CN1401437A - 流体涂敷装置及其方法 - Google Patents

Abstract

提供一种在流体排出开始部分和结束部分也可以得到涂敷流体的涂敷量稳定化的流体涂敷装置和涂敷方法。本发明的涂敷装置包括涂敷头100和控制装置180，进行动作控制以便在排出流体时，旋转排出用部件的同时，使该排出用部件沿着其轴向作排出方向移动，另一方面，停止排出时，停止上述排出用部件的旋转，还使上述排出用部件作与上述排出方向相反方向171b的移动。因此，在流体排出开始和结束部分谋求涂敷流体的涂敷量稳定化。

Description

流体涂敷装置及其方法

技术领域

本发明涉及电子零件、家电产品等领域中可以利用于生产工序，用于定量排出粘接剂、膏状钎焊料、荧光体、润滑脂、油漆、热熔体、药品和食品等各种液体的流体涂敷装置及其方法。

背景技术

液体排出装置(调合器)历来利用于各种领域，随着近几年来的电子零件的小型化、高密度化的需求，要求把微小量的流体材料高精度且稳定地排出控制的技术。例如，在电子零件的表面安装技术(SMT)领域中，在零件安装的高速化、微小化、高密度化、高品质化和无人化的要求中对上述液体排出装置的要求归纳如下。

(1)涂敷量的高精度化及其一次涂敷量的微小化；

(2)排出时间的缩短，即，可以高速排出、截止和再次开始；

(3)适应高黏度粉流体。

历来，为了排出微小流量的液体，空气脉冲式、螺旋槽式等的调合器已被实用化。

上述各种调合器中，如图8所示的空气脉冲式调合器已被广泛利用。利用这一方式的调合器，将由定压源20供应的定量的空气以脉冲形式输送到缸筒状容器10内，容器10内压力上升相对应的一定量的液体25，从喷嘴12排出。

这样的空气脉冲方式的调合器，存在液体25的排出敏感性不好的缺点。另外，属于黏性泵的螺旋槽式调合器也已实用化。通常，这些调合器中，采用把液体被涂敷的被涂敷物和上述调合器可以沿着X、Y、Z方向相对移动的结构，上述调合器一边排出液体一边把上述被涂敷物和调合器相对于上述X、Y方向的任一方向移动，可以把上述液体直线形状涂敷。

然而，在上述的以往的涂敷方法中，如图9(c)和(d)所示，用于使上述调合器进行排出动作的排出用控制信号的开始、结束，和用于使上述调合器及上述被涂敷物的上述X、Y方向的上述移动的移动用控制信号的开始、结束进行在同一时间。另一方面，在上述调合器中，从给出上述涂敷用控制信号到排出定量的上述流体，如图9(b)所示，需要一定时间，同样，从给出停止排出的信号到实际停止排出液体也需要一定时间。因此，上述调合器的对上述被涂敷物的上述流体的涂敷状态，如图9(a)所示，涂敷开始部分30中，比给出上述排出用控制信号，时间上滞后开始涂敷，并且，涂敷量逐渐地增加，另一方面，在排出结束部分32中，流体变成块而涂敷量变多。即，如图9的(a)中虚线所示，在以往的流体涂敷装置是很难形成确定的流体涂敷领域，而且很难获得该流体涂敷领域的全范围上的均匀的涂敷量。这是因为X、Y方向上的移动是由机械动作进行，不发生时间滞后，与此相反，排出的开始和停止是使用有流动性的流体进行动作，容易发生动作上时间滞后。因此，设定动作时间时，推迟上述X、Y方向上的移动或提前停止流体的排出等方法来想获得正常的涂敷状态。然而，协调流体的排出和上述机械动作，在上述流体是黏性体时特别困难，不能消除涂敷状态的不匀。

近年来，在日益高精度化、形成超微细化的电路的领域、或PDP(等离子显示板)、形成CRT等的影像管的电极和加强筋、液晶板密封材料的涂敷、光盘等的各制造工序的领域中，有关微细涂敷技术，有如下要求。

(1)连续涂敷后，很快停止涂敷，短时间后，迅速开始再次连续涂敷。为此，例如0.01秒级的指令可以控制流量为理想。

(2)要适应粉流体。例如，由流体路线的机械切断，不发生粉体的压榨破损、流体路线堵塞等的故障。

发是内容

本发明为了解决上述问题而进行的，其目的在于提一种供在流体排出开始部分和结束部分中，涂敷的流体涂敷量的稳定化成为可能的流体涂敷装置及其方法。

为了达到上述目的，本发明由以下构成。

即，本发明的实施例1的流体涂敷装置的特征在于包括：涂敷头和控制装置，而所述涂敷头包括：进行排出涂敷流体动作的圆筒状排出用部件；在上述排出用部件在直径方向上通过第一间隙，轴向通过第二间隙收容上述排出用部件的凹形状的，并作为把供应在第一间隙，移动到第二间隙的上述流体向外部排出的通路，向第二间隙开孔并沿着上述排出用部件的中心轴延长的排出用通路的收容部件；使上述排出用部件沿着其轴向移动，控制上述流体通过上述排出用通路向外部开始排出和结束排出的，具有电磁应变元件的移动装置；使上述排出用部件沿着圆周方向旋转的旋转装置；以及面对上述第一间隙的上述排出用部件的周围面和面对上述收容部件的上述周围面的第一对向面中至少在一个面上设置，度由上述旋转装置旋转上述排出用部件，把存在于上述第一间隙的上述液体移动到上述第二间隙的移动用槽；所述控制装置作为连接在上述移动装置和上述旋转装置的控制装置，在上述排出用通路向外部排出上述液体时，对上述移动装置进行使上述排出用部件沿着上述轴向排出方向移动的动作控制的控制装置。

另外，上述控制装置在上述排出用通路向外部排出上述液体时，还对上述旋转装置可以进行使上述排出用部件作上述旋转的动作控制。

另外，上述控制装置在停止上述排出用通路的上述液体的排出时，对上述旋转装置可以进行停止上述排出用部件的上述旋转的动作控制的同时，对上述移动装置也可以进行使上述排出用部件沿着上述轴向与上述排出方向相反方向的移动的动作控制。

另外，上述流体涂敷装置还具有：在上述涂敷头设有支撑涂敷上述流体的被涂敷件的被涂敷件支撑部件、使上述涂敷头和上述被涂敷件支撑部件相对升降的升降装置、使上述涂敷头和上述被涂敷件支撑部件在垂直于上述升降装置升降方向的水平方向上相对移动的水平移动装置；

