CN116199514B - 液相等离子喷涂高纯氧化钇悬浮液及其制备方法 - Google Patents
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- CN116199514B CN116199514B CN202310174175.3A CN202310174175A CN116199514B CN 116199514 B CN116199514 B CN 116199514B CN 202310174175 A CN202310174175 A CN 202310174175A CN 116199514 B CN116199514 B CN 116199514B
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- SIWVEOZUMHYXCS-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoyttriooxy)yttrium Chemical compound O=[Y]O[Y]=O SIWVEOZUMHYXCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 69
- 239000000725 suspension Substances 0.000 title claims abstract description 26
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 title claims abstract description 22
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title claims abstract description 8
- 238000005507 spraying Methods 0.000 title claims description 61
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 title claims description 4
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 165
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 99
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 claims abstract description 55
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims abstract description 40
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 claims abstract description 28
- IBSDADOZMZEYKD-UHFFFAOYSA-H oxalate;yttrium(3+) Chemical compound [Y+3].[Y+3].[O-]C(=O)C([O-])=O.[O-]C(=O)C([O-])=O.[O-]C(=O)C([O-])=O IBSDADOZMZEYKD-UHFFFAOYSA-H 0.000 claims abstract description 28
- 239000002243 precursor Substances 0.000 claims abstract description 27
- 229910017053 inorganic salt Inorganic materials 0.000 claims abstract description 20
- 238000007750 plasma spraying Methods 0.000 claims abstract description 20
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 20
- VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N yttrium atom Chemical compound [Y] VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 20
- 229910052761 rare earth metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 15
- 150000002910 rare earth metals Chemical class 0.000 claims abstract description 15
- 239000000080 wetting agent Substances 0.000 claims abstract description 15
- 238000001354 calcination Methods 0.000 claims abstract description 14
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 12
- 235000011114 ammonium hydroxide Nutrition 0.000 claims abstract description 12
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 claims abstract description 9
