JPH04288813A - 露光装置及びこれを用いた露光データ処理方法 - Google Patents

露光装置及びこれを用いた露光データ処理方法

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JPH04288813A
JPH04288813A JP3052578A JP5257891A JPH04288813A JP H04288813 A JPH04288813 A JP H04288813A JP 3052578 A JP3052578 A JP 3052578A JP 5257891 A JP5257891 A JP 5257891A JP H04288813 A JPH04288813 A JP H04288813A
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JP3052578A
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Masaaki Miyajima
正明 宮島
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Fujitsu VLSI Ltd
Fujitsu Ltd
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Fujitsu VLSI Ltd
Fujitsu Ltd
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  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は露光装置及びこれを用い
た露光データ処理方法に関し、特に、露光装置で露光す
る露光対象物に、規則性のあるパターン群を再度繰り返
す事により構成できる反復フィールドのデータがある場
合の露光装置及びこれを用いた露光データ処理方法に関
する。
【0002】近年の大規模集積回路(LSI)技術にお
いては高密度化が進み、これにより露光データ量が増加
している。このような露光データ量の増大に対して、メ
モリ品種などの繰り返しの効く露光データを有するもの
に対しては、セルの集まりを1つの集合体として繰り返
すことによってデータの圧縮が図られている。ところが
、レチクル作成ともなれば、その集合体の大きさは露光
装置で一度に露光できる露光範囲を超えるために露光用
のステージ移動が起こり、ステージ移動時間及びステー
ジ移動誤差による露光ズレなどの問題が発生する。よっ
て、露光装置における露光データの圧縮と、より良い露
光手順による短時間露光と高精度露光法が望まれている
【0003】
【従来の技術】図11は従来の露光装置110の構成を
示すものであり、露光データ伝送部の構成を示すもので
ある。従来の露光装置110は、所定の大きさの基本フ
ィールドを露光可能なステージを移動させることによっ
て、レチクル等の大きな露光対象物を露光するようにし
ており、データ処理された露光データを一時蓄えておく
ディスク媒体等のパターンデータファイル111と、パ
ターンデータを配置データ群として記憶するメモリ11
2と、指定されたグループのパターンをパターンデータ
ファイルから読み出すパターンデータ読出部113と、
出力パターンを構成して露光データを出力する出力パタ
ーン構成部114とを備えていた。
【0004】従来の露光装置における露光データ処理方
法では、ステージで1回に露光可能なフィールド単位で
、繰り返しの効くパターン群を一つの集まり(以降グル
ープと呼ぶ)とし、それを繰り返し配置する配置データ
群と、多使用される繰り返しパターンのパターンデータ
群により、データの圧縮を図ってきた。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
技術ではデータ圧縮は図れるが、配置データが同じグル
ープを何度も配置することになるため、チップ内でその
グループを露光するためのステージの移動量が大きくな
るという問題がある。これを図12と図13とを用いて
説明する。
【0006】通常の繰り返しの無いデータを、ステージ
の移動によって露光する場合は、露光対象物を1ステー
ジで露光できる領域(基本フィールド)に分割し、図1
2に示すように、ステージ移動をスキャン走査によって
行っていた。一方、図13(1) に示すように、繰り
返しの無いデータCの中に、繰り返しのあるデータ、こ
の図では2種類の繰り返しデータA,B、がある場合に
は、従来は次のようにして露光を行っていた。即ち、露
光しようとする対象物を、まず、繰り返しの無いデータ
Cを基本フィールドに分割し、図13(2) に示すよ
うに、ステージを基本フィールドC1から順に基本フィ