上述控制装置进而在上述涂敷头对上述被涂敷件进行涂敷流体动作时，对上述升降装置(进行)使上述涂敷头和上述被涂敷件相对升降的而接近后；上述流体的排出开始时，对上述旋转装置和上述移动装置进行使上述排出用部件开始上述旋转和向上述排出方向的移动的动作控制的同时，对于上述水平移动装置进行使上述涂敷头和上述被涂敷件支撑部件开始向上述水平方向相对移动的动作控制；在上述涂敷开始后到停止上述排出用通路的流体排出之前的时间里，对上述旋转装置进行使上述排出用部件作上述旋转的动作控制，并且，对上述水平移动装置进行上述涂敷头和上述被涂敷件支撑部件的上述移动的动作控制；在上述流体的排出停止时，对上述旋转装置进行使上述排出用部件停止上述旋转的动作控制，还对上述移动装置进行使上述排出用部件停止上述移动的动作控制；与此同时，对上述水平移动装置进行使上述涂敷头和上述被涂敷件支撑部件停止上述相对水平方向移动的动作控制，并且，对上述升降装置进行使上述涂敷头和上述被涂敷件支撑部件相对升降而互相离开的动作控制。

还有，本发明的实施例2的流体涂敷方法是利用以下涂敷头进行流体涂敷的方法，其特征在于：从上述排出用通路向外部排出上述液体时，使上述排出用部件沿着上述轴向排出方向移动；而所述涂敷头包括进行排出涂敷流体动作的圆筒状排出用部件、在上述排出用部件具有在直径方向上通过第一间隙而在轴向方向通过第二间隙收容上述排出用部件的凹形状的，作为把供应在第一间隙，移动到第二间隙的上述流体向外部排出的通路，向第二间隙上开孔并沿着上述排出用部件的中心轴延长的排出用通路的收容部件、使上述排出用部件沿着其轴向方向移动，控制上述流体通过上述排出用通路向外部开始排出和结束排出的，具有电磁应变元件的移动装置、使上述排出用部件沿着圆周方向旋转的旋转装置、以及面对上述第一间隙的上述排出用部件的周围面和面对上述收容部件的上述周围面的第一对向面中至少在一个面上设置，由上述旋转装置旋转上述排出用部件，把存在于上述第一间隙的上述液体移动到上述第二间隙的移动用槽。

在上述的实施例2的流体涂敷方法中，上述排出用通路向外部排出上述液体时，可以使上述排出用部件作上述旋转的同时，使上述排出用部件在上述排出方向移动；另一方面，在上述排出用通路的上述液体的排出停止时，可以使上述排出用部件停止上述旋转的同时，使上述排出用部件沿着上述轴向与上述排出方向与上述排出方向相反的方向移动。

在上述的实施例2的流体涂敷方法中，进一步地可以进行如下控制；利用上述涂敷头，对上述流体被涂敷的被涂敷件进行由上述涂敷头的涂敷工作时，使上述涂敷头和上述被涂敷件相对接近后，上述流体的排出开始时，开始上述排出用部件的上述旋转和上述排出方向的移动的同时，开始上述涂敷头和上述被涂敷件的水平方向的相对移动；在开始上述涂敷后到停止从上述排出用通路的流体排出为止的时间里，作上述排出用部件的上述旋转，并且进行上述涂敷头和上述被涂敷件支撑部件的上述移动；在上述流体的排出停止时，停止上述排出用部件的上述旋转，还停止上述排出用部件的上述移动的同时，进行停止上述涂敷头和上述被涂敷件的上述水平方向的相对移动的动作控制；并且，使上述涂敷头和上述被涂敷件相对升降使其互相离开。

根据本发明的实施例1的流体涂敷装置和实施例2的流体涂敷方法，具备涂敷头和控制装置，排出流体时，进行动作控制使排出用部件沿着其轴向作排出方向的移动。采用这样的构成，在上述涂敷头上具有电磁应变元件的移动装置的流体涂敷装置中，可以控制流体的排出，在流体排出的开始部分可以一时性地增加流体的排出量。

另外，排出流体时，上述控制装置进行使排出用部件旋转的同时，也可以使该排出用部件沿着其轴向排出方向作移动的动作控制也可以。由这样的构成，由排出用部件的旋转可以把流体供给到排出用部件，更顺利进行流体的排出成为可能。

另外，停止排出时，上述控制装置进行停止上述排出用部件的上述旋转，使上述排出用部件作与上述排出方向相反方向移动的动作控制。通过采用这样的构成，在流体排出开始部分中，可以一时性地增加流体的排出量，在流体排出结束部分中可以拟制流体的所谓拉丝现象从而防止涂敷量的增加。因此，在流体排出开始部分和流体排出结束部分中可以谋求涂敷流体的涂敷量的稳定。

另外，还具有升降装置和水平移动装置，根据上述排出用部件的上述流体排出开始动作和流体排出结束动作，使被涂敷件作水平方向的移动，在流体排出开始部分和流体排出结束部分中，也以谋求涂敷在上述被涂敷件的流体涂敷量的稳定化。

附图说明

本发明的这些和其他目的和特征，通过附图中的有关理想实施例的下面的叙述更加清楚。该附图中

图1是表示本发明实施例的流体涂敷装置的结构图；

图2是图1所示涂敷头的排出用部件部分的放大图；

图3是表示利用图1所示的流体涂敷装置涂敷的流体状态与在流体涂敷装置中的各部分动作之间关系的图；

图4是表示流体涂敷动作结束状态的图；

图5是表示图4所示状态的下一个状态，涂敷喷嘴已上升时的以往的状态的图；

图6是表示图4所示状态的下一个状态，图1所示涂敷头已上升时的状态的图；

图7是使用以往的涂敷装置和图1所示流体涂敷装置的流体涂敷状态的调查实验中，用于说明涂敷状态好坏判断方法的说明图；

图8是表示以往的涂敷装置的图；

图9是用以往的涂敷装置涂敷的流体的状态与该涂敷装置的各部动作之间关系的图。

具体实施方式

实施发明的最佳实施例

下面结合图说明使用本发明实施例的流体涂敷装置及其方法实行流体涂敷方法。在各图中对相同的构成部分附相同的符号。另外，在本实施例中举流体涂敷装置把电子零件安装在电路形成体的安装领域使用情形为例。因此，对象流体是用于把电子零件固定在印刷电路板、把电子零件的电极接合在印刷电路板的电极、带有配线的印刷电路板之间或LCD等之间进行连接的固定用材料，即，普通所说的粘接剂作为例子。然而，本实施例的流体涂敷装置不限于该安装领域和上述流体，也可以适用于如药品、食品领域等的各种流体。

图1表示本实施例的流体涂敷装置300。该流体涂敷装置300大体上备进行排出流体的涂敷头100和控制装置180，还可以具有升降装置311、被涂敷件支撑部件312和水平移动装置313。

