている。典型的なフリーラジカル光開始剤化合物
には、ミヒラーケトン／ベンゾフェノン；ベンゾフェノ
ン、２-ヒドロキシ-２-メチル-１-フェニルプロパン-１
-オン（DAROCUR 1173）；２，４，６-トリメチルベンゾ
リル-ジフェニルホスフィンオキシド（LUCERIN(登録商
標) TPO）；２-イソプロピルチオキサントン；２-クロ
ロチオキサントン；２，２-ジメトキシ-２-フェニルア
セトフェノン（IGACURE(登録商標) 651, LUCERIN(登録
商標) BDK）；２-メチル-１-[４-（メチルチオ）フェニ
ル]-２-モルホリノプロパノン-１(IRGACURE(登録商標)9
07)；１-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(HCP
K, IRGACURE(登録商標) 184)；ビス（２，６-ジメトキ
シベンゾリル）-２，４，４-トリメチル-ペンチルホス
フィンオキシド；及びこれらの混合物が含まれる。
化合物の混合物であって良い。好適な光開始剤システム
は、"Photoinitiators for Free-Radical-Initiated Ph
otoimaging Systems," by B. M. Monroe and G. C. Wee
d, Chem. Rev., 93, 435-448(1993)及び"Free Radical
Polymerization" by K. K. Dietliker, in Chemistryan
d Technology of UV and EB Formulatino for Coating
s, Inks, and Paints,P. K. T. Oldring, ed, SITA Tec
hnology Ltd., London, 1991, Vol 3, pp. 59-525に開
示されている。典型的なフリーラジカル光開始剤化合物
には、ミヒラーケトン／ベンゾフェノン；ベンゾフェノ
ン、２-ヒドロキシ-２-メチル-１-フェニルプロパン-１
-オン（DAROCUR 1173）；２，４，６-トリメチルベンゾ
リル-ジフェニルホスフィンオキシド（LUCERIN(登録商
標) TPO）；２-イソプロピルチオキサントン；２-クロ
ロチオキサントン；２，２-ジメトキシ-２-フェニルア
セトフェノン（IGACURE(登録商標) 651, LUCERIN(登録
商標) BDK）；２-メチル-１-[４-（メチルチオ）フェニ
ル]-２-モルホリノプロパノン-１(IRGACURE(登録商標)9
07)；１-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(HCP
K, IRGACURE(登録商標) 184)；ビス（２，６-ジメトキ
シベンゾリル）-２，４，４-トリメチル-ペンチルホス
フィンオキシド；及びこれらの混合物が含まれる。
【００６５】ジアゾニウム重縮合生成物と遊離の重合化
可能システムとの組み合わせを含むハイブリッドシステ
ムは、所定の用途に有利でありうる。こうしたハイブリ
ッドシステムの組成物は、好ましくは、１乃至５０％の
ジアゾニウム重縮合生成物、０．５乃至２０％の光開始
剤、並びに５乃至８０％のフリーラジカル重合化可能成
分を含む。
可能システムとの組み合わせを含むハイブリッドシステ
ムは、所定の用途に有利でありうる。こうしたハイブリ
ッドシステムの組成物は、好ましくは、１乃至５０％の
ジアゾニウム重縮合生成物、０．５乃至２０％の光開始
剤、並びに５乃至８０％のフリーラジカル重合化可能成
分を含む。
【００６６】光架橋可能システムは、典型的には、少な
くとも一のバインダ及び、照射の際に前記バインダに架
橋する、光活性化された少なくとも二官能性の架橋剤を
含む。有機アジドが、照射に際してニトレンを形成する
と信じられているが、バインダに架橋させるために使用
されている。ジアジド化合物、例えば４，４’-ジアジ
ドスチルベンのジスルホン化誘導体は、光架橋のために
好ましいアジドである。
くとも一のバインダ及び、照射の際に前記バインダに架
橋する、光活性化された少なくとも二官能性の架橋剤を
含む。有機アジドが、照射に際してニトレンを形成する
と信じられているが、バインダに架橋させるために使用
されている。ジアジド化合物、例えば４，４’-ジアジ
ドスチルベンのジスルホン化誘導体は、光架橋のために
好ましいアジドである。
【００６７】光二量体化可能システムは、照射の際に架
橋を形成するバインダを含む。光架橋可能バインダに
は、例えば、Minskの U. S. Pat. Nos. 2,690,966及び
2,725,372に記載のようにシンナメート基で、または例
えばIchimuraの U. S. Pat. Nos4,272,620; 4,287,335;
4,339,524; 4,564,580;及び4,777,114に記載のように
Ｎ-アルキルスチリルピリジニウムまたはＮ-アルキルス
チリルキノリニウム基で、官能化されたポリビニルアル
コールが含まれる。他の光架橋可能システムは、例え
ば、Osadaの U. S. Pat. No. 3,804,628及びAoyamaの
U. S. Pat. No. 5,240,808に記載されている。
橋を形成するバインダを含む。光架橋可能バインダに
は、例えば、Minskの U. S. Pat. Nos. 2,690,966及び
2,725,372に記載のようにシンナメート基で、または例
えばIchimuraの U. S. Pat. Nos4,272,620; 4,287,335;
4,339,524; 4,564,580;及び4,777,114に記載のように
Ｎ-アルキルスチリルピリジニウムまたはＮ-アルキルス
チリルキノリニウム基で、官能化されたポリビニルアル
コールが含まれる。他の光架橋可能システムは、例え
ば、Osadaの U. S. Pat. No. 3,804,628及びAoyamaの
U. S. Pat. No. 5,240,808に記載されている。
【００６８】従来の添加剤、例えば染料、顔料、可塑
剤、増感剤、安定剤、界面活性剤、コーディング助剤、
及びプリントアウト画像を作り出すロイコ染料などの成
分を、ネガ型のアルカリ性現像可能組成物中に含めるこ
とができる。
剤、増感剤、安定剤、界面活性剤、コーディング助剤、
及びプリントアウト画像を作り出すロイコ染料などの成
分を、ネガ型のアルカリ性現像可能組成物中に含めるこ
とができる。
【００６９】ネガ型光感受性組成物が下地層中に使用さ
れるが、該システムはポジ型である。画像化及び現像に
よって、非画像化領域においてよりも画像化領域におい
て、トップ層、吸収層、及び下地層が除去される。しか
しながら、前記システムがポジ型であっても、従来のネ
ガ型印刷版前駆体に通常使用される現像液中で現像可能
である。印刷版前駆体が、光重合化可能組成物を含むな
らば、熱画像化及び現像の後に、これを全体的または全
面的に紫外線に曝露して、画像を不溶解化または「硬
化」させることが好ましい。印刷版が、フェノール樹脂
及び光酸発生剤を含むならば、熱画像化及び現像の後
に、これを全体的または全面的に紫外線に曝露し、その
後加熱または焼成して画像を不溶解化または「硬化」さ
せることが好ましい。
