CN116157741A - 转印膜、层叠体的制造方法、电路配线的制造方法 - Google Patents

转印膜、层叠体的制造方法、电路配线的制造方法 Download PDF

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CN116157741A CN202180051939.9A CN202180051939A CN116157741A CN 116157741 A CN116157741 A CN 116157741A CN 202180051939 A CN202180051939 A CN 202180051939A CN 116157741 A CN116157741 A CN 116157741A
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Abstract

本发明的第一个课题在于提供如下一种转印膜：运载膜时，在组合物层与引导辊的接触面不易发生感光性组合物层对引导辊的附着，而且在热层压于配线基板等具有阶梯差的基材上时对广范围的各种层压温度具有优异的阶梯差追随性。并且，本发明的第二个课题在于提供一种使用上述转印膜的层叠体的制造方法及电路配线的制造方法。本发明的转印膜具有临时支承体及配置于上述临时支承体上的组合物层，上述组合物层包含感光性组合物层，在频率1Hz及升温速度5℃/分钟的条件下，测定上述组合物层在25～150℃下的动态粘弹性时，满足下述式(1A)～式(3A)的全部要件，式(1A)tanδT25≤1.5，式(2A)tanδT120≥0.80，式(3A)0.50≤tanδT120/tanδT80≤10，另外，在上述式(1A)～式(3A)中，tanδT25表示在25℃下的tanδ，tanδT120表示在120℃下的tanδ，tanδT80表示在80℃下的tanδ。

Description

转印膜、层叠体的制造方法、电路配线的制造方法
技术领域
本发明涉及一种转印膜、层叠体的制造方法、及电路配线的制造方法。
背景技术
由于用于获得规定图案的工序数少，因此广泛使用如下方法：使用转印膜在任意基板上配置感光性组合物层，并隔着掩膜对该感光性组合物层进行曝光之后进行显影。
例如，在专利文献1中公开了一种感光性元件(转印膜)，其具有支承膜及设置于上述支承膜上的感光性树脂组合物层(感光性组合物层)。
以往技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2015-121929号公报
发明内容
发明要解决的技术课题
本发明人对专利文献1中记载的转印膜进行研究的结果，发现卷出卷状的转印膜并在转印膜中的未固化状态的感光性组合物层与引导辊接触的状态下进行膜运载时，存在感光性组合物层附着于引导辊而发生感光性组合物层的剥离的情况。
而且，本发明人发现，以转印膜中的未固化状态的感光性组合物层与基材接触的方式，将转印膜热层压于配线基板等具有阶梯差的基材上时，因转印膜的阶梯差追随性的不足，有时在感光性组合物层与基材之间会混入气泡。即，明确了存在进一步改善转印膜的阶梯差追随性的空间。
然而，通常，层压温度越高，感光性组合物层的熔融粘度越低，阶梯差追随性倾向于提高(即，混入感光性组合物层与基材之间的气泡得到抑制)。然而，根据基材的种类，还有可能发生如下问题：提高层压温度时，因热膨胀而无法确保曝光时的对准精度。因此，从抑制基材的热膨胀而确保曝光时的对准精度的观点考虑，层压温度优选设定得低。为了满足这些需求，在改善转印膜在热层压时的阶梯差追随性能时，还要求层压温度的温度裕度大(即，相对于层压温度的温度依赖性小)。
因此，本发明的课题在于提供如下一种转印膜：运载膜时，在感光性组合物层与引导辊的接触面不易发生感光性组合物层对引导辊的附着，而且在热层压于配线基板等具有阶梯差的基材上时对广范围的各种层压温度具有优异的阶梯差追随性。
并且，本发明的课题还在于提供一种使用上述转印膜的层叠体的制造方法、及电路配线的制造方法。
用于解决技术课题的手段
