CN101426649B - 正性可成像的元件、用其形成图像的方法和由此获得的成像元件 - Google Patents

正性可成像的元件、用其形成图像的方法和由此获得的成像元件 Download PDF

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Abstract

正性可成像的元件，包括内层和外层以及红外辐射吸收性化合物如IR吸收性染料。该内层包括第一种聚合物材料。接受油墨的外层包括包含侧挂羧基的第二种聚合物粘结剂，该粘结剂为可成像的元件提供了改进的耐化学性并减少了显影带来的残留物。

Description

正性可成像的元件、用其形成图像的方法和由此获得的成像元件
发明领域
本发明涉及具有改进的耐加工和印刷化学品性能的正性可成像的元件。它还涉及通过使用热成像方式从该可成像的元件形成成像元件的方法。
发明背景
在常规的或“湿”平版印刷中，接受油墨的区域(已知为成像的区域)是在亲水性表面上产生的。当表面被水润湿和施加油墨时，亲水性区域保持水分和排斥油墨，并且该接受油墨的区域接受油墨和排斥水。该油墨被转移至材料的表面上，在该表面上图像得以再现。例如，油墨能够首先被转移至中间包覆橡皮(blanket)，它进而被用于将油墨转移至材料的表面上，在该材料的表面上图像得以再现。
用于制备平版印刷板的可成像的元件通常包括施涂在基材的亲水性表面上的可成像的层。可成像的层包括能够分散在合适的粘结剂中的一种或多种辐射敏感的组分。另外地，辐射敏感组分也能够是粘结剂材料。在成像之后，可成像的层的已成像区域或未成像区域通过合适的显影剂被除去，显露了基材的底下亲水性表面。如果已成像的区域被除去，则该元件被认为是正性的。相反地，如果未成像的区域被除去，则该元件被认为是负性的。在各情况下，可成像的层的剩下的区域(即，图象区域)是油墨接受性的，并且由显影过程所显露的亲水性表面的区域接受水和水溶液(通常为润版液)，并且排斥油墨。
可成像的元件用紫外线和/或可见光辐射的成像通常通过掩模来进行，该掩模具有透明和不透明的区域。成像是在掩模的透明区域之下的那些区域中发生，但是不在不透明的掩模区域之下的区域中发生。如果在最终图像中需要校正，则必须制备新的掩模。这是耗时的过程。另外，由于温度和湿度的变化，掩模的尺寸会发生轻微的变化。因此，同一掩模，当在不同时间中或在不同环境中使用时，会得到不同的结果并能够引起对准问题。
直接的数字成像使得不需要通过掩模的成像，并且在印刷工业中变
得越来越重要。已经开发了与红外激光器一起使用的用于平版印刷板的制备中的可成像的元件。可热成像的多层元件已描述在例如美国专利No.6,294,311(Shimazu等人)，美国专利No.6,352,812(Shimazu等人)，美国专利No.6,593,055(Shimazu等人)，美国专利No.6,352,811(Patel等人)，美国专利No.6,358,669(Savariar-Hauck等人)和美国专利No.6,528,228(Savariar-Hauck等人)，美国专利申请出版物2004/0067432A1(Kitson等人)。美国专利申请出版物2005/0037280(Loccufier等人)描述了在同一层中包含酚类显影剂-可溶性聚合物和红外辐射吸收剂的热敏印刷版前体。
具有包括环烯烃共聚物的外涂层的可成像的元件已描述在美国专利No.6,969,570(Kitson)中。此外，美国专利申请出版物2004/0137366(Kawauchi等人)描述了包含侧挂羧基或马来酸酐的共聚物在热敏正性元件的顶层中的使用，以改进耐划性和显影宽容度。这些共聚物能够在相对“弱的”显影剂中显影，这些显影剂被认为是环境更“友好的”。
美国专利No.6,152,036(Verschueren等人)描述了硬化或交联的环氧树脂在正性成像元件的顶层中的使用。
待解决的技术问题
在使用中，平版印刷版与润版液和油墨接触。另外，该元件常常进行包覆橡皮洗涤以便为包覆橡皮和压辊(press rollers)除去油墨和各种清洗液。尽管在各种正性可成像的元件中有进展，但是不断需求可成像的元件，这些元件耐压印化学品，如油墨，润版液和在洗涤如UV洗涤中使用的溶剂。另外，希望能够使用具有可忽略的残留物或淤泥的含水负性碱性显影剂来显影该可成像的元件。
发明概述
本发明提供正性可成像的元件，它在热成像之后可用碱性显影剂显影，并且包括辐射吸收性化合物和基材，在该基材上具有(按顺序)：
包含第一种聚合物粘结剂的内层，和
包含与第一种聚合物粘结剂不同的第二种聚合物粘结剂的接受油墨的外层，该第二种聚合物粘结剂包含由下面结构(I)或(II)表示的重复单元，该重复单元占该第二种聚合物粘结剂中的总重复单元的至少3mol％：
Figure G2007800138486D00031
其中n是1-3，Rs和Rt独立地是氢或烷基或卤素基团，X是多价连接基团，Y是氧基或-NR-，其中R是氢或烷基和Z是一价有机基团。
本发明还提供形成图像的方法，该方法包括：
A)将本发明的正性可成像的元件进行热成像(如上所述)，由此形成具有成像和未成像区域的成像元件，和
B)让该成像元件与碱性显影剂接触以仅仅除去已成像的区域，和
C)任选地，烘烤已成像的和显影的元件。
本发明另外包括使用本发明的方法形成的图像和成像元件。
本发明的可成像的元件含有在外层(顶层)中的提供改进的耐化学性的某些聚合物粘结剂，并且成像元件能够尤其在具有最少量残留物或淤泥的负性显影剂中处理。这些优点通过引入包含由这里所定义的结构(I)或(II)表示的重复单元的聚合物粘结剂来实现。
发明详述
定义
除非上下文中另外指明，否则，当在这里使用时，术语“可成像的元件”、“正性可成像的元件”和“印刷版前体”指本发明的实施方案的参考。
另外，除非上下文另外指明，否则这里描述的各种组分如“第一种聚合物粘结剂”、“第二种聚合物粘结剂”、“不溶解抑制剂”、“添加的共聚物”、“涂料溶剂”、“红外辐射吸收性化合物”、“显影剂”和类似的术语也指此类组分的混合物。因此，冠词“a”或“an”的使用不一定仅仅指单种组分。
除非另有说明，否则百分数指干重百分数。
为了阐明与聚合物相关的任何术语的定义，应该参考由InternationalUnion of Pure and Applied Chemistry(“IUPAC”)出版的“Glossary of BasicTerms in Polymer Science”，Pure Appl.Chem.68，2287 2311(1996)。然而，在这里明确地阐述的任何定义应该被认为是对照(controlling)。
除非另有说明，术语“聚合物”指高分子量和低分子量聚合物，包括低聚物，并且包括均聚物和共聚物。
术语“共聚物”指从两种或多种不同单体形成的聚合物。也就是说，它们包括具有至少两种不同的化学结构的重复单元。
术语“骨架”指在聚合物中的原子的链，有多个侧基可连接于其上。此类骨架的例子是从一种或多种烯属不饱和的可聚合的单体的聚合反应获得的“全部碳”骨架。然而，其它骨架能够包括杂原子，其中聚合物是通过缩合反应或一些其它方式来形成。
用途
正性可成像的元件能够以许多方式使用。优选的用途是作为平版印刷版的前体，如下面更细描述。然而，这不指本发明的唯一用途。例如，可成像的元件也能够用作热图案化系统并形成掩蔽元件和印刷电路板。
可成像的元件
一般，可成像的元件包括基材，内层(也已知为“下层”)和布置在内层上的外层(也已知为“顶层”或“外涂层”)。在热成像之前，外层一般无法在显影所规定的常用时间内被碱性显影剂除去，但是在热成像之后，外层的已成像区域更容易被碱性显影剂除去或更可溶于碱性显影剂中。该内层一般也可通过碱性显影剂除去。红外辐射吸收性化合物(下面所定义)也存在于可成像的元件中，并且优选存在于该内层中但任选地存在于在内层和外层之间的隔离层中。
可成像的元件通过内层组合物在合适基材上的合适施涂来形成。这一基材能够是未处理的或未涂覆的载体，但是它通常在内层组合物的施涂之前以下面所述的各种方式进行处理或涂覆。基材一般具有一个亲水性表面或至少一个比外层组合物更加亲水性的表面。基材包括载体，该载体能够由通常用于制备可成像的元件如平版印刷版的任何材料组成。它通常是片、膜或箔的形式，并且是高强度、稳定和柔性的和在使用条件下耐尺寸变化，因此颜色记录将记录下全色图像。该载体通常能够是任何自支持材料，其中包括聚合物膜(如聚酯，聚乙烯，聚碳酸酯，纤维素酯聚合物和聚苯乙烯膜)，玻璃，陶瓷，金属片或箔或高劲度纸(其中包括树脂涂覆过的和金属镀层的纸)或任何这些材料的叠层材料(如铝箔叠层到聚酯膜上)。金属载体包括铝，铜，锌，钛和它们的合金的片材或箔。
