CN117403330A - 一种调控钽酸锂晶体退火阶段热场温度梯度的方法 - Google Patents

一种调控钽酸锂晶体退火阶段热场温度梯度的方法 Download PDF

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Abstract

本发明属于晶体生长技术领域,涉及一种调控钽酸锂晶体退火阶段热场温度梯度的方法。为了调控钽酸锂晶体退火阶段热场温度梯度,设计的热场结构如下:热场中心为坩埚,内部盛放长晶的原料,坩埚外侧设有保温隔热层和加热体,坩埚上方设有侧隔热屏,在侧隔热屏上方设置了后热器,后热器为空心圆柱形状,上边与侧隔热屏上边平齐,侧边与侧隔热屏平行。在长晶结束后的降温退火阶段,通过后热器的升降温控制配合加热体的降温控制,实现了晶体生长的退火阶段的温度梯度的部分可控,有效降低了晶体生长的退火开裂,提高了产品良率;晶体长度有所增加,提高了生产效率;同时设备投入成本较低,机构制作难度低。

Description

一种调控钽酸锂晶体退火阶段热场温度梯度的方法
技术领域
本发明属于晶体生长技术领域,具体涉及一种调控钽酸锂晶体退火阶段热场温度梯度的方法。
背景技术
晶体生长的过程是液体向固体定向凝固的过程,为了将液固转变过程时产生的热量(结晶潜热)释放出结晶系统,维持系统的温度场(也称热场)稳定性,系统设计时必须营造出相当的温度梯度。随着手机5G通讯的普及,手机声表面波滤波器(简称SAW)需求急剧扩大,作为该器件的基础材料,钽酸锂晶体的市场需求急剧增加,同时晶圆加工技术也取得了长足进步,这些都要求晶体的尺寸不断增大,长晶效率提高,使得长晶过程中单位时间产生结晶潜热更多,这些热量的输出需要更大的热场温度梯度,然而随着晶体尺寸的增加,同样的温度梯度下晶体会产生更大的内应力,因此,需要在晶体生长结束后的降温退火过程中调控热场温度梯度至更小,以防止晶体开裂作废;尤其在提拉法长晶过程中,晶体生长速度较其他方法更快,提拉法长晶熔体液面降低速度较快,且随液面降低,坩埚裸露部分增高,液面处的温度梯度相应降低,结晶潜热的释放更加困难,也要求热场温度梯度需要设计的更大,温度梯度的增大则会使晶体在降温退火时更容易产生较大的内应力,增加后期降温退火阶段晶体开裂的风险。
针对这类问题,目前主要采用3种技术方案:
1.热场设计合理的梯度(合理性指该梯度能维持晶体生长,并保证晶体再降温退火时不开裂)。盛放熔体的坩埚尺寸增加,晶体生长有限的长度使熔体液面降低的数值减小,不至于因液面降低过多,引发液面处温度梯度过低,不适合结晶。同时,液面降低时,适当降低晶体生长速度,以减少结晶潜热的释放需求。并且,晶体尺寸增加时,降温退火阶段,延长降温时间,尤其是相变点的降温时间,以降低降温退火开裂的可能性。缺点: (1)热场温度梯度较大,晶体内应力高,开裂率大,良品的晶体缺陷较多,不适合大尺寸晶体的生产。(2)晶体生长速率较慢,降温退火时间较长,而且纵向尺寸较小,长晶效率较低。(3)坩埚尺寸较大,采购坩埚费用显著增加。
2.双坩埚法。在炉膛内部另设一处盛放熔体的坩埚(副坩埚),当主坩埚中的熔体下降时,由副坩埚不断向主坩埚补充熔体,以维持主坩埚中熔体液面高度的稳定,液面处温度梯度不变,因此热场设计时,可忽略熔体下降带了的梯度降低,不用设计较大的温度梯度,晶体生长过程稳定,晶体内应力较小,晶体缺陷也较少,后期开裂可能性降低。同时,熔体的补充,也能够时晶体生长过程延长,晶体纵向尺寸更大,生产效率显著提高。缺点: 双坩埚的存在导致热场以及长晶炉的设计非常复杂,成本极高,而且对配套外协技术水平要求较高。