首先说明上述涂敷头100。涂敷头100的主要构成部分有圆筒状排出用部件108、通过间隙收容上述排出用部件108并具有排出涂敷流体的排出用通路的收容部件113、使上述排出用部件108沿着其轴向移动的移动装置101、使上述排出用部件108向其圆周方向旋转的旋转装置118和图2所示的形成在排出用部件108周围面的移动用槽134。

大概具有这些构成部分的涂敷头100，如图1所示，上述旋转装置118、上述移动装置101的壳体112和把上述收容部件113按照这一顺序，安装在同一轴而构成。该涂敷头100中，由上述收容部件113和上述排出用部件108形成的上述间隙里供给涂敷流体，由上述旋转装置118旋转上述排出用部件108，进而由上述移动装置101的排出用部件108的轴向移动，进行上述流体的排出控制，从而在流体排出开始部分和结束部分也想谋求涂敷流体的涂敷量的稳定化。下面，详细说明这样的涂敷头100的结构和动作。

首先，说明上述移动装置101。在本实施例中，为了把高黏度的流体以高速、间歇、微小量、且高精度地供给，该移动装置101中，获得移动部件的高精度的定位，且具有高敏感度、而且获得大的压力(载荷发生)，具有超磁应变元件的超磁应变杆105作为驱动源而使用。还，在本实施例中，实现电磁应变功能的一例，利用上述超磁应变元件。

该移动装置101具有后磁轭103、后永久磁铁104、上述超磁应变杆105、前永久磁铁106、前磁轭107、磁场线圈120、磁轭材料121和壳体112。具体地，如图1所示，在中空的壳体112内，设在该壳体112内壁的磁轭材料121上安装有环状的磁场线圈120，不接触磁场线圈120的状态，穿过磁场线圈120的中央部分安装有圆环状的上述超磁应变杆105。由该结构，磁场线圈120可以对超磁应变杆105在超磁应变杆105延长线方向作用磁场。因此，控制用磁场线圈120所产生的磁场，即，利用控制从电流供给装置166到磁场线圈120的供给电流的控制装置180，从外部、非接触状态可以控制超磁应变杆105的伸缩。还有，构成超磁应变杆105的超磁应变元件是由稀土元素和铁的合金，例如，已知的BFe2、DyFe2、SmFe2等。

进而，在该超磁应变杆105的两端，设有圆环状的上述后永久磁铁104和上述前永久磁铁106，进一步地，在靠近后永久磁铁104设有上述后磁轭103，靠近前永久磁铁106设有上述的前磁轭107。上述后永久磁铁104和上述前永久磁铁106是预先对超磁应变杆105作用磁场，提高磁场工作点的磁铁，由于这一偏磁可以改善对磁场强度的超磁应变的直线性。还有，上述永久磁铁104、106不是必须的构成，可也以采用不安装的结构也可以。另外，磁铁104、106不限于永久磁铁，而发生磁力功能的东西就可以。

如上构成的移动装置101中，举一例，由超磁应变杆105→后永久磁铁104→后磁轭103→磁轭材料121→前磁轭107→前永久磁铁106→超磁应变杆105方向的磁场作用，形成控制超磁应变杆105伸缩的封闭环形磁路。还，可以有上述磁场的方向和上述方向相反的情形。

即，由后磁轭103、后永久磁铁104、超磁应变杆105、前永久磁铁106、前磁轭107、磁场线圈120和磁轭材料121，供给在磁场线圈120的电流，在超磁应变杆105的延长线方向，即，该涂敷头100的轴向171上，可以控制超磁应变杆105的伸缩，作为超磁应变执行元件，构成上述移动装置101。另外，由于超磁应变杆105的上述轴向171的伸缩，上述前磁轭107也在轴向171上伸缩。

上述壳体112的后部，用作为联接零件的螺丝124固定上述旋转装置118。该旋转装置118，在本实施例中使用电机，用控制装置180控制其动作。旋转装置118的输出轴118a通过联轴节119联接在上述后磁轭103的一端。还，联轴节119把上述输出轴118a的(图1下标的)圆周方向172的旋转力传递给后磁轭103的同时，把后磁轭103沿着轴向171移动可能地把持。另外，后磁轭103的一端，相对于该后磁轭103，沿着上述轴向171和(图1下标的)箭头172方向滑动可能地配合有后套筒122。因此，后磁轭103利用旋转装置118可以在壳体112内如箭头172所示圆周方向旋转，通过后套筒122和轴承123，旋转可能地支撑在壳体112。

该涂敷头100中，还具有从上述后磁轭103凸出并把该涂敷头100的中心沿着轴向171延长的中心轴109。还，中心轴109利用非磁性材料，以便不受上述移动装置101的上述磁路的影响。如上所述，后磁轭103是用旋转装置118来旋转，因此，上述中心轴109也可以向圆周方向，即上述箭头172方向旋转。该中心轴109套在分别为环状的后永久磁铁104、上述超磁应变杆105、前永久磁铁106，并沿着上述轴向171可以滑动，且向上述箭头172方向旋转。

但是，中心轴109延伸到前磁轭107的一端，利用销110联接在前磁轭107。因此，前磁轭107和中心轴109成为一体，以相同的方向旋转。另外，前磁轭107套有前套筒125。这样的前磁轭107通过轴承126旋转可能地支撑在壳体112上。

还有，上述的销110也可以是键，上述轴承126可以是普通的球轴承，也可以是旋转和移动可能的导向部件。

还有，后磁轭103与上述后套筒122之间，和前磁轭107与前套筒125之间分别有扶持力发生部件，如偏置弹簧127、128。另外，在一定条件下，也可以设置偏置弹簧127、128中任意的一个来构成。这些弹簧127、128通过后永久磁铁104和前永久磁铁106，由后磁轭103和前磁轭107产生推超磁应变杆105的负荷。这一结果，在超磁应变杆105上总是施加轴向171的压缩应力，因此，由于磁场线圈120的、超磁应变杆105的沿着轴向171的伸缩，产生反复的应力时，可以消除抗拉应力性能不好的超磁应变杆105的缺点。

根据如上所说明的移动装置101的结构，由于旋转装置118的旋转力，只传递给中心轴109和前磁轭107，对脆性材料的超磁应变元件不产生扭转扭矩。

在上述前磁轭107的一端利用联接件螺丝161可拆卸地安装上述排出用部件108。该排出用部件108的一端，作为往上述前磁轭107安装的安装部，设有法兰盘部1081，比该法兰盘部1081凸出的凸出部1082和法兰盘部1081形成一体的T字型的部件，是进行上述流体的排出动作的部件。