ールドC26まで露光し、次いで、ステージを同じ種類
の繰り返しデータを備えた反復フィールドA1から順に
反復フィールドA4まで露光し、最後に別の種類の繰り
返しデータを備えた反復フィールドB1から順に反復フ
ィールドB4まで露光していた。
【0007】このように、グループが1回のステージ移
動量を超えた場合にはステージ範囲(フィールド)で複
数の領域に分割を行わなければならず、この場合のステ
ージ移動量は非常に大きなものとなる。そして、ステー
ジ移動量が増加すると、ステージ移動待ち時間の増加、
ステージ移動による位置決め誤差の発生などの諸問題に
より良好なパターン露光が行えなくなるという問題があ
る。
【0008】そこで、本発明は、繰り返しの無いデータ
の中に、繰り返しのあるデータがある場合でも、データ
圧縮とステージ移動量を最少にすることにより、高精度
露光を行うことができる露光装置及びこれを用いた露光
データ処理方法を提供することを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成する本発
明の露光装置の原理構成が図1に示される。本発明は所
定の大きさの基本フィールドを露光可能なステージを移
動させることによって、レチクル等の大きな露光対象物
を露光することが可能な露光装置であって、露光パター
ンデータをファイルするファイル手段と、パターンデー
タを記憶するメモリ手段と、パターンデータを読み出す
読出手段、および出力パターンを構成して露光データを
出力する出力手段とを備える露光装置において、設定さ
れた露光対象物に応じて前記ステージによって露光する
基本フィールドの配置データと露光順序を発生する配置
データ発生手段1と、前記基本フィールドの配置データ
を、各フィールド毎に格納する配置データ格納手段2と
、前記基本フィールドの各配置データの座標と、前記メ
モリ手段に記憶された露光すべきデータに含まれる繰り
返し露光可能な反復フィールドの配置データの座標とを
比較し、前記基本フィールドと反復フィールドの露光順
序を判定する露光順序判定手段3と、露光順序判定手段
の判定結果により、各配置データを露光順にソートする
配置データソート手段4とを備えることを特徴とする。
【0010】また、露光装置で露光する露光対象物に、
規則性のあるパターン群を再度繰り返す事により構成で
きる反復フィールドのデータがある時の、請求項1に記
載の露光装置を用いた露光データ処理方法は、設定され
た露光対象物に応じて1回で露光できる基本フィールド
の配置データと露光順序を発生する段階と、発生させた
前記基本フィールドの配置データを、各フィールド毎に
格納しておく段階と、前記基本フィールドの各配置デー
タの座標と、前記メモリ手段に記憶された露光すべきデ
ータに含まれる繰り返し露光可能な反復フィールドの配
置データの座標とを比較し、前記基本フィールドの露光
順序の中に反復フィールドの露光順序を組み入れる段階
と、最終的な露光順序に従って、各配置データを露光順
にソートする段階とを備えることを特徴としている。
【0011】
【作用】本発明によれば、露光装置で露光する露光対象
物が規則性のあるパターン群を再度繰り返す事により構
成できるデータである時に、露光装置が1回のステージ
移動で露光できる範囲のフィールドを、繰り返し配置し
ないフィールドと繰り返し配置するフィールドを区別す
ることなく、スキャン走査に沿うように移動させるので
、ステージの移動量が最小になり、かつ、移動が可能と
なる。この結果、露光データの圧縮とステージ移動の最
少,連続化によるパターン精度の向上と露光時間の短縮
化が図れる。
【0012】
【実施例】以下添付図面を用いて本発明の実施例を詳細
に説明する。図2は本発明の露光装置20の一実施例の
構成を示すものであり、この図には露光データ伝送部分
が示されている。本発明の露光装置も従来と同様に、所
定の大きさの基本フィールドを露光可能なステージを移
動させることによって、レチクル等の大きな露光対象物
を露光するようにしており、データ処理された露光デー
タを一時蓄えておくディスク媒体等のパターンデータフ
ァイル21と、パターンデータを配置データ群として記
憶するメモリ22と、指定されたグループのパターンを
パターンデータファイルから読み出すパターンデータ読
出部23と、出力パターンを構成して露光データを出力
する出力パターン構成部24の他に、配置データを最適
に並び換える配置変換部30が設けられている。
【0013】配置変換部30には、露光順序を決めるた
めの基本となるフィールド配置データを発生させる基本
フィールド配置データ発生部31、そのデータを蓄える
メモリ媒体32、基本フィールド配置データ群に従って
スキャン走査を行うための配置順序番号(以降スキャン
番号と呼ぶ)を配置データ群に付ける配置順序判別部3