れるが、該システムはポジ型である。画像化及び現像に
よって、非画像化領域においてよりも画像化領域におい
て、トップ層、吸収層、及び下地層が除去される。しか
しながら、前記システムがポジ型であっても、従来のネ
ガ型印刷版前駆体に通常使用される現像液中で現像可能
である。印刷版前駆体が、光重合化可能組成物を含むな
らば、熱画像化及び現像の後に、これを全体的または全
面的に紫外線に曝露して、画像を不溶解化または「硬
化」させることが好ましい。印刷版が、フェノール樹脂
及び光酸発生剤を含むならば、熱画像化及び現像の後
に、これを全体的または全面的に紫外線に曝露し、その
後加熱または焼成して画像を不溶解化または「硬化」さ
せることが好ましい。
【００７０】熱画像化可能構成体の調製
熱画像化可能構成体は、順番に、必要な場合は親水性基
体の親水性表面上に下地層を塗布した上で下地層の上に
吸収層を塗布し、あるいは下地層が存在しない場合は親
水性基体の親水性表面上に吸収層を塗布し、その後従来
のコーティング及び／または積層方法を利用して、吸収
層の上にトップ層を塗布することによって調製しても良
い。しかしながら、この処理の間に、層が混合すること
を避けるのが重要である。特に、トップ層が実質的に光
熱転換物質を含まないことが重要である。
体の親水性表面上に下地層を塗布した上で下地層の上に
吸収層を塗布し、あるいは下地層が存在しない場合は親
水性基体の親水性表面上に吸収層を塗布し、その後従来
のコーティング及び／または積層方法を利用して、吸収
層の上にトップ層を塗布することによって調製しても良
い。しかしながら、この処理の間に、層が混合すること
を避けるのが重要である。特に、トップ層が実質的に光
熱転換物質を含まないことが重要である。
【００７１】存在するならば、下地層は、あらゆる定法
によって親水性基体上に塗布されても良い。典型的に
は、前記成分は適当なコーティング溶媒中に分散または
溶解され、得られる混合物は定法、例えばスピンコーテ
ィング、バーコーティング、グラビアコーティング、ま
たはローラーコーティング等によってコーティングされ
る。吸収層は、下地層上に、典型的には下地層の表面上
に、あるいは下地層が存在しない場合には典型的には親
水性基体の親水性表面上に、以上に列挙したような如何
なる定法によって塗布されても良い。「溶媒」なる語に
は、溶媒、特に有機溶媒の混合物が含まれる。
によって親水性基体上に塗布されても良い。典型的に
は、前記成分は適当なコーティング溶媒中に分散または
溶解され、得られる混合物は定法、例えばスピンコーテ
ィング、バーコーティング、グラビアコーティング、ま
たはローラーコーティング等によってコーティングされ
る。吸収層は、下地層上に、典型的には下地層の表面上
に、あるいは下地層が存在しない場合には典型的には親
水性基体の親水性表面上に、以上に列挙したような如何
なる定法によって塗布されても良い。「溶媒」なる語に
は、溶媒、特に有機溶媒の混合物が含まれる。
【００７２】前記層のコーティングに使用される溶媒の
選択は、第一ポリマー物質、光熱転換物質、及びもし存
在する場合には第二ポリマー物質、並びにもしあれば該
層中に存在する他の成分の性質に依存する。吸収層を下
地層の上にコーティングした際に、前記下地層が溶解し
て前記吸収層と混合することを避けるため、前記吸収層
は、第二ポリマー物質が本質的に不溶性である溶媒によ
りコーティングされるべきである。したがって、吸収層
のためのコーティング溶媒は、光熱転換物質を充分に溶
解するものであって吸収層が形成できるような、また第
二ポリマー物質及びもしあれば下地層の他の成分が本質
的に不溶性であるような、溶媒であるべきである。前記
光熱転換物質が顔料であるならば、これは、第二ポリマ
ー物質及びもしあれば下地層の他の成分が本質的に不溶
性である、コーティング溶媒中に分散されているべきで
ある。
選択は、第一ポリマー物質、光熱転換物質、及びもし存
在する場合には第二ポリマー物質、並びにもしあれば該
層中に存在する他の成分の性質に依存する。吸収層を下
地層の上にコーティングした際に、前記下地層が溶解し
て前記吸収層と混合することを避けるため、前記吸収層
は、第二ポリマー物質が本質的に不溶性である溶媒によ
りコーティングされるべきである。したがって、吸収層
のためのコーティング溶媒は、光熱転換物質を充分に溶
解するものであって吸収層が形成できるような、また第
二ポリマー物質及びもしあれば下地層の他の成分が本質
的に不溶性であるような、溶媒であるべきである。前記
光熱転換物質が顔料であるならば、これは、第二ポリマ
ー物質及びもしあれば下地層の他の成分が本質的に不溶
性である、コーティング溶媒中に分散されているべきで
ある。
【００７３】吸収層を下地層の上にコーティングした際
に、前記吸収層が溶解してトップ層と混合することを避
けるため、前記トップ層は、光熱転換物質が本質的に不
溶性である溶媒によりコーティングされるべきである。
溶媒は、ポリマー物質の性質に依存して使用されるが、
典型的には第二ポリマー物質は、極性が高い溶媒中に可
溶性で、極性の低い溶媒中に不溶性であるため、下地層
のコーティングに使用する溶媒は、トップ層のコーティ
ングに使用する溶媒よりも極性が高い。
に、前記吸収層が溶解してトップ層と混合することを避
けるため、前記トップ層は、光熱転換物質が本質的に不
溶性である溶媒によりコーティングされるべきである。
溶媒は、ポリマー物質の性質に依存して使用されるが、
典型的には第二ポリマー物質は、極性が高い溶媒中に可
溶性で、極性の低い溶媒中に不溶性であるため、下地層
のコーティングに使用する溶媒は、トップ層のコーティ
ングに使用する溶媒よりも極性が高い。
【００７４】トップ層は、コーティング処理の間に吸収
層が溶解するのを避けるために、水性分散物としてコー
ティングしても良い。あるいはまた、下地層、トップ
層、または両方の層を、層成分の溶融混合物から、従来
の押出しコーティングによって塗布しても良い。典型的
には、こうした溶融混合物には、不揮発性有機溶媒が含
まれる。光熱転換物質が昇華可能染料であるならば、吸
収層は、存在する場合は下地層上に、あるいは下地層が
存在しないならば親水性基体の親水性表面上に、光熱転
換物質の昇華によって付着させても良い。
層が溶解するのを避けるために、水性分散物としてコー
ティングしても良い。あるいはまた、下地層、トップ
層、または両方の層を、層成分の溶融混合物から、従来
の押出しコーティングによって塗布しても良い。典型的
には、こうした溶融混合物には、不揮発性有機溶媒が含
まれる。光熱転換物質が昇華可能染料であるならば、吸
収層は、存在する場合は下地層上に、あるいは下地層が
存在しないならば親水性基体の親水性表面上に、光熱転
換物質の昇華によって付着させても良い。
【００７５】画像化及び現像処理
熱画像化可能構成体の画像化は、周知の方法により行っ
て良い。前記構成体は、吸収層により吸収される、波長
領域中において変調された近赤外線または赤外線を放出
するレーザーまたはレーザーアレーで画像化して良い。
赤外線、特に約８００nm乃至約１２００nmの範囲の赤外
線は、典型的に、熱画像化可能構成体の画像化のために
使用される。画像化は、約８３０nmまたは約１０５６nm
にて放射するレーザを用いて簡便に行われる。好適な市