聚合物膜载体可以在一个或两个表面上被“附属”层改性以增强亲水性或纸载体可以类似地被涂覆以增强平面性。附属层材料的例子包括但不限于，烷氧基硅烷、氨基-丙基三乙氧基硅烷、环氧丙氧基丙基-三乙氧基甲硅烷和环氧基官能化聚合物，以及在卤化银感光胶片中使用的常规亲水性附属材料(如明胶和其它天然和合成的亲水胶体和包括偏二氯乙烯共聚物在内的乙烯基聚合物)。
优选的基材由铝载体组成，该载体可使用现有技术中已知的技术来处理，其中包括物理粒化、电化学粒化、化学粒化和阳极化。优选地，铝片已经进行电化学粒化(graining)和阳极化。
中间层可以通过用例如硅酸盐、糊精、氟化钙锆、六氟硅酸、磷酸钠/氟化钠、聚(乙烯基膦酸)(PVPA)、乙烯基膦酸共聚物、聚(丙烯酸)或丙烯酸共聚物处理铝载体来形成。优选，电化学法粒化的和阳极化的铝载体通过使用已知的程序用PVPA处理，以改进表面亲水性。
基材的厚度能够改变，但是应该足以经受住由印刷造成的磨损并且是足够的薄以便包裹印刷形式。优选的例子包括具有100-600μm的厚度的处理铝箔。
基材的背面(非成像侧)可以涂覆抗静电剂和/或滑移层或消光层，以改进可成像的元件的处理和“触感”。
基材也能够是在其上施涂有各种层组合物的圆柱形表面，并且因此是印刷机的不可分割的部分。成像的圆柱形体的用途例如已描述在美国专利No.5,713,287(Gelbart)中。
该内层布置在外层和基材之间。它通常直接布置在基材上。内层包括聚合物材料，后者可被显影剂除去并且优选可溶于显影剂中以减少显影剂的淤泥形成。另外，该聚合物材料优选不溶于用于涂覆外层的溶剂中，这样外层能够被涂覆在内层上但不会溶解该内层。这一聚合物材料在这里被确定为“第一种聚合物粘结剂”，以便将它与下面所述的用于外层的“第二种聚合物粘结剂”区分开。如果需要的话，这些第一种聚合物粘结剂的混合物能够用于内层中。
用于内层的有用的第一种聚合物粘结剂包括(甲基)丙烯腈聚合物，包含羧基的(甲基)丙烯酸树脂、聚乙烯醇缩醛、马来酸化的木松香、苯乙烯-马来酸酐共聚物、(甲基)丙烯酰胺聚合物如从N-烷氧基烷基甲基丙烯酰胺形成的聚合物、从N-取代环状酰亚胺形成的聚合物、具有侧挂环状脲基团的聚合物和它们的组合。提供润版液和侵蚀性洗涤剂同时耐受性的第一种聚合物粘结剂已公开于美国专利No.6,294,311(以上指出)中。
特别有用的第一种聚合物粘结剂包括(甲基)丙烯腈聚合物和从N-取代环状酰亚胺(尤其N-苯基马来酰亚胺)、(甲基)丙烯酰胺(尤其甲基丙烯酰胺)、具有侧挂环状脲基团的单体和(甲基)丙烯酸(尤其甲基丙烯酸)形成的聚合物。这一类型的优选的第一种聚合物粘结剂是包含20-75mol％和优选35-60mol％的从N-苯基马来酰亚胺、N-环己基马来酰亚胺、N-(4-羧基苯基)马来酰亚胺、N-苄基马来酰亚胺或它们的混合物形成的重复单元，10-50mol％和优选15-40mol％的从丙烯酰胺、甲基丙烯酰胺或它们的混合物形成的重复单元，以及5-30mol％和优选10-30mol％的从甲基丙烯酸形成的重复单元。其它亲水性单体，如甲基丙烯酸羟乙酯，可以被用来代替一些或全部的甲基丙烯酰胺来使用。其它可溶于碱的单体，如丙烯酸，可以被用来代替一些或全部的甲基丙烯酸来使用。任选地，这些聚合物也能够包括从(甲基)丙烯腈或N-[2-(2-氧代-1-咪唑烷基)乙基]-甲基丙烯酰胺形成的重复单元。
也可以使用描述在WO2005/018934(Kitson等人)和美国专利No.6,893,783(Kitson等人)中的可烘烤的内层，该文献被引入这里。
其它有用的第一种聚合物粘结剂能够包括，已聚合形式的，5mol％-30mol％(优选10mol％-30mol％)的从具有羧基的烯属不饱和的可聚合单体(如丙烯酸、甲基丙烯酸、衣康酸和现有技术中已知的其它类似单体(丙烯酸和甲基丙烯酸是优选的)形成的重复单元，20mol％-75mol％(优选35mol％-60mol％)的从N-苯基马来酰亚胺、N-环己基马来酰亚胺或它们的混合物形成的重复单元，任选地，5mol％-50mol％(优选当存在时15mol％-40mol％)的从甲基丙烯酰胺形成的重复单元，以及3mol％-50mol％(优选10mol％-40mol％)的从下列结构(IV)的单体化合物形成的一种或多种重复单元：
CH2＝C(R2)-C(＝O)-NH-CH2-OR1
(IV)
其中R1是C1-C12烷基、苯基、C1-C12取代苯基、C1-C12芳烷基、或Si(CH3)3，和R2是氢或甲基。这些聚合物材料中某些的制备方法已公开在美国专利No.6,475,692(Jarek)中。
可用于本发明的第一种聚合物粘结剂也能够是由从两种或多种烯属不饱和单体形成的重复单元组成的含羟基的聚合物材料，其中1-50mol％(优选10-40mol％)的重复单元是从一种或多种的由下列结构(V)表示的单体形成的：
CH2＝C(R3)C(＝O)NR4(CR5R6)mOH
(V)
其中R3、R4、R5、R6独立地是氢，具有1-10个碳原子的取代或未被取代的低级烷基(如甲基、氯甲基、乙基、异丙基、叔丁基和正癸基)或取代或未被取代的苯基，和m是1-20。
含羟基的第一种聚合物粘结剂的优选例子能够由下面的结构(VI)表示：
-(A)x-(B)y-(C)z-
(VI)
其中A表示由下面的结构(VII)表示的重复单元：
Figure G2007800138486D00081
其中R7至R10和p与以上对于结构(V)指明的R3至R6和m的定义相同。
在结构(VI)中，B表示包含酸性官能团或N-马来酰亚胺基团的重复单元，和C表示与A和B不同的重复单元，x是1-50mol％(优选10-40mol％)，y是40-90mol％(40-70mol％)，和z是0-70mol％(优选0-50mol％)，以总重复单元为基础计。
在结构(VI)的一些实例中：
A表示从N-羟基甲基丙烯酰胺和N-羟甲基甲基丙烯酰胺中的一种或两者形成的重复单元，
B表示从N-苯基马来酰亚胺、N-环己基马来酰亚胺、N-苄基马来酰亚胺、N-(4-羧基苯基)马来酰亚胺、(甲基)丙烯酸和乙烯基苯甲酸中的一种或多种形成的重复单元，
C表示从苯乙烯单体(如苯乙烯和它们的衍生物)、(甲基)丙烯酸酯、N-取代(甲基)丙烯酰胺、马来酸酐、(甲基)丙烯腈、丙烯酸烯丙酯和由下面的结构(VII)表示的化合物中的一种或多种形成的重复单元：
Figure G2007800138486D00082
其中R11是氢、甲基或卤素，X’是具有2-12个碳原子的亚烷基，q是1-3，x是10-40mol％，y是40-70mol％，和z是0-50mol％，全部以总重复单元为基础计。
在结构VI的更优选实例中，B表示从20-50mol％的从至少一种的N-苯基马来酰亚胺、N-环己基马来酰亚胺、N-苄基马来酰亚胺、N-(4-羧基苯基)马来酰亚胺形成的重复单元和10-30mol％的从至少一种的(甲基)丙烯酸和乙烯基苯甲酸形成的重复单元，以总重复单元为基础计。
在此类实例中，C表示从甲基丙烯酰胺、(甲基)丙烯腈、马来酸酐或以下单体形成的重复单元：
Figure G2007800138486D00091
再一些其它有用的第一种聚合物粘结剂是在聚合物骨架上连接有侧挂磷酸基团，侧挂金刚烷基或两种类型的侧挂基团的加聚物或缩聚物。侧挂金刚烷基至少经由脲或脲烷连接基团连接到聚合物骨架上，但是其它连接基团也能够存在。
这一类型的优选的第一种聚合物粘结剂能够由以下结构(VIII)表示：
-(A)x-(B)y-
(VIII)
其中A和B一起表示聚合物骨架，其中A进一步包括包含侧挂磷酸基团、侧挂金刚烷基或两者的重复单元，B进一步地表示不同的重复单元，x表示5-100wt％，和y表示0-95wt％，前提条件是，如果A包含侧挂金刚烷基，则此类基团经由脲或脲烷连接基团连接到聚合物骨架上(但其它连接基团也能够存在)。
更优选，此类第一种聚合物粘结剂能够由下面的结构(IX)表示：
Figure G2007800138486D00101
其中R12表示氢、具有1-4个碳原子的取代的或未被取代的低级烷基(如甲基、乙基、正丙基或叔丁基)或卤素基团。
L表示直接的键或在连接链中的包含1个或多个碳原子和任选的1个或多个杂原子的连接基团。有用的连接基团能够包括，但不限于，具有1-10个碳原子的取代或未被取代的、直链或支链亚烷基(如亚甲基、甲氧基亚甲基、亚乙基、异亚丙基、正亚丁基、叔亚丁基和正亚己基)，或在环状基团中具有5-10个碳原子的取代或未被取代的亚环烷基(如1，3-亚环戊基和1，4-亚环己基)，在环状基团中具有6-10个碳原子的取代或未被取代的亚芳基(如1，4-亚苯基、3-甲基-1、4-亚苯基或亚萘基)或它们的组合，如亚芳基亚烷基、亚烷基亚芳基和亚烷基亚芳基亚烷基基团。L连接基团还可以包括在连接链内的一个或多个氧基、硫基、酰胺基、羰基、氧基羰基、羰基氧基、酰胺基、磺酰胺基、脲、脲烷和碳酸酯[-O-C(＝O)-O-]基团，有或没有如上所述的亚烷基、亚环烷基和亚芳基中的任何一种。L能够包括两种或多种的这些基团中的组合。