- 238000009210 therapy by ultrasound Methods 0.000 claims abstract description 6
- OBOSXEWFRARQPU-UHFFFAOYSA-N 2-n,2-n-dimethylpyridine-2,5-diamine Chemical compound CN(C)C1=CC=C(N)C=N1 OBOSXEWFRARQPU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 53
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 claims description 51
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 claims description 51
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 26
- 230000032683 aging Effects 0.000 claims description 26
- 238000003756 stirring Methods 0.000 claims description 26
- 238000005406 washing Methods 0.000 claims description 26
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 21
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 20
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 17
- 238000000227 grinding Methods 0.000 claims description 16
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims description 14
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 claims description 13
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 13
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 13
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 claims description 13
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 13
- 239000012535 impurity Substances 0.000 claims description 13
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 claims description 13
- 238000004321 preservation Methods 0.000 claims description 13
- 238000005303 weighing Methods 0.000 claims description 13
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 12
- ZORQXIQZAOLNGE-UHFFFAOYSA-N 1,1-difluorocyclohexane Chemical compound FC1(F)CCCCC1 ZORQXIQZAOLNGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 239000001593 sorbitan monooleate Substances 0.000 claims description 11
- 235000011069 sorbitan monooleate Nutrition 0.000 claims description 11
- 229940035049 sorbitan monooleate Drugs 0.000 claims description 11
- 238000001914 filtration Methods 0.000 claims description 2
- RUDFQVOCFDJEEF-UHFFFAOYSA-N yttrium(III) oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Y+3].[Y+3] RUDFQVOCFDJEEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 13
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 13
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 12
- 238000003837 high-temperature calcination Methods 0.000 description 12
- 238000005488 sandblasting Methods 0.000 description 11