販の画像形成装置には、画像セッター、例えばCreo Tre
ndsetter(CREO, British Columbia, Canada)及びGerber
Crescent 42T(Gerber)等が含まれる。
て良い。前記構成体は、吸収層により吸収される、波長
領域中において変調された近赤外線または赤外線を放出
するレーザーまたはレーザーアレーで画像化して良い。
赤外線、特に約８００nm乃至約１２００nmの範囲の赤外
線は、典型的に、熱画像化可能構成体の画像化のために
使用される。画像化は、約８３０nmまたは約１０５６nm
にて放射するレーザを用いて簡便に行われる。好適な市
販の画像形成装置には、画像セッター、例えばCreo Tre
ndsetter(CREO, British Columbia, Canada)及びGerber
Crescent 42T(Gerber)等が含まれる。
【００７６】あるいはまた、熱画像化可能構成体は、サ
ーマル印刷ヘッドを備えた従来の装置を利用して画像化
しても良い。熱画像化可能構成体と共に使用するのに好
適な画像形成装置には、少なくとも一のサーマルヘッド
が含まれるが、通常はサーマルヘッドのアレー、例えば
サーマルファックス機及び昇華プリンタに使用されてい
るTDK Model No. LV5416またはGS618-400サーマルプロ
ッタ（Oyo Instruments, Houston, TX, USA）等が含ま
れる。
ーマル印刷ヘッドを備えた従来の装置を利用して画像化
しても良い。熱画像化可能構成体と共に使用するのに好
適な画像形成装置には、少なくとも一のサーマルヘッド
が含まれるが、通常はサーマルヘッドのアレー、例えば
サーマルファックス機及び昇華プリンタに使用されてい
るTDK Model No. LV5416またはGS618-400サーマルプロ
ッタ（Oyo Instruments, Houston, TX, USA）等が含ま
れる。
【００７７】画像化により画像化済み構成体が得られる
が、これは画像（非露光）領域および非画像（露光済
み）領域の潜像を含む。画像化済み構成体の現像により
印刷版または印刷フォームが形成され、非画像（露光済
み）領域が除去されて下にある基体の親水性表面が現れ
ることにより、潜像が画像に変換される。
が、これは画像（非露光）領域および非画像（露光済
み）領域の潜像を含む。画像化済み構成体の現像により
印刷版または印刷フォームが形成され、非画像（露光済
み）領域が除去されて下にある基体の親水性表面が現れ
ることにより、潜像が画像に変換される。
【００７８】前記現像液は、トップ層の露光領域、吸収
層のその下にある領域、及びもし存在するならば下地層
のその下にある領域に、実質的に相対する非露光領域に
影響を与えることなく、浸透してこれらを除去すること
のできる、あらゆる液体または溶液であって良い。如何
なる理論または説明によっても束縛されることなく、画
像分解能は、速度論的作用に基づくと信じられている。
トップ層の露光領域は、現像液中において非露光領域よ
りも速く除去される。現像は、現像液中において、トッ
プ層の露光領域、吸収層のその下にある領域、及びもし
存在するならば下地層のその下にある領域を除去するた
めに充分な時間に亘って行われる。ゆえに、前記露光領
域が「可溶性」または「除去可能」と説明されるのは、
これらが現像液中において、非露光領域よりも迅速に除
去され、溶解及び／または分散されるためである。典型
的には、もし存在するならば、前記下地層は現像液中に
溶解され、前記吸収層は現像液中に溶解または分散さ
れ、及び前記トップ層は現像液中に分散される。
層のその下にある領域、及びもし存在するならば下地層
のその下にある領域に、実質的に相対する非露光領域に
影響を与えることなく、浸透してこれらを除去すること
のできる、あらゆる液体または溶液であって良い。如何
なる理論または説明によっても束縛されることなく、画
像分解能は、速度論的作用に基づくと信じられている。
トップ層の露光領域は、現像液中において非露光領域よ
りも速く除去される。現像は、現像液中において、トッ
プ層の露光領域、吸収層のその下にある領域、及びもし
存在するならば下地層のその下にある領域を除去するた
めに充分な時間に亘って行われる。ゆえに、前記露光領
域が「可溶性」または「除去可能」と説明されるのは、
これらが現像液中において、非露光領域よりも迅速に除
去され、溶解及び／または分散されるためである。典型
的には、もし存在するならば、前記下地層は現像液中に
溶解され、前記吸収層は現像液中に溶解または分散さ
れ、及び前記トップ層は現像液中に分散される。
【００７９】溶解阻害剤を含むトップ層については、有
用な現像液は、約７より大なるｐＨを有する水性溶液で
ある。好ましい水性アルカリ現像液は、約８乃至約１
３．５、典型的には少なくとも約１１、好ましくは少な
くとも約１２のｐＨを有するものである。完全に水性の
現像液、すなわち、有機溶媒が添加されていないものが
好ましい。有用な現像液には、市販の現像液、例えばPC
3000、PC955、及びPC9000が含まれ、これらはそれぞ
れ、Kodak Polychrome Graphics LLCより入手可能な水
性アルカリ現像液である。現像液は、例えば、Yamasue
の U. S. Pat. No. 4,259,434; Seinoの U. S. Pat. N
o. 4,452,880; Millerの U. S. Pat. No. 5,851,735; E
cklerの U. S. Pat. No. 5,998,102; Miroの EB-A-0732
628; Toyamaの GB-A-2,276,729 (DE-A-4411176);及びFi
ebagのU. S. Pat. No. 6,143,479に記載されている。
用な現像液は、約７より大なるｐＨを有する水性溶液で
ある。好ましい水性アルカリ現像液は、約８乃至約１
３．５、典型的には少なくとも約１１、好ましくは少な
くとも約１２のｐＨを有するものである。完全に水性の
現像液、すなわち、有機溶媒が添加されていないものが
好ましい。有用な現像液には、市販の現像液、例えばPC
3000、PC955、及びPC9000が含まれ、これらはそれぞ
れ、Kodak Polychrome Graphics LLCより入手可能な水
性アルカリ現像液である。現像液は、例えば、Yamasue
の U. S. Pat. No. 4,259,434; Seinoの U. S. Pat. N
o. 4,452,880; Millerの U. S. Pat. No. 5,851,735; E
cklerの U. S. Pat. No. 5,998,102; Miroの EB-A-0732
628; Toyamaの GB-A-2,276,729 (DE-A-4411176);及びFi
ebagのU. S. Pat. No. 6,143,479に記載されている。
【００８０】現像は、典型的には浸液タイプの現像バ
ス、水で濯ぐためのセクション、固化（gumming）セク
ション、乾燥セクション、及び伝導率測定ユニットを備
えた処理装置中で行われる。典型的には、前記現像液
は、現像液を含ませたアプリケーターで前記構成体を擦