优选，L是直接的键或一种或多种的在连接链内的具有1-4个碳原子的亚烷基、羰基氧基、脲、脲烷、亚烷基氧基、亚烷基羰基氧基和羧基亚烷基。更优选，L包括至少一种-C(＝O)O-(羰基氧基)、-NH-C(＝O)-NH-(脲)、-C(＝O)-O-(CH2)2-，或-NH-C(＝O)-O-(脲烷)基团。
在结构(IX)中，R13表示侧挂磷酸基团，侧挂金刚烷基基团或这两种类型的侧基。耐溶剂的聚合物能够包括具有磷酸基团的一种或多种不同的重复单元或具有金刚烷基的一种或多种不同的重复单元。另外地，聚合物能够包括具有磷酸基团的一种或多种不同的重复单元和具有金刚烷基的一种或多种不同的重复单元的混合物。当R’是侧挂金刚烷基时，L包括在连接链内的脲或脲烷连接基团。
在提及“磷酸”基团时，希望它还包括磷酸的相应盐，其中包括但不限于，碱金属盐和铵盐。任何合适的正的抗衡离子能够与侧挂磷酸基团一起使用，只要抗衡离子不会负面影响所得聚合物的特性或其它所需的成像性能。
在结构VIII和IX的更优选实例中，z是5-20wt％和y是80-95wt％，当A表示包含侧挂磷酸基团的重复单元时。另外地，x是5-40wt％和B是60-95wt％，当A表示包含侧挂金刚烷基的重复单元时。
能够用于提供以上对于结构VIII和IX所述的A重复单元的特别有用的烯属不饱和的可聚合单体包括，但不限于由下面结构A1至A5表示的下列化合物：
Figure G2007800138486D00111
其中X是氧基，硫基或-NH-(优选氧基)，X’是-NH-或氧基，X”是氧基或-NH-，和n是1-6(优选2-4)。
Figure G2007800138486D00112
乙二醇甲基丙烯酸酯磷酸酯(A2)
Figure G2007800138486D00113
乙烯基膦酸(A3)
Figure G2007800138486D00114
1，3-丙二醇甲基丙烯酸酯磷酸酯(A4)
1，4-正丁二醇甲基丙烯酸酯磷酸酯(A5)
在结构(VIII)和(IX)中，B表示从不具有侧挂磷酸基团或金刚烷基的一种或多种烯属不饱和的可聚合单体形成的重复单元。各种单体能够用于提供B重复单元，其中包括苯乙烯单体、(甲基)丙烯酰胺、(甲基)丙烯酸或它的酯、(甲基)丙烯腈、乙酸乙烯酯、马来酸酐、N-取代马来酰亚胺或它们的混合物。
优选，由B表示的重复单元是从苯乙烯、N-苯基马来酰亚胺、甲基丙烯酸、(甲基)丙烯腈或甲基丙烯酸甲酯或这些单体中的两种或多种的混合物形成的。
在一些实施方案中，第一种聚合物粘结剂能够由如上所述的结构(VIII)表示，其中x是5-30wt％(更优选，5-20wt％)和B表示从下面单体形成的重复单元：
a)一种或多种的苯乙烯、N-苯基马来酰亚胺、甲基丙烯酸和甲基丙烯酸甲酯，其中这些重复单元占耐溶剂的聚合物中的全部重复单元的0-70wt％(更优选10-50wt％)，和
b)一种或多种的丙烯腈或甲基丙烯腈或它们的混合物，其中这些重复单元占耐溶剂的聚合物中的全部重复单元的20-95wt％(更优选20-60wt％)。
其它有用的第一种聚合物粘结剂包括骨架并具有连接于骨架上的下列结构Q基团：
Figure G2007800138486D00131
其中L1，L2和L3独立地表示连接基团，T1、T2和T3独立地表示端基，以及a、b和c独立地是0或1。
更具体地说，L1、L2和L3中的每一个独立地是具有1-4个碳原子的取代的或未被取代的亚烷基(如亚甲基、1，2-亚乙基、1，1-亚乙基、正亚丙基、异亚丙基、叔亚丁基和亚正丁基)，在环状基团中具有5-7个碳原子的取代亚环烷基(如亚环戊基和1，4-亚环己基)，在芳族环中具有6-10个碳原子的取代或未被取代的亚芳基(如1，4-亚苯基、亚萘基、2-甲基-1，4-亚苯基和4-氯-1，3-亚苯基)，或在环状基团中具有5-10个碳原子和一个或多个杂原子的取代或未被取代的，芳族或非芳族的二价杂环基团(如亚吡啶基、亚吡唑基、亚嘧啶基或亚噻唑基)，或这些二价连接基团中两种或多种的任何组合。另外地，L2和L3一起能够表示为了形成碳环或杂环结构所需要的原子。优选，L1是碳-氢单键或亚甲基、亚乙基或亚苯基，以及L2和L3独立地是氢，甲基，乙基，2-羟乙基或环状-(CH2)2O(CH2CH2)-基团。
T1，T2和T3独立地是端基，如氢或具有1-10个碳原子的取代或未被取代的烷基(如甲基、乙基、异丙基、叔丁基、正己基、甲氧基甲基、苯基甲基、羟乙基和氯乙基)，具有2-10个碳原子的取代或未被取代的链烯基(如乙烯基和己烯基)，取代或未被取代的炔基(如乙炔基和辛炔基)，在环中具有5-7个碳原子的取代或未被取代的环烷基(如环戊基、环己基和环庚基)，在环中具有碳原子和一个或多个杂原子的取代或未被取代的杂环基团(芳族和非芳族)(如吡啶基、吡唑基、嘧啶基、噻唑基和吲哚基)，以及在芳族环中具有6-10个碳原子的取代或未被取代的芳基(如苯基、萘基、3-甲氧基苯基、苄基和4-溴苯基)。另外地，T2和T3一起表示为了形成环状结构(它也能够含有稠环)所需要的原子。另外，当“a”是0时，T3不是氢。
在一些实施方案中，该结构Q基团能够直接连接于在聚合物骨架中的α-碳原子上，该α-碳原子还有连接于其上的吸电子基团。在其它实施方案中，结构Q基团经由连接基团间接地连接于聚合物骨架上。
这些第一种聚合物粘结剂能够通过在聚合物前体中的α-氢与包含醛基的第一种化合物和包含胺基的第二种化合物的反应来制备，按照在美国专利申请出版物2005/0037280(Loccufier等人)中所述。
这些第一种聚合物粘结剂能够含有一种类型以上的取代结构Q基团。不同的结构Q基团能够相继被引入或作为不同的第一和第二种化合物的混合物在与含羟基的聚合物之间的反应中被引入。结构Q基团的量和类型仅仅受到所得改性树脂粘结剂在碱性显影剂中的溶解度限制。一般，至少1mol％和至多99mol％的第一种聚合物粘结剂重复单元包括相同的或不同的结构Q基团。
第一种聚合物粘结剂也能够由下面的结构(X)表示：
-(A)x-(B)y-
(X)
其中A表示从包含相同或不同Q基团的一种或多种烯属不饱和的可聚合单体形成的重复单元，B表示从不包含Q基团的一种或多种不同的烯属不饱和的可聚合单体形成的重复单元。
更具体地说，在结构X中的A重复单元能够由下面的结构(Xa)或(Xb)表示：
Figure G2007800138486D00141
其中R14和R16独立地是氢或卤素，具有1-7个碳原子的取代或未被取代的烷基(如甲基、乙基、正丙基、异丙基或苄基)，或取代的或未被取代的苯基。优选，R14和R16独立地是氢或甲基或卤素基团，和更优选它们独立地是氢或甲基。
在结构Xa中的R15是以上定义的吸电子基团，其中包括但不限于，氰基，硝基，在碳环中具有6-10个碳原子的取代或未被取代的芳基，在杂芳族环中具有5-10个碳、硫、氧或氮原子的取代或未被取代的杂芳基，-C(＝O)OR20和-C(＝O)R20基团，其中R20是氢或具有1-4个碳原子的取代的或未被取代的烷基(如甲基、乙基、正丙基、叔丁基)，取代的或未被取代的环烷基(如取代的或未被取代的环己基)，或取代的或未被取代的芳基(如取代或未被取代的苯基)。氰基、硝基、-C(＝O)OR20，和-C(＝O)R20基团是优选的以及氰基、-C(＝O)CH3，和-C(＝O)OCH3是最优选的。
在结构(Xb)中的R17和R18独立地是氢或具有1-6个碳原子的取代的或未被取代的烷基(如甲基、乙基、正丙基、叔丁基、正己基)，具有5或6个碳原子的取代或未被取代的环烷基(如环己基)，具有6-10个碳原子的取代的或未被取代的芳基(如苯基、4-甲基苯基和萘基)或-C(＝O)R19基团，其中R19是取代的或未被取代的烷基(与对于R17和R18的定义相同)，具有2-8个碳原子的取代的或未被取代的链烯基(如乙烯基和1，2-丙烯基)，取代的或未被取代的环烷基(与以上对于R17和R18的定义相同)，或取代的或未被取代的芳基(与以上对于R17和R18的定义相同)。优选，R17和R18独立地是氢或以上定义的取代的或未被取代的烷基、环烷基、芳基或-C(＝O)R19基团，其中R19是具有1-4个碳原子的烷基。
在结构(Xb)中，Y是直接的键或二价连接基团。有用的二价连接基团包括但不限于氧基、硫基、-NR21-、取代或未被取代的亚烷基、取代或未被取代的亚苯基、取代或未被取代的亚杂环基、-C(＝O)-、和-C(＝O)O-基团或它们的组合，其中R21是氢或与以上对于R17和R18的定义相同的取代的或未被取代的烷基，取代或未被取代的环烷基，或取代或未被取代的芳基。优选，Y是直接的键或氧基、-C(＝O)O-、-C(＝O)OCH2CH2O-或-C(＝O)CH2CH2OC(＝O)CH2-基团。