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 11
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 11
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 8
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 6
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 5
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 5
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 5
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 238000010587 phase diagram Methods 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 2
- 101000611641 Rattus norvegicus Protein phosphatase 1 regulatory subunit 15A Proteins 0.000 description 1
- IJCWFDPJFXGQBN-RYNSOKOISA-N [(2R)-2-[(2R,3R,4S)-4-hydroxy-3-octadecanoyloxyoxolan-2-yl]-2-octadecanoyloxyethyl] octadecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OC[C@@H](OC(=O)CCCCCCCCCCCCCCCCC)[C@H]1OC[C@H](O)[C@H]1OC(=O)CCCCCCCCCCCCCCCCC IJCWFDPJFXGQBN-RYNSOKOISA-N 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 238000005536 corrosion prevention Methods 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 239000011361 granulated particle Substances 0.000 description 1
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 1
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000005304 optical glass Substances 0.000 description 1
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 239000001589 sorbitan tristearate Substances 0.000 description 1
- 235000011078 sorbitan tristearate Nutrition 0.000 description 1
- 229960004129 sorbitan tristearate Drugs 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/50—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on rare-earth compounds
- C04B35/505—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on rare-earth compounds based on yttrium oxide
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/622—Forming processes; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/62222—Forming processes; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products obtaining ceramic coatings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/622—Forming processes; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/626—Preparing or treating the powders individually or as batches ; preparing or treating macroscopic reinforcing agents for ceramic products, e.g. fibres; mechanical aspects section B
- C04B35/62605—Treating the starting powders individually or as mixtures
- C04B35/62625—Wet mixtures
- C04B35/62635—Mixing details