るまたは拭うことによって画像化済み前駆体に塗布す
る。あるいはまた、前記画像化済み前駆体に現像液を刷
毛塗りしても、または現像液を前記前駆体に、当該成分
を充分な力でスプレーすることによって適用し、露光領
域を除去しても良い。いずれの場合でも、印刷版が製造
される。現像は、市販の処理装置、例えばMercury Proc
essor (Kodak Polychrome Graphics)等の中において行
って良い。
ス、水で濯ぐためのセクション、固化（gumming）セク
ション、乾燥セクション、及び伝導率測定ユニットを備
えた処理装置中で行われる。典型的には、前記現像液
は、現像液を含ませたアプリケーターで前記構成体を擦
るまたは拭うことによって画像化済み前駆体に塗布す
る。あるいはまた、前記画像化済み前駆体に現像液を刷
毛塗りしても、または現像液を前記前駆体に、当該成分
を充分な力でスプレーすることによって適用し、露光領
域を除去しても良い。いずれの場合でも、印刷版が製造
される。現像は、市販の処理装置、例えばMercury Proc
essor (Kodak Polychrome Graphics)等の中において行
って良い。
【００８１】現像に次いで、印刷版を水で濯ぎ、乾燥さ
せる。乾燥は、赤外線照射またはホット・エアによって
簡便に行って良い。乾燥後、前記印刷版を固化溶液で処
理して良い。固化溶液は、一以上の水溶性ポリマー、例
えばポリビニルアルコール、ポリメタクリル酸、ポリメ
タクリルアミド、ポリヒドロキシエチルメタクリレー
ト、ポリビニルメチルエーテル、ゼラチン、及びポリサ
ッカライド、例えばデキストラン、プルラン、セルロー
ス、アラビアゴム、及びアルギン酸などを含む。好まし
い物質はアラビアゴムである。
せる。乾燥は、赤外線照射またはホット・エアによって
簡便に行って良い。乾燥後、前記印刷版を固化溶液で処
理して良い。固化溶液は、一以上の水溶性ポリマー、例
えばポリビニルアルコール、ポリメタクリル酸、ポリメ
タクリルアミド、ポリヒドロキシエチルメタクリレー
ト、ポリビニルメチルエーテル、ゼラチン、及びポリサ
ッカライド、例えばデキストラン、プルラン、セルロー
ス、アラビアゴム、及びアルギン酸などを含む。好まし
い物質はアラビアゴムである。
【００８２】現像し、固化させた印刷版は、印刷版の耐
刷力を増大させるために焼成しても良い。焼成は、例え
ば約２２０℃乃至約２４０℃にて、約７乃至１０分間に
亘り、または１２０℃にて３０分間に亘り行うことがで
きる。
刷力を増大させるために焼成しても良い。焼成は、例え
ば約２２０℃乃至約２４０℃にて、約７乃至１０分間に
亘り、または１２０℃にて３０分間に亘り行うことがで
きる。
【００８３】下地層が、ネガ型の塩基可溶性光感受性組
成物を含むならば、現像済み構成体を化学作用を有する
光線に曝露して該組成物を硬化させても良い。前記光感
受性組成物の吸収帯と重複するスペクトルの領域中に波
長をもつ、いかなる化学光線源を使用して、光反応を活
性化させることも可能である。「化学光線」が意味する
のは、下地層における光反応または硬化を誘発すること
のできる、あらゆる放射である。従来の光源には、蛍光
ランプ、水銀ランプ、金属添加物ランプ、及びアーク灯
が含まれる。同等の光源は、レーザー、例えばキセノ
ン、アルゴンイオン、及びイオン化ネオンレーザー、並
びに可変波長染料レーザー、及び周波数二倍ネオジミウ
ム；ＹＡＧレーザーである。曝露は、好ましくは全体ま
たは全面曝露である。
成物を含むならば、現像済み構成体を化学作用を有する
光線に曝露して該組成物を硬化させても良い。前記光感
受性組成物の吸収帯と重複するスペクトルの領域中に波
長をもつ、いかなる化学光線源を使用して、光反応を活
性化させることも可能である。「化学光線」が意味する
のは、下地層における光反応または硬化を誘発すること
のできる、あらゆる放射である。従来の光源には、蛍光
ランプ、水銀ランプ、金属添加物ランプ、及びアーク灯
が含まれる。同等の光源は、レーザー、例えばキセノ
ン、アルゴンイオン、及びイオン化ネオンレーザー、並
びに可変波長染料レーザー、及び周波数二倍ネオジミウ
ム；ＹＡＧレーザーである。曝露は、好ましくは全体ま
たは全面曝露である。
【００８４】いったん画像化可能構成体が画像化及び現
像されると、湿し水を、次にその表面上の画像にリソグ
ラフインクを塗布することにより、印刷を行うことがで
きる。湿し水は、画像化（露光済み）領域、すなわち画
像化及び現像処理によって露出した親水性基体の表面に
付着し、インクは非画像（非露光）領域に付着する。前
記インクは、好適な受容物質（例えば布、紙、金属、ガ
ラス、またはプラスチック等）に、直接的またはオフセ
ット印刷ブランケットの使用を経て間接的に転移して、
そこに画像の所望の版りを与える。所望であれば、画像
形成部材を、版りの間に従来のクリーニング手段を用い
てクリーニングすることができる。
像されると、湿し水を、次にその表面上の画像にリソグ
ラフインクを塗布することにより、印刷を行うことがで
きる。湿し水は、画像化（露光済み）領域、すなわち画
像化及び現像処理によって露出した親水性基体の表面に
付着し、インクは非画像（非露光）領域に付着する。前
記インクは、好適な受容物質（例えば布、紙、金属、ガ
ラス、またはプラスチック等）に、直接的またはオフセ
ット印刷ブランケットの使用を経て間接的に転移して、
そこに画像の所望の版りを与える。所望であれば、画像
形成部材を、版りの間に従来のクリーニング手段を用い
てクリーニングすることができる。
【００８５】本発明の有利な特性は、以下の実施例を参
照して観察することができるが、これらは本発明を詳説
するが限定するものではない。本明細書、実施例及び請
求の範囲において、特記のない限りは全てのパーセンテ
ージは現像液の重量に基づく重量パーセンテージであ
る。
照して観察することができるが、これらは本発明を詳説
するが限定するものではない。本明細書、実施例及び請
求の範囲において、特記のない限りは全てのパーセンテ
ージは現像液の重量に基づく重量パーセンテージであ
る。
【００８６】
【実施例】用語集
ADS-830 WS：赤外線吸収染料（λmax＝８３０nm）（Ame
rican Dye Source, Montreal, Canada） コポリマーＡ：Ｎ-フェニルマレイミド、メタクリルア
ミド、及びメタクリル酸のコポリマー（４５：３５：２
０mol％） Cymel-303：ヘキサメトキシメチルメラミン（American
Cyanamid, Tronto, Ontario, Canada） Byk 307：ポリエトキシル化ジメチルポリシロキサンコ
ポリマー（Bky-Chemie, Wallingford, CT, USA） エチルバイオレット：C.I. 42600; CAS2390-59-2（λ
max＝５９６nm）[（p-（ＣＨ３ＣＨ２）２ＮＣ６Ｈ４）
３Ｃ＋Ｃｌ−] Nacure 2530：アミン保護p-トルエンスルホン酸（King
Industries SpecialityChemicals, Norwalk, CT, USA） TRITON（登録商標） X-100：オクトキシノール-９、エ
トキシル化アルキルフェノール（Rohm & Haas, Philade