在结构(X)中，x是1-70mol％，和y是30-99mol％，以总重复单元为基础。优选，x是5-50mol％和y是50-95mol％，以总重复单元为基础。
同样在结构(X)中，B能够表示从各种各样的烯属不饱和的可聚合单体形成的重复单元。特别有用的重复单元是从一种或多种N-取代马来酰亚胺、N-取代(甲基)丙烯酰胺、未被取代的(甲基)丙烯酰胺、(甲基)丙烯腈，或具有酸性基团的乙烯基单体形成的，并且更优选从一种或多种N-苯基马来酰亚胺、N-环己基马来酰亚胺、N-苄基马来酰亚胺、N-(4-羧基苯基)马来酰亚胺、(甲基)丙烯酸、乙烯基苯甲酸、(甲基)丙烯酰胺和(甲基)丙烯腈形成的。这些单体中的几种能够共聚合，得到多种类型的B重复单元。B重复单元的特别有用的组合包括从甲基丙烯酸、甲基丙烯酰胺和N-苯基马来酰亚胺中的两种或多种形成的那些。
第一种聚合物粘结剂是在内层中占优势的聚合物材料。也就是说，它们占内层中的总聚合物材料的大于50％和至多100％(干重)。然而，该内层也可包括一种或多种的初级(primary)附加聚合物材料，前提条件是，这些初级附加聚合物材料不会负面影响内层的耐化学性和溶解性能。
有用的初级附加聚合物材料包括共聚物，该共聚物包括1-30mol％和优选3-20mol％的从N-苯基马来酰亚胺形成的重复单元，1-30mol％和优选5-20mol％的从甲基丙烯酰胺形成的重复单元，20-75mol％和优选35-60mol％的从丙烯腈形成的重复单元，以及20-75mol％和优选35-60mol％的从结构(XI)的一种或多种单体形成的重复单元：
CH2＝C(R23)-CO2-CH2CH2-NH-CO-NH-p-C6H4-R22
(XI)
其中R22是OH，COOH或SO2NH2，和R23是H或甲基，和，任选1-30mol％，和优选，当存在时，3-20mol％的从结构(XII)的一种或多种单体形成的重复单元：
CH2＝C(R25)-CO-NH-p-C6H4-R24
(XII)
其中R24是OH、COOH或SO2NH2，以及R25是H或甲基。
该内层也可包括一种或多种二级附加聚合物材料，这些材料是具有活化羟甲基和/或活化烷基化羟甲基的树脂。在内层中的这些“二级附加聚合物材料”不应该与用于外层中的“第二种聚合物粘结剂”混淆。
二级附加聚合物材料能够包括，例如可溶酚醛树脂和它们的烷基化类似物，羟甲基蜜胺树脂和它们的烷基化类似物(例如蜜胺-甲醛树脂)，羟甲基甘脲树脂和烷基化类似物(例如甘脲-甲醛树脂)、硫脲-甲醛树脂、二氨基三嗪-甲醛树脂，和苯代三聚氰胺-甲醛树脂。可商购的蜜胺-甲醛树脂和甘脲-甲醛树脂包括，例如，
Figure G2007800138486D00171
树脂(Dyno Cyanamid)和
Figure G2007800138486D00172
树脂(Sanwa Chemical)。
具有活化羟甲基和/或活化烷基化羟甲基的树脂优选是可溶酚醛树脂或可溶酚醛树脂的混合物。可溶酚醛树脂是本领域中的技术人员公知的。它们是通过使用过量的苯酚，由苯酚与醛在碱性条件下的反应制备的。可商购的可溶酚醛树脂包括，例如，GP649D99可溶酚醛树脂(GeorgiaPacific)和BKS-5928可溶酚醛树脂(Union Carbide)。
有用的二级附加聚合物材料也能够包括共聚物，该共聚物包括25-75mol％和35-60mol％的从N-苯基马来酰亚胺形成的重复单元，10-50mol％和优选15-40mol％的从甲基丙烯酰胺形成的重复单元，和5-30mol％和优选10-30mol％的从甲基丙烯酸形成的重复单元。这些二级附加共聚物已公开在美国专利No6,294,311和6,528,228(两者已在上文中列出)。
可用于内层中的第一种聚合物粘结剂以及初级和二级附加聚合物材料能够通过一些方法制备，如自由基聚合法，这些是本领域中的技术人员公知的并且已描述在例如Macromolecules，Vol.2，第二版的20和21章中，H.G.Elias，Plenum，N.Y.，1984。有用的自由基引发剂是过氧化物如过氧化苯甲酰，氢过氧化物如氢过氧化枯基和偶氮化合物如2，2’-偶氮双(异丁腈)(AIBN)。合适的反应溶剂包括对反应物惰性的和另外不会负面影响反应的液体。
在优选的实施方案中，该内层进一步包括在600-1200和优选在700-1200nm处吸收辐射，在300到600nm处有最少吸收的红外辐射吸收性化合物(“IR吸收性化合物”)。该化合物(有时已知为“光热转化材料”)吸收辐射并将它转化成热。虽然聚合物材料中的一种可以本身包括IR吸收性结构部分，但红外辐射吸收性化合物通常是单独的化合物。该化合物可以是染料或颜料，如铁氧化物和炭黑。有用颜料的例子是ProJet900，ProJet860和ProJet830(全部可从Zeneca Corporation获得)。
有用的红外辐射吸收性化合物也包括炭黑类，其中用增溶基团进行表面官能化的炭黑类是现有技术中公知的。接枝到亲水性、非离子的聚合物上的炭黑，如FX-GE-003(由Nippon Shokubai制造)，或用阴离子基团进行表面官能化的炭黑，如
Figure G2007800138486D00181
200或
Figure G2007800138486D00182
300(由Cabot Corporation制造)也是有用的。
IR吸收性染料(尤其可溶于碱性显影剂中的那些)是更优选的，以防止由不溶性物质引起的显影剂的淤泥化。合适IR染料的例子包括但不限于，偶氮染料、squarilium染料、克酮酸酯(croconate)染料、三芳基胺染料、噻唑鎓(thioazolium)染料、吲哚鎓(indolium)染料、氧杂菁染料、oxaxolium染料、菁染料、部花青染料、酞菁染料、吲哚菁(indocyanine)染料、靛苯胺染料、merostyryl染料、吲哚三羧菁(indotricarbocyanine)染料、氧杂三羧菁(oxatricarbocyanine)染料、硫菁(thiocyanine)染料、硫杂三羧菁(thiatricarbocyanine)染料、部花青染料、隐花青染料、萘菁(naphthalocyanine)染料、聚苯胺染料、聚吡咯染料、聚噻吩染料、chalcogenopyryloarylidene和bi(chalcogenopyrylo)聚甲炔染料、oxyindolizine染料、吡喃鎓染料、吡唑啉偶氮染料、噁嗪染料、萘醌染料、蒽醌染料、quinoneimine染料、甲川型染料、芳基甲川型染料、斯夸苷(squarine)染料、噁唑染料、croconine染料、卟啉染料和前述染料类型的任何取代或离子形式。合适染料也已描述在很多的出版物中，其中包括美国专利No.6,294,311(以上所指出)和美国专利No.5,208,135(帕特尔等人)。
有用的IR吸收性化合物的例子包括在下面实施例中使用的ADS-830A和ADS-1064(American Dye Source，Baie D′Urfe，Quebec，Canada)，EC2117(FEW，Wolfen，Germany)，
Figure G2007800138486D00183
IR99和IR165(GPTGlendale Inc.Lakeland，FL)和IR吸收性染料A。
近红外的吸收性菁染料也是有用的并且描述在例如美国专利No.6,309,792(Hauck等人)，美国专利No.6,264,920(Achilefu等人)，美国专利No.6,153,356(Urano等人)，美国专利No.5,496,903(Watanate等人)中。合适的染料可以通过使用常规的方法和起始原料来形成或从各种商业来源获得，其中包括American Dye Source(Canada)和FEWChemicals(Germany)。近红外二极管激光光束所用的其它有用染料已描述在例如美国专利No.4,973,572(DeBoer)中。
除低分子量IR-吸收性染料之外，键接于聚合物上的IR染料结构部分同样能够使用。另外，能够使用IR染料阳离子，即，阳离子是与在侧链中包含羧基、磺基、磷光体或膦酰基基团的聚合物进行离子相互作用的染料盐的IR吸收性部分。
红外辐射吸收性化合物能够以一般至少5％和至多30％和优选12％-25％的量存在于可成像的元件中，以元件的总干重为基础。优选地，这一用量是以它所处于的层的总干重为基础的。所要使用的特定化合物的具体量能够容易地由本领域中技术人员确定。
该内层能够包括其它组分，如表面活性剂、分散助剂、湿润剂、生物杀伤剂、增粘剂、干燥剂、消泡剂、防腐剂、抗氧化剂和着色剂。