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/622—Forming processes; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/626—Preparing or treating the powders individually or as batches ; preparing or treating macroscopic reinforcing agents for ceramic products, e.g. fibres; mechanical aspects section B
- C04B35/62605—Treating the starting powders individually or as mixtures
- C04B35/62645—Thermal treatment of powders or mixtures thereof other than sintering
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
- C04B2235/30—Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
- C04B2235/44—Metal salt constituents or additives chosen for the nature of the anions, e.g. hydrides or acetylacetonate
- C04B2235/444—Halide containing anions, e.g. bromide, iodate, chlorite
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/70—Aspects relating to sintered or melt-casted ceramic products
- C04B2235/96—Properties of ceramic products, e.g. mechanical properties such as strength, toughness, wear resistance
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/70—Aspects relating to sintered or melt-casted ceramic products
- C04B2235/96—Properties of ceramic products, e.g. mechanical properties such as strength, toughness, wear resistance
- C04B2235/963—Surface properties, e.g. surface roughness
- C04B2235/9638—Tolerance; Dimensional accuracy
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Abstract
本发明属于稀土陶瓷材料制备领域，具体涉及一种液相等离子喷涂高纯氧化钇悬浮液及其制备方法。先配制含钇的无机盐水溶液，再配制草酸溶液；将草酸溶液加入到含钇的无机盐水溶液中，得到氧化钇的前驱体草酸钇；将草酸钇高温煅烧，得到氧化钇粉体；将氧化钇粉体加入卧式研磨机中，同时加入润湿剂，研磨后分散体系加入氨水，调节PH，加入表面活性剂，通过超声得到稳定的乳白色分散体。
Description
技术领域
本发明属于稀土陶瓷材料制备领域，具体涉及一种液相等离子喷涂高纯氧化钇悬浮液及其制备方法。
背景技术
氧化钇具有高熔点、相稳定性和低热膨胀性，是制备高性能电子陶瓷、防等离子腐蚀喷涂粉的重要原料。且氧化钇在航空、航天、陶瓷领域的应用也显示出其优越的性能，主要用于制造微波用磁性材料和军工用重要材料，也用作光学玻璃、陶瓷材料添加剂、大屏幕电视用高亮度荧光粉和其他显像管涂料。还用于制造高温强耐热合金、飞机喷嘴等；近年来，氧化钇粉末在电子行业、半导体行业也得到更多的应用，尤其可以作为半导体刻蚀机防止等离子腐蚀、射线腐蚀用喷涂材料。
传统的大气等离子喷涂制备的耐腐蚀涂层所用氧化钇颗粒需要有复杂的造粒过程，高温煅烧，成本比较高，并且由于造粒颗粒大小不均匀导致涂层表面粗糙度较高，孔隙率偏高，层间结合较差，影响涂层的耐腐蚀性能，颗粒的球形度较差的话导致流动性较差还会导致喷涂效率偏低，影响喷涂的上粉率。
发明内容
本发明提出一种液相等离子喷涂高纯氧化钇悬浮液及其制备方法，将制备的高纯氧化钇粉末与去离子水以一定配比混合通过研磨、超声形成悬浮液作为喷涂原料，将该悬浮液通过悬浮液等离子喷涂技术(SPS)进行喷涂，并沉积在基体上形成具有粗糙度低、孔隙率低、耐较高击穿电压的氧化钇涂层。
为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：
(1)配制含钇的无机盐水溶液：
将氯化钇溶液加入反应罐内，再加入去离子水，配制成0.8-1.2mol/L氯化钇溶液，将表面活性剂投入氯化钇溶液中，充分搅拌混合，制得含钇的无机盐水溶液；
其中，表面活性剂为聚乙二醇2000，其加入量为氯化钇折合氧化物质量的0.5-1％。
(2)配制草酸溶液
称取草酸晶体，加入去离子水充分溶解后，配制成0.8-1.2mol/L溶液；
(3)将草酸溶液以为7-8L/min滴加速度加入到含钇的无机盐水溶液中，pH值为1-1.5，充分搅拌后，陈化1-2小时；陈化后将前驱体放入板框压滤机，分离游离水，压滤至含水量50-60％，再用去离子水洗涤，洗掉各类非稀土等杂质，得到氧化钇的前驱体草酸钇；