3.后热器改进法。公开号为CN101580961的专利公开了一种采用钨后热器改进温度梯度的方法。具体做法为,将薄片钨圆环至于坩埚上方,在感应线圈通电时,钨圆环产生感应电流,使该区域温度升高,从而降低了长晶时的液面上方温度梯度。该方法对于真空或保护气氛下的泡生法晶体生长十分有利,因为泡生法长晶结晶速度慢,只需要小的温度梯度即可满足晶体生长的要求。但对于提拉法这种大温度梯度的热场来说并不合适,而且金属钨在含氧气氛中高温下易氧化失效,污染热场;另外该发明并没有针对钽酸锂晶体退火阶段给出明确的控制方法。
发明内容
本发明为了调控钽酸锂晶体退火阶段热场温度梯度,设计的热场结构如下:
热场中心为坩埚,内部盛放长晶的原料,坩埚外侧设有保温隔热层和加热体,坩埚上方设有侧隔热屏,在侧隔热屏上方设置了后热器,后热器为空心圆柱形状,上边与侧隔热屏上边平齐,侧边与侧隔热屏平行。
优选的,后热器采用感应线圈加热的方式,后热器感应线圈安装热场结构外,在与后热器同一水平位置;
后热器感应线圈通中频交流电,使后热器金属片有较好的感应效果;后热器金属片厚度为1-2mm;采用金属铂、铱、钨、钼、铜或铁材料制作。
采用上述热场结构来调控钽酸锂晶体退火阶段热场温度梯度的方法,包括以下步骤:
a、钽酸锂晶体生长时,上部后热器不加热,长晶结束时,提拉晶体脱离液面;
b、在长晶结束后,此时晶体已被提拉至坩埚上部,开始降温,进行降温退火。加热体以一定降温速率降温至晶体相变点之上50-150℃时,上部后热器开启,将后热器功率升至目标功率1-3kw,该时间段内,加热体仍持续降温;
c、当后热器功率升至目标功率后,减小加热体降温速率,加热体降温至晶体相变点之下50-150℃,该时间段内,后热器功率逐渐降低至目标功率的1/3-/1/2;
d、关闭后热器,同时加热体继续降温至冷却后,取出晶体。
步骤a中,在铂或铱坩埚中加入钽酸锂原料,加热体以400-600℃/h速率升至1650℃-1680℃,原料熔化后,恒温3-5h开始引晶,籽晶杆提拉速度为1-3.5mm/h。
步骤b中,在相变点之前打开后热器,是因为晶体相变时降温过快容易发生开裂,因此,温度到达相变点附近,是晶体最脆弱的时刻,需要减小温度梯度,降低晶体的热应力;
步骤b中,优选的,加热体以80-300℃/h的降温速率降温至680℃-780℃时,后热器开启,在5-10min内将后热器功率升至1-3kw。
步骤c中,优选的,加热体以30-80℃/h降温至480-580℃。
步骤d中,关闭后热器后,加热体以100-300℃/h降温至300-400℃后,关闭加热体,冷却后,取出晶体。
本发明采用增加热场上部的后热器,实现了钽酸锂长晶生产过程中的温度梯度的部分可控,具有以下有益效果:
1.降温退火时温度梯度显著降低,减少了降温退火时晶体开裂的可能性,使生产良率显著提升;
2.更小的温度梯度,实现了更低的应力,更少的晶体缺陷,产品质量提升,在晶圆制作过程中,切片良率更高,研磨抛光翘曲度显著降低,晶圆出货良率增加;
3.降低了热场设计及调整的难度。热场设计时,直接可设计较大的温度梯度,使长晶过程顺利进行;
4.晶体纵向尺寸更大,生产效率提高,由于长晶时温度梯度较大,在液面降低时,温度梯度即使适当减小,也能够满足晶体生长时结晶潜热释放的需要;
5.坩埚设计尺寸减小,成本降低;
6.设备投入低,机构制作难度低,易于实现,技术难度实现难度较低,成本低。
附图说明
图1为本发明的设备结构示意图;
其中,主加热线圈1、石英坩埚2、耐火保温粉3、铱坩埚4、熔体5、侧屏陶瓷底托6、单晶体7、侧隔热屏8、籽晶9、后热器感应线圈10、后热器11、籽晶杆12、上隔热屏13。
具体实施方式
实施例1:6英寸钽酸锂单晶体的生产
为了调控晶体退火阶段热场温度梯度,设计的热场结构如图1所示:热场中心为铱坩埚4,直径200mm,高120mm,内部用来盛放长晶的钽酸锂原料,坩埚外部设有主感应线圈1(即加热体),线圈通电后,产生感应电流对坩埚内的原料加热熔化;线圈和坩埚之间为石英坩埚2及耐火保温粉3,坩埚及加热体上方设有三层侧隔热屏8,侧隔热屏8固定在侧屏陶瓷底托6上,在侧隔热屏上方设置了后热器11,后热器为空心圆柱形状,采用铂材质,厚度为0.8mm,上边与侧隔热屏8上边平齐,侧边与侧隔热屏8平行,后热器采用铜材质的感应线圈,后热器感应线圈10安装热场结构外,与后热器同一水平位置。上隔热屏13盖在侧隔热屏8上,构成热场上部保温机构,保温盖中心开孔,供籽晶杆12通过,籽晶杆下面固定籽晶9。