本发明人等对上述课题进行深入研究的结果，发现通过以下构成，能够解决上述课题。
〔1〕一种转印膜，其具有：
临时支承体；及
配置于上述临时支承体上的组合物层，
上述组合物层包含感光性组合物层，
在频率1Hz及升温速度5℃/分钟的条件下测定上述组合物层在25～150℃下的动态粘弹性时满足下述式(1A)～式(3A)的全部要件。
式(1A)tanδT25≤1.5
式(2A)tanδT120≥0.80
式(3A)0.50≤tanδT120/tanδT80≤10
其中，在上述式(1A)～式(3A)中，tanδT25表示在25℃下的tanδ，tanδT120表示在120℃下的tanδ，tanδT80表示在80℃下的tanδ。
〔2〕根据〔1〕所述的转印膜，其满足下述式(1A’)的要件。
式(1A’)tanδT25≤1.2
〔3〕根据〔1〕或〔2〕所述的转印膜，其满足下述式(1A”)的要件。
式(1A”)tanδT25≤1.0
〔4〕根据〔1〕至〔3〕中任一项所述的转印膜，其满足下述式(3A’)的要件。
式(3A’)1.0≤tanδT120/tanδT80≤8.0
〔5〕根据〔1〕至〔4〕中任一项所述的转印膜，其满足下述式(2A’)的要件。
式(2A’)tanδT120≥1.0
〔6〕根据〔1〕至〔5〕中任一项所述的转印膜，其中，
上述感光性组合物层的膜厚为20μm以下。
〔7〕根据〔1〕至〔6〕中任一项所述的转印膜，其中，
上述感光性组合物层包含粘合剂聚合物、光聚合性化合物及光聚合引发剂。
〔8〕根据〔1〕至〔7〕中任一项所述的转印膜，其用于形成触摸面板用保护膜。
〔9〕一种层叠体的制造方法，其包括：
贴合工序，使与〔1〕至〔8〕中任一项所述的转印膜所具有的上述临时支承体相反的一侧的表面与具有导电层的基板接触而进行贴合，获得依次具有上述基板、上述导电层、上述组合物层及上述临时支承体的带组合物层的基板；
曝光工序，对上述组合物层进行图案曝光；及
显影工序，对经曝光的上述组合物层进行显影而形成保护上述导电层的保护膜图案；
层叠体的制造方法还包括：
剥离工序，在上述贴合工序与上述曝光工序之间或上述曝光工序与上述显影工序之间，从上述带组合物层的基板剥离上述临时支承体。
〔10〕根据〔9〕所述的层叠体的制造方法，其中，
上述具有导电层的基板是具有触摸面板用电极及触摸面板用配线中的至少一个的基板。
〔11〕一种电路配线的制造方法，其包括：
贴合工序，使与〔1〕至〔8〕中任一项所述的转印膜所具有的上述临时支承体相反的一侧的表面接触具有导电层的基板，获得依次具有上述基板、上述导电层、上述组合物层及上述临时支承体的带组合物层的基板；
曝光工序，对上述组合物层进行图案曝光；及
显影工序，对经曝光的上述组合物层进行显影而形成树脂图案；
蚀刻工序，对未配置有上述树脂图案的区域内的上述导电层进行蚀刻处理；
电路配线的制造方法还包括：
剥离工序，在贴合工序与曝光工序之间或曝光工序与显影工序之间，从上述带感光性组合物层的基板剥离临时支承体。
发明效果
根据本发明，能够提供如下一种转印膜：运载膜时，在组合物层与引导辊的接触面不易发生感光性组合物层对引导辊的附着，而且在热层压于配线基板等具有阶梯差的基材上时对广范围的各种层压温度具有优异的阶梯差追随性。
并且，根据本发明，能够提供一种使用上述转印膜的层叠体的制造方法、及电路配线的制造方法。
附图说明
图1是表示第1实施方式的转印膜的结构的一例的示意图。
图2是表示第2实施方式的转印膜的结构的一例的示意图。
图3是用于说明实施例的阶梯差追随性评价的示意图。
图4是从层压方向观察图3所示的具有阶梯差的膜基材43的侧面(两侧面)的示意图。
图5是从与层压方向正交的方向观察图3所示的具有阶梯差的膜基材43的侧面(两侧面)的示意图。
具体实施方式
以下，对本发明进行详细说明。
在本说明书中，使用“～”表示的数值范围是指将记载于“～”的前后的数值作为下限值及上限值而包括的范围。
在本说明书中，在阶段性地记载的数值范围中，在某一数值范围内记载的上限值或下限值可以被其他阶段性地记载的数值范围的上限值或下限值替代。并且，在本说明书中记载的数值范围中，在某个数值范围中记载的上限值或下限值也可以替换为在实施例中所示的值。