草酸与氯化钇的摩尔比为1.5-2.5:1；
(4)将草酸钇在煅烧温度750-850℃，保温时间2-4小时，得到D50：3-4μm的氧化钇粉体；
(5)将氧化钇粉体加入卧式研磨机中，再取纯水加入卧式研磨机中，同时加入润湿剂(C-600)(德国Silcona)，研磨转速2000-3000r/min，研磨时间为2-4小时，检测粒度D50：0.3-0.8μm，PH：7-7.5；
C-600加入量为氧化钇粉体质量的2-4％。
(6)将研磨后分散体系加入适量氨水，调节PH：8-9，加入表面活性剂失水山梨醇单油酸酯(SP80)，放入超声设备中超声1-2小时，得到HLB值8-10稳定的乳白色分散体。
失水山梨醇单油酸酯加入量为氧化钇粉体质量的1-3％。
上述方法制备的悬浮液通过液相等离子喷涂技术(SPS)进行喷涂，得到性能优异的氧化钇涂层。
液相等离子喷涂工艺参数：喷涂功率36-40KW，喷涂距离80-100mm，氩气30L/min，送液流量50ml/min，氮气6L/min，喷涂次数15次。
有益效果
本发明悬浮液有效避免了传统等离子喷涂小颗粒飞散、堵塞等问题，涂层组织均匀，形成均匀分布且尺寸较小的孔隙，涂层表面粗糙度低，孔隙率低，提高了涂层的致密度，提升了耐电压、耐腐蚀性。
附图说明
图1为实施例1喷涂涂层剖面的金相图。
图2为对比实施例1喷涂涂层剖面的金相图。
具体实施方式
下面将结合本发明的实施例对本发明的技术方案进行清楚、完整地描述。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
实施例1
(1)配制含钇的无机盐水溶液：
取1.7mol/L氯化钇溶液52.1L加入反应罐内，再加入去离子水36.5L，配制成1mol/L氯化钇溶液，取100g聚乙二醇2000用500ml去离子水充分溶解，投入氯化钇溶液中，充分搅拌混合；
(2)配制草酸溶液
称取16kg草酸晶体，加入去离子水178L充分溶解后，配制成1mol/L的草酸溶液；
(3)将草酸溶液以为7L/min滴加速度加入到含钇的无机盐水溶液中，pH值为1.42，充分搅拌后，陈化1小时；陈化后将前驱体放入板框压滤机，分离游离水，再用去离子水洗涤，洗掉各类非稀土等杂质，得到高纯氧化钇的前驱体草酸钇；
(4)将草酸钇高温煅烧，煅烧温度750℃，保温时间2小时，得到D50：3.5μm的氧化钇粉体；
(5)将10kg步骤4中得到的氧化钇粉体加入卧式研磨机中，再取纯水加入卧式研磨机中，同时加入润湿剂C-600(德国Silcona)400g，研磨转速2500r/min，研磨时间为2小时，检测粒度D50：0.5μm，PH：7.31；
(6)将研磨后分散体系加入适量氨水，调节至PH：8.5，加入SP80(失水山梨醇单油酸酯)100g，放入超声设备中超声1小时，得到HLB：8.9的稳定的乳白色分散体。
基板采用不锈钢基板，先进行喷砂处理，喷涂功率36KW，喷涂距离80mm，氩气30L/min，送液流量50ml/min，氮气6L/min，喷涂次数15次。
上述方法制备的悬浮液通过液相等离子喷涂技术(SPS)进行喷涂，得到粗糙度Ra/μm:2.51，孔隙率1.8％、击穿电压达到4.2KV，膜厚200μm的氧化钇涂层。
实施例2
(1)配制含钇的无机盐水溶液：
取1.7mol/L氯化钇溶液52.1L加入反应罐内，再加入去离子水21.7L，配制成1.2mol/L氯化钇溶液，取100g聚乙二醇2000用500ml去离子水充分溶解，投入氯化钇溶液中，充分搅拌混合；
(2)配制草酸溶液
称取16kg草酸晶体，加入去离子水223L充分溶解后，配制成0.8mol/L的草酸溶液；
(3)将草酸溶液以为7L/min滴加速度加入到氯化钇溶液中，pH值为1.45，充分搅拌后，陈化1小时；陈化后将前驱体放入板框压滤机，分离游离水，再用去离子水洗涤，洗掉各类非稀土等杂质，得到高纯氧化钇的前驱体草酸钇；
(4)将草酸钇高温煅烧，煅烧温度750℃，保温时间2小时，得到D50：3.31μm的氧化钇粉体；
(5)将10kg步骤4中得到的氧化钇粉体加入卧式研磨机中，再取纯水加入卧式研磨机中，同时加入润湿剂C-600(德国Silcona)200g，研磨转速2500r/min，研磨时间为2小时，检测粒度D50：0.46μm，PH：7.25；
(6)将研磨后分散体系加入适量氨水，调节至PH：8.4，加入SP80(失水山梨醇单油酸酯)100g，放入超声设备中超声1小时，得到HLB：9.1的稳定的乳白色分散体。
基板采用不锈钢基板，先进行喷砂处理，喷涂功率36KW，喷涂距离80mm，氩气30L/min，送液流量50ml/min，氮气6L/min，喷涂次数15次。
上述方法制备的悬浮液通过液相等离子喷涂技术(SPS)进行喷涂，得到粗糙度Ra/μm:2.55，孔隙率1.9％、击穿电压达到4.1KV，膜厚201μm的氧化钇涂层。
实施例3
(1)配制含钇的无机盐水溶液：
取1.7mol/L氯化钇溶液52.1L加入反应罐内，再加入去离子水36.5L，配制成1mol/L氯化钇溶液，取100g聚乙二醇2000用500ml去离子水充分溶解，投入氯化钇溶液中，充分搅拌混合；
(2)配制草酸溶液
称取16kg草酸晶体，加入去离子水178L充分溶解后，配制成1mol/L的草酸溶液；
(3)将草酸溶液以为7L/min滴加速度加入到氯化钇溶液中，pH值为1.42，充分搅拌后，陈化1小时；陈化后将前驱体放入板框压滤机，分离游离水，再用去离子水洗涤，洗掉各类非稀土等杂质，得到高纯氧化钇的前驱体草酸钇；
(4)将草酸钇高温煅烧，煅烧温度750℃，保温时间2小时，得到D50：3.5μm的氧化钇粉体；
(5)将10kg步骤4中得到的氧化钇粉体加入卧式研磨机中，再取纯水加入卧式研磨机中，同时加入润湿剂C-600(德国Silcona)400g，研磨转速2500r/min，研磨时间为2小时，检测粒度D50：0.48μm，PH：7.3；