采用上述热场结构来调控晶体退火阶段热场温度梯度的方法,包括以下步骤:
a、在铱坩埚4中加入16kg钽酸锂原料;主感应线圈以550℃/h升温速率升至1650℃,原料熔化后形成熔体5,恒温3-5h后开始引晶,籽晶杆12提拉速度为2mm/h,向上提拉80mm后,手动提拉晶体脱离液面,结束晶体生长,形成单晶体7,其中,钽酸锂晶体生长时,上部后热器不加热;
b、在长晶结束后,此时晶体已被提拉至坩埚上部,开始降温,进行降温退火。钽酸锂晶体相变点600-630℃,主感应线圈以100℃/h降温9h,温度降至750℃,开启后热器感应线圈,使后热器感应加热,使后热器功率在10min内从0升至2kw,该时间段内,加热体仍以原降温速率持续降温;
c、当后热器功率升至2kw目标功率后,主感应线圈以30℃/h降温6h,温度至570度,同时后热器功率以0.2kw/h的下降速度,在6h内降至0.8kw;
d、关闭后热器,主感应线圈以120℃/h降温2h,温度降至330℃;关闭主感应线圈,晶体自然冷却24h后出炉。
实施例2:采用实施例1的热场结构,长晶工艺、降温退火工艺同实施例1。不同的是:步骤a中的长晶阶段,籽晶杆向上提拉85mm后,以延长生长出的晶体长度,手动提拉晶体脱离液面,结束晶体生长,进入降温退火阶段。
对比例1:生长6英寸钽酸锂单晶体,采用的热场结构不含有后热器和后热器感应线圈,其他热场结构与实施例1的一样。步骤a的长晶工艺同实施例1,但是降温退火工艺与实施例1不同,具体为:主加热线圈以100℃/h降温9h,温度降至750℃;以30℃/h降温6h,温度至570度;以120℃/h降温2h,温度降至330℃;关闭长晶炉电源,晶体自然冷却24h后出炉。
对比例2:采用对比例1的热场结构,步骤a的长晶工艺方面,基本与实施例1相同,不同点为籽晶杆提拉的行程缩短(即晶体长度缩短),并在长晶后期降低提拉速度,即籽晶杆向上提拉50mm时,提拉速度由2mm/h降至1.5mm/h;提拉行程至70mm时,手动提拉晶体脱离液面,结束晶体生长;在长晶结束后的降温退火阶段,与实施例1相比,延长了退火时间,具体为:以100℃/h降温9h,温度降至750℃左右;以20℃/h降温9h,温度至570度左右;以120℃/h降温2h,温度降至330℃左右;关闭长晶炉电源,晶体自然冷却24h后出炉。
表1 采用实施例1和实施例2、对比例1和对比例2得到的实施结果
实施例1 实施例2 对比例1 对比例2
长晶次数 50 50 50 50
良品数量 45 43 34 38
良品率 90% 86% 68% 76%
采用实施例1和实施例2、对比例1和对比例2得到的实施结果见表1,可以看出,实施例1和实施例2采用本发明的热场结构和退火热场温度梯度调控方法,晶体生长的良率显著改善,即使实施例2延长晶体生长长度,增加了热场温度梯度控制的难度,仍然具有较高的良率,而对比例1和对比例2中没有使用本发明的热场结构和退火热场温度梯度调控方法,产品良率明显降低,虽然对比例2降低了晶体生长长度,延长退火时间,对热场温度梯度的控制会有所精进,但产品良率仍低于实施例1和实施例2,说明本发明技术方案对晶体质量改善有着显著作用。
以上所述,仅为本发明较佳的具体实施方式,但本发明的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明披露的技术范围内,根据本发明的技术方案及其发明构思加以等同替换或改变,都应涵盖在本发明的保护范围内。