内层一般具有0.5-2.5g/m2和优选1-2g/m2的干燥涂层覆盖率。如上所述的第一种聚合物粘结剂一般占至少50wt％和优选60-90wt％，以总干燥层重量为基础，并且这一用量能够根据存在什么样的其它聚合物和化学组分来改变。任何初级和二级附加聚合物材料(如线型酚醛清漆，可溶酚醛树脂或以上指出的共聚物)能够以5-45wt％和优选5-25wt％的量存在，以内层的总干重为基础。
可成像的元件的外层被布置在内层之上并且在优选的实施方案中，在内层和外层之间没有中间层。外层包括与如上所述的第一种聚合物粘结剂不同的第二种聚合物材料。它一般是如以下所定义的光稳定的、水不溶性的、碱性显影剂可溶的、成膜用的粘结剂材料。外层基本上不含红外辐射吸收性化合物，意即这些化合物都没有故意引入在其中并且没有较大量从其它层扩散到其中。
第二种聚合物粘结剂包括一般由下面结构(I)或(II)表示的具有侧挂羧基的重复单元，该重复单元占在第二种聚合物粘结剂中的总重复单元的至少3mol％：
Figure G2007800138486D00201
其中n是1-3(优选1或2和更优选1)。
在结构(I)或(II)中，Rs和Rt独立地是氢或具有1-7个碳原子的取代的或未被取代的烷基(如甲基、乙基、叔丁基或苄基)，或卤素基团(如氯或溴)。优选，Rs和Rt独立地是氢或取代的或未被取代的甲基或氯基团，和更优选，它们独立地是氢或甲基。
X是多价连接基团，其中包括但不限于多价脂肪族和芳族连接基团和它们的组合。在大部分的实施方案中，X是二价连接基团。此类基团能够包括亚烷基、亚芳基、亚烷基亚芳基、亚芳基亚烷基、亚烷基氧基亚烷基、亚芳基氧基亚芳基和亚烷基氧基亚芳基，它们全部能够是未被取代的或被不会负面影响第二种聚合物粘结剂的特性的一种或多种取代基所取代的。优选，X是取代的或未被取代的亚苯基基团，尤其当n是1时。
在结构(II)中，Y是氧基或-NR-，其中R是氢或具有1-10个碳原子的取代或未被取代的烷基(如甲基、乙基、异丙基、正己基和苄基)或取代或未被取代的芳基(如苯基)。优选Y是氧基。
同样在结构(II)中，Z是一价有机基团，其中包括但不限于，一价脂肪族或芳族基团或它们的组合。此类基团与以上对于X所述的多价基团定义相似，但是也能够包括亚芳基或亚烷基或它们的组合，有或没有羰基[C(＝O)]或酰胺基(-NH-)基团或它们的组合。例如，有用的Z基团包括-R’-NHC(＝O)R＂基团，其中R’是具有2-6个碳原子的取代或未被取代的亚烷基(如亚乙基和亚异丙基)，和R＂是具有1-10个碳原子的取代或未被取代的烷基(如甲基、甲氧基甲基、乙基、异丙基、正己基和苄基)或取代或未被取代的芳基(如苯基)。一个特别有用的Z基团是-CH2CH2NHC(＝O)-苯基。
Z也能够是具有1-10个碳原子的取代的或未被取代的烷基(如甲基、乙基、异丙基、叔丁基、正己基和苄基)。Z的特别有用的烷基包括具有1-8个碳原子的那些(其中包括直链和支链丁基)。
第二种聚合物粘结剂一般具有至少20mg KOH/g的酸值和优选25-45mg KOH/g的酸值。为了改变第二种聚合物粘结剂的酸性，侧挂的羧酸基团的量能够使用已知方法通过与恶唑啉反应或通过用醇或烷基卤化物进行酯化来调节(例如减少)。
第二种聚合物粘结剂还一般具有至少1,000和至多250,000和优选10,000到150,000的数均分子量，使用已知的技术测量。
第二种聚合物粘结剂也能够由下面的结构(III)表示：
-(A)x-(B)y-
(III)
其中A表示由结构(I)或(II)或结构(I)和(II)两者定义的重复单元。因此，多种类型的单体能够用于提供A重复单元。
同样在结构(III)中，x是3-15mol％(优选5-10mol％)，和y是85-97mol％(优选90-95mol％)。
在结构(III)中，B表示与由A表示的那些不同的重复单元。它们能够从一种或多种烯属不饱和的可聚合单体形成，该单体能够与用于形成A重复单元的单体共聚合，其中包括马来酸酐。B重复单元的代表性有用单体包括但不限于，(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酰胺、乙烯基醚、乙烯基酯、乙烯基酮、烯烃、不饱和酰亚胺(其中包括N-马来酰亚胺)、不饱和酸酐(如马来酸酐)、N-乙烯基吡咯烷酮、N-乙烯基咔唑、4-乙烯基吡啶、(甲基)丙烯腈或苯乙烯单体，或这些单体的任何组合。这些特定单体和类似类型已描述在例如美国专利申请出版物2004/0137366(对应于EP1,433,594A)的段落[0044]至[0054]中。
优选，B表示结构(III)的重复单元，它们从一种或多种(甲基)丙烯酸酯，(甲基)丙烯腈，N-苯基马来酰亚胺，或(甲基)丙烯酰胺如N-烷氧基烷基甲基丙烯酰胺或两种或多种此类单体的组合形成。用于形成B重复单元的一些特别有用的单体包括甲基丙烯酸甲酯、苯乙烯、具有侧挂环状脲基团的烯属不饱和的可聚合单体和它们的组合。
可用于本发明的第二种聚合物粘结剂能够使用各种方法来制备。例如，具有侧挂羧酸基团的马来酰亚胺聚合物能够容易地通过使用常规的自由基引发剂[如2，2’-偶氮双(异丁腈)或AIBN]所进行的与结构(I)的重复单元对应的马来酰亚胺单体的自由基聚合反应，或通过在对反应物惰性的合适溶剂中相应的胺与酸酐共聚物的亚胺化反应，来制备。包含结构(II)重复单元的聚合物能够通过马来酸酐的聚合反应以及与醇或仲胺的后续反应来获得。这些反应的反应物和条件对于本领域中技术人员是容易获知的，例如描述在Macromolecules的20和21章，2卷，第二版，H.G.Elias，Plenum，New York1984中。制备最优选的共聚物1-3的代表性合成方法将提供在实施例之前的下文中。含有式(II)重复单元的聚合物也可作为商品如
Figure G2007800138486D00221
540苯乙烯-马来酸酐共聚物(从Hercules，Wilmington，DE)获得。第二种聚合物粘结剂能够是均聚物或共聚物，这些术语是现有技术中所理解的。
第二种聚合物粘结剂一般以1-100wt％和优选85-100wt％的干燥覆盖率存在于外层中，以该层的总干重为基础。
外层能够任选包括着色剂。特别有用的着色剂已描述在例如美国专利No.6,294,311(以上已指出)中，其中包括三芳基甲烷染料如乙基紫、结晶紫、孔雀绿、亮绿、维多利亚蓝B、维多利亚蓝R和维多利亚纯蓝BO。这些化合物能够用作对比染料，它在已显影的可成像的元件中的将未成像的区域与成像区域区分开。
外层能够任选地还包括对比染料、打印输出染料、涂覆用表面活性剂、分散助剂、湿润剂、生物杀伤剂、增粘剂、干燥剂、消泡剂、防腐剂和抗氧化剂。涂覆用表面活性剂是特别有用的。
外层一般具有0.2-1g/m2和优选0.4-0.7g/m2的干燥涂层覆盖率。
虽然不是优选的，但是可能还有在内层和外层之间并与内层和外层接触的隔离层。这一隔离层能够用作阻隔层，以最大程度减少辐射吸收性化合物从内层迁移到外层。这一隔离“阻隔”层一般包括可溶于碱性显影剂中的第三种聚合物粘结剂。如果该第三种聚合物粘结剂与内层中的第一种聚合物粘结剂不同，则它优选可溶于至少一种有机溶剂，在该溶剂中内层第一种聚合物粘结剂是不溶的。优选的第三种聚合物粘结剂是聚(乙烯醇)。一般，该阻隔层应该低于内层厚度的五分之一，和优选低于内层厚度的十分之一。
可成像的元件的制备
可成像的元件能够通过使用常规的涂覆方法或叠层方法，顺序地将内层配制剂施涂在基材(和在基材上提供的任何其它亲水性层)的表面上，然后将外层配制剂施涂在内层上来制备的。重要的是避免内层和外层配制剂的掺混。
内部和外层能够通过如下方法来施涂：将所需成分分散或溶解在合适的涂覆溶剂中，所得配制剂随后或同时使用合适的设备和程序施涂于基材上，如旋涂、刮刀涂布、凹版涂布、口模式涂布、槽缝涂覆、条形涂覆、绕线棒涂覆、滚涂或挤出机料斗涂覆。该配制剂也能够通过被喷雾在合适的载体(如在压印机筒)上来施涂。
用于涂覆内层和外层的溶剂的选择取决于第一种和第二种聚合物粘结剂，其它聚合物材料以及在该配制剂中的其它组分的性质。为了防止内层和外层配制剂发生混合或防止当施涂外层配制剂时内层发生溶解，该外层配制剂应该从一种溶剂中施涂，其中内层的第一种聚合物粘结剂不溶于该溶剂中。
一般，该内层配制剂是从甲基乙基酮(MEK)、乙酸1-甲氧基-2-丙基酯(PMA)、γ-丁内酯(BLO)和水的溶剂混合物，MEK、BLO、水和1-甲氧基丙-2-醇(也已知为Dowanol PM或PGME)的混合物，二乙基甲酮(DEK)、水、乳酸甲酯和BLO的混合物，DEK、水和乳酸甲酯的混合物，或乳酸甲酯、甲醇和二氧戊环的混合物涂覆的。
外层配制剂能够从不溶解内层的溶剂或溶剂混合物中涂覆。用于此目的的典型溶剂包括但不限于，乙酸丁酯、乙酸异丁基酯、甲基异丁基酮、DEK、乙酸1-甲氧基-2-丙基酯(PMA)、异丙醇、PGME和它们的混合物。特别有用是DEK和PMA的混合物或DEK、PMA和异丙醇的混合物。