(6)将研磨后分散体系加入适量氨水，调节至PH：8.5，加入SP80(失水山梨醇单油酸酯)200g，放入超声设备中超声2小时，得到HLB：9.5的稳定的乳白色分散体。
基板采用不锈钢基板，先进行喷砂处理，喷涂功率36KW，喷涂距离80mm，氩气30L/min，送液流量50ml/min，氮气6L/min，喷涂次数15次。
上述方法制备的悬浮液通过液相等离子喷涂技术(SPS)进行喷涂，得到粗糙度Ra/μm:2.58，孔隙率1.7％、击穿电压达到4.3KV，膜厚195μm的氧化钇涂层。
实施例4
(1)配制含钇的无机盐水溶液：
取1.7mol/L氯化钇溶液52.1L加入反应罐内，再加入去离子水36.5L，配制成1mol/L氯化钇溶液，取100g聚乙二醇2000用500ml去离子水充分溶解，投入氯化钇溶液中，充分搅拌混合；
(2)配制草酸溶液
称取16kg草酸晶体，加入去离子水178L充分溶解后，配制成1mol/L的草酸溶液；
(3)将草酸溶液以为7L/min滴加速度加入到氯化钇溶液中，pH值为1.42，充分搅拌后，陈化1小时；陈化后将前驱体放入板框压滤机，分离游离水，再用去离子水洗涤，洗掉各类非稀土等杂质，得到高纯氧化钇的前驱体草酸钇；
(4)将草酸钇高温煅烧，煅烧温度750℃，保温时间2小时，得到D50：3.5μm的氧化钇粉体；
(5)将10kg步骤4中得到的氧化钇粉体加入卧式研磨机中，再取纯水加入卧式研磨机中，同时加入润湿剂C-600(德国Silcona)400g，研磨转速2500r/min，研磨时间为2小时，检测粒度D50：0.51μm，PH：7.26；
(6)将研磨后分散体系加入适量氨水，调节至PH：9，加入SP80(失水山梨醇单油酸酯)100g，放入超声设备中超声1.5小时，得到HLB：8.7的稳定的乳白色分散体。
基板采用不锈钢基板，先进行喷砂处理，喷涂功率36KW，喷涂距离80mm，氩气30L/min，送液流量50ml/min，氮气6L/min，喷涂次数15次。
上述方法制备的悬浮液通过液相等离子喷涂技术(SPS)进行喷涂，得到粗糙度Ra/μm:2.59，孔隙率1.85％、击穿电压达到4KV，膜厚210μm的氧化钇涂层。
实施例5
(1)配制含钇的无机盐水溶液：
取1.7mol/L氯化钇溶液52.1L加入反应罐内，再加入去离子水36.5L，配制成1mol/L氯化钇溶液，取100g聚乙二醇2000用500ml去离子水充分溶解，投入氯化钇溶液中，充分搅拌混合；
(2)配制草酸溶液
称取16kg草酸晶体，加入去离子水178L充分溶解后，配制成1mol/L的草酸溶液；
(3)将草酸溶液以为7L/min滴加速度加入到氯化钇溶液中，pH值为1.42，充分搅拌后，陈化1小时；陈化后将前驱体放入板框压滤机，分离游离水，再用去离子水洗涤，洗掉各类非稀土等杂质，得到高纯氧化钇的前驱体草酸钇；
(4)将草酸钇高温煅烧，煅烧温度750℃，保温时间2小时，得到D50：3.5μm的氧化钇粉体；
(5)将10kg步骤4中得到的氧化钇粉体加入卧式研磨机中，再取纯水加入卧式研磨机中，同时加入润湿剂C-600(德国Silcona)400g，研磨转速2500r/min，研磨时间为2小时，检测粒度D50：0.49μm，PH：7.29；
(6)将研磨后分散体系加入适量氨水，调节至PH：8.5，加入SP80(失水山梨醇单油酸酯)100g，放入超声设备中超声1小时，得到HLB：8.8的稳定的乳白色分散体。
基板采用不锈钢基板，先进行喷砂处理，喷涂功率40KW，喷涂距离100mm，氩气30L/min，送液流量50ml/min，氮气6L/min，喷涂次数15次。
上述方法制备的悬浮液通过液相等离子喷涂技术(SPS)进行喷涂，得到粗糙度Ra/μm:2.65，孔隙率1.95％、击穿电压达到4.3KV，膜厚205μm的氧化钇涂层。
实施例6
(1)配制含钇的无机盐水溶液：
取1.7mol/L氯化钇溶液52.1L加入反应罐内，再加入去离子水36.5L，配制成1mol/L氯化钇溶液，取100g聚乙二醇2000用500ml去离子水充分溶解，投入氯化钇溶液中，充分搅拌混合；
(2)配制草酸溶液
称取16kg草酸晶体，加入去离子水178L充分溶解后，配制成1mol/L的草酸溶液；
(3)将草酸溶液以为7L/min滴加速度加入到氯化钇溶液中，pH值为1.42，充分搅拌后，陈化1小时；陈化后将前驱体放入板框压滤机，分离游离水，再用去离子水洗涤，洗掉各类非稀土等杂质，得到高纯氧化钇的前驱体草酸钇；
(4)将草酸钇高温煅烧，煅烧温度750℃，保温时间2小时，得到D50：3.5μm的氧化钇粉体；
(5)将10kg步骤4中得到的氧化钇粉体加入卧式研磨机中，再取纯水加入卧式研磨机中，同时加入润湿剂C-600(德国Silcona)300g，研磨转速2500r/min，研磨时间为2小时，检测粒度D50：0.51μm，PH：7.31；
(6)将研磨后分散体系加入适量氨水，调节至PH：8.5，加入SP80(失水山梨醇单油酸酯)100g，放入超声设备中超声1小时，得到HLB：8.5的稳定的乳白色分散体。
基板采用不锈钢基板，先进行喷砂处理，喷涂功率36KW，喷涂距离80mm，氩气30L/min，送液流量50ml/min，氮气6L/min，喷涂次数15次。
上述方法制备的悬浮液通过液相等离子喷涂技术(SPS)进行喷涂，得到粗糙度Ra/μm:2.53，孔隙率1.82％、击穿电压达到4.2KV，膜厚202μm的氧化钇涂层。
对比实施例1
(1)配制含钇的无机盐水溶液：
取1.7mol/L氯化钇溶液52.1L加入反应罐内，再加入去离子水36.5L，配制成1mol/L氯化钇溶液，取100g聚乙二醇2000用500ml去离子水充分溶解，投入氯化钇溶液中，充分搅拌混合；
(2)配制草酸溶液
称取16kg草酸晶体，加入去离子水178L充分溶解后，配制成1mol/L的草酸溶液；
