CN1373862A - 高性能图形发生器的数据路径 - Google Patents
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Abstract
公开一种高性能图形发生器的高速数据路径,例如,用于产生图像的模拟SLM。该数据路径有完全独立的并行数据流的装置,对于任意高的吞吐量给出真正的可缩放性。在一个优选实施例中,把SLM上的各个区域分配给特定的光栅化处理器和分块处理器。各个区段之间有重叠,用于混合图形中的边缘和计算图形中各个特征之间的交互作用。当出现差错条件时,该数据路径有数据完整性检查和恢复模式,在没有建立新差错的情况下,可以消除大部分的差错。
Description
技术领域
本发明涉及高端图形发生,例如,用于光掩模,微电子和微光器件的图形制作和用于生产显示器件。本发明还涉及其他的高精度图形的应用,例如,证券印刷和互连器件。
在描述中所用的术语图形发生器表示根据数据建立物理图形的机器,通常是借助于光作用到光敏表面上。
背景技术
用于生产集成电路的光掩模图形制作是按照所谓的莫尔(More)定律发展的,其中每隔三年生产一种新的电路,其复杂性是以前生产电路的四倍。35年前,图形是借助于小刀用人工方法切割红色塑料薄膜制成的,这种薄膜称之为宝石红膜。此后,需要更加精确和复杂的图形,从而开发具有计算机控制平台和闪光灯的光图形发生器,在乳胶薄膜上曝光一系列矩形框。在80年代中期,人们发明了电子束和光栅化图形发生器,在此之后,制作的掩模具有极高的精度和特征密度。然而,光栅化图形发生器原则上是一种串行器件,正在接近于经济寿命的终点。我们需要的是一种完全新的写入原理,它能够跟上莫尔定律所预测的复杂性按指数增长的速度。
在一系列未决的PCT专利申请中(SE99/00310及其他申请),其中一个发明者(Sandstrom)公开一种新型图形发生器,它在分辨率,精度和吞吐量方面优于任何其他的已知系统。本发明是一种具有极高数据容量的数据路径,可用于所述新型图形发生器。本发明的另一个方面是用于定标和实时数据校正的装置,能使新型图形发生器在非常高的速度下仍具有很高的精确度。
发明内容
所以,本发明的目的是提供一种减轻现有技术中上述问题的方法和设备。
实现这个目的是借助于按照所附权利要求书中的方法和设备。
在以前已知的图形发生器中,如图1a所示,单个波束写入图形,容量是受通过单个波束关闭器或调制器可以输入的数据量的限制。利用多个波束并行扫描的方案可以减轻对吞吐量的限制。然而,在多波束光栅化图形发生器中,如图1b所示,图形是由多个波束隔行扫描的,即,所有波束写入图形的每个部分。我们已经知道,在多处理器结构中光栅化波束数据,通常每个处理器光栅化图形的相连区域。按照波束的隔行结构必须把得到的数据进行分割,且每个处理器必须发送图形数据到每个波束。这就大大增加了复杂性,它是数据进行严格并行处理的障碍。为了获得高的吞吐量,利用有几个并行总线或并行链路交叉交换结构的系统。这种方法仅在以下的限制下是可缩放的,其中每个处理器发送数据到每个波束的原理只是导致太多的交叉数据转移。添加更多的处理器总是可能的,但在不同模块之间互相关联的结构中,并不是总可以增大数据流。一个实际的限制是,光栅化装置不能装入单块底板。建造有几条并行总线的多个同步底板也许是可能的,但是使额外开销增大,最终使系统成本上升。
我们公开一种不同的光栅化装置和这样一种结构,它可以给出真正的可缩放性并允许每个接口是并行的。数据被分割,且发送到不同的处理器,并传输通过完全分隔的路径。所需的同步程度是低的,且可以添加完全独立的处理单元以增大处理能力。
本发明的另一个方面是,高度并行的数据信道有几种类型的图形校正装置。这种校正增加了所有数据处理步骤中的工作负荷,还相当大地增大了数据流。在一种典型的光栅化结构中,由于数据转移的限制和缺乏真正的可缩放性,它是很难适应的。此处公开的真正可缩放结构,数据路径成本的增加是与所需完成的工作量成正比,但没有其他的硬限制。