上述凸出部1082的周围面1082a上，形成有螺旋状移动用槽134。对于该移动用槽134在后而作详细说明。

这样的排出用部件108，如上所述，用上述移动装置101使前磁轭107沿着上述轴向方向171伸缩移动，因此和前磁轭107相同方向同时移动。还有，由于旋转装置118的上述中心轴109的上述圆周方向172的旋转，通过前磁轭107向圆周方向172旋转。这样，排出用部件108可以同时并独立地进行轴向171的运动和圆周方向172的运动。

收容上述构成的排出用部件108的收容部件113包括主体部件1311、具有排出喷嘴的喷嘴部件1132、安装用部件1133。上述主体部件1311，如图2所示，与上述排出用部件108的上述凸出部1082的周围面1082a之间，在凸出部1082的直径方向上通过第一间隙162、在凸出部1082的排出一侧端面1083之间，在凸出部1082的轴向方向上通过第二间隙163，形成收容上述凸出部1082的凹部1134；还具有向第一间隙162供给流体175的流体供给通道115。还有，如上所述，上述凸出部1082可以在上述凹部1134内，沿着轴方向171移动。该主体部件1311，如图1所示，利用联接件的螺丝164可拆卸地安装在壳体112上。另外，壳体112上安装收容部件113的状态下，收容部件113具有凹部1137，以便形成排出用部件108的上述法兰盘部1081在收容部件113内可以沿轴向171方向自由移动的空间。

上述喷嘴部件1132是用上述安装用部件1133可拆卸地安装在上述主体部件1131的端部的部件，安装在主体部件1131时，具有与上述排出一侧端面1083之间形成第二间隙163的相对面131，并且具有沿着上述轴向171凸出的排出喷嘴116。喷嘴部件1132和排出喷嘴116上形成有排出用通路1135，该排出用通路是用上述排出用部件108把供给在上述第一间隙162的上述流体175移动到第二间隙163，并向外部排出的通路，并且沿着上述排出用部件108的中心轴延伸，对上述第二间隙163开口。

另外，上述排出一侧端面1083和上述相对面131都没有设控制流体175排出动作的结构，如排出用部件108中心到周围的涡流形状的结构。

上述安装用部件1133具有与主体部件1131配合的螺纹部1136，与主体部件1131之间夹持上述喷嘴部件1132，利用螺纹部1136螺纹联接在主体部件1131上，对主体部件1131可拆卸的。

还有，如上所述，上述主体部件1131与排出用部件108之间的第一间隙162和第二间隙163里可以充填有上述流体，所以为了防止流体175从第一间隙162泄露到前磁轭107，如图1所示，在主体部件1131安装有作为密封件的O型密封圈。

另外，第一间隙162和第二间隙163把上述流体175供给上述排出用通路1135，完成所谓的泵室功能。

另外，上述排出用通路1135连接由控制装置180控制其动作，进行上述流体供给的流体供给装置165。

这里说明上述的形成在上述凸出部1082周围面1082a的移动用槽134。

上述移动用槽134，如图2所示，是由上述旋转装置118向上述圆周方向172旋转上述排出用部件108，把存在于上述第一间隙162的上述流体移动到第二间隙163的槽，所谓被用于螺旋沟动压轴承，而且，具有和用在螺纹泵的螺纹槽相同的功能。另外，由移动用槽134把上述流体175从第一间隙162移动到第二间隙163，在上述流体175上产生供给压力。该供给压力由移动用槽134的旋转角速度、槽深、槽的角度、槽的宽度，脊宽等所决定。在本实施例中，可以采用1～2条、槽距0.5～4mm、槽深0.01～1mm，槽的宽度0.1～3mm，作为一例最好采用一条、槽距1.5mm、槽深0.3mm，槽的宽度1mm的值。

还有，在本实施例中，上述移动用槽134形成在上述排出用部件108的上述凸出部1082的周围面1082a，但不限于这种情形，面对第一间隙162的上述周围面1082a和上述收容部件113的主体部件1131上的面对上述周围面1082a的第一相对面1131a中的一个面上设置就可以。

如上所述，排出用部件108中，通过下面要叙述的控制装置180的作用，可以同时、独立进行由于移动装置101的轴向171的运动和由于上述旋转装置108的向圆周方向172的运动。因此，从上述排出用通路1135向外部排出上述流体时，利用旋转装置118使排出用部件108向流体排出方向旋转的同时，利用上述移动装置101使排出用部件108沿着轴向171a向排出方向移动。另一方面，排出用通路1135停止上述流体的排出时，对旋转装置118进行(控制)使排出用部件108停止上述旋转，并使排出用部件108沿着轴向171，与上述排出方向171a相反的方向171b移动。还有，上述的排出用部件108的相反方向171b的移动是指从上述排出方向171a使排出用部件108向相反方向171b移动而回到原来位置的移动。

还有，在本实施例中，如上所述，从排出用通路1135向外部排出上述流体时，使排出用部件108向上述排出方向171a旋转的同时，向171a方向移动，但也可以只是使排出用部件108向171a方向移动的构成。此时，排出用部件108的上述流体排出方向的旋转，起着向上述第二间隙163供给上述流体的作用。

另外，在壳体112上有与上述排出用部件108的上述法兰盘部1081的对置安装，并且检测排出用部件108的上述轴向171变位的变位传感器129。该变位传感器129连接在控制装置180，利用控制装置180求出排出用部件108的变位量。该变位量，如以下叙述，用作上述流体排出动作中的排出用部件108的上述轴向171的移动量，可以用于排出量的控制。

如上所述，因流在超磁应变杆105的超磁歪元件的输入电流和超磁应变杆105的变位成正比，不设上述变位传感器129而利用开口回路控制，也可以进行排出用部件108的轴向171的定位控制。可是，设置变位传感器129进行反馈控制，可以改善上述超磁歪元件的滞后特性，因此，可以进行较高精度的定位。

下面说明上述升降装置311。在本实施例中，升降装置311是用于升降上述涂敷头100的装置，由控制装置180的控制，使涂敷头100沿着垂直方向的上述轴向171升降。

上述水平移动装置313，是由控制装置180的控制，使支撑上述涂敷头100涂敷上述流体的被涂敷件320的被涂敷件支撑部件312，向垂直于上述轴向171的水平方向，即，互相垂直的X、Y方向上移动的装置。

还有，在本实施例中，采用对涂敷头100进行升降、对被涂敷件支撑部件312进行水平方向移动动作，但不限于该结构，而采用对涂敷头100进行水平方向移动动作、对被涂敷件支撑部件312进行升降动作的结构也可以。总之，只要对涂敷头100和被涂敷件支撑部件312进行相对的升降动作和水平移动动作就可以。

关于控制装置180进行说明。如上所述，控制装置180进行上述旋转装置118、上述流体供给装置165、上述电流供给装置166、上述升降装置311和水平移动装置313的动作控制，同时，根据上述变位传感器129供给的变位信息进行上述流体的排出控制。