3、及び配置データ群をスキャン走査順に並び換える為
の配置データソート部34がある。
【0014】以上のように構成された露光装置の動作を
図3、図5及び図8に示すフローチャートを用いて説明
する。ステップ301では、データ処理された露光デー
タのパターンデータファイル21への読み込みを行う。 続くステップ302ではファイル21から配置データ群
をメモリ22に転送し、ステップ303において配置変
換部30を起動する。そして、ステップ304において
、設定されたチップサイズより、基本フィールドを発生
させて露光順序を決定し、決定した露光順序を基本フィ
ールド番号としてメモリ媒体32に格納する。
【0015】以上のステップにおいては、まず、図2に
示す基本フィールド配置データ31で基本となる露光順
序を求めるべく、露光を行うチップに対して1ステージ
領域(フィールド)で碁盤の目状に露光領域を分割して
基本フィールドを作成し、各基本フィールドに露光順序
を示すスキャン番号を付けてメモリ媒体32に格納して
おく。これを基本フィールド配置データ群と呼び、その
配置を図4の(1) に示す。なお、この実施例では、
図4(1) において分割し、スキャン番号を付した基
本フィールド配置データ群に、図4(2) に示すよう
なグループA,Bの、2種類の繰り返しのきくパターン
群の集まりが8フィールド分あるものとし、説明のため
に、各グループを反復フィールドと呼び、この反復フィ
ールドにA1〜A4,B1〜B4の符号を付す。
【0016】ステップ305からステップ307におい
ては、メモリ媒体22に記憶されている配置データ群よ
り前述の反復フィールド(A1〜A4,B1〜B4)を
1つずつ読み込み、その反復フィールドが基本フィール
ド配置データ群のどのフィールド内に入るかを求めてス
キャン番号を付けていく作業を行う。即ち、ステップ3
05では、繰り返し露光データからなる反復フィールド
の1つを、その番号、座標と共に読み込み、ステップ3
06において、読み込んだ反復フィールドがどの基本フ
ィールドに最も良く含まれるかを決定し、ステップ30
7では、反復フィールドとこれが含まれる基本フィール
ドのどちらを先に露光するかを、基本フィールドの座標
および露光方向(スキャン方向)と、反復フィールドの
座標より決定してスキャン番号を付す。
【0017】ステップ308ではメモリ媒体22に記憶
されている反復フィールドが終了したか否かを判定し、
終了していない場合(NO)はステップ305に戻って
次の反復フィールドをその番号、座標と共に読み込んで
ステップ305からステップ308の手順を繰り返す。 一方、ステップ308で反復フィールドが終了したと判
定したときはステップ309に進み、ステップ307で
決定した反復フィールドと、これが含まれる基本フィー
ルドの露光順序から、露光順序判別部33で付けたスキ
ャン番号を配置データソート部34でメモリ媒体22内
の配置データ群のデータをソートし、各反復フィールド
と、基本フィールドにスキャン番号を付してメモリに格
納してこのルーチンを終了する。これにより、配置デー
タ群は基本の露光順序に近い状態となる。
【0018】図5は反復フィールドへのスキャン番号の
付与の方法の一例を示すフローチャートである。ステッ
プ501では反復フィールドの中心座標の演算を行い、
ステップ502において反復フィールドの中心座標が含
まれる基本フィールドを検索する。そして、ステップ5
03において反復フィールドの中心座標が含まれる基本
フィールドのスキャン番号を反復フィールドのスキャン
番号とする。続くステップ504では、反復フィールド
と基本フィールドの中心座標とスキャン方向とから、ど
ちらを先に露光するかを決め、ステップ505において
反復フィールドを後に露光するか否かを判定する。そし
て、反復フィールドが後の場合(YES)はステップ5
06に進み、反復フィールドのスキャン番号に1を加え
てステップ508に進む。一方、反復フィールドが先の
場合(NO)はステップ507に進み、基本フィールド
のスキャン番号に1を加えてステップ508に進む。ス
テップ508では、ステップ503で求められたスキャ
ン番号より大きいスキャン番号に対して全て1を加え、
スキャン番号を1つずつずらす。そして、ステップ50
9でメモリ媒体22に記憶されている反復フィールドが
終了したか否かを判定し、終了していない場合(NO)
はステップ501に戻って次の反復フィールドに対して
同じ処理を行い、終了した場合はこのルーチンを終了す
る。
【0019】図6は反復フィールドのスキャン番号の付
け方を説明する図である。この図では点線が基本配置に
よる基本フィールドの境界線を示しており、実線で示す
フィールドが反復フィールドP,Q,Rであって、対角
線の交点が各反復フィールドの中心点を示す。いま、ス