(3)将草酸溶液以为7L/min滴加速度加入到氯化钇溶液中，pH值为1.42，充分搅拌后，陈化1小时；陈化后将前驱体放入板框压滤机，分离游离水，再用去离子水洗涤，洗掉各类非稀土等杂质，得到高纯氧化钇的前驱体草酸钇；
(4)将草酸钇高温煅烧，煅烧温度750℃，保温时间2小时，得到D50：3.5μm的氧化钇粉体；
(5)将10kg步骤4中得到的氧化钇粉体加入卧式研磨机中，再取纯水加入卧式研磨机中，同时加入润湿剂C-600(德国Silcona)400g，研磨转速2500r/min，研磨时间为2小时，检测粒度D50：0.5μm，PH：7.31；
(6)将研磨后分散体系放入超声设备中超声1小时，得到得到HLB：6.5稳定较差的悬浮液，很快有部分颗粒沉降。
基板采用不锈钢基板，先进行喷砂处理，喷涂功率36KW，喷涂距离80mm，氩气30L/min，送液流量50ml/min，氮气6L/min，喷涂次数15次。
上述方法制备的悬浮液通过液相等离子喷涂技术(SPS)进行喷涂，得到粗糙度Ra/μm:4.5，孔隙率4.8％、击穿电压达到2.5KV，膜厚150μm的氧化钇涂层。
对比实施例2
(1)配制含钇的无机盐水溶液：
取1.7mol/L氯化钇溶液52.1L加入反应罐内，再加入去离子水36.5L，配制成1mol/L氯化钇溶液，取100g聚乙二醇2000用500ml去离子水充分溶解，投入氯化钇溶液中，充分搅拌混合；
(2)配制草酸溶液
称取16kg草酸晶体，加入去离子水178L充分溶解后，配制成1mol/L的草酸溶液；
(3)将草酸溶液以为7L/min滴加速度加入到氯化钇溶液中，pH值为1.42，充分搅拌后，陈化1小时；陈化后将前驱体放入板框压滤机，分离游离水，再用去离子水洗涤，洗掉各类非稀土等杂质，得到高纯氧化钇的前驱体草酸钇；
(4)将草酸钇高温煅烧，煅烧温度750℃，保温时间2小时，得到D50：3.5μm的氧化钇粉体；
(5)将10kg步骤4中得到的氧化钇粉体加入卧式研磨机中，再取纯水加入卧式研磨机中，同时加入润湿剂C-600(德国Silcona)400g，研磨转速2500r/min，研磨时间为2小时，检测粒度D50：0.5μm，PH：7.31；
(6)将研磨后分散体系放入干燥箱内充分烘干成粉末，将粉末进行喷涂；
基板采用不锈钢基板，先进行喷砂处理，喷涂功率36KW，喷涂距离80mm，氩气30L/min，粉体流量50g/min，氮气6L/min，喷涂次数15次。
上述方法制备的悬浮液通过液相等离子喷涂技术(SPS)进行喷涂，得到粗糙度Ra/μm:5.5，孔隙率5.2％、击穿电压达到2.2KV，膜厚160μm的氧化钇涂层。
对比实施例3
(1)配制含钇的无机盐水溶液：
取1.7mol/L氯化钇溶液52.1L加入反应罐内，再加入去离子水36.5L，配制成1mol/L氯化钇溶液，取100g聚乙二醇2000用500ml去离子水充分溶解，投入氯化钇溶液中，充分搅拌混合；
(2)配制草酸溶液
称取16kg草酸晶体，加入去离子水178L充分溶解后，配制成1mol/L的草酸溶液；
(3)将草酸溶液以为7L/min滴加速度加入到氯化钇溶液中，pH值为1.42，充分搅拌后，陈化1小时；陈化后将前驱体放入板框压滤机，分离游离水，再用去离子水洗涤，洗掉各类非稀土等杂质，得到高纯氧化钇的前驱体草酸钇；
(4)将草酸钇高温煅烧，煅烧温度750℃，保温时间2小时，得到D50：3.5μm的氧化钇粉体；
(5)将10kg步骤4中得到的氧化钇粉体加入卧式研磨机中，再取纯水加入卧式研磨机中，研磨转速2500r/min，研磨时间为2小时，检测粒度D50：0.5μm，PH：7.31；
(6)将研磨后分散体系加入适量氨水，调节至PH：8.5，加入SP80(失水山梨醇单油酸酯)100g，放入超声设备中超声1小时，得到HLB：7.1的稳定性稍差的乳白色分散体。
基板采用不锈钢基板，先进行喷砂处理，喷涂功率36KW，喷涂距离80mm，氩气30L/min，送液流量50ml/min，氮气6L/min，喷涂次数15次。
上述方法制备的悬浮液通过液相等离子喷涂技术(SPS)进行喷涂，得到粗糙度Ra/μm:3.85，孔隙率2.75％、击穿电压达到3.5KV，膜厚190μm的氧化钇涂层。
对比实施例4
(1)配制含钇的无机盐水溶液：
取1.7mol/L氯化钇溶液52.1L加入反应罐内，再加入去离子水36.5L，配制成1mol/L氯化钇溶液，取100g聚乙二醇2000用500ml去离子水充分溶解，投入氯化钇溶液中，充分搅拌混合；
(2)配制草酸溶液
称取16kg草酸晶体，加入去离子水178L充分溶解后，配制成1mol/L的草酸溶液；
(3)将草酸溶液以为7L/min滴加速度加入到氯化钇溶液中，pH值为1.42，充分搅拌后，陈化1小时；陈化后将前驱体放入板框压滤机，分离游离水，再用去离子水洗涤，洗掉各类非稀土等杂质，得到高纯氧化钇的前驱体草酸钇；
(4)将草酸钇高温煅烧，煅烧温度750℃，保温时间2小时，得到D50：3.5μm的氧化钇粉体；
(5)将10kg步骤4中得到的氧化钇粉体加入卧式研磨机中，再取纯水加入卧式研磨机中，同时加入润湿剂C-600(德国Silcona)300g，研磨转速2500r/min，研磨时间为2小时，检测粒度D50：0.49μm，PH：7.25；
(6)将研磨后分散体系加入过量氨水，调节至PH：11.5，加入SP80(失水山梨醇单油酸酯)100g，放入超声设备中超声1小时，得到HLB：7.2的稳定性较差的乳白色分散体。
基板采用不锈钢基板，先进行喷砂处理，喷涂功率36KW，喷涂距离80mm，氩气30L/min，送液流量50ml/min，氮气6L/min，喷涂次数15次。
上述方法制备的悬浮液通过液相等离子喷涂技术(SPS)进行喷涂，得到粗糙度Ra/μm:3.55，孔隙率3.59％、击穿电压达到3.2KV，膜厚176μm的氧化钇涂层。