以下由上述旋转装置118、上述流体供给装置165、上述电流供给装置166、上述升降装置311和水平移动装置313，对支撑在被涂敷件支撑部件312的被涂敷件320，涂敷头100进行流体涂敷时的控制进行说明。

进行流体涂敷时，控制装置180使升降装置311动作，使涂敷头100的上述排出喷嘴116的前端，即，流体排出部分接近上述被涂敷件320的程度下降涂敷头100。然后，如已在涂敷头100的说明中叙述一样，控制装置180，如图3(c)所示，对旋转装置118使排出用部件108开始向上述圆周方向172的旋转的同时，对移动装置101使排出用部件108开始向上述排出方向171a移动。还有，在本实施例中，排出用部件108的上述旋转和上述移动是同时开始。另外，排出用部件108的其排出一侧端面1083，如图2所示，设置在初期位置1084，通过上述排出方向171a的移动，排出用部件108的排出一侧端面1083达到图2所示的排出用位置1085。

因此，由于使排出用部件108向圆周方向172旋转，如上所述，使存在于第一间隙162的上述流体175移动到上述第二间隙163，提高上述第二间隙163中的流体175的压力。进一步使排出用部件108沿着轴向171向喷嘴部件1132接近的方向，即向排出方向171a，从初期位置1084向排出用位置1085移动。由这些动作，上述第二间隙163的体积减少，存在于第二间隙163的流体175的压力一时性地更加上升。其结果，从排出喷嘴116的上述流体175的排出量可以一时性地增加。还有，上述压力上升的状态在图3(b)中表示。

另外，如上所述，流体175的排出量中的上述一时性的增加量与排出用部件108的排出方向171a移动量成正比。反过来说，流体175的排出不会超过排出用部件108的排出方向171a的移动量，因此，如本实施例，由排出用部件108的排出方向171a的移动，产生流体175的一时性的增加，采用这种结构也可以防止流体175的过多的排出。

另一方面，排出用部件108的上述旋转和移动动作的同时，控制装置180，如图3(b)所示，对上述水平移动装置313使被涂敷件支撑部件312开始上述X、Y方向的移动。还有，上述X、Y方向的移动是上述X和Y方向的至少一个方向的移动。

从而，由于排出用部件108的上述旋转和移动，流体175的排出量一时性地增加的同时，由于被涂敷件320的移动，如图3(a)所示，在流体排出开始部分332中可以谋求涂敷流体175的涂敷量的稳定化。即，在以往，如图9(a)所示，在涂敷开始部分30中，从涂敷开始指令滞后开始实际的涂敷，且逐渐地增加其涂敷量的涂敷状态，但根据本实施例，由于如上所述，在流体排出开始部分332可以增加涂敷量，可以改善上述涂敷状态，可以接近图3(a)中虚线所示的理想的涂敷状态。

接着，开始排出流体175后到排出用通路1135的流体175的排出停止之前，控制装置180对上述旋转装置118进行使排出用部件108向上述圆周方向172旋转的动作控制，并且对水平移动装置313进行使被涂敷件支撑部件312作上述移动的动作控制。还有，此时，控制装置180对移动装置101和旋转装置118进行控制，以使排出用部件108不沿着上述轴向171移动，而定在上述排出位置1085上，并且，向圆周方向172以一定的旋转速度旋转。

因此，如图3(b)中符号333所示，由于排出用部件108的上述旋转，上述第二间隙中的流体175的压力一定或大体上一定。从而，从排出喷嘴1132排出的流体175一定或大体上一定，如图3(a)中符号334所示，被涂敷件320上可以进行一定量或大体上一定量的流体175的涂敷。

接着，在上述流体的排出停止时，控制装置180对旋转装置118(进行控制)，使排出用部件108停止圆周方向172的旋转，进而对移动装置101(进行控制)，使(排出用部件108)开始沿着上述轴向171与上述的排出方向171a相反的方向171b的移动，使排出用部件108开始从上述排出用位置1085到上述初期位置1084的移动。还有，在本实施例中，排出用部件108停止上述旋转之后，开始排出用部件108的上述相反方向171b的移动。

由于上述排出用部件108的上述旋转停止和上述移动的开始，如图3(b)的符号335所示，由上述第二间隙163的体积增加，可以一时性地降低存在于上述第二间隙163的流体175的压力。其结果，可以把流体175吸进排出喷嘴116内。还有，在图3(c)中表示排出动作的结束，图形中直下部分337对应于由移动装置101的上述排出用部件108的轴向171的移动结束的时刻，图3(b)表示的流体压力变化和上述说明可清楚看到，排出用部件108的旋转停止实行在比上述直下部分337时间上早一点的时刻，例如，图3(b)和(c)中虚线所示的时刻338上实行。

还有，图3(c)和(d)所示，上述排出用部件108的上述相反方向171b移动停止的同时，控制装置180对上述水平移动装置313(进行控制)使被涂敷件支撑部件312停止上述X、Y方向的移动。

这一结果，在图3(a)所示的流体排出结束部分336中，可以谋求涂敷流体175的涂敷量的稳定化。即，在以往，如图9(a)所示，排出结束部分32中涂敷量增加的涂敷状态，而且，在本实施例中也同样，只是停止排出用部件108的圆周方向172的旋转，第二间隙163和排出用通路1135内的流体175，虽然是很少量，有可能会排出。然而，根据本实施例，使排出用部件108向上述相反方向171b的移动，可以瞬时地把排出压力变为负压，停止排出，可以改善上述涂敷状态，接近图3(a)中虚线所示的理想的涂敷状态。

还有，如上所述，控制装置180，当排出喷嘴116停止对被涂敷件320的涂敷动作结束时刻，使升降装置311动作，使涂敷头100上升，以便上述排出喷嘴116和被涂敷件320离开。

另外，当进行该涂敷头100的上升动作时，由升降装置311提升涂敷头100之前或提升的同时，可以使排出用部件108向上述相反方向171b移动。由于可以作这样的动作，可以把流体175吸入到排出喷嘴116内，可以谋求消除或减少排出喷嘴116前端流体175的所谓拉线状态。

如以上构成的本实施例的流体涂敷装置300的动作，即利用该流体涂敷装置300来实行的流体涂敷方法，在下面进行说明。还有，上述流体涂敷方法是利用上述控制装置180控制其动作而实行。

对上述水平移动装置313进行控制动作作被涂敷件320的定位，以便上述涂敷头100的排出喷嘴116与支撑在被涂敷件支撑部件312的被涂敷件320的涂敷领域相对。

进行该定位后，利用升降装置311使涂敷头100下降，使排出喷嘴116的前端接近被涂敷件320，例如0.05～0.5mm程度。然后，实行对被涂敷件320的流体175的涂敷动作。至于该涂敷动作，已在上述的控制装置180说明中详细说明，因此，在此省略。