在本说明书中，“工序”这一术语不仅包括独立的工序，即使在无法与其他工序明确地区分的情况下，只要能够实现该工序所期待的目的，则也包括在本术语中。
在本说明书中，“透明”是指波长400～700nm的可见光的平均透射率为80％以上，优选为90％以上。
在本说明书中，可见光的平均透射率是用分光光度计测定的值，例如，能够用Hitachi，Ltd.制分光光度计U-3310进行测定。
在本说明书中，只要没有特别说明，则重均分子量(Mw)及数均分子量(Mn)是使用如下测定的标准物质聚苯乙烯来换算的值：作为管柱使用TSKgel GMHxL、TSKgelG4000HxL或TSKgelG2000HxL(均为Tosoh Corporation制商品名)，作为洗脱液使用THF(四氢呋喃)，作为检测器使用示差折射计，作为标准物质使用聚苯乙烯，通过凝胶渗透色谱(GPC)分析装置测定。
在本说明书中，只要没有特别说明，则具有分子量分布的化合物的分子量为重均分子量(Mw)。
在本说明书中，只要没有特别说明，则金属元素的含量是利用电感耦合等离子体(ICP：Inductively Coupled Plasma)分光分析装置测定的值。
在本说明书中，只要没有特别说明，则折射率是在波长550nm处利用椭偏仪测定的值。
在本说明书中，只要没有特别说明，则色相是利用色差计(CR-221，Minolta Co.，Ltd.制)测定的值。
在本说明书中，“(甲基)丙烯酸”是包括丙烯酸及甲基丙烯酸这两者的概念，“(甲基)丙烯酰氧基”是包括丙烯酰氧基及甲基丙烯酰氧基这两者的概念。
另外，在本说明书中，“碱溶性”是指在22℃下、在碳酸钠的1质量％水溶液100g中的溶解度为0.1g以上。
在本说明书中，“水溶性”是指在液温为22℃的pH7.0的水100g中的溶解度为0.1g以上。因此，例如，水溶性树脂是指满足上述溶解度条件的树脂。
在本说明书中，组合物的“固体成分”是指用于形成使用组合物形成的组合物层的成分，组合物包含溶剂(有机溶剂、水等)时，是指除溶剂以外的所有成分。并且，只要是形成组合物层的成分，则液体状成分也视为固体成分。
[转印膜]
本发明的转印膜具有临时支承体及配置于上述临时支承体上的组合物层，且上述组合物层包含感光性组合物层。作为本发明的转印膜的特征点，可举出在频率1Hz及升温速度5℃/分钟的条件下，测定组合物层在25℃～150℃下的动态粘弹性时满足后述式(1A)～式(3A)的全部要件这一点。
本发明的转印膜通过上述构成，在运载膜时，在组合物层与引导辊的接触面不易发生感光性组合物层对引导辊的附着。
而且在热层压于配线基板等具有阶梯差的基材上时对广范围的各种层压温度(例如，80℃、120℃)具有优异的阶梯差追随性。即，本发明的转印膜能够抑制气泡混入感光性组合物层与基材之间的同时，以广范围的各种层压温度(例如，80℃、120℃)热层压于配线基板等具有阶梯差的基材。
另外，如下所述，转印膜只要包含至少1层以上的组合物层即可，也可以包含感光性组合物层以外的其他组合物层。并且，转印膜包含2层以上的组合物层时，配置于离临时支承体最远位置的组合物层可以是感光性组合物层以外的层。换言之，在本发明的转印膜中，组合物层为感光性组合物层以外的其他组合物层的方式并不受限制。通常，转印膜包含2层以上的组合物层时，配置于感光性组合物层的与临时支承体侧相反的一侧的组合物层的厚度比感光性组合物层薄的情况较多。因此，即使在感光性组合物层的与临时支承体侧相反的一侧存在其他组合物层，在运载膜时的组合物层与引导辊的接触面，基于感光性组合物层物性的支配大于直接接触引导辊的上述其他组合物层，实际上在运载时的引导辊上的附着物中也观察到源自感光性组合物层的成分。
以下，有时将运载膜时在组合物层与引导辊的接触面更不易发生感光性组合物层对引导辊的附着的情况和/或在配线基板等具有阶梯差的基材上热层压时对广范围的各种层压温度具有更优异的阶梯差追随性的情况还称为“本发明的效果更优异”。