キャン方向が矢印の方向であったとし、フィールドの境
界に反復フィールドの中心点がある場合は境界線の左下
側にある基本フィールドを優先するというルールを定め
ておけば、反復フィールドP,Q,Rに付与する基本フ
ィールドの番号はそれぞれP:11,Q:23,R:1
4となる。
【0020】以上のルールを適用して、図4に示すスキ
ャン番号1〜28の基本フィールドと、A1〜A4,B
1〜B4で示した反復フィールドにスキャン番号を付与
したものを図7に示す。なお、図5及び図7に示したス
キャン順序の付与は一例であり、基本フィールドと反復
フィールドのスキャン順序を明確にする方法はこの実施
例の方法に限定されるものではない。
【0021】図8は以上のようにして決められたスキャ
ン番号を基にした露光動作を示すフローチャートである
。ステップ801ではまずスキャン番号の初期値を0に
し、ステップ802でスキャン番号に1を加える。そし
て、ステップ803ではスキャン番号に対応する反復フ
ィールドまたは基本フィールドの座標からパターンデー
タの開始位置を求め、ステップ804ではその開始位置
にステージを移動させる。続くステップ805では、露
光するフィールドの1パターンずつを転送し、ステップ
806においてパターン座標を求めて露光データを出力
する。そして、ステップ807でパターンが終了したか
否かを判定し、終了していない場合はステップ805に
戻り、終了した場合はステップ808にもどる。ステッ
プ808は今回のスキャン番号が最終スキャン番号か否
かを判定し、最終スキャン番号でない場合はステップ8
02に戻り、最終スキャン番号の場合はこのルーチンを
終了する。
【0022】図9は、図13(1) に示した繰り返し
の無いデータCの中に、繰り返しのあるデータ、この図
では2種類の繰り返しデータA,B、がある場合の、本
発明の露光装置による露光順序を示すものである。本発
明の露光装置及びこれを用いた露光データ処理方法によ
れば、図7のスキャン番号からも分かるように、露光し
ようとする対象物が、繰り返しの無い基本フィールドC
1〜C26および繰り返しデータを備えた反復フィール
ドA1〜A4、B1〜B4に関係なく、ほぼ基本の露光
順序に近い状態で露光される。従って、図13(2)に
示した従来の露光方法に比べてもステージ移動量が最少
になっていることが分かる。
【0023】図10は従来と本発明の露光装置を用いた
露光データ処理方法の違いを説明するための別の露光パ
ターンであり、C1〜C4が繰り返しの無いデータ、A
1,A2,B1,B2が繰り返しの有るデータを示す。 従来の露光方法では、C1→C2→C3→C4→A1→
A2→B1→B2のように露光が行われるが、本発明の
露光方法ではA1→C1→C2→A2→B2→C3→C
4→B1のように露光が行われ、ステージの移動量は従
来に比べて遥かに少ないことが分かる。
【0024】なお、前述の実施例では、左から右、右か
ら左へとX方向への走査を例に挙げているが、露光装置
の性能上、Y方向への走査が必要な時にはY方向にX方
向と同様な作業を行えば良い。また、順序決めの際に単
にその座標だけで判断しているが、次の座標やその次の
座標を考慮して順序決めすれば、より良いステージ移動
が可能となる。更に、フィールドの配置データを単に順
序決めするだけでなく、その下のパターンデータ群を発
生する順(露光順序が早いものの順)に用意しておけば
、露光する際に素直にデータを読み込む事ができ、その
フィールドが後で使われる事が分かれば、露光中に格納
・保存の作業を済ませておく事も可能となる。
【0025】また、フィールド以外にも、露光装置には
フィールドの下に電磁偏向で露光する範囲(以降サブフ
ィールドと呼ぶ)があり、これについてもフィールドと
同じ方法で同様な効果が得られ、フィールドとサブフィ
ールドの両方に対して本発明を利用すれば、更なる効果
が得られる。
【0026】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば繰
り返しパターン群を配置するデータに対し発生したフィ
ールドを基本フィールドと合わせ、フィールドの露光順
序を基本ステージ移動に近づけるように露光順序を決め
るという作業により、露光データ量の圧縮はもとよりス
テージ移動量の減少という効果があり、これにより露光
装置内部でのステージ移動待ち時間の短縮化、移動量減
少によるパターン露光精度の向上が図れ、これによる半
導体素子の品質向上に寄与するところが大きい。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の露光装置の構成を示す原理構成図であ
る。
【図2】本発明の露光装置の一実施例の構成を示す構成
図である。
【図3】本発明の露光装置の露光順序の決定手順を示す