首先，开始排出流体时，由旋转装置118和移动装置101使排出用部件108向上述圆周方向172旋转，并且，向上述排出方向171a移动。通过这一动作，比起只使旋转装置118动作进行涂敷，排出喷嘴116一时性地排出更多量的流体175。还有，开始旋转装置118和移动装置101的动作的同时，使水平移动装置313动作，移动被涂敷件320以便流体涂敷在上述涂敷领域。还有，作为一例，由旋转装置118的排出用部件108的转速为20～200rpm、由移动装置101的排出用部件108的向排出方向171a的移动速度为2～20mm/s、其移动量为3～30mm、被涂敷件320的移动速度为5～100mm/s。

开始上述排出流体后，流体的排出结束之前为止，移动装置101不动作，由旋转装置118进行排出用部件108的旋转定量排出流体而进行涂敷。还有，这时的排出用部件108的旋转速度，从开始上述流体排出时刻起不变。

接着，流体排出结束时，先停止由旋转装置118的排出用部件108的旋转，接着，利用移动装置101使排出用部件108从上述排出位置1085到上述初期位置1084沿着上述相反方向171b上升。作为其一例，排出用部件108的沿着上述相反方向171b的移动速度为2～20mm/s。

于是，该排出用部件108的上升结束的同时，停止水平移动装置313的动作。因此，流体排出结束时，由于排出用部件108的向相反方向171b移动，流体175被吸入到排出喷嘴116内，可以防止流体排出结束时的流体的过多涂敷。

最后，和流体排出结束的同时，或结束后，使升降装置311动作，使涂敷头100上升，结束对一处的涂敷。而且，如上所述，也可以在提升涂敷头100之前或提升的同时，使上述排出用部件108向上述相反方向171b移动，把流体175吸入到排出喷嘴116内，谋求消除或减少上述的拉丝状态。

现在，流体涂敷装置300最适合零件安装时使用密封材料如环氧系粘接剂的涂敷，此时，最好是上述粘接剂的黏度为10～500Pas，排出用部件108转速为150～200rpm，被涂敷件320的移动速度为10～30mm/s。

对该被涂敷件320，所有的涂敷点全部被涂敷完了为止，继续上述的动作，全涂敷处的涂敷完了时，该被涂敷件320输送到下一个工序，接着下一个被涂敷件送进流体涂敷装置300。

这样，根据本实施例的流体涂敷装置300，结合图3(a)已说明的一样，包括流体排出开始部分332和流体排出结束部分336涉及全涂敷领域，可以谋求涂敷流体的涂敷量的稳定。

以下结合实验结果具体说明如果根据本实施例的流体涂敷装置300，可以在流体排出开始部分332和流体排出结束部分336中谋求流体涂敷量的稳定化。

上述实验是如下进行的。作为实验的诸条件，所使用的涂敷流体为半导体元件密封用环氧系粘接剂，黏度为30Pas，作为涂敷条件，排出用部件108的转速的标准值为100rpm，被涂敷件320的移动速度的标准值为10mm/s，涂敷长度为30mm。在这样的条件下，如图7所示，利用涂敷头从排出喷嘴排出流体的同时，使被涂敷件320和上述排出喷嘴相对地从移动开始位置351到移动结束位置352移动。此时，在流体排出开始部分332上测定移动开始位置351与流体的开始端位置之间的偏差，作为开始点尺寸353，进而在流体排出结束部分336上测定移动结束位置352与流体的结束端位置之间的偏差，作为结束点尺寸354。还有，开始点尺寸353和结束点尺寸354附加了用于偏差方向的，如图7所示的+、-符号。因此，例如在移动开始位置351上，开始点尺寸353变为正号，就意味着从排出喷嘴的流体排出滞后于排出喷嘴的移动，与此相反，变为负号就意味着上述流体排出早于排出喷嘴的移动开始时刻进行。

上述开始点尺寸353和结束点尺寸354的测定，以及涂敷量的测定，对以往的涂敷装置和本实施例的流体涂敷装置300分别进行了7次。

该实验结果，在上述开始点尺寸353上，以往的涂敷装置中是+0.220mm，其3σ(σ：标准偏差)为0.347mm，另一方面，本实施例的流体涂敷装置300中是平均-0.132mm，其3σ为0.172。因此，可以清楚地知道，在以往的涂敷装置中，排出喷嘴在移动开始时不能排出流体，另一方面，上述流体涂敷装置300中，判定从排出喷嘴的移动开始时刻进行流体的排出，而且其不均匀度，在上述流体涂敷装置300为以往的约1/2，更为稳定。

上述结束点尺寸在以往的涂敷装中平均为+0.329mm，其3σ为0.080mm，另一方面，本实施例的流体涂敷装置300中，平均+0.307mm，其3σ为0.075mm。因此，可以知道对上述结束点尺寸上是流体涂敷装置300和以往的装置没有多大的差异。然而，观察涂敷量的3σ时，以往的涂敷装置为1.2mm而本实施例的流体涂敷装置300上变为0.4mm，可以知道本实施例的流体涂敷装置300比以往的涂敷装置，在涂敷量的偏差方面缩小到1/3。

另外，在本实施例的流体涂敷装置300中，如上所述，在流体排出结束时，使排出用部件108向相反方向171b移动，由于升降装置311的涂敷头100的提升动作时，获得如下效果。

即，如图4所示，在流体排出结束时，使排出用部件108不向相反方向171b移动，只是把涂敷头100提升时，存在于排出喷嘴116前端的流体，如图5所示，变为所谓拉丝状态，在拉伸而变细到某一长度341的部分断掉。相当于这一长度341量的流体流进下一次要涂敷的流体340，因此，图9(a)所示，造成排出结束部分的涂敷量的增加。

另一方面，如上述的本实施例一样，将要结束流体排出之前，或由于升降装置311的涂敷头100的上述提升时，利用使排出用部件108向相反方向171b移动，把存在于排出喷嘴116前端的流体175吸入到该排出喷嘴116内。因此，如图6所示，可以使上述拉丝长度342比上述长度341短，其结果，在流体排出结束部分中可以拟制涂敷量的增加。

如以上说明，本实施例的流体涂敷装置300中，由排出用部件108的圆周方向172的旋转和沿着轴向171的移动，谋求了涂敷量的稳定化。还有，上述沿着轴向171的移动，把超磁应变元件作为驱动源，可以微细地控制其移动量。这样，具有超磁应变元件的移动装置101可以微量控制涂敷量，和上述轴向171的移动相乘的效果，期待获得上述涂敷量的更加稳定化。