tanδ(损耗角正切)由储能模量G’与损耗模量G”之比(G”/G’)表示，是表示高分子材料的弹性性质与粘性性质之比的指标。tanδ的值越高，粘性性质越强，tanδ的值越低，弹性性质越低。近来本发明人发现上述待解决的课题与转印膜的组合物层的tanδ的值之间存在相关性。即，发现通过将转印膜的组合物层的tanδ的值调整为规定条件，能够解决上述课题。
本发明的转印膜的作用机理尚不明确，但推测为如下。
tanδ的值越高，运载膜时在组合物层与引导辊的接触面，组合物层对引导辊的润湿性(粘合性)变良好，并且组合物层也容易因小力而变形，因此容易发生引导辊的污染(组合物层中的感光性组合物层对引导辊的附着)。转印膜的组合物层满足式(1A)的要件时，能够抑制引导辊的污染。
而且，转印膜的组合物层满足式(2A)及式(3A)的要件时，组合物层与基材接触的方式将转印膜通过热层压贴合在配线等具有阶梯差的基材上时，组合物层的粘合性适当且气泡不易混入组合物层与基材之间。而且，阶梯差追随性的层压温度的温度裕度与tanδ的温度依赖性相关较大，因此tanδ可以成为层压温度的温度裕度的指标。即，转印膜的组合物层满足式(3A)的要件时，对广范围的各种层压温度具有优异的阶梯差追随性。
另外，在转印膜的组合物层的tanδ的测定中，使用以下所示的测定样品。以下，对测定样品的制作方法进行说明。
转印膜在组合物层上具有保护膜时，首先从转印膜剥离保护膜。将剥离保护膜而得的膜以通过剥离保护膜而露出的组合物层表面彼此相对的方式折叠而贴合组合物层表面彼此，由此制作临时支承体/组合物层(层叠2层)/临时支承体的层叠体1。接着，剥离上述层叠体1中的一侧临时支承体。而且，将剥离了临时支承体的层叠体1以通过剥离临时支承体而露出的组合物层(层叠2层)彼此相对的方式折叠而贴合组合物层(层叠2层)彼此，由此制作临时支承体/组合物层(层叠4层)/临时支承体的层叠体2。而且，剥离上述层叠体2中的一侧临时支承体。而且，将剥离了临时支承体的层叠体2以通过剥离临时支承体而露出的组合物层(层叠4层)彼此相对的方式折叠而贴合组合物层(层叠4层)彼此，由此制作临时支承体/组合物层(层叠8层)/临时支承体的层叠体3。通过以相同的顺序重复组合物层的贴合，制作临时支承体/规定厚度的组合物层/临时支承体的层叠体N。而且，通过从层叠体N去除临时支承体，制作由规定厚度的组合物层构成的测定样品。另外，成为测定样品的组合物层的厚度可选择适于所使用的动态粘弹性测定装置的厚度(通常为0.1～1.0mm)。例如，使用流变仪DHR-2(TA Instruments Japan Inc.制)测定tanδ时，设定为帕尔贴板(peltierplate)的Gap即0.5mm的厚度即可。
以下，对本发明的转印膜进行说明。
本发明的转印膜具有临时支承体及配置于临时支承体上的组合物层，上述组合物层包含感光性组合物层。
上述组合物层只要包含感光性组合物层，则并没有特别限制。
上述感光性组合物层可以是负型感光性组合物层，也可以是化学放大型感光性组合物层，优选为负型感光性组合物层。
并且，上述组合物层可以为单层结构，也可以是2层以上的结构。上述组合物层包含感光性组合物层以外的其他组合物层时，作为其他组合物层，可举出热塑性树脂层、中间层、折射率调整层等。
并且，转印膜可以为在组合物层上具有保护膜的结构。
并且，在本发明的转印膜中，在频率1Hz及升温速度5℃/分钟的条件下，测定组合物层在25℃～150℃下的动态粘弹性时满足式(1A)～式(3A)的全部要件。
式(1A)tanδT25≤1.5
式(2A)tanδT120≥0.80
式(3A)0.50≤tanδT120/tanδT80≤10
另外，在下述式(1A)～式(3A)中，tanδT25表示25℃下的tanδ(25℃下的组合物层的tanδ)，tanδT120表示120℃下的tanδ(120℃下的组合物层的tanδ)，tanδT80表示80℃下的tanδ(80℃下的组合物层的tanδ)。
其中，从本发明的效果更优异的方面考虑，优选满足下述式(1A’)的要件，更优选满足下述式(1A”)的要件。
式(1A’)tanδT25≤1.2
式(1A”)tanδT25≤1.0
另外，上述tanδT25的下限并没有特别限制，从本发明的效果更优异的方面考虑，优选0.20以上。