本发明涉及一种包括空间能量束调制器(SEBM)的图形发生器,它利用诸如光,电子束等的任何种类能量束。在以下描述的一个优选实施例中,本发明描述的是利用空间光调制器(SLM)。然而,本领域专业人员可以理解,在本发明的范围内可以利用其他不同类型的调制器。利用调制区的其他调制器以模拟方式调制能量束,这些调制器是并行近场光刻技术,它涉及利用电流直接曝光抗蚀剂,以及利用电子束或离子束的大规模并行写入的调制器,或利用有调制单元阵列的调制器和扫描系统的组合,或利用大阵列的单独波束。同样我们还知道,大规模并行光刻技术可以借助于软X线或远紫外光利用微观机械快门和衍射式透镜完成。
附图说明
图1是现有技术:(a)利用扫描激光器的图形发生器,和(b)利用多处理器多波束的图形发生器,其中每个处理器发送数据到每个波束接口。
图2表示利用空间光调制器建立图像的通用图形发生器。
图3表示有多个分块处理器和多个光栅化处理器的多处理器结构,每个处理器对SLM中的相连区建立数据。
图4表示有两个完全独立单元的高度并行结构,每个独立单元有馈入到SLM分离区的几个分块处理器和几个光栅化处理器。
图5表示输入图形是如何分块的,其重叠适应于曝光场之间的物理重叠和图像处理的交互重叠,例如,逆卷积。
图6表示装入灰度等级位图到SLM中的优选实施例。
图7表示用于重叠发生和差错校正的逐个像素查阅的优选实施例。
具体实施方式
以下借助于几个例子描述本发明的实施例。然而,本领域专业人员应当理解,本发明不受这些例子的限制。
本发明的一个优选实施例是高端图形发生器(PG)中的光栅化装置(rasterizer),用于写入0.13μm“设计节点”的光掩模。PG能够写入下限到180nm的特征。在PCT专利申请SE99/00310中描述的图形发生器是利用模拟反射式微观机械SLM并通过缩小透镜把SLM的图像投影到掩模片上,如图2中的示意图所示。SLM的阵列大小是2048×512像素,每个像素是16×16μm宽。该透镜的缩小倍数是160X,因此,SLM像素的投影大小是0.1μm×0.1μm。SLM的模拟像素被大于50个等级的电压所驱动,最好是在完全曝光与零曝光之间有65个等级,对应于0.1μm/64=1.6nm的地址网格。驱动电路取出多值位图,即,每个像素中有N比特深度的位图。为了今后使用的灵活性,每个像素是用8比特描述的,而不是50个等级所需要的6比特。所以,像素值是在0至255的范围内,且值0至值50是用于不同的曝光。代码51至100用于产生微观机械像素中的高反射,它对应于波前中的负复值幅度,负幅度可用于增加写入图形中的边缘敏度和角锐度。通常,曝光特征是利用弱负幅度光的背景上的正幅度印制的,它在特征曝光中建立较高的边缘斜率。
SLM是利用每秒700次的新图形数据装入的,来自KrF激光器(248nm)的单次闪光用于把SLM上的图形转移到掩模片。在下一次闪光之前,需要重新写入SLM,平台前进约50μm,因此,各次闪光在掩模片上建立相连的图形。平台以约35mm/s的恒定速度运动,由于一系列的闪光,形成一个2048像素宽的条形。最大的图形长度是230mm,一个条形包含230mm×2048/0.1μm=4.7×109个像素,它需要4.7兆字节。在6.4秒内写成一个条形,在1秒回扫之后,必须准备好下一个条形的数据。然而,写入操作也可以在回扫行程中进行,从而使写入过程更快和更有效。
脉冲串数据流是750兆字节/秒,平均值是650兆字节/秒。由于处理一个条形数据的实际时间不是绝对可预测的,我们决定,在写入下一个条形之前应当缓冲整个一个条形子。实际上,需要的带缓冲甚至大于6.4兆字节,以便允许存储器中写入操作与读出操作之间的转移时间和重叠。若数据处理所需的时间超过可利用的时间,则在开始之前机器等待条形的数据。与在底板之外的空闲位置等待数据的情况比较,由于数据匮乏而造成写入操作中途异常终止是更不规则和不希望有的事件。所以,必须设计具有峰值储备的小数据缓冲器和飞击式光栅化装置的系统,并要求有约二倍于带状缓冲系统的处理能力。尽管需要大量的缓冲存储器,我们认为全带状缓冲操作比增大光栅化速度更加合算。
然而,在本发明的范围内,也可以利用这种大的缓冲器或甚至不用缓冲器,因此,待写入的每个窗口是按顺序绘制和扫描的。