lphia, PA） Trump ＩＲ染料：赤外線吸収染料（λmax＝８３０nm）
（Eastman Kodak, Rochester, NY, USA） Witco Bond W-240：ポリウレタン樹脂（Crompton Cor
p., Chicago, IL, USA）
rican Dye Source, Montreal, Canada） コポリマーＡ：Ｎ-フェニルマレイミド、メタクリルア
ミド、及びメタクリル酸のコポリマー（４５：３５：２
０mol％） Cymel-303：ヘキサメトキシメチルメラミン（American
Cyanamid, Tronto, Ontario, Canada） Byk 307：ポリエトキシル化ジメチルポリシロキサンコ
ポリマー（Bky-Chemie, Wallingford, CT, USA） エチルバイオレット：C.I. 42600; CAS2390-59-2（λ
max＝５９６nm）[（p-（ＣＨ３ＣＨ２）２ＮＣ６Ｈ４）
３Ｃ＋Ｃｌ−] Nacure 2530：アミン保護p-トルエンスルホン酸（King
Industries SpecialityChemicals, Norwalk, CT, USA） TRITON（登録商標） X-100：オクトキシノール-９、エ
トキシル化アルキルフェノール（Rohm & Haas, Philade
lphia, PA） Trump ＩＲ染料：赤外線吸収染料（λmax＝８３０nm）
（Eastman Kodak, Rochester, NY, USA） Witco Bond W-240：ポリウレタン樹脂（Crompton Cor
p., Chicago, IL, USA）
【００８７】
【化１】
【００８８】（実施例１）平版印刷版を、以下のように
調製した。 下地層：１０．８１gのコポリマーＡを、９４．３２gの
乳酸メチル、７５．４６gのジエチルケトン、及び１
８．８６gの水に溶解させることにより溶液を調製し
た。この溶液に、プロピレングリコールメチルエーテル
中とした０．３４gのエチルバイオレット及び０．２１g
の１０％BYK 307を添加した。該溶液を全ての成分が完
全に溶解されるまで撹拌した。次いで前記溶液を、巻き
線型バーを使用して基体上にコーティングした。前記基
体は、ゲージ０．３のアルミニウムシート基体で、これ
は電気粗面化し、陽極酸化し、ポリビニルホスホン酸の
溶液での処理を行ったものである。コーティングした基
体を、９０℃にて１２０秒間乾燥させ、１．７３２g/m2
の下地層を得た。
調製した。 下地層：１０．８１gのコポリマーＡを、９４．３２gの
乳酸メチル、７５．４６gのジエチルケトン、及び１
８．８６gの水に溶解させることにより溶液を調製し
た。この溶液に、プロピレングリコールメチルエーテル
中とした０．３４gのエチルバイオレット及び０．２１g
の１０％BYK 307を添加した。該溶液を全ての成分が完
全に溶解されるまで撹拌した。次いで前記溶液を、巻き
線型バーを使用して基体上にコーティングした。前記基
体は、ゲージ０．３のアルミニウムシート基体で、これ
は電気粗面化し、陽極酸化し、ポリビニルホスホン酸の
溶液での処理を行ったものである。コーティングした基
体を、９０℃にて１２０秒間乾燥させ、１．７３２g/m2
の下地層を得た。
【００８９】吸収層：１．６６gのADS-830 WS ＩＲ染料
及び０．００９gのBYK307を、４３．４９gの水及び４．
８３gのメタノール中に溶解させることによって、溶液
を調製した。該溶液を、全ての成分が完全に溶解される
まで撹拌した。得られた溶液を、下地層の上に巻き線型
バーを利用して塗布し、９０℃にて１２０秒間乾燥さ
せ、０．７２８g/m2の吸収層を得た。
及び０．００９gのBYK307を、４３．４９gの水及び４．
８３gのメタノール中に溶解させることによって、溶液
を調製した。該溶液を、全ての成分が完全に溶解される
まで撹拌した。得られた溶液を、下地層の上に巻き線型
バーを利用して塗布し、９０℃にて１２０秒間乾燥さ
せ、０．７２８g/m2の吸収層を得た。
【００９０】トップ層：１６．６７gのポリ（メチルメ
タクリレート）を８３．３３gのトルエン中に溶解させ
ることにより、溶液を調製した。得られた分散液を、吸
収層の上にスピンコートし、９０℃にて１２０秒間乾燥
させ、０．８０７g/m2のトップ層を得た。
タクリレート）を８３．３３gのトルエン中に溶解させ
ることにより、溶液を調製した。得られた分散液を、吸
収層の上にスピンコートし、９０℃にて１２０秒間乾燥
させ、０．８０７g/m2のトップ層を得た。
【００９１】８３０nmにて発光し、１００乃至３００mJ
の出力で画像化エネルギー密度が１２０mJのレーザーダ
イオードアレーを有するCreo Trendsetter thermal exp
osure deviceを用い、試験パターンを利用して、印刷版
前駆体をレーザー画像化した。ネガ型現像液である現像
液９５６（Kodak Polychrome Graphics社製）を用いた
手作業によるアルカリ現像（２５℃にて３０秒間）に際
して、全ての層の露光領域が、前記層の非露光領域に影
響を与えることなく除去された。画像化試験パターンの
正確な複製が再生された。
の出力で画像化エネルギー密度が１２０mJのレーザーダ
イオードアレーを有するCreo Trendsetter thermal exp
osure deviceを用い、試験パターンを利用して、印刷版
前駆体をレーザー画像化した。ネガ型現像液である現像
液９５６（Kodak Polychrome Graphics社製）を用いた
手作業によるアルカリ現像（２５℃にて３０秒間）に際
して、全ての層の露光領域が、前記層の非露光領域に影
響を与えることなく除去された。画像化試験パターンの
正確な複製が再生された。
【００９２】（実施例２）吸収層を０．３g/m2のTrump
ＩＲ染料とした以外は、実施例１の操作を繰り返した。
実施例１に記載したように画像化及び現像したところ、
画像化試験パターンの正確な複製が再生された。
ＩＲ染料とした以外は、実施例１の操作を繰り返した。
実施例１に記載したように画像化及び現像したところ、
画像化試験パターンの正確な複製が再生された。
【００９３】（実施例３）吸収層を０．０３g/m2のTrum
p ＩＲ染料とした以外は、実施例２の操作を繰り返し
た。実施例１に記載したように画像化及び現像したとこ
ろ、画像化試験パターンの正確な複製が再生された。
p ＩＲ染料とした以外は、実施例２の操作を繰り返し
た。実施例１に記載したように画像化及び現像したとこ
ろ、画像化試験パターンの正確な複製が再生された。
【００９４】（比較例１）吸収層及び下地層を、８５％
コポリマーＡ及び２５％Trump ＩＲ染料であって、コー
ティング重量が２．０g/m2（Trump ＩＲ染料コーティン
グ重量は０．３g/m2）である単一層によって置き換えた
こと以外は、実施例２の操作を繰り返した。実施例１に
記載したように画像化及び現像したところ、画像化試験
パターンの正確な複製が再生された。
コポリマーＡ及び２５％Trump ＩＲ染料であって、コー
ティング重量が２．０g/m2（Trump ＩＲ染料コーティン
グ重量は０．３g/m2）である単一層によって置き換えた
こと以外は、実施例２の操作を繰り返した。実施例１に