并且，从本发明的效果更优异的方面考虑，优选满足下述式(2A’)的要件。
式(2A’)tanδT120≥1.0
另外，上述tanδT120的上限并没有特别限制，从本发明的效果更优异的方面考虑，优选12以下。
并且，从本发明的效果更优异的方面考虑，优选满足下述式(3A’)的要件。
式(3A’)1.0≤tanδT120/tanδT80≤8.0
以下，示出本发明的转印膜的方式的一例，但并不限于此。
(1)“临时支承体/感光性组合物层/折射率调整层/保护膜”
(2)“临时支承体/感光性组合物层/保护膜”
(3)“临时支承体/中间层/感光性组合物层/保护膜”
(4)“临时支承体/热塑性树脂层/中间层/感光性组合物层/保护膜”
另外，上述各结构中，感光性组合物层优选为负型感光性组合物层。并且，感光性组合物层还优选为着色树脂层。
如下所述，本发明的转印膜可以用作配线保护膜用转印膜，也可以用作抗蚀剂用转印膜。
作为配线保护膜用转印膜时，作为转印膜的结构，例如，优选为上述(1)或(2)的结构。并且，作为抗蚀剂用转印膜时，作为转印膜的结构，例如，优选为上述(2)～(4)的结构。
在转印膜的组合物层中，在感光性组合物层的与临时支承体侧相反的一侧进一步具有其他组合物层的结构的情况下，配置于感光性组合物层的与临时支承体侧相反的一侧的其他层的合计厚度相对于感光性组合物层的厚度，优选为0.1～30％，更优选为0.1～20％。
以下，举出具体的实施方式的一例，对本发明的转印膜进行说明。另外，以下第1实施方式的转印膜是适合用于配线保护膜用转印膜的结构，以下第2实施方式的转印膜是适合用于抗蚀剂用转印膜的结构。
〔第1实施方式的转印膜〕
以下，对第1实施方式的转印膜的实施方式的一例进行说明。
图1所示的转印膜10依次具有临时支承体1、包含感光性组合物层3及折射率调整层5的组合物层2、保护膜7。并且，组合物层2满足上述式(1A)～式(3A)的全部要件。
另外，图1所示的转印膜10为配置有保护膜7的方式，但也可以不配置保护膜7。
并且，图1所示的转印膜10是配置有折射率调整层5的方式，但也可以不配置折射率调整层5。
以下，对构成转印膜的各元素进行说明。
《临时支承体》
转印膜具有临时支承体。
临时支承体是支承组合物层的部件，最后通过剥离处理被去除。
临时支承体可以为单层结构，也可以为多层结构。
临时支承体优选为膜，更优选为树脂膜。作为临时支承体，优选具有挠性且在加压下或加压及加热下不会产生显著的变形、收缩或拉伸的膜。
作为上述膜，例如可举出聚对苯二甲酸乙二醇酯膜(例如，双轴拉伸聚对苯二甲酸乙二醇酯膜)、聚甲基丙烯酸甲酯膜、三乙酸纤维素膜、聚苯乙烯膜、聚酰亚胺膜及聚碳酸酯膜。
其中，作为临时支承体，优选聚对苯二甲酸乙二醇酯膜。
并且，用作临时支承体的膜优选没有褶皱等变形及划痕等。
从能够隔着临时支承体进行图案曝光的方面考虑，临时支承体优选透明性高，365nm的透射率优选为60％以上，更优选为70％以上。
从隔着临时支承体进行图案曝光时的图案形成性及临时支承体的透明性方面考虑，临时支承体的雾度优选小。具体而言，临时支承体的雾度值优选2％以下，更优选0.5％以下，进一步优选0.1％以下。
从隔着临时支承体进行图案曝光时的图案形成性及临时支承体的透明性方面考虑，临时支承体中包含的微粒、异物及缺陷的数量优选少。临时支承体中的直径1μm以上的微粒、异物及缺陷的数量优选50个/10mm2以下，更优选10个/10mm2以下，进一步优选3个/10mm2以下，尤其优选0个/10mm2。
临时支承体的厚度并没有特别限制，优选5～200μm，从易处理性及通用性方面考虑，更优选10～150μm，进一步优选10～50μm。
临时支承体的厚度作为通过基于SEM(扫描式电子显微镜：Scanning FlectronMicroscope)的剖面观察测定的任意5处的平均值来计算。
作为临时支承体，例如，可举出膜厚16μm的双轴拉伸聚对苯二甲酸乙二醇酯膜、膜厚12μm的双轴拉伸聚对苯二甲酸乙二醇酯膜及膜厚9μm的双轴拉伸聚对苯二甲酸乙二醇酯膜。