并行操作
输入数据格式可以是许多不同的格式,例如,分级GDSII,平整MEBES格式或算法形式。输入数据文件可以是极其大的,有10-30兆字节的图形文件是很寻常的。在未来,文件长度会更大,虽然今后的发展方向是趋向于多个分级文件。
SLM具有极高速度(每秒的像素数目)的可能性,这是利用很小的像素以获得合理写入时间所需的速度,它是未来掩模所必需的。为了保存标度线的写入时间而仍然遵从有关分辨率和复杂性的莫尔定律,每秒的像素数目必须是每18个月增加一倍。因此可以预料,所有数据必须通过单个接口的任何结构迟早要被废弃和不适用的。只有真正的并行数据处理操作可以按比例缩放到任何的容量。以下描述如何设计这种真正的并行结构:
SLM的表面被分成一组SLM区段。在SLM具有高纵横比的情况下(例如,2048×512像素),把它分成512×512像素区段是合适的。通过扫描操作把数据写入到SLM。在这个优选实施例中,单个DAC被模拟复用器扫描64列线,并把它们充电到0-40伏范围内的电位。然后,打开门(行)线,列线上的电荷转移到每个像素的存储电容器上。需要几个DAC以驱动整个SLM,每个DAC被扫描64列线。具有2048列的SLM有32个DAC。在装入一整幅图像时,必须扫描所有512行,而对于每一行,必须扫描所有64列,并按顺序充电。为了在1毫秒内装入一幅完整图像,DAC必须每秒产生32,000,000个电压,实际上,每秒40M的转换是更恰当的数字。这对于利用普通方法设计和制造PC板和电路是可行的。
为了增大灵活性,SLM是这样设计的,它可以配置成每2048列有8,16,32或64个DAC。利用相同的芯片可以实现不同的配置:在64个DAC的情况下,可以利用相同的40MHz转换速率在0.5毫秒内重新装入SLM。另一方面,在速度要求不高而需要考虑成本的应用中,可以利用6或8个DAC建立较廉价的系统。一个模拟复用器中有32列组件的基本配置可以容易地设计或大或小的SLM,并利用相同的外部电路结构单元驱动它。
在这个优选实施例中,光栅化机箱与SLM之间的接口是DAC之后的模拟电压。在有SLM的PC板上,32列的每组有一个模拟(视频)输入以及选择线,定时线和控制线,如图6的示意图所示。视频是在0至1伏的范围内,而在SLM板的每个输入端上,有一个模拟放大器,使电压跨度达到SLM所需0-40伏的范围内。DAC与光栅化电路一起放置在单独的机箱内。这带来真正的可缩放性,因为它是与机箱的数目成正比。整个光栅化装置不需要放在一块底板上或一个机箱内,因为光栅化装置与SLM板之间的高速接口是与距离无关的视频缆线。
多个DAC组合在8个DAC的DAC组件中,它对应于SLM中512列。每个DAC有它的信号调整电路,包括用于响应曲线校正的查阅表。对于每个DAC组件,有一个公用缓冲存储器和一组并行的光栅化处理器。给每个光栅化处理器分配一个列地址的范围,即,SLM的波段。在这个优选实施例中,单个图形处理器光栅化DAC组件的整个宽度512列,但是在未来,可以预料有这样结构的实施方案,DAC组件需要在几个光栅化处理器之间再细分。设置光栅化处理器是为了在光栅化窗口中建立位图,在这个优选实施例中是640列×2560行个像素。使用比今后(512列)更大的光栅化窗口或扩展位图,便于通过对位图的操作以校正图形特征之间的交互作用。没有扩展位图,就会丢失512列区段之外来自特征的任何交互作用。在行方向上的各个区段之间也有类似的扩展。扩展的数据是冗余的,仅用于计算交互作用。有一种软件控制的窗口,它确定在512列之外产生多少冗余数据。
参照图3,它表示有多个分块处理器和多个光栅化处理器的多处理器结构的示意图,每个处理器在SLM的相连区域建立数据,而图4表示有两个独立单元的一种完全并行结构的示意图,每个单元有几个分块处理器和几个光栅化处理器,用于馈入SLM的分开区域。