記載したように画像化及び現像したところ、画像化試験
パターンの正確な複製が再生された。
【００９５】（実施例４）平版印刷版を、以下のように
調製した。 吸収層：１．６６gのADS-830 WS ＩＲ染料及び０．００
９gのBYK307を、４３．４９gの水及び４．８３gのメタ
ノール中に溶解させることによって、溶液を調製した。
該溶液を、全ての成分が完全に溶解されるまで撹拌し
た。得られた溶液を、下地層の上にスピンコートし、９
０℃にて１２０秒間乾燥させて、０．４２８g/m2の吸収
層を得た。下地層は、従来のVistar-360ネガ型刷版層
（Kodak Polychrome Graphics）であった。
調製した。 吸収層：１．６６gのADS-830 WS ＩＲ染料及び０．００
９gのBYK307を、４３．４９gの水及び４．８３gのメタ
ノール中に溶解させることによって、溶液を調製した。
該溶液を、全ての成分が完全に溶解されるまで撹拌し
た。得られた溶液を、下地層の上にスピンコートし、９
０℃にて１２０秒間乾燥させて、０．４２８g/m2の吸収
層を得た。下地層は、従来のVistar-360ネガ型刷版層
（Kodak Polychrome Graphics）であった。
【００９６】トップ層：１６．６７gのポリ（メチルメ
タクリレート）を８３．３３gのトルエン中に溶解させ
ることにより、溶液を調製した。得られた分散液を、吸
収層の上にスピンコートし、９０℃にて１２０秒間乾燥
させ、０．８０７g/m2のトップ層を得た。
タクリレート）を８３．３３gのトルエン中に溶解させ
ることにより、溶液を調製した。得られた分散液を、吸
収層の上にスピンコートし、９０℃にて１２０秒間乾燥
させ、０．８０７g/m2のトップ層を得た。
【００９７】刷版前駆体を、実施例１に記載したように
画像化及び現像した。全ての層の露光領域が、前記層の
非露光領域に影響を与えることなく除去された。画像化
試験パターンの正確な複製が再生された。
画像化及び現像した。全ての層の露光領域が、前記層の
非露光領域に影響を与えることなく除去された。画像化
試験パターンの正確な複製が再生された。
【００９８】（実施例５）
下地層：実施例１のように調製した。
吸収層：１２．５０gのカーボンブラック（３９．６％
トルエン中）を８７．４９gのトルエン及び０．００２g
のBYK307中に分散させることにより、溶液を調製した。
得られた分散液を、下地層の上にスピンコートし、９０
℃にて１２０秒間乾燥させ、０．２３g/m2の吸収層を得
た。
トルエン中）を８７．４９gのトルエン及び０．００２g
のBYK307中に分散させることにより、溶液を調製した。
得られた分散液を、下地層の上にスピンコートし、９０
℃にて１２０秒間乾燥させ、０．２３g/m2の吸収層を得
た。
【００９９】トップ層：２．７１４gのWitco Bond W-24
0を、９１．０５gの水及び２．８７gのブトキシエタノ
ール中に溶解させることによって、溶液を調製した。該
溶液に、０．４８２gのCymel-303、０．６７６gのNacur
e 2530、及び０．２８gのTRITON（登録商標） X-100を
添加し、これを全ての成分が完全に溶解されるまで撹拌
した。得られた分散液を、吸収層の上にスピンコート
し、９０℃にて１２０秒間乾燥させ、０．２g/m2のトッ
プ層を得た。次いで、得られた刷版を１０分間１５０℃
に加熱することにより、前記トップ層を硬化させた。
0を、９１．０５gの水及び２．８７gのブトキシエタノ
ール中に溶解させることによって、溶液を調製した。該
溶液に、０．４８２gのCymel-303、０．６７６gのNacur
e 2530、及び０．２８gのTRITON（登録商標） X-100を
添加し、これを全ての成分が完全に溶解されるまで撹拌
した。得られた分散液を、吸収層の上にスピンコート
し、９０℃にて１２０秒間乾燥させ、０．２g/m2のトッ
プ層を得た。次いで、得られた刷版を１０分間１５０℃
に加熱することにより、前記トップ層を硬化させた。
【０１００】前記構成体を、実施例１のように露光させ
て現像した。全ての層の露光領域が、前記層の非露光領
域に影響を与えることなく除去された。画像化試験パタ
ーンの正確な複製が再生された。
て現像した。全ての層の露光領域が、前記層の非露光領
域に影響を与えることなく除去された。画像化試験パタ
ーンの正確な複製が再生された。
【０１０１】（実施例６）
吸収層：２．４gのTrump ＩＲ染料を、２８．５gのジエ
チルケトン及び１９．１gのメタノール中に溶解させる
ことによって、溶液を調製した。該溶液を、染料が溶解
するまで撹拌した。得られた溶液を、実施例１に記載し
たような基体、クリーニングしたばかりの０．３ゲージ
のアルミニウムシート基体上にスピンコートした。前記
層を、９０℃にて１２０秒間乾燥させ、１．４g/m2の吸
収層を得た。
チルケトン及び１９．１gのメタノール中に溶解させる
ことによって、溶液を調製した。該溶液を、染料が溶解
するまで撹拌した。得られた溶液を、実施例１に記載し
たような基体、クリーニングしたばかりの０．３ゲージ
のアルミニウムシート基体上にスピンコートした。前記
層を、９０℃にて１２０秒間乾燥させ、１．４g/m2の吸
収層を得た。
【０１０２】トップ層：トップ層を、実施例１のように
調製し、塗布した。得られた刷版前駆体のそれぞれを、
Creo Trendsetterで画像化エネルギー密度１９８mJ、２
５４mJ、及び３０４mJにて、試験パターンを利用してレ
ーザー画像化した。
調製し、塗布した。得られた刷版前駆体のそれぞれを、
Creo Trendsetterで画像化エネルギー密度１９８mJ、２
５４mJ、及び３０４mJにて、試験パターンを利用してレ
ーザー画像化した。
【０１０３】ネガ型現像液である現像液９５６（Kodak
Polychrome Graphics社製）を用いた手作業によるアル
カリ現像（２５℃にて３０秒間）に次ぐ、水による濯ぎ
に際して、各刷版前駆体において全ての層の露光領域
が、前記層の非露光領域に影響を与えることなく除去さ
れた。両方の刷版前駆体について、全画像化エネルギー
密度にて、画像化試験パターンの正確な複製である印刷
版が再生された。
Polychrome Graphics社製）を用いた手作業によるアル
カリ現像（２５℃にて３０秒間）に次ぐ、水による濯ぎ
に際して、各刷版前駆体において全ての層の露光領域
が、前記層の非露光領域に影響を与えることなく除去さ
れた。両方の刷版前駆体について、全画像化エネルギー
密度にて、画像化試験パターンの正確な複製である印刷
版が再生された。
【０１０４】得られた印刷版に、水の存在下において手
作業でインク付けした。前記インクは、画像領域におい
てのみ保持され、基体にはインクが付かなかった。
作業でインク付けした。前記インクは、画像領域におい
てのみ保持され、基体にはインクが付かなかった。
【０１０５】（実施例７）
吸収層：吸収層を、実施例５に記載のように準備した。
これを、実施例１の基体とクリーニングしたばかりの
０．３ゲージのアルミニウムシート基体との、二つの基
体上にコーティングした。トップ層：トップ層を調製
し、実施例６に記載のような基体／吸収層構成体上にそ
れぞれ塗布した。
これを、実施例１の基体とクリーニングしたばかりの