作为临时支承体的优选方式，例如，可举出日本特开2014-085643号公报的[0017]～[0018]段、日本特开2016-027363号公报的[0019]～[0026]段、国际公开第2012/081680号的[0041]～[0057]段及国际公开第2018/179370号的[0029]～[0040]段的记载，这些公报的内容编入本说明书中。
从赋予处理性方面考虑，也可以在临时支承体的表面设置包含微小粒子的层(润滑剂层)。润滑剂层可以设置于临时支承体的一面，也可以设置于两面。润滑剂层中包含的粒子的直径优选0.05～0.8μm。
并且，润滑剂层的膜厚优选0.05～1.0μm。
《感光性组合物层》
转印膜具有感光性组合物层。
通过将感光性组合物层转印至被转印体上之后进行曝光及显影，能够在被转印体上形成图案。
作为感光性组合物层，优选负型。另外，负型感光性组合物层是指曝光部在显影液中的溶解性因曝光而降低的感光性组合物层。感光性组合物层为负型感光性组合物层时，所形成的图案相当于固化层。
以下，对感光性组合物层可含有的成分进行详细说明。
<粘合剂聚合物>
感光性组合物层可以包含粘合剂聚合物。
作为粘合剂聚合物，例如，可举出(甲基)丙烯酸树脂、苯乙烯树脂、环氧树脂、聚酰胺树脂、聚酰胺环氧树脂、醇酸树脂、酚醛树脂、聚酯树脂、聚氨酯树脂、通过环氧树脂与(甲基)丙烯酸的反应获得的环氧丙烯酸酯树脂及通过环氧丙烯酸酯树脂与酸酐的反应获得的酸改性环氧丙烯酸酯树脂。
作为粘合剂聚合物的优选方式之一，从碱显影性及膜形成性优异的方面考虑，可举出(甲基)丙烯酸树脂。
另外，在本说明书中，(甲基)丙烯酸树脂是指具有源自(甲基)丙烯酸化合物的结构单元的树脂。源自(甲基)丙烯酸化合物的结构单元的含量相对于(甲基)丙烯酸树脂的所有结构单元，优选50质量％以上，更优选70质量％以上，进一步优选90质量％以上。
(甲基)丙烯酸树脂可以仅由源自(甲基)丙烯酸化合物的结构单元构成，也可以具有源自(甲基)丙烯酸化合物以外的聚合性单体的结构单元。即，源自(甲基)丙烯酸化合物的结构单元的含量的上限相对于(甲基)丙烯酸树脂的所有结构单元为100质量％以下。
作为(甲基)丙烯酸化合物，例如，可举出(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酰胺及(甲基)丙烯腈。
作为(甲基)丙烯酸酯，例如，可举出(甲基)丙烯酸烷基酯、(甲基)丙烯酸四氢糠基酯、(甲基)丙烯酸二甲基氨基乙酯、(甲基)丙烯酸二乙基氨基乙酯、(甲基)丙烯酸缩水甘油酯、(甲基)丙烯酸苄酯、(甲基)丙烯酸2，2，2-三氟乙酯及(甲基)丙烯酸2，2，3，3-四氟丙酯，优选(甲基)丙烯酸烷基酯。
作为(甲基)丙烯酰胺，例如，可举出二丙酮丙烯酰胺等丙烯酰胺。
作为(甲基)丙烯酸烷基酯，例如，可举出(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸戊酯、(甲基)丙烯酸己酯、(甲基)丙烯酸庚酯、(甲基)丙烯酸辛酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸壬酯、(甲基)丙烯酸癸酯、(甲基)丙烯酸十一烷基酯及(甲基)丙烯酸十二烷基酯等具有碳原子数1～12的直链状或支链状烷基的(甲基)丙烯酸烷基酯；(甲基)丙烯酸己酯及(甲基)丙烯酸庚酯等具有碳原子数6～12的环状烷基的(甲基)丙烯酸烷基酯等。
作为(甲基)丙烯酸酯的优选的一方式，可举出具有碳原子数1～4的直链状或支链状烷基的(甲基)丙烯酸烷基酯，其中，优选(甲基)丙烯酸甲酯或(甲基)丙烯酸乙酯。
并且，作为(甲基)丙烯酸酯的其他优选的一方式，可举出具有碳原子数6～12的环状烷基的(甲基)丙烯酸烷基酯，其中，优选(甲基)丙烯酸己酯及(甲基)丙烯酸二环戊酯。作为环状烷基，可以是单环，也可以是多环。
(甲基)丙烯酸树脂可以具有源自(甲基)丙烯酸化合物的结构单元以外的结构单元。