フローチャートである。
【図4】スキャン番号の割り当てとその中の反復フィー
ルドの位置を示す図である。
【図5】反復フィールドへのスキャン番号付与の一例を
示すフローチャートである。
【図6】反復フィールドのスキャン番号の付け方を説明
する説明図である。
【図7】図5の手順により図4(2) のフィールドに
付されたスキャン番号を示す図である。
【図8】露光手順を示すフローチャートである。
【図9】本発明の方法による露光順序を示す図である。
【図10】本発明と従来の露光順序の比較を説明する図
である。
【図11】従来の露光装置の構成図である。
【図12】従来の基本フィールドのみの露光順序を示す
図である。
【図13】従来の繰り返しパターンを含む露光パターン
の露光順序を示す図である。
【符号の説明】
20…本発明の露光装置 21…パターンデータファイル 22…メモリ 23…パターンデータ読出部 30…配置変換部 31…基本フィールド配置データ発生部32…メモリ媒
体 33…露光順序判別部 34…配置データソート部

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  所定の大きさの基本フィールドを露光
    可能なステージを移動させることによって、レチクル等
    の大きな露光対象物を露光することが可能な露光装置で
    あって、露光パターンデータをファイルするファイル手
    段と、パターンデータを記憶するメモリ手段と、パター
    ンデータを読み出す読出手段、および出力パターンを構
    成して露光データを出力する出力手段とを備える露光装
    置に配置変換手段(5)を設け、この配置変換手段(5
    )を、設定された露光対象物に応じて前記ステージによ
    って露光する基本フィールドの配置データと露光順序を
    発生する配置データ発生手段(1)と、前記基本フィー
    ルドの配置データを、各フィールド毎に格納する配置デ
    ータ格納手段(2)と、前記基本フィールドの各配置デ
    ータの座標と、前記メモリ手段に記憶された露光すべき
    データに含まれる繰り返し露光可能な反復フィールドの
    配置データの座標とを比較し、前記基本フィールドと反
    復フィールドの露光順序を判定する露光順序判定手段(
    3)と、露光順序判定手段の判定結果により、各配置デ
    ータを露光順にソートする配置データソート手段(4)
    と、から構成したことを特徴とする露光装置。
  2. 【請求項2】  露光装置で露光する露光対象物に、規
    則性のあるパターン群を再度繰り返す事により構成でき
    る反復フィールドのデータがある時の、請求項1に記載
    の露光装置を用いた露光データ処理方法であって、設定
    された露光対象物に応じて1回で露光できる基本フィー
    ルドの配置データと露光順序を発生する段階と、発生さ
    せた前記基本フィールドの配置データを、各フィールド
    毎に格納しておく段階と、前記基本フィールドの各配置
    データの座標と、前記メモリ手段に記憶された露光すべ
    きデータに含まれる繰り返し露光可能な反復フィールド
    の配置データの座標とを比較し、前記基本フィールドの
    露光順序の中に反復フィールドの露光順序を組み入れる
    段階と、最終的な露光順序に従って、各配置データを露
    光順にソートする段階と、を備え、露光装置のステージ
    移動量を最少にし、かつ連続した移動を可能とすること
    を特徴とする露光装置を用いた露光データ処理方法。
JP3052578A 1991-03-18 1991-03-18 露光装置及びこれを用いた露光データ処理方法 Withdrawn JPH04288813A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7590966B2 (en) * 1999-09-09 2009-09-15 Micronic Laser Systems Ab Data path for high performance pattern generator

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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US7590966B2 (en) * 1999-09-09 2009-09-15 Micronic Laser Systems Ab Data path for high performance pattern generator

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