Claims (8)

1.一种调控钽酸锂晶体退火阶段热场温度梯度的方法,其特征在于,热场中心为坩埚,坩埚外侧设有保温隔热层和加热体,坩埚上方设置后热器,该方法包括以下步骤:
a、钽酸锂晶体生长时,上部后热器不加热,长晶结束时,提拉晶体脱离液面;
b、在长晶结束后,此时晶体已被提拉至坩埚上部,开始降温,进行降温退火,加热体以一定降温速率降温至晶体相变点之上50-150℃时,上部后热器开启,将后热器功率升至目标功率1-3kw,此时加热体仍持续降温;
c、当后热器功率升至目标功率后,减小加热体降温速率,加热体降温至晶体相变点之下50-150℃,该时间段内,后热器功率逐渐降低至目标功率的1/3-/1/2;
d、关闭后热器,同时加热体继续降温至冷却后,取出晶体。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述坩埚上方设有侧隔热屏,在侧隔热屏上方设置后热器,后热器为空心圆柱形状,上边与侧隔热屏上边平齐,侧边与侧隔热屏平行。
3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述后热器采用感应线圈加热的方式,后热器感应线圈安装热场结构外,在与后热器同一水平位置。
4.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,所述后热器感应线圈通中频交流电,使后热器金属片有较好的感应效果,后热器金属片厚度为1-2mm,采用金属铂、铱、钨、钼、铜或铁制作。
5.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述步骤a中,在铂或铱坩埚中加入钽酸锂原料,加热体以400-600℃/h速率升至1650℃-1680℃,原料熔化后,恒温3-5h开始引晶,籽晶杆提拉速度为1-3.5mm/h。
6.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述步骤b中,加热体以80-300℃/h的降温速率降温至680℃-780℃时,后热器开启,在5-10min内将后热器功率升至1-3kw。
7.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述步骤c中,加热体以30-80℃/h降温至480-580℃。
8.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述步骤d中,关闭后热器后,加热体以100-300℃/h降温至300-400℃后,关闭加热体,冷却后,取出晶体。
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Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN202830220U (zh) * 2012-09-11 2013-03-27 江西匀晶光电技术有限公司 一种提拉法晶体生长用热场装置
CN105019024A (zh) * 2015-07-09 2015-11-04 山东大学 一种利用温度梯度可调节的温场装置生长近化学计量比铌酸锂晶体的方法
CN105696078A (zh) * 2016-04-12 2016-06-22 盐城市振弘电子材料厂 一种钽酸锂单晶的制备方法
JP2018058736A (ja) * 2016-10-07 2018-04-12 住友金属鉱山株式会社 結晶育成装置及び結晶育成方法
CN108456927A (zh) * 2018-04-24 2018-08-28 安徽晶宸科技有限公司 一种大尺寸LiTaO3晶体的全自动控制晶体生长方法
CN109505008A (zh) * 2019-01-07 2019-03-22 清远先导材料有限公司 晶体的生长装置及生长方法
CN110195254A (zh) * 2019-07-12 2019-09-03 中国电子科技集团公司第二十六研究所 一种适用于提拉法的线圈可移动式温场结构与单晶生长方法
CN112048767A (zh) * 2020-09-03 2020-12-08 天通控股股份有限公司 一种大尺寸钽酸锂晶体的制备方法
JP2021100901A (ja) * 2019-12-24 2021-07-08 住友金属鉱山株式会社 単結晶育成装置と単結晶育成方法
CN219772330U (zh) * 2023-05-04 2023-09-29 安徽晶宸科技有限公司 一种钽酸锂单晶生长自适应温场装置

Patent Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN202830220U (zh) * 2012-09-11 2013-03-27 江西匀晶光电技术有限公司 一种提拉法晶体生长用热场装置
CN105019024A (zh) * 2015-07-09 2015-11-04 山东大学 一种利用温度梯度可调节的温场装置生长近化学计量比铌酸锂晶体的方法
CN105696078A (zh) * 2016-04-12 2016-06-22 盐城市振弘电子材料厂 一种钽酸锂单晶的制备方法
JP2018058736A (ja) * 2016-10-07 2018-04-12 住友金属鉱山株式会社 結晶育成装置及び結晶育成方法
CN108456927A (zh) * 2018-04-24 2018-08-28 安徽晶宸科技有限公司 一种大尺寸LiTaO3晶体的全自动控制晶体生长方法
CN109505008A (zh) * 2019-01-07 2019-03-22 清远先导材料有限公司 晶体的生长装置及生长方法
CN110195254A (zh) * 2019-07-12 2019-09-03 中国电子科技集团公司第二十六研究所 一种适用于提拉法的线圈可移动式温场结构与单晶生长方法
JP2021100901A (ja) * 2019-12-24 2021-07-08 住友金属鉱山株式会社 単結晶育成装置と単結晶育成方法
CN112048767A (zh) * 2020-09-03 2020-12-08 天通控股股份有限公司 一种大尺寸钽酸锂晶体的制备方法
WO2022047822A1 (zh) * 2020-09-03 2022-03-10 天通控股股份有限公司 一种大尺寸钽酸锂晶体的制备方法
CN219772330U (zh) * 2023-05-04 2023-09-29 安徽晶宸科技有限公司 一种钽酸锂单晶生长自适应温场装置

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
陈至立 等: "《能量转换器件及其应用》", 1 January 1992, 上海科学技术文献出版社, pages: 65 - 68 *

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