作为形成上述结构单元的聚合性单体，只要是能够与(甲基)丙烯酸化合物共聚的除(甲基)丙烯酸化合物以外的化合物，则并没有特别限制，例如，可举出苯乙烯、乙烯基甲苯及α-甲基苯乙烯等可以在α位或芳香族环上具有取代基的苯乙烯化合物、丙烯腈及乙烯基-正丁醚等乙烯醇酯、马来酸、马来酸酐、马来酸单甲酯、马来酸单乙酯及马来酸单异丙酯等马来酸单酯、富马酸、肉桂酸、α-氰基肉桂酸、衣康酸以及巴豆酸。
这些聚合性单体可以使用1种或组合使用2种以上。
而且，如下所述，(甲基)丙烯酸树脂可以具有反应性基团。
并且，从进一步改善碱显影性方面考虑，(甲基)丙烯酸树脂优选包含具有酸基的结构单元。作为酸基，例如，可举出羧基、磺基、磷酸基及膦酸基。
其中，(甲基)丙烯酸树脂更优选包含具有羧基的结构单元，进一步优选具有源自上述(甲基)丙烯酸的结构单元。
从显影性优异的方面考虑，(甲基)丙烯酸树脂中具有酸基的结构单元(优选为源自(甲基)丙烯酸的结构单元)的含量相对于(甲基)丙烯酸树脂的总质量，优选10质量％以上。并且，上限值并没有特别限制，从耐碱性优异的方面考虑，优选50质量％以下，更优选40质量％以下。
并且，(甲基)丙烯酸树脂更优选具有源自上述(甲基)丙烯酸烷基酯的结构单元。
(甲基)丙烯酸树脂中的源自(甲基)丙烯酸烷基酯的结构单元的含量相对于(甲基)丙烯酸树脂的所有结构单元，优选50～90质量％，更优选60～90质量％，进一步优选65～90质量％。
并且，(甲基)丙烯酸树脂优选具有反应性基团，更优选包含具有反应性基团的结构单元。
作为反应性基团，优选自由基聚合性基团，更优选烯属不饱和基团。并且，(甲基)丙烯酸树脂具有烯属不饱和基团时，(甲基)丙烯酸树脂优选包含在侧链具有烯属不饱和基团的结构单元。
在本说明书中，“主链”是指在构成树脂的高分子化合物的分子中相对最长的键合链，“侧链”是指从主链分支的原子团。
作为烯属不饱和基团，更优选烯丙基或(甲基)丙烯酰氧基。
作为具有反应性基团的结构单元的一例，可举出以下所示的例子，但并不限定于此。
[化学式1]
Figure BDA0004090576800000141
(甲基)丙烯酸树脂可以单独包含1种具有反应性基团的结构单元，也可以包含2种以上。
(甲基)丙烯酸树脂包含具有反应性基团的结构单元时，从本发明的效果更优异的方面考虑，具有反应性基团的结构单元的含量相对于(甲基)丙烯酸树脂的所有结构单元，优选5～70质量％，更优选10～50质量％，进一步优选20～40质量％。
作为(甲基)丙烯酸树脂的优选的一方式，优选具有源自(甲基)丙烯酸的结构单元及源自(甲基)丙烯酸烷基酯的结构单元这两者的树脂。
作为(甲基)丙烯酸树脂的其他优选的一方式，可举出仅由源自(甲基)丙烯酸的结构单元及源自(甲基)丙烯酸烷基酯的结构单元构成的树脂。
并且，作为(甲基)丙烯酸树脂的其他优选的一方式，可举出具有源自(甲基)丙烯酸的结构单元、源自(甲基)丙烯酸烷基酯的结构单元及具有反应性基团的结构单元的树脂。
并且，作为(甲基)丙烯酸树脂的其他优选的一方式，可举出具有源自甲基丙烯酸的结构单元、源自甲基丙烯酸甲酯的结构单元及源自丙烯酸乙酯的结构单元的丙烯酸树脂。
并且，作为(甲基)丙烯酸树脂的其他优选的一方式，可举出具有源自甲基丙烯酸的结构单元、源自甲基丙烯酸甲酯的结构单元、源自甲基丙烯酸环己酯的结构单元及具有反应性基团的结构单元的树脂。
并且，从本发明的效果更优异的方面考虑，(甲基)丙烯酸树脂优选具有选自源自甲基丙烯酸的结构单元及源自甲基丙烯酸烷基酯的结构单元中的至少一种，优选具有源自甲基丙烯酸的结构单元及源自甲基丙烯酸烷基酯的结构单元这两者。
从本发明的效果更优异的方面考虑，(甲基)丙烯酸树脂中的源自甲基丙烯酸的结构单元及源自甲基丙烯酸烷基酯的结构单元的合计含量相对于(甲基)丙烯酸树脂的所有结构单元，优选40质量％以上，更优选60质量％以上。上限并没有特别限制，可以为100质量％以下，优选80质量％以下。
并且，从本发明的效果更优异的方面考虑，(甲基)丙烯酸树脂还优选具有选自源自甲基丙烯酸的结构单元及源自甲基丙烯酸烷基酯的结构单元中的至少一种和选自源自丙烯酸的结构单元及源自丙烯酸烷基酯的结构单元中的至少一种。
从本发明的效果更优异的方面考虑，源自甲基丙烯酸的结构单元及源自甲基丙烯酸烷基酯的结构单元的合计含量相对于源自丙烯酸的结构单元及源自丙烯酸烷基酯的结构单元的合计含量，以质量比计，优选60/40～80/20。