从FIFO缓冲器馈入数据到光栅化装置(R),数据是来自有4个分块处理器的分块模块(F)。在分块模块中,输入文件被切割成光栅化区段,它对应于光栅化处理器的扩展位图,而数据单元是为光栅化装置预先调整的,例如,多边形被切割成三角形和/或梯形。对于一个分级文件,在它被切割成分块区段(fracture field)之前,必须部分地分解分级的树形结构。所以,在它被切割成多个区段之前,光栅化模块必须在最坏的情况下看到整个文件。对于非常大的文件,这是一个瓶颈。有两种方法可以减轻这个问题:
-在每个单元的标题中包括分级文件格式的长度信息,因此,可以跳过分块窗口之外的单元。由于被跳过的单元本身有内部分级,可以避免大量的冗余工作。
-产生文件的CAD系统是利用切割成小片的多个特征,部分分解的分级和分类的数据写入的,因此,可以按顺序读出文件而没有丢失特征的风险。
利用这两个原理的组合,可以按顺序处理文件并快速废弃冗余信息。然后,可以在每个分块模块中处理整个文件,对于分配给特定分块模块的那些区域,仅产生分块的输出数据。按照这种方法,分块处理器可以读出和处理4个不同的拷贝文件,每个拷贝在SLM的波段中产生分块数据,并发送它到分配给相同波段的光栅化装置。
在另一个实施例中,一个或几个分块模块连接到多个光栅化模块。每个光栅化模块最好对应于SLM的特定区域。光栅化模块的输出馈入到SLM驱动单元(SDU),SDU组合来自几个光栅化模块的光栅化数据。从SDU通过DAC位图被转移到SLM。
为了获得有效的并行分块操作过程,最好是,预处理输入数据并把它转换成矢量格式,所谓的MIC格式。分块操作是在Y方向上把图形切片成多个条形的过程。若分块操作是在实时下完成,则最好是在y方向上对大的输入数据文件进行分类或分组成几个单元,所谓的存储桶,y方向是垂直于条形的方向。然而,若分块操作是离线进行的,则不需要分类或分组。分块MIC格式的数据,例如,分类成存储桶,最好包括提取数据成带或子带的步骤。
存储桶是自主单元,它包含存储桶中图形对象的所有信息,在读出输入数据文件时,存储桶最好是在线建立的。存储桶的宽度可以因不同的存储桶而变化,但最好是在分块操作开始时确定的。存储桶提取可以发生在文件服务器计算机中或在实时分块计算机中。在某个存储桶中的一个或两个情况下,y方向上所有迭代是在涉及的存储桶中被分解,分开。所有物体保持它原始的坐标。然而,未分解的迭代可以跨越存储桶边界。各个存储桶之间的对象没有关系。此外,每个存储桶最好包括大数据文件的随机接入指针。然而,为了实现较短的接入时间,最好对数据文件进行分类。
在分块操作过程中,若数据是按存储桶分类的或来自完整的文件,则一个处理器最好开始读出第一个存储桶,并仅提取第一个扫描带。此时,所有其他的信息是被忽略的。下一个处理器读出相同的存储桶,且仅提取下一个扫描带。第三个处理器提取第三个扫描带,等等,直到所有的处理器都是忙碌的。这提供一种有效的多处理器分块操作。然而,还可以有操作相同扫描带的几个处理器。
响应曲线校正
输入图形规定为几何图形,但从电压到几何图形的响应是高度非线性的。光栅化装置确定图形中多少区域落在特定的像素上,并把该区域转换成一个数值,在这个优选实施例中,该数值是在0与64之间。由于响应函数是非线性的,光栅化装置确定的像素值并不相当于电压,需要设定像素以便在子像素地址中建立均匀的分割。响应曲线校正有许多不同的方法,其中一些在PCT专利申请SE99/00310中讨论过。基本上,可以利用非线性模拟函数完成响应曲线校正,例如,二极管网络,或利用像素值的数学变换。一种显而易见的校正方法是利用多级的多项式。多项式中零级项是偏置,一级项是放大因子,高级项是修正非线性。响应曲线校正可以是在光栅化图形时,或在图形装入到SLM之前。一种更实际的方法是,响应曲线校正是借助于查阅表而不是实际计算多项式。在最简单的形式下,查阅表储存加到每个像素上的单个校正函数。这个函数代表典型的像素非线性,并可以根据系统的物理模型用经验方法定标或导出这个函数。
对于高端图形发生器,图像的均匀性是极其重要的。微观机械像素单元中的缺陷和因老化引起像素之间的差别可以损坏图像质量。所以,非常需要有一种逐个像素校正的响应函数。同样,可以有多种方法实现这种校正,但在这个优选实施例中,使用各种查阅表:
把像素的响应函数分类成若干个典型的响应曲线。这些响应曲线存储在有24比特输入地址和16比特输出数据的查阅存储器中。每条响应曲线把8比特数据值转换成16比特DAC值。图7所示的结构支持16比特DAC字,但在这个优选实施例中,实际在DAC中使用的仅是10个最高有效比特。
16比特选取的曲线数目是2^16=65536。把16比特分成用于偏置电压的4比特,用于镜像一致性的4比特和用于亮度的8比特。一旦像素性质被定标,即,前2×4比特,只要改变亮度比特就可以容易地改变图形的亮度。在更复杂的方案中,即,双转换方案,在小的查阅存储器中再一次转换亮度值,其优点是小的查阅表可以在各次闪光之间由机器CPU重新写入。双转换系统具有高度灵活性,利用动态变化的剂量可以曝光不同的区域,例如,根据一系列重叠写入次数中各次之间有偏移的SLM区段,校正单次累积的剂量误差。这示意性描述在图5中。
当然,可以利用其他的表示方式。计算小子组的曲线,但其中多数曲线是利用各次计算曲线之间的线性内插法建立的。按照这种方法,建立65536条曲线的计算工作是可以做到的。
有一种像素参数存储器,对于SLM中的每个像素,它有一个16比特单元。当装入一个特定像素到SLM时,查阅表把它的8比特数据值转换成16比特字。根据从像素参数存储器中读出的16比特字确定使用哪条曲线,并把它馈入到查阅存储器中其余的16地址比特。
或者,还可以利用算术计算响应曲线的装置以取代使用查阅表。还可以利用算术计算和查阅存储器组合的任何类型混合解决方法。
类似的校正功能适用于其他类型的空间能量束调制器,例如,以上所描述的那些。
数据完整性和差错恢复
光掩模可以包含每次写入150mm×150mm/0.1μm×0.1μm个像素=2.25×1012个像素。数据中的比特差错可以导致写入图形中的点缺陷。比特差错往往是电子干扰的结果,且往往发生在脉冲串中,在此情况下,利用光掩模制作的芯片可以产生误动作。在这个优选实施例中,数据是与检查和一起转移的,若检查和是错的,则产生错误标记。这是对所有的高容量数据流直至DAC锁存进行的。在出现差错条件时,禁止以下的激光脉冲,写入装置进入恢复模式;在去掉差错条件时,在被禁止的闪光之后继续写入。若干个其他内部条件产生差错标志,例如,数据没有准备好。
还监测激光脉冲序列,因此,在激光触发信号之后的预定时间内没有激光脉冲就产生差错条件。由于脉冲丢失而没有曝光,掩模片没有被这种差错所破坏。所以,正常的差错恢复序列包括停止数据流,停止机械行程(或在没有曝光下继续正常行程),建立备份数据,重新启动相同的条形并在丢失闪光的情况下接通激光器。按照相同方法处理的其他差错条件是平台位置差错超过预定的限度,空气压力浪涌。可以按照相同的方式处理具有写入差错风险的任何条件或事件,对于不频繁的事件,只有很低的吞吐量损失。所以,数据路径的设计成具有快速重新装入前一个SLM位图的能力。以前在数据路径中的数据转移差错引起重新分块和重新光栅化一些数据。
Claims (24)
1.一种以高吞吐量和高精度把符号输入格式的图形数据,例如,GDSII,转换成多值位图,并把所述位图馈入到图形发生器中的模拟空间能量束调制器(SEBM)的方法,包括以下的步骤:
接收输入格式并在至少一个分块处理器中把它分块成分块区段,
发送分块区段的分块数据到至少有一个光栅化处理器的光栅化模块,
在所述光栅化处理器中把至少部分该数据光栅化为对应于SEBM上一个区域的邻接位图,和
装入所述邻接位图到SEBM的所述区域。
2.按照权利要求1的方法,其中在装入位图数据到SEBM时,把一个像素的多值数据转换成模拟多值电磁量。
3.按照权利要求2的方法,其中所述电磁量是电位。
4.按照权利要求1的方法,其中校正位图数据是由于SEBM响应中的非线性或像素到像素的变化。
5.按照权利要求4的方法,其中校正一个像素的数据是通过查阅预先存储的查阅表。
6.按照权利要求5的方法,其中所述表查阅是基于数据值和SEBM中的像素位置。
7.按照权利要求5的方法,其中所述表查阅是基于像素值和对应于至少一个物理参数的变化的一个像素的一组响应函数中的一个响应函数。
8.按照权利要求7的方法,其中所述物理参数至少包括以下各个参数之一:
-电子偏置
-电子增益
-反射镜机械刚度