另外地，该内层和外层可以利用挤出涂覆方法从各层组合物的熔融混合物来施涂。此类熔融混合物通常不包含挥发性有机溶剂。
中间干燥步骤可以在各种层配制剂的各自施涂之间使用，以便在涂覆其它配制剂之前除去溶剂。干燥步骤还有助于防止各层的混合。
在干燥这些层之后，该元件能够进一步在抑制水分从干燥层中除去的条件下用在40℃-90℃下的热处理“调理”至少4小时(优选至少20小时)。更优选地，热处理是在50℃到70℃下进行至少24小时。在热处理过程中，可成像的元件被包裹或包围在水不渗透性的片材中，以代表从版坯(precursor)中水分除去的有效屏障，或可成像的元件的热处理是在相对湿度被控制到至少25％的环境中进行的。另外，水不渗透性的片材能够密封在可成像的元件周围，其中水不渗透性的片材是聚合物膜或金属箔，它被密封在可成像的元件周围。
在一些实施方案中，这一热处理能够用包括至少100个同样的可成像的元件的堆叠，或当可成像的元件是线圈形式时来进行。
制备本发明的可成像的元件的代表性方法示于下面的实施例1-5中。
可成像的元件能够具有任何有用的形式，其中包括但不限于，印刷版版坯，印刷筒、印刷套管和印刷带(包括柔性印刷网幅)。优选，该可成像的元件是用于提供平版印刷版的印刷版版坯。
印刷版版坯能够具有任何有用的尺寸和形状(例如，正方形或矩形)，具有布置在合适基材上的必不可少的内层和外层。印刷筒和套管已知为具有基材以及内层和外层的圆柱形的轮转印刷元件。中空或实心金属芯能够用作印刷套管的基材。
成像和显影
在使用过程中，可成像的元件曝光于采用600-1500nm和优选700-1200nm的波长的红外激光器所发出的合适红外光源。用于使可成像的元件曝光的激光器优选是二极管激光器，归因于二极管激光器系统的可靠性和低保养，但是其它激光器如气态或固态激光器也可以使用。用于激光成像的功率、强度和曝光时间的结合对于本领域中技术人员是显而易见的。目前，用于商购图像定形机(imagesetter)中的高性能激光器或激光二极管发射800-850nm或1040-1120nm的波长的红外辐射。
该成像装置能够仅仅用作版装定机或它能够直接引入到平版印刷机中。在后一种情形下，印刷可以紧接着在成像之后立即开始，由此显著地减少印刷机设置时间。该成像装置能够构型设计为平台式记录器或构型设计为滚筒记录器，其中可成像的元件被安装到转筒的内部或外部圆柱形表面上。有用的成像装置的例子是作为可从Creo Corporation(加拿大不列颠哥仑比亚省Burnaby市的Eastman Kodak Company的子公司)商购的Creo 
Figure G2007800138486D0025155841QIETU
型号图像定形机来获得的，它装有发射830nm波长的近红外线辐射的激光二极管。其它合适的成像光源包括在1064nm波长下操作的Crescent42T Platesetter和Screen PlateRite4300系列或8600系列版装定机(可以从Screen，Chicago，IL商购)。其它有用的辐射源包括直接成像的印刷机，它能够用于使元件成像，与此同时该元件附着于印刷版圆柱形体上。合适的直接成像印刷机的例子包括Heidelberg SM74-DI印刷机(可以从Heidelberg，Dayton，OH获得)。
成像速度可以在50-1500mJ/cm2范围内和更特别地在75-400mJ/cm2范围内。
尽管激光成像在本发明的实施中是优选的，但是能够由以图像方式提供热能的任何其它方式进行成像。例如，成像能够通过使用所谓的“热敏印刷”的耐热头(热印刷头)来进行，如已描述在例如美国专利No.5,488,025(Martin等人)中并且如已用于热传真机和升华印刷机中的那样。热印刷头是可从市场上获得的(例如，作为Fujitsu Thermal HeadFTP-040MCS001和TDK Thermal Head F415HH7-1089)。
成像一般通过直接数字成像法来进行。图像信号作为位图数据文件存储在计算机上。此类文件可通过光栅图像处理器(RIP)或其它合适方式来产生。该位图经过构造来确定颜色的色调以及屏幕频率和角度。
可成像的元件的成像会生产出成像元件，该元件包括已成像(曝光)和未成像(未曝光)区域的潜像。用合适的碱性显影剂将成像元件显影除去外层和底下层(包括内层)的曝光区域，并且将基材的亲水性表面曝光。因此，本发明的可成像的元件是“正性”的。亲水性表面的曝光(或已成像)区域拒斥油墨，而外层的未曝光(或未成像)区域接受油墨。
更具体地说，显影进行一段时间，该时间足以除去外层和底下层的已成像(曝光)区域，但是不足以除去外层的未成像(未曝光)区域。因此，外层的已成像(曝光)区域被描述为在碱性显影剂中“可溶”或“可除去”，因为与外层的未成像(未曝光)区域相比，它们在碱性显影剂内更容易被除去、溶解或分散。因此，术语“可溶”也指“可分散的”。因为在外层中使用的第二种聚合物粘合剂的性质，曝光区域的除去在显影过程中容易发生，但是外层的已除去部分在较长时间中保持悬浮或可溶于显影剂溶液中。
成像元件一般使用常规的处理条件来显影。含水碱性显影剂和溶剂型碱性显影剂两者都能够使用，其中后一类型的碱性显影剂是优选的。
用于本发明的特别有用的显影剂是溶剂型碱性显影剂，它们一般是可与水混溶的一种或多种有机溶剂的单相溶液。有用的有机溶剂能够含有苯酚与环氧乙烷和环氧丙烷的反应产物[如乙二醇苯基醚(苯氧基乙醇)]、苄醇、乙二醇和丙二醇与具有6个或更少碳原子的酸所形成的酯或乙二醇、二甘醇和丙二醇与具有6个或更少碳原子的烷基所形成的醚，如2-乙基乙醇和2-丁氧基乙醇。有机溶剂一般以0.5-15％的量存在，基于总显影剂重量。特别希望的是，碱性显影剂含有包括至少一个N-氢原子和一个烷基的一种或多种硫代硫酸盐或氨基化合物，该烷基被亲水基团如羟基、聚氧化乙烯链或pKa低于7(更优选低于5)的酸性基团或它们的相应盐(如羧基、磺基、磺酸盐基团、硫酸盐基团、膦酸和磷酸盐基团)取代。这一类型的特别有用的氨基化合物包括，但不限于，单乙醇胺、二乙醇胺、甘氨酸、丙氨酸、氨基乙基磺酸和它的盐，氨基丙基磺酸和它的盐和杰夫胺(Jeffamine)化合物(例如，氨基终止的聚氧化乙烯)。
代表性溶剂型负性的碱性显影剂包括ND-1显影剂，955显影剂，989显影剂，980显影剂和956显影剂(可以从Eastman Kodak Company的子公司Kodak Polychrome Graphics获得)。这些负性显影剂能够优选用于本发明的方法中，在由本发明提供的成像元件的显影之后留下最少量的残留物。
另一种有用的显影剂是如下所述的正性碱性显影剂W129C3A显影剂。在使用这一显影剂之后留下最少量的残留物。
含水的碱性显影剂一般具有至少7和优选至少11的pH。有用的碱性湿显示剂包括3000显影剂、9000显影剂、GOLDSTAR显影剂、GREENSTAR显影剂、ThermalPro显影剂、PROTHERM显影剂、MX1813显影剂和MX1710显影剂(全部可从Eastman Kodak Company的子公司Kodak Polychrome Graphics获得)。这些组合物还一般包括表面活性剂、螯合剂(如乙二胺四乙酸的盐)，和碱性组分(如无机硅酸盐、有机硅酸盐、氢氧化物和碳酸氢盐)和任选的溶剂。
一般，碱性显影剂通过用含有显影剂的施涂器摩擦或擦拭外层而被施涂于成像元件上。另外地，成像元件能够被刷涂以显影剂或显影剂可通过用足够的力喷雾外层，以除去曝光区域来施涂。成像元件优选被浸于显影剂中。在全部例子中，生产显影的图像，特别在平版印刷版中。
在显影之后，成像元件能够用水漂洗并以合适的方式干燥。干燥后的元件也能够用常规的涂胶溶液(优选阿拉伯树胶)处理。
已成像和显影的元件也能够在后烘烤操作中烘烤，该操作能够进行以便增大所形成的成像元件的游程(run)长度。烘烤能够在例如220℃-240℃下进行7分钟-10分钟或在120℃下进行30分钟。
平版油墨和润版液能够被施涂于用于印刷的成像元件的印刷表面上。油墨被外层的未成像(未曝光或未除去)区域吸收并且润版液被基材的通过成像和显影过程所显露的亲水性表面吸收。该油墨然后被转移到合适的接收材料(如布料、纸、金属、玻璃或塑料)上，以在其上面提供图像的所需压印层。如果需要的话，中间体“包覆橡皮”辊可用于将油墨从成像元件中转移到接收材料。如果需要的话，成像元件能够在压印层之间清洗，其中使用常规的清洗手段和化学品。
下列实施例被提供来举例说明本发明的实施，但是绝不是以任何方式限制本发明。
实施例
在实施例和分析方法中使用的组分和材料是如下：
MEK是甲基乙基酮。
DEK是二乙基甲酮。
PGME是1-甲氧基丙-2-醇(也已知为Dowanol PM)。
BLO是γ-丁内酯。
PMA是乙酸1-甲氧基-2-丙基酯。