另一方面，以往的，由空气压力排出流体的方式、由螺杆丝杆旋转的流体的排出的方式中，认为可以微妙地调整排出时间来补偿流体排出的滞后。但是，该调整终久是个只进行时间上的控制，不是进行涂敷量的控制。从而，在以往的方式中，不能同时控制排出时间和涂敷量，认为涂敷量的偏差比本实施例大。

另外，如上所述，由于进行排出用部件108的圆周方向172的旋转和沿着轴向171的移动，把高黏度的流体以高速涂敷也成为可能。另外，上述轴向171的移动利用了超磁应变元件作为驱动源的移动装置101，因此，可以微细地控制其移动量，把超微量的流体高精度地排出变为可能。

因此，本实施例的流体涂敷装置300用于表面安装领域的调合器、PDP和CRT显示器的荧光体的涂敷、液晶板的密封材料等的涂敷时，可以充分发挥其优点，其效果极大。

还有，上述的实施例中，如图3(a)所示，把流体的涂敷状态以线形状为例说明了。即，和排出用部件108的流体的排出动作并行地使水平移动装置313动作进行涂敷。但是，涂敷形状不限于图3(a)所示形状，也可以分别进行排出用部件108的流体排出动作和由水平移动装置313的动作，进行点的涂敷。在点涂敷也可以获得和线形形状的涂敷同样的效果。

另外，在上述的实施例中，作为移动装置101，利用了超磁应变元件，排出用部件108的轴向171的行程的长度大也是数十(微米)μm级别，因此，不限于上述超磁应变元件，而也可以利用如电压元件的电磁应变元件。

另外，形成上述磁路之处，利用了偏磁用永久磁铁104、106，这在把电磁应变的伸缩，向伸的一侧和缩的一侧两方向进行时特别有效。但，在只重视伸的一侧的伸缩时，不设上述偏磁用磁铁也可以。

另外，上述的实施例中，因采用了旋转带有移动用槽134的排出用部件108来向第二间隙163供给流体175的结构，旋转装置118中设有电机，但，不设移动用槽134的情形下，也可以利用如空气压力连续排出的结构作为把流体175供给流体供给装置的流体供给源。

本发明结合图充分叙述了最佳实施例，但对熟悉这一技术的人们来说种种变型和修改是清楚的。那样的变型和修改只要不超出本发明所提出范围，应该理解为包括在其中。

Claims (11)

1、一种流体涂敷装置，其特征在于包括：涂敷头(100)和控制装置(180)，

所述涂敷头具有进行涂敷流体(175)的排出动作的圆筒状排出用部件(108)、

在上述排出用部件的直径方向上通过第一间隙(162)、以及在轴向通过第二间隙(163)收容上述排出用部件的凹形状的，且具有作为把供给在第一间隙并移动到上述第二间隙的上述流体向外部排出的通路，在向上述第二间隙开口，沿着上述排出用部件的中心轴延长的排出用通路(1135)的收容部件(113)、

具有通过上述排出用通路把上述流体向外部排出的控制排出开始和停止的电磁应变元件(105)的移动装置(101)、使上述排出用部件沿着其轴向移动，

使上述排出用部件沿圆周方向旋转的旋转装置(118)、以及

设在面对上述第一间隙的上述排出用部件的周围面(1082a)或面对上述收容部件上述周围面的第一对向面(1131a)中的至少有一个面上，并通过上述旋转装置的上述排出用部件的旋转把存在于上述第一间隙的上述流体向上述第二间隙移动的移动用槽(134)；

而所述控制装置是连接在上述移动装置和上述旋转装置的控制装置，从上述排出用通路使上述流体向外部排出时，对上述旋转装置进行控制进行使上述排出用部件沿着上述轴向的排出方向171a移动动作控制的控制装置(180)。

2、根据权利要求1所述的流体涂敷装置，其特征在于：上述控制装置从上述排出用通路使上述流体向外部排出时，进一步对上述旋转装置进行使上述排出用部件作上述旋转的动作控制。

3、根据权利要求1所述的流体涂敷装置，其特征在于：停止从上述排出用通路的上述流体向外部排出时，上述控制装置对上述旋转装置进行停止上述排出用部件的上述旋转的动作控制的同时，对上述移动装置进行使上述排出用部件沿着上述轴向和上述排出方向相反方向(171b)移动的动作控制。

4、根据权利要求2所述的流体涂敷装置，其特征在于：停止从上述排出用通路的上述流体向外部排出时，对上述旋转装置进行使上述排出用部件停止上述旋转的动作控制的同时，对上述移动装置进行使上述排出用部件沿着上述轴向与上述排出方向相反方向171b移动的动作控制。

5、根据权利要求1所述的流体涂敷装置，其特征在于：上述流体涂敷装置的上述涂敷头还包括支撑上述流体被涂敷的被涂敷件(320)的被涂敷件支撑部件(312)、相对升降上述涂敷头和上述被涂敷件支撑部件的升降装置(311)、使上述涂敷头和被涂敷件支撑部件作垂直于上述升降装置升降方向的水平方向移动的水平移动装置313；

上述控制装置在上述涂敷头对上述被涂敷件作流体涂敷动作中，进一步地，对上述升降装置进行使上述涂敷头和上述被涂敷件支撑部件作相对升降而接近后，在上述流体的排出开始时，对上述旋转装置和上述移动装置进行使上述排出用部件开始上述旋转和上述排出方向的移动(的动作控制)，与此同时，对上述水平移动装置进行使上述涂敷头和上述被涂敷件支撑部件在水平方向开始相对移动的动作控制；在开始上述排出后到停止上述排出用通路的流体排出之前为止，对上述旋转装置进行使上述排出用部件作上述旋转的的动作控制，并且，对上述水平移动装置进行使上述涂敷头和上述被涂敷件支撑部件作上述移动动作控制；停止上述流体的排出时，对上述旋转装置进行使上述排出用部件停止上述旋转的动作控制，还对上述移动装置进行使上述排出用部件停止上述移动的同时，对上述水平移动装置进行使上述涂敷头和上述被涂敷件支撑部件停止上述水平方向的相对移动的动作控制，并对上述升降装置进行使上述涂敷头和上述被涂敷件支撑部件作相对升降而互相离开的动作控制。

6、根据权利要求2所述的流体涂敷装置，其特征在于：上述流体涂敷装置的上述涂敷头还具有支撑上述流体被涂敷的被涂敷件(320)的被涂敷件支撑部件(312)、使上述涂敷头和上述被涂敷件支撑部件相对升降的升降装置(311)、使上述涂敷头和上述被涂敷件支撑部件作垂直于由上述升降装置的升降方向的水平方向相对移动的水平移动装置(313)：