对比实施例5
(1)配制含钇的无机盐水溶液：
取1.7mol/L氯化钇溶液52.1L加入反应罐内，再加入去离子水36.5L，配制成1mol/L氯化钇溶液，取100g聚乙二醇2000用500ml去离子水充分溶解，投入氯化钇溶液中，充分搅拌混合；
(2)配制草酸溶液
称取16kg草酸晶体，加入去离子水178L充分溶解后，配制成1mol/L的草酸溶液；
(3)将草酸溶液以为7L/min滴加速度加入到氯化钇溶液中，pH值为1.42，充分搅拌后，陈化1小时；陈化后将前驱体放入板框压滤机，分离游离水，再用去离子水洗涤，洗掉各类非稀土等杂质，得到高纯氧化钇的前驱体草酸钇；
(4)将草酸钇高温煅烧，煅烧温度750℃，保温时间2小时，得到D50：3.5μm的氧化钇粉体；
(5)将10kg步骤4中得到的氧化钇粉体加入卧式研磨机中，再取纯水加入卧式研磨机中，同时加入润湿剂C-600(德国Silcona)300g，研磨转速2500r/min，研磨时间为2小时，检测粒度D50：0.5μm，PH：7.22；
(6)将研磨后分散体系加入适量氨水，调节至PH：8.5，加入PEG-3(失水山梨醇三硬脂酸酯)100g，放入超声设备中超声1小时，得到HLB：4.5分散较差的的分散体。
基板采用不锈钢基板，先进行喷砂处理，喷涂功率36KW，喷涂距离80mm，氩气30L/min，送液流量50ml/min，氮气6L/min，喷涂次数15次。
上述方法制备的悬浮液通过液相等离子喷涂技术(SPS)进行喷涂，得到粗糙度Ra/μm:4.13，孔隙率4.82％、击穿电压达到2.9KV，膜厚155μm的氧化钇涂层。
以上所述，仅为本发明较好的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，根据本发明的技术方案及其发明构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本发明的保护范围之内。
Claims (2)
1.一种液相等离子喷涂高纯氧化钇悬浮液，其特征在于，所述液相等离子喷涂高纯氧化钇悬浮液的制备方法步骤如下：
（1）配制含钇的无机盐水溶液：
将氯化钇溶液加入反应罐内，再加入去离子水，配制成0.8-1.2mol/L氯化钇溶液，将表面活性剂聚乙二醇2000投入氯化钇溶液中，充分搅拌混合，制备含钇的无机盐水溶液；
表面活性剂加入量为氯化钇折合氧化物质量的0.5-1%；
（2）配制草酸溶液：
称取草酸晶体，加入去离子水充分溶解后，配制成0.8-1.2mol/L草酸溶液；
（3）将草酸溶液以7-8L/min滴加速度加入到含钇的无机盐水溶液中，pH值为1-1.5，充分搅拌后，陈化1-2小时；陈化后将前驱体放入板框压滤机，分离游离水，压滤至含水量50-60%，再用去离子水洗涤，洗掉非稀土杂质，得到氧化钇的前驱体草酸钇；
草酸与氯化钇的摩尔比为1.5-2.5:1；
（4）将草酸钇在煅烧温度750-850℃，保温时间2-4小时，得到D50：3-4μm的氧化钇粉体；
（5）将氧化钇粉体加入卧式研磨机中，再取纯水加入卧式研磨机中，同时加入润湿剂，研磨转速2000-3000r/min，研磨时间为2-4小时，检测粒度D50：0.3-0.8μm，pH：7-7.5；
润湿剂为C-600，其加入量为氧化钇粉体质量的2-4%；
（6）在研磨后的分散体系中加入氨水，调节pH：8-9，再加入表面活性剂失水山梨醇单油酸酯，放入超声设备中超声1-2小时，得到稳定的乳白色分散体；
表面活性剂加入量为氧化钇粉体质量的1-3%。
2.一种根据权利要求1所述的液相等离子喷涂高纯氧化钇悬浮液的应用，其特征在于，所述悬浮液通过液相等离子喷涂技术进行喷涂，得到氧化钇涂层；
液相等离子喷涂工艺参数：喷涂功率36-40kW，喷涂距离80-100mm，氩气30L/min，送液流量50mL/min，氮气6L/min，喷涂次数15次。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202310174175.3A CN116199514B (zh) | 2023-02-28 | 2023-02-28 | 液相等离子喷涂高纯氧化钇悬浮液及其制备方法 |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202310174175.3A CN116199514B (zh) | 2023-02-28 | 2023-02-28 | 液相等离子喷涂高纯氧化钇悬浮液及其制备方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN116199514A CN116199514A (zh) | 2023-06-02 |
| CN116199514B true CN116199514B (zh) | 2024-04-23 |
Family
ID=86509133
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN202310174175.3A Active CN116199514B (zh) | 2023-02-28 | 2023-02-28 | 液相等离子喷涂高纯氧化钇悬浮液及其制备方法 |
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| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN116199514B (zh) |
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Legal Events
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