DMAC是二甲基乙酰胺。
IR Dye A是从Eastman Kodak Company获得的并且由下面通式表示：
Figure G2007800138486D00281
IR Dye B是Kayabsorb PS210CNE，它是红外吸收性染料(NipponKayaku Co，Ltd.，Japan)。
IR Dye C由Eastman Kodak(Rochester，NY)供应并具有下面通式：
Figure G2007800138486D00282
聚合物A是具有从N-苯基马来酰亚胺(41.5mol％)，甲基丙烯酰胺(37.5mol％)和甲基丙烯酸(21mol％)形成的重复单元的共聚物，它从Clariant(德国)获得。
聚合物B是具有从N-苯基马来酰亚胺(40mol％)，甲基丙烯酰胺(19mol％)，甲基丙烯酸(15mol％)和N-(2-甲基丙烯酰氧基乙基)乙烯(26mol％)形成的重复单元的共聚物并具有57的酸值。
聚合物C是具有下面结构的聚合物：
Figure G2007800138486D00291
Figure G2007800138486D00292
540是从苯乙烯以及马来酸酸酐的丁基酯形成的共聚物(Monsanto)。
GP Resole是双酚A可溶酚醛树脂(Georgia Pacific Chemicals，Atlanta，GA)。
JK58是聚(N-苯基马来酰亚胺-共聚-甲基丙烯酰胺-共聚-甲基丙烯酸)(50:35:15mol％)，从Clariant(德国)获得。
ACR1755是聚(苯甲酸甲基丙烯酰胺-共聚-丙烯腈-共聚-甲基丙烯酰胺-共聚-N-苯基马来酰亚胺)(37:48:10:5wt％)。
乙基紫是C.I.42600(CAS2390-59-2，λmax＝596nm)，具有通式(p-(CH3CH2)2NC6H4)3C+Cl-(Aldrich Chemical Company，Milwaukee，WI，USA)。
Figure G2007800138486D00293
307是可从Byk Chemie(Wallingford，Conn.)获得的聚乙氧基化的二甲聚硅氧烷共聚物在25wt％二甲苯/-乙酸甲氧基丙基酯中的溶液。
基材A是已经电粒化的、阳极化和经受聚(乙烯基膦酸)处理的0.3mm规格铝片。
989显影剂、956显影剂、980显影剂和ND1显影剂是可从KodakPolychrome Graphics(Norwalk，CT，Eastman Kodak Company的子公司)获得的负性显影剂。
W129C3A是含有硅酸钠，Dowanol EPH和二乙醇胺(pH13)的溶剂型正性显影剂。
制备下列聚合物并用于在实施例中所述的一些可成像的元件的外层中：
共聚物1的合成：
在装有搅拌器、氮气导入管和冷凝器的三颈圆底烧瓶中添加已经加热至85℃的甲基乙基酮(150g)和二甲基乙酰胺(10g)。在该溶剂混合物中添加甲基丙烯酸甲酯(46.55g)和N-(4-羧基苯基)马来酰亚胺(7.6g)，使之溶解。在用氮气彻底吹洗15分钟之后，添加AIBN(0.12g)，然后降低氮气压力。在1小时的反应后，再次添加AIBN(0.7g)，反应在85℃下继续进行3小时。溶液在600ml的石油醚(Waschbenzin135/180)中沉淀。所得共聚物1被过滤并在40℃下在真空烘箱中干燥。共聚物1的酸值被测得是35。
共聚物2的合成：
在已溶于甲基乙二醇乙酸酯(200g)的
Figure G2007800138486D00301
540共聚物(20g)中添加乙基噁唑啉(15g)。溶液在氮气下在110℃下加热6小时。所得共聚物2在水中沉淀，洗涤，并且在40℃下在真空烘箱中干燥。干燥的共聚物2被测得具有33的酸值。
共聚物3的合成：
在装有搅拌器、氮气导入管和冷凝器的三颈圆底烧瓶中添加已经加热至85℃的MEK(150g)和DMAC(10g)。向这一溶剂混合物中添加甲基丙烯酸甲酯(46.55g)和马来酸酸酐(3.43g)，然后使之溶解。在用氮气彻底吹洗15分钟之后，添加AIBN(0.12g)，然后降低氮气压力。在1小时后，再次添加AIBN(0.70g)，反应在85℃下继续进行3小时。在这一溶液中添加正丁醇(2.59g)，然后添加三乙胺(0.26g)和将其进一步在85℃下加热2小时，在室温下放置一夜。溶液然后沉淀在600ml的石油醚(Waschbenzin135/180)中，所得共聚物3被过滤并在40℃下在真空烘箱中干燥。共聚物3的酸值被测得是34。
实施例1
本发明的正性可成像的元件制备如下。通过将表I中所示的下列组分溶解在包含MEK(45％)，PMA(35％)，BLO(10％)和水(10％)的溶剂混合物中来制备内层配制剂(6％固体)。
表I
该内层配制剂溶液被涂覆在基材A上并在135℃下干燥45秒，以提供1.3g/m2的干涂层重量。
上层配制剂用已溶于20g的由DEK和Dowanol PM(9:1重量比)形成的溶剂混合物中的共聚物2(2.4g)，307(0.012g)和乙基紫(0.013g)来制备，并涂覆在干燥的内层上以提供0.65g/m2的干燥外涂层重量。
所形成的可热成像的元件在135℃下干燥45秒。通过使用CreoQuantum800图像定形机(67-161mJ/cm2)，在9W功率以及150rpm-360rpm之间的转筒速度下以30rpm的步进，该元件用测试图案来成像。所得已成像的印刷版用989显影剂显影30秒，以便在大于93mJ/cm2的曝光功率下得到具有优异分辩率和清洁背景的良好图像。
共聚物1在989显影剂中的溶解度通过将0.3g的共聚物1在30ml的显影剂中搅拌来评价。共聚物2完全地溶解，没有留下任何残留物。
实施例2
本发明的正性可成像的元件制备如下。通过将表II中所示的下列组分溶解在包含MEK(45％)，PMA(35％)，BLO(10％)和水(10％)的溶剂混合物中来制备内层配制剂(6％固体)。
表II
Figure G2007800138486D00313
该内层配制剂溶液被涂覆在基材A上并在135℃下干燥45秒，以提供1.35g/m2的干涂层重量。
上层配制剂用已溶于20g的由DEK、Dowanol PM和异丙醇(8:1:1重量比)形成的溶剂混合物中的共聚物1(2.4g)，
Figure G2007800138486D00321
307(0.012g)和乙基紫(0.013g)来制备，并涂覆在干燥的内层上以提供0.55g/m2的干燥外涂层重量。
所形成的可热成像的元件在135℃下干燥45秒。通过使用CreoQuantum800图像成形机(67-161mJ/cm2)，在9W功率以及150rpm-360rpm之间的转筒速度下以30rpm的步进，该元件用测试图案来成像。所得已成像的印刷版用980显影剂在Glunz and Jensen处理器中在1200mm/min下显影，以便在大于93mJ/cm2的曝光功率下得到具有优异分辩率和清洁背景的良好图像。
共聚物1在980显影剂中的溶解度通过将0.3g的共聚物1在30ml的显影剂中搅拌来评价。共聚物1完全地溶解，没有留下任何残留物。
实施例3
本发明的正性可成像的元件制备如下。通过将表III中所示的下列组分溶解在包含MEK(45％)，PMA(35％)，BLO(10％)和水(10％)的溶剂混合物中来制备内层配制剂(6％固体)。
表III
Figure G2007800138486D00322
该内层配制剂溶液被涂覆在基材A上并在135℃下干燥45秒，以提供1.35g/m2的干涂层重量。
上层配制剂用已溶于20g的由DEK、Dowanol PM和异丙醇(8:1:1重量比)形成的溶剂混合物中的共聚物2(2.4g)，
Figure G2007800138486D00323
307(0.012g)和乙基紫(0.013g)来制备，并涂覆在干燥的内层上以提供0.60g/m2的干燥外涂层重量。
所形成的可热成像的元件在135℃下干燥45秒。通过使用CreoQuantum800图像成形机(67-161mJ/cm2)，在9W功率以及150rpm-360rpm之间的转筒速度下以30rpm的步进，该元件用测试图案来成像。所得已成像的印刷版用W129C3A显影剂显影30秒，以便在大于93mJ/cm2的曝光功率下得到具有优异分辩率和清洁背景的良好图像。
共聚物2在W129C3A显影剂中的溶解度通过将0.3g的共聚物2在30ml的显影剂中搅拌来评价。共聚物2完全地溶解，没有留下任何残留物。
实施例4
本发明的正性可成像的元件制备如下。通过将表IV中所示的下列组分溶解在包含MEK(45％)，PMA(35％)，BLO(10％)和水(10％)的溶剂混合物中来制备内层配制剂(6％固体)。
表IV
Figure G2007800138486D00331