-残余应力
-波前平整性
-波束指向
-光效率,例如,反射或透射
-存储器效应
9.按照权利要求4的方法,其中校正一个像素的数据是借助于算术计算。
10.按照权利要求1的方法,其中至少有两个光栅化模块。
11.按照权利要求10的方法,其中SEBM的表面被分成多个子区段,且一个光栅化模块永久地分配给一个子区段。
12.按照权利要求11的方法,其中分块区段对应于SEBM的子区段。
13.按照以上权利要求中任一个的方法,其中空间能量束调制器(SEBM)是空间光调制器(SLM)。
14.一种以高吞吐量和高精度把符号输入格式的图形数据,例如,GDSII,转换成多值位图,并把所述位图馈入到图形发生器中的模拟空间能量束调制器(SEBM)的方法,包括以下的步骤:
接收输入格式并在至少一个分块处理器中把它分块成分块区段,
分配SEBM的相连区到输入图形描述中的相连区,
发送所述图形区的分块数据到至少有一个光栅化处理器的光栅化模块,
在所述光栅化模块中把至少部分该数据光栅化为邻接位图,和
装入所述位图到SEBM的所述区域。
15.按照权利要求14的方法,其中SEBM的至少两个相连区分配给输入数据中的两个区域,并发送到两个光栅化处理器。
16.按照权利要求14的方法,其中至少两个分块处理器发送数据到至少两个光栅化处理器。
17.按照权利要求14的方法,其中一个分块处理器发送数据到至少一个光栅化处理器,而另一个分块处理器发送数据到没有从第一个分块处理器接收数据的至少一个光栅化处理器。
18.按照权利要求17的方法,其中在分块处理器与光栅化处理器之间有固定的关联。
19.按照权利要求14的方法,其中一个分块模块发送数据到至少包含两个光栅化处理器的至少一个光栅化模块。
20.按照权利要求14的方法,其中至少包含两个分块处理器的一个分块模块发送数据到至少包含两个光栅化处理器的至少一个光栅化模块。
21.按照权利要求14的方法,其中一个分块模块发送数据到一个光栅化模块,而另一个分块模块发送数据到其他的光栅化模块。
22.按照权利要求14-21中任何一个的方法,其中空间能量束调制器(SEBM)是空间光调制器(SLM)。
23.一种以高吞吐量和高精度把符号输入格式的图形数据,例如,GDSII,转换成多值位图,并把所述位图馈入到图形发生器中的模拟空间能量束调制器(SEBM)的方法,包括以下的步骤:
接收输入格式并在至少一个分块处理器中把它分块成分块区段,
用它们在图形中的预定位置给分块区段中的数据附上标记,
发送分块和带标记的区段到至少一个光栅化模块,
在所述光栅化模块中把至少部分的带标记分块数据光栅化为带标记位图,和
装入所述位图到该标记确定的SEBM的区域。
24.一种光栅化装置,以高吞吐量和高精度把符号输入格式的图形数据,例如,GDSII,转换成多值位图,并把所述位图馈入到图形发生器中的模拟空间能量束调制器(SEBM),包括:
输入通道,例如,网络连接或可安装媒体的站,用于输入图形数据,
分块模块,用于分块所述输入数据成分块区段,
光栅化模块,用于光栅化分块区段的数据成多值位图,
传送结构,例如,总线或串行数据接口,用于装入所述位图到所述SEBM。
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Legal Events
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SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
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GR01 | Patent grant | ||
C17 | Cessation of patent right | ||
CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |
Granted publication date: 20050525 Termination date: 20110908 |