０．３ゲージのアルミニウムシート基体との、二つの基
体上にコーティングした。トップ層：トップ層を調製
し、実施例６に記載のような基体／吸収層構成体上にそ
れぞれ塗布した。
【０１０６】得られた刷版前駆体のそれぞれを、Creo T
rendsetterで画像化エネルギー密度２９０mJ、２４０m
J、及び１９０mJにて、試験パターンを利用してレーザ
ー画像化した。実施例１の基体（陽極酸化され、ポリビ
ニルホスホン酸コーティングされたアルミニウム）上に
コーティングした前駆体を、水で５０％にまで希釈した
2 in 1ネガ型現像液で現像した。コーティングしていな
いアルミニウムの基体上にコーティングした前駆体を、
水で７５％にまで希釈した2 in 1ネガ型現像液で現像し
た。現像に次いで水で濯ぎ、これにより前記各印刷版前
駆体の露光領域が、前記層の非露光領域に影響を与える
ことなく除去された。両方の刷版前駆体について、全画
像化エネルギー密度にて、画像化試験パターンの正確な
複製である印刷版が再生された。
rendsetterで画像化エネルギー密度２９０mJ、２４０m
J、及び１９０mJにて、試験パターンを利用してレーザ
ー画像化した。実施例１の基体（陽極酸化され、ポリビ
ニルホスホン酸コーティングされたアルミニウム）上に
コーティングした前駆体を、水で５０％にまで希釈した
2 in 1ネガ型現像液で現像した。コーティングしていな
いアルミニウムの基体上にコーティングした前駆体を、
水で７５％にまで希釈した2 in 1ネガ型現像液で現像し
た。現像に次いで水で濯ぎ、これにより前記各印刷版前
駆体の露光領域が、前記層の非露光領域に影響を与える
ことなく除去された。両方の刷版前駆体について、全画
像化エネルギー密度にて、画像化試験パターンの正確な
複製である印刷版が再生された。
【０１０７】得られた印刷版に、水の存在下において手
作業でインク付けした。前記インクは、画像領域におい
てのみ保持され、基体にはインクが付かなかった。
作業でインク付けした。前記インクは、画像領域におい
てのみ保持され、基体にはインクが付かなかった。
【０１０８】（実施例８）この実施例は、コポリマーＡ
の調製を説明する。メチルグリコール（８００mL）を、
スターラー、温度計、窒素注入口、及び還流コンデンサ
ーを取り付けた１Lの丸底フラスコに仕込んだ。メタク
リル酸（３６．１２g）、Ｎ-フェニルマレイミド（１６
５．４g）、及びメタクリルアミド（６２．５g）を加
え、撹拌しつつ溶解させた。２，２-アゾビスイソブチ
ロニトリル（ＡＩＢＮ）（３．４g）を添加し、該反応
混合物を６０℃に加熱して２２時間撹拌した。その後、
メタノールを加え、沈殿したコポリマーを濾過し、メタ
ノールで二度洗い、オーブン中４０℃にて２日間乾燥さ
せた。
の調製を説明する。メチルグリコール（８００mL）を、
スターラー、温度計、窒素注入口、及び還流コンデンサ
ーを取り付けた１Lの丸底フラスコに仕込んだ。メタク
リル酸（３６．１２g）、Ｎ-フェニルマレイミド（１６
５．４g）、及びメタクリルアミド（６２．５g）を加
え、撹拌しつつ溶解させた。２，２-アゾビスイソブチ
ロニトリル（ＡＩＢＮ）（３．４g）を添加し、該反応
混合物を６０℃に加熱して２２時間撹拌した。その後、
メタノールを加え、沈殿したコポリマーを濾過し、メタ
ノールで二度洗い、オーブン中４０℃にて２日間乾燥さ
せた。
【０１０９】前記重合化を、１，３-ジオキソラン中で
行えば、再沈殿が回避できることもある。前記モノマー
は、１，３-ジオキソラン中に可溶性であるが、ポリマ
ー物質は不溶性であって、反応中に沈殿する。
行えば、再沈殿が回避できることもある。前記モノマー
は、１，３-ジオキソラン中に可溶性であるが、ポリマ
ー物質は不溶性であって、反応中に沈殿する。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 ジャヤンティ・パテル
アメリカ合衆国・ニュージャージー・
07576・ウッドクリフ・レイク・ショウ・
ロード・55
Ｆターム(参考） 2H025 AA01 AA04 AB03 AC08 AD03
BE01 CB04 CB13 CB14 CB16
CB22 CB28 CB29 CB30 CB41
CC11 DA03 FA10 FA17
2H096 AA06 BA09 BA10 EA04 EA23
GA08 KA02 KA06
Claims (38)
- 【請求項１】 （ａ）親水性基体； （ｂ）吸収層；及び （ｃ）トップ層；を備え、前記トップ層が、第一ポリマ
ー物質を含み；前記トップ層が、インク受容性であり、
且つ水性アルカリ現像液中に不溶性であり；前記トップ
層及び前記吸収層のそれぞれが、熱露光の後に水性アル
カリ現像液によって除去可能であり；さらに前記吸収層
が、本質的に、光熱転換物質から、または光熱転換物質
と任意に界面活性剤もしくは界面活性剤の混合物との混
合物からなる；熱画像化可能構成体。 - 【請求項２】 前記吸収層が、約０．０２乃至約２g/m2
のコーティング重量を有する、請求項１の構成体。 - 【請求項３】 前記光熱転換物質が、染料である、請求
項１の構成体。 - 【請求項４】 前記光熱転換物質が、顔料である、請求
項１の構成体。 - 【請求項５】 前記第一ポリマー物質が、アクリルポリ
マー及びコポリマー；ポリスチレン；スチレン−アクリ
ルコポリマー；ポリエステル；ポリアミド；ポリウレ
ア；ポリウレタン；ニトロセルロース；エポキシ樹脂；
及びこれらの混合物からなる群より選択される、請求項
１の構成体。 - 【請求項６】 前記第一ポリマー物質が、フェノール樹
脂、または水不溶性で塩基可溶性のポリマー化合物であ
って、ペンダントスルホンアミド基を有するものであ
る、請求項１の構成体。 - 【請求項７】 前記第一ポリマー物質が、ノボラック樹
脂である、請求項６の構成体。 - 【請求項８】 前記トップ層が、Ｏ-ジアゾナフトキノ
ン部分を含む化合物を含む、請求項７の構成体。 - 【請求項９】 前記トップ層が、溶解阻害剤を含む、請
求項７の構成体。 - 【請求項１０】 前記溶解阻害剤が、トリアリールメタ
ン染料である、請求項９の構成体。 - 【請求項１１】 前記トップ層が、本質的にノボラック
樹脂からなる、請求項７の構成体。 - 【請求項１２】 前記吸収層が、約０．０２乃至約２g/
m2のコーティング重量を有する、請求項７の構成体。 - 【請求項１３】 前記親水性基体と前記吸収層との間に
下地層を更に備え、前記下地層が、水性アルカリ現像液
中に可溶性もしくは分散可能な第二ポリマー物質を含
む、請求項７の熱画像化可能構成体。 - 【請求項１４】 前記親水性基体と前記吸収層との間に
下地層を更に備え、前記下地層が、水性アルカリ現像液
中に可溶性もしくは分散可能な第二ポリマー物質を含
む、請求項１の熱画像化可能構成体。 - 【請求項１５】 前記下地層についての化学耐性パラメ
ータが、約０．５より大である、請求項１４の構成体。 - 【請求項１６】 前記第二ポリマー物質が、約３５乃至
約６０mol％のＮ-フェニルマレイミド；約１５乃至約４
０mol％のメタクリアミド；および約１０乃至約３０mol
％のメタクリル酸を含む、請求項１５の構成体。 - 【請求項１７】 前記第二ポリマー物質が、アクリロニ