该内层配制剂溶液被涂覆在基材A上并在135℃下干燥45秒，以提供1.35g/m2的干涂层重量。
上层配制剂用已溶于20g的由DEK、Dowanol PM和异丙醇(8:1:1重量比)形成的溶剂混合物中的共聚物3(2.4g)，
Figure G2007800138486D00332
307(0.012g)和乙基紫(0.013g)来制备，并涂覆在干燥的内层上以提供0.55g/m2的干燥外涂层重量。
所形成的可热成像的元件在135℃下干燥45秒。通过使用CreoQuantum800图像成形机(67-161mJ/cm2)，在9W功率以及150rpm-360rpm之间的转筒速度下以30rpm的步进，该元件用测试图案来成像。所得已成像的印刷版用956显影剂显影30秒，以便在大于89mJ/cm2的曝光功率下得到具有优异分辩率和清洁背景的良好图像。
共聚物3在956显影剂中的溶解度通过将0.3g的共聚物3在30ml的显影剂中搅拌来评价。共聚物3几乎完全溶解，有极少的残留物。比较起来，聚(甲基丙烯酸甲酯)的相同尺寸样品没有溶于显影剂中。
实施例5
通过使用在下表V中所示组分制备内层和外层配制剂(各100g的溶液，有7％固体)。
表V
内层配制剂通过使用0.012英寸(0.03cm)绕线棒被施涂于基材A上，并在135℃下干燥30秒，以得到约1.5g/m2的干燥涂层。
外层配制剂通过使用0.006英寸(0.015cm)绕线棒被施涂于干燥内层上，并在135℃下干燥30秒，以得到约0.60g/m2的干燥涂层。
本发明的所得可成像的元件进行下列测试：
显影剂溶解度：水:ND1(4:1重量比)的液滴被施加于未曝光元件上，以10-秒间隔，长达120秒。该显影剂溶液随即用水洗掉。记录显影剂溶液开始侵蚀外层所需要的时间。
成像试验：该元件通过使用Screen PTR4300图版装定器，采用C12400Dpi内部测试图案，在1000rpm的滚筒转速下，以50％、55％、60％、65％、70％、75％、80％、85％和90％功率的曝光功率，进行成像。成像元件然后在含有水/ND1(4.5:1重量比)的Kodak Polychrome GraphicsPK910II处理器中进行处理。该处理器在洗片桶内装有两个绒辊，显影剂温度是30℃和显影时间是12秒。所得处理的印刷版被评价清除性(生产洁净图像所需要的最短曝光时间)和最佳曝光率(生产最佳图像质量的曝光率)。
试验结果显示在下表VI中。未曝光的元件显示出良好的耐显影剂溶液性能并且印刷版的曝光外层容易地在处理器中被显影剂溶液除去。印刷版提供了优异的，高对比度的和高分辨率的图像。
表VI
 
显影剂液滴试验 清除能量 最佳曝光 评价
60秒 75％功率 85％功率 图像具有优异的分辩率
共聚物1的进一步评价如下进行。ND1显影剂用4份水稀释，形成ND1(1+4)显影剂溶液。共聚物1(0.1g)被添加到9.9g的ND1(1+4)显影剂溶液中并混合24小时，在此之后显影剂溶液被检查不溶性残余物。显影剂溶液被发现完全清除了不溶性物质。共聚物1已经完全地溶解。
在本实施例中的评价结果表明，虽然外层共聚物1提供优异的耐显影剂溶液性能以便在曝光和显影的印刷版中形成优异的图像，但它最终完全地溶于该显影剂溶液中。
共聚物1被认为是外层的清洁处理聚合物粘结剂。当根据本发明使用显影剂溶液时该显影剂溶液是不需要过滤的，并且随着时间的推移，在洗片桶中涂层残留物的固体淀积物不可能产生。因此，共聚物1和在本发明的范围内的其它第二种聚合物粘结剂可理想地用于可成像的元件中，该元件在浸桶中使用负性显影剂以为了维持显影剂所需要的最小过滤进行处理。

Claims (21)

1.正性可成像的元件，它在热成像之后可用碱性显影剂显影，并且包括红外辐射吸收性化合物和基材，在该基材上顺序具有：
包含第一种聚合物粘结剂的内层，和
包含与所述第一种聚合物粘结剂不同的第二种聚合物粘结剂的接受油墨的外层，该第二种聚合物粘结剂包含由下面结构(I)或(II)表示的重复单元，该重复单元占该第二种聚合物粘结剂中的总重复单元的至少3mol％：
其中n是1-3，Rs和Rt独立地是氢或烷基或卤素基团，X是多价连接基团，Y是氧基或-NR-，其中R是氢或烷基或芳基，和Z是一价有机基团。
2.权利要求1的元件，其中n是1或2，Rs和Rt独立地是氢或甲基，X是多价的脂肪族或亚芳基基团或它们的组合，R是烷基，和Z是一价脂肪族或芳族基团或它们的组合。
3.权利要求1的元件，其中Rs和Rt独立地是氢或甲基，X是亚苯基基团，n是1，Y是氧基，和Z是-R’-NHC(＝O)R″基团，其中R’是亚烷基和R″是烷基或芳基，或Z是烷基。
4.权利要求1的元件，其中Rs和Rt独立地是氢或甲基，Y是氧基和Z是-CH2CH2NHC(＝O)-苯基或具有1-8个碳原子的烷基。
5.权利要求1的元件，其中所述第二种聚合物粘结剂具有至少20mgKOH/g的酸值。
6.权利要求1的元件，其中所述第二种聚合物粘结剂是以1-100wt％的干燥覆盖率存在于所述外层中，基于该外层的总干重。
7.权利要求1的元件，其中所述第二种聚合物粘结剂是由以下结构(III)表示：
-(A)x-(B)y-
(III)
其中A表示由结构(I)或(II)或由结构(I)和(II)两者定义的重复单元，B表示不同于结构(I)和(II)两者的重复单元，x是3-15mol％和y是85-97mol％。
8.权利要求7的元件，其中B表示从一种或多种(甲基)丙烯酸酯，(甲基)丙烯酰胺，乙烯基醚，乙烯基酯，乙烯基酮，烯烃，不饱和酰亚胺，不饱和酸酐，N-乙烯基吡咯烷酮，乙烯基咔唑，4-乙烯基吡啶，(甲基)丙烯腈，苯乙烯单体或它们的组合形成的重复单元。
9.权利要求7的元件，其中B表示从一种或多种(甲基)丙烯酸酯，(甲基)丙烯腈，N-苯基马来酰亚胺，具有侧挂环状脲基团的单体或(甲基)丙烯酰胺形成的重复单元。
10.权利要求7的元件，其中x是5-10mol％和y是90-95mol％。
11.权利要求1的元件，其中所述红外辐射吸收性化合物是炭黑或在700-1200nm处有最大吸收率的IR吸收性染料并且是以至少5wt％的量存在于所述内层。
12.权利要求1的元件，其中所述第一种聚合物粘结剂是包含羧基的(甲基)丙烯酸树脂、马来酸化木松香、苯乙烯-马来酸酐共聚物、(甲基)丙烯酰胺聚合物、(甲基)丙烯腈聚合物、从N-取代环状酰亚胺形成的聚合物、具有侧挂环状脲基团的聚合物，以及从N-烷氧基烷基-甲基丙烯酰胺形成的聚合物。
13.权利要求1的元件，其中所述第一种聚合物粘结剂是从N-取代环状酰亚胺、(甲基)丙烯腈、(甲基)丙烯酸和具有侧挂环状脲基团的单体中的一种或多种形成的共聚物。
14.权利要求1的元件，其中所述内层具有0.5-2.5g/m2的干燥涂层覆盖率和该外层具有0.2-1g/m2的干燥涂层覆盖率。
15.形成图像的方法，该方法包括：
A)将正性可成像的元件进行热成像，该元件在热暴露之前可在碱性显影剂中显影，并且包括红外辐射吸收性化合物和基材，在该基材上按顺序具有：
包含第一种聚合物粘结剂的内层，和
包含与所述第一种聚合物粘结剂不同的第二种聚合物粘结剂的接受油墨的外层，该第二种聚合物粘结剂包含由下面结构(I)或(II)表示的重复单元，该重复单元占该第二种聚合物粘结剂中的总重复单元的至少3mol％：
其中n是1-3，Rs和Rt独立地是氢或烷基或卤素基团，X是二价连接基团，Y是氧基或-NR-，其中R是氢或烷基，和Z是一价有机基团。
因此形成具有成像和未成像区域的成像元件，和
B)让该成像元件与碱性显影剂接触以便仅仅除去所述已成像的区域。
16.权利要求15的方法，其中在步骤A中的成像是通过使用在700nm-1200nm范围内的红外辐射来进行的。
17.权利要求15的方法，其中所述第二种聚合物粘结剂是由以下结构(III)表示：
-(A)x-(B)y-
(III)
其中A表示由结构(I)或(II)或由结构(I)和(II)两者定义的重复单元，B表示不同于结构(I)和(II)两者的重复单元，x是3-15mol％，和y是85-97mol％。
18.权利要求17的方法，其中B表示从一种或多种(甲基)丙烯酸酯，(甲基)丙烯酰胺，乙烯基醚，乙烯基酯，乙烯基酮，烯烃，不饱和酰亚胺，不饱和酸酐，N-乙烯基吡咯烷酮，N-乙烯基咔唑，4-乙烯基吡啶，(甲基)丙烯腈，苯乙烯单体或它们的组合形成的重复单元，x是5-10mol％，y是90-95mol％，和该红外辐射吸收性化合物是炭黑或IR吸收性染料并且以5-30wt％的量存在于该内层中。
19.权利要求15的方法，其中碱性显影剂是溶剂型的负性的碱性显影剂。
20.权利要求15的方法，其进一步包括步骤：
C)烘烤所述已成像的和显影的元件。
21.从权利要求15的方法获得的成像元件。
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