上述控制装置在上述涂敷头对上述被涂敷件作流体涂敷动作中，进一步对上述升降装置进行使上述涂敷头和被涂敷件支撑部件相对升降而接近后，上述流体的排出开始时，对上述旋转装置和上述移动装置进行使上述排出用部件开始上述旋转和上述排出方向的移动(动作控制)的同时，对上述水平移动装置进行使上述涂敷头和被涂敷件支撑部件开始上述水平方向的相对移动的动作控制；在开始上述排出后到停止从上述排出用通路的流体排出之前为止，对上述旋转装置进行使上述排出用部件的上述旋转的动作控制，并且，对上述水平移动装置进行使上述涂敷头和被涂敷件支撑部件作上述移动的动作控制；在上述流体的排出停止时，对上述旋转装置进行使上述排出用部件停止上述旋转的动作控制的同时，对上述移动装置进行使上述排出用部件停止上述移动的动作控制的同时，对上述水平移动装置进行使上述涂敷头和被涂敷件支撑部件停止上述水平方向的相对移动的动作控制，并且，对上述升降装置进行使上述涂敷头和被涂敷件支撑部件相对升降而互相离开的动作控制。

7、根据所述权利要求3所述的流体涂敷装置，其特征在于：上述流体涂敷装置在上述涂敷头还包括支撑上述流体被涂敷的被涂敷件(320)的被涂敷件支撑部件(312)、使上述涂敷头和上述被涂敷件支撑部件相对升降的升降装置(311)、使上述涂敷头和上述被涂敷件作垂直于由上述升降装置的升降方向的水平方向相对移动的水平移动装置(313)；

上述控制装置在上述涂敷头对上述被涂敷件作流体涂敷动作中，进一步对上述升降装置进行使上述涂敷头作上述被涂敷件作相对升降而接近后，在上述流体的排出开始时，对上述旋转装置和上述移动装置进行开始上述排出用部件的上述旋转和上述排出方向的移动的的同时，对上述旋转装置和水平移动装置进行使上述涂敷头和上述被涂敷件支撑部件开始相对移动的动作控制；开始上述排出后到停止从上述排出用通路的流体排出之前为止，对上述旋转装置进行使上述排出用部件作上述旋转的动作控制，并且，对上述水平移动装置进行使上述涂敷头和被涂敷件支撑部件作上述移动的动作控制；在上述流体的排出停止时，对上述旋转装置进行使上述排出用部件停止上述旋转的动作控制，还对上述移动装置进行使上述排出用部件停止上述移动的动作控制的同时，对上述水平移动装置进行使上述涂敷头和被涂敷件支撑部件停止上述水平移动的动作控制，并且，对上述升降装置进行使上述涂敷头和被涂敷件支撑部件相对升降而互相离开的动作控制。

8、根据权利要求4所述的流体涂敷装置，其特征在于：上述流体涂敷装置在上述涂敷头还包括支撑上述流体被涂敷的被涂敷件(320)的被涂敷件支撑部件(312)、使上述涂敷头和上述被涂敷件支撑部件相对升降的升降装置(311)、使上述涂敷头和上述被涂敷件作垂直于由上述升降装置的升降方向的水平方向相对移动的水平移动装置(313)；

上述控制装置在上述涂敷头对上述被涂敷件作流体涂敷动作中，进一步对上述升降装置进行使上述涂敷头和上述被涂敷件作相对升降而接近后，在上述流体的排出开始时，对上述旋转装置和上述移动装置进行开始上述排出用部件的上述旋转和上述排出方向的移动的的同时，对上述水平移动装置进行使上述涂敷头和上述被涂敷件支撑部件开始相对水平方向移动的动作控制；在开始上述排出后到停止从上述排出用通路的流体排出之前为止，对上述旋转装置进行使上述排出用部件作上述旋转的动作控制，并且，对上述水平移动装置进行使上述涂敷头和被涂敷件支撑部件作上述移动的动作控制；在上述流体的排出停止时，对上述旋转装置进行使上述排出用部件停止上述旋转的动作控制，还对上述移动装置进行使上述排出用部件停止上述移动的动作控制的同时，对上述水平移动装置进行使上述涂敷头和被涂敷件支撑部件停止上述水平方向的相对移动的动作控制，并且，对上述升降装置进行使上述涂敷头和被涂敷件支撑部件相对升降而互相离开的动作控制。

9、一种流体涂敷方法，是利用如下结构的装置，即包括：进行涂敷流体(175)的排出动作的圆筒状排出用部件(108)、在上述排出用部件的直径方向上具有通过第一间隙(162)，在轴向通过第二间隙(163)收容上述排出用部件的凹形状的，且具有作为把供给在第一间隙并移动到上述第二间隙的上述流体向外部排出的通路，向上述第二间隙开口，沿着上述排出用部件的中心轴延长的排出用通路(1135)的收容部件(113)、使上述排出用部件沿着其轴向移动，使上述流体通过上述排出用通路向外部排出的、具有控制排出开始和排出停止的电磁应变元件(105)的移动装置(101)，使上述排出用部件沿圆周方向旋转的旋转装置(118)、设在面对上述第一间隙的上述排出用部件的周围面(1082a)以及面对上述收容部件上述周围面的第一对向面(1131a)中的至少有一个面上，由上述旋转装置的上述排出用部件的旋转把存在于上述第一间隙的上述流体向上述第二间隙移动的移动用槽(134)的装置进行流体涂敷的方法，其特征在于：使上述流体从上述排出用通路向外部排出时，使上述排出用部件沿着轴向排出方向(171a)移动。

10、根据权利要求9所述的流体涂敷方法，其特征在于：从上述排出用通路向外部排出流体时，使上述排出用部件作上述旋转的同时，使上述排出用部件向上述排出方向移动；另一方面，停止从上述排出用通路的上述流体的排出时，停止上述排出用部件的上述旋转的同时，使上述排出用部件沿着上述轴向向上述排出方向相反方向(171b)移动。

11、根据权利要求10所述的流体涂敷方法，其特征在于：进而上述涂敷头对上述流体被涂敷的被涂敷件(320)进行上述涂敷头的涂敷时，使上述涂敷头和上述被涂敷件相对接近之后，上述流体的排出开始时，开始上述排出用部件的上述旋转和上述排出方向的移动的同时，开始上述涂敷头和被涂敷件的水平方向的相对移动；开始上述排出后到停止从上述排出用通路的流体的排出之前，进行上述排出用部件的上述旋转，并且，进行上述涂敷头和被涂敷件支撑部件的上述移动；上述流体的排出停止时，停止上述排出用部件的上述旋转，还停止上述排出用部件的移动的同时，停止上述涂敷头和上述被涂敷件向上述水平方向的相对移动的动作控制，并且，使上述涂敷头和被涂敷件相对升降而互相离开。

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