トリルもしくはメタクリロニトリル；メチルメタクリレ
ートもしくはメチルアクリレート；及び約１０乃至９０
mol％のスルホンアミドモノマー単位を含む、請求項１
５の構成体。 - 【請求項１８】 前記下地層が、光重合可能組成物を含
む、請求項１４の構成体。 - 【請求項１９】 下記の工程：熱画像化可能構成体を熱
露光して構成体中に露光領域と非露光領域とを形成する
工程；及び、露光領域を水性アルカリ現像液で除去して
画像を形成する工程；を含む画像形成方法であって、前
記熱画像化可能構成体が、（ａ）親水性基体；（ｂ）吸
収層；及び（ｃ）トップ層；を含み、前記トップ層が、
第一ポリマー物質を含み；前記トップ層が、インク受容
性であり、且つ水性アルカリ現像液中に不溶性であり；
前記トップ層及び前記吸収層のそれぞれが、熱露光の後
に水性アルカリ現像液によって除去可能であり；前記吸
収層が、本質的に、光熱転換物質から、または光熱転換
物質と任意に界面活性剤もしくは界面活性剤の混合物と
の混合物からなり；さらに水性アルカリ現像液が、少な
くとも７乃至約１１のｐＨを有する方法。 - 【請求項２０】 前記露光工程が、８００nm乃至１２０
０nmの範囲の放射を用いて行われる、請求項１９の方
法。 - 【請求項２１】 前記吸収層が、約０．０２乃至約２g/
m2のコーティング重量を有する、請求項２０の方法。 - 【請求項２２】 前記第一ポリマー物質が、アクリルポ
リマー及びコポリマー；ポリスチレン；スチレン−アク
リルコポリマー；ポリエステル；ポリアミド；ポリウレ
ア；ポリウレタン；ニトロセルロース；エポキシ樹脂；
及びこれらの混合物からなる群より選択される、請求項
２１の方法。 - 【請求項２３】 前記第一ポリマー物質が、フェノール
樹脂、または水不溶性で塩基可溶性のポリマー化合物で
あって、ペンダントスルホンアミド基を有するものであ
る、請求項２１の方法。 - 【請求項２４】 前記第一ポリマー物質は、ノボラック
樹脂である、請求項２３の方法。 - 【請求項２５】 前記トップ層が、Ｏ-ジアゾナフトキ
ノン部分を含む化合物を含む、請求項２４の方法。 - 【請求項２６】 前記トップ層が、溶解阻害剤を含む、
請求項２４の方法。 - 【請求項２７】 前記トップ層が、本質的にノボラック
樹脂からなる、請求項２４の方法。 - 【請求項２８】 前記熱画像化可能構成体が、前記親水
性基体と前記吸収層との間に下地層を更に備え、前記下
地層が、水性アルカリ現像液中に可溶性もしくは分散可
能な第二ポリマー物質を含む、請求項２０の方法。 - 【請求項２９】 前記下地層についての前記化学耐性パ
ラメータが、約０．５より大である、請求項２８の方
法。 - 【請求項３０】 前記第二ポリマー物質が、（ｉ）約３
５乃至約６０mol％のＮ-フェニルマレイミド；約１５乃
至約４０mol％のメタクリアミド；および約１０乃至約
３０mol％のメタクリル酸を含むポリマー物質；及び（i
i）アクリロニトリルもしくはメタクリロニトリル；メ
チルメタクリレートもしくはメチルアクリレート；およ
び約１０乃至９０mol％のスルホンアミドモノマー単位
を含むポリマー物質；からなる群より選択される、請求
項２９の方法。 - 【請求項３１】 前記下地層が、光重合可能組成物を含
む、請求項２２の方法。 - 【請求項３２】 下記の工程：印刷版前駆体を熱露光さ
せて前記前駆体中に露光領域と非露光領域とを形成する
工程；及び、水性アルカリ現像液を前記印刷版前駆体に
適用して印刷版を形成し、これによって露光領域が除去
されて下にある基体が現れる工程であって、前記熱画像
化可能構成体が、（ａ）親水性基体；（ｂ）吸収層；及
び（ｃ）トップ層；を備え、前記トップ層が、第一ポリ
マー物質を含み；前記トップ層が、インク受容性であ
り、且つ水性アルカリ現像液中に不溶性であり；前記ト
ップ層及び前記吸収層のそれぞれが、熱露光の後に水性
アルカリ現像液によって除去可能であり；前記吸収層
が、本質的に、光熱転換物質から、または光熱転換物質
と任意に界面活性剤もしくは界面活性剤の混合物との混
合物からなり；さらに水性アルカリ現像液が、少なくと
も７乃至約１１のｐＨを有する工程；及び印刷版に湿し
水を適用し、次いでリソグラフインクを適用し、これに
よってインクを非露光領域に付ける工程；及び前記イン
クを受容物質に転移させる工程；を含む印刷方法。 - 【請求項３３】 前記露光工程が、８００nm乃至１２０
０nmの範囲の放射を用いて行われる、請求項３２の方
法。 - 【請求項３４】 前記吸収層が、約０．０２乃至約２g/
m2のコーティング重量を有する、請求項３３の方法。 - 【請求項３５】 前記第一ポリマー物質が、アクリルポ
リマー及びコポリマー；ポリスチレン；スチレン−アク
リルコポリマー；ポリエステル；ポリアミド；ポリウレ
ア；ポリウレタン；ニトロセルロース；エポキシ樹脂；
及びこれらの混合物からなる群より選択される、請求項
３４の方法。 - 【請求項３６】 前記第一ポリマー物質が、フェノール
樹脂、または水不溶性で塩基可溶性のポリマー化合物で
あって、ペンダントスルホンアミド基を有するものであ
る、請求項３４の方法。 - 【請求項３７】 前記第一ポリマー物質は、ノボラック
樹脂である、請求項３６の方法。 - 【請求項３８】 前記熱画像化可能構成体が、前記親水
性基体と前記吸収層との間に下地層を更に備え、前記下
地層が、水性アルカリ現像液中に可溶性もしくは分散可
能な第二ポリマー物質を含む、請求項３３の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US09/946,720 US6593055B2 (en) | 2001-09-05 | 2001-09-05 | Multi-layer thermally imageable element |
| US09/946,720 | 2001-09-05 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003084430A true JP2003084430A (ja) | 2003-03-19 |
Family
ID=25484879
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002258153A Withdrawn JP2003084430A (ja) | 2001-09-05 | 2002-09-03 | 多層熱画像化可能構成体 |
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| Country | Link |
|---|---|
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| EP (1) | EP1291172B1 (ja) |
| JP (1) | JP2003084430A (ja) |
| CN (1) | CN1406749A (ja) |
| BR (1) | BR0203629A (ja) |
| CA (1) | CA2400912A1 (ja) |
| DE (1) | DE60208124T2 (ja) |
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