从转印后的感光性组合物层的显影性优异的方面考虑，(甲基)丙烯酸树脂优选在末端具有酯基。
另外，(甲基)丙烯酸树脂的末端部由源自用于合成的聚合引发剂的部位构成。在末端具有酯基的(甲基)丙烯酸树脂通过使用产生具有酯基的自由基的聚合引发剂来合成。
并且，作为粘合剂聚合物的另一优选方式，可举出碱溶性树脂。
例如，从显影性方面考虑，粘合剂聚合物优选为酸值60mgKOH/g以上的粘合剂聚合物。
并且，例如，从容易通过加热与交联成分热交联而形成牢固的膜的方面考虑，粘合剂聚合物更优选为酸值60mgKOH/g以上的具有羧基的树脂(所谓的含有羧基的树脂)，进一步优选为酸值60mgKOH/g以上的具有羧基的(甲基)丙烯酸树脂(所谓的含有羧基的(甲基)丙烯酸树脂)。
粘合剂聚合物为具有羧基的树脂时，例如，添加封端异氰酸酯化合物等热交联性化合物来进行热交联，由此能够提高三维交联密度。并且，若具有羧基的树脂的羧基脱水而疏水化，则能够改善耐湿热性。
作为酸值60mgKOH/g以上的含有羧基的(甲基)丙烯酸树脂，只要满足上述酸值的条件，则并没有特别限制，能够适当选自公知的(甲基)丙烯酸树脂。
例如，能够优选使用在日本特开2011-095716号公报的[0025]段中记载的聚合物中酸值60mgKOH/g以上的含有羧基的丙烯酸树脂，在日本特开2010-237589号公报的[0033]～[0052]段中记载的聚合物中酸值60mgKOH/g以上的含有羧基的丙烯酸树脂等。
作为粘合剂聚合物的其他优选方式，可举出苯乙烯-丙烯酸共聚物。
另外，在本说明书中，苯乙烯-丙烯酸共聚物是指具有源自苯乙烯化合物的结构单元及源自(甲基)丙烯酸化合物的结构单元的树脂，上述源自苯乙烯化合物的结构单元及上述源自(甲基)丙烯酸化合物的结构单元的合计含量相对于上述共聚物的所有结构单元，优选30质量％以上，更优选50质量％以上。
并且，源自苯乙烯化合物的结构单元的含量相对于上述共聚物的所有结构单元，优选1质量％以上，更优选5质量％以上，进一步优选5～80质量％。
并且，上述源自(甲基)丙烯酸化合物的结构单元的含量相对于上述共聚物的所有结构单元，优选5质量％以上，更优选10质量％以上，进一步优选20～95质量％。
从本发明的效果更优异的方面考虑，粘合剂聚合物优选具有芳香环结构，更优选包含具有芳香环结构的结构单元。
作为形成具有芳香环结构的结构单元的单体，可举出苯乙烯、叔丁氧基苯乙烯、甲基苯乙烯及α-甲基苯乙烯等苯乙烯化合物、以及(甲基)丙烯酸苄酯等。
其中，优选苯乙烯化合物，更优选苯乙烯。
并且，从本发明的效果更优异的方面考虑，粘合剂聚合物更优选具有由下述式(S)表示的结构单元(源自苯乙烯的结构单元)。
[化学式2]
Figure BDA0004090576800000161
粘合剂聚合物包含具有芳香环结构的结构单元时，从本发明的效果更优异的方面考虑，具有芳香环结构的结构单元的含量相对于粘合剂聚合物的所有结构单元，优选5～90质量％，更优选10～70质量％，进一步优选20～60质量％。
并且，从本发明的效果更优异的方面考虑，粘合剂聚合物中的具有芳香环结构的结构单元的含量相对于粘合剂聚合物的所有结构单元，优选5～70摩尔％，更优选10～60摩尔％，进一步优选20～60摩尔％。
而且，从本发明的效果更优异的方面考虑，粘合剂聚合物中的由上述式(S)表示的结构单元的含量相对于粘合剂聚合物的所有结构单元，优选5～70摩尔％，更优选10～60摩尔％，进一步优选20～60摩尔％，尤其优选20～50摩尔％。
另外，在本说明书中，用摩尔比规定“结构单元”的含量时，上述“结构单元”的含义与“单体单元”相同。并且，在本说明书中，上述“单体单元”可以在通过高分子反应等聚合后进行修饰。以下也相同。
从本发明的效果更优异的方面考虑，粘合剂聚合物优选具有脂肪族烃环结构。即，粘合剂聚合物优选包含具有脂肪族烃环结构的结构单元。其中，粘合剂聚合物更优选具有2环以上的脂肪族烃环稠合而成的环结构。
作为具有脂肪族烃环结构的结构单元中的构成脂肪族烃环结构的环，可举出三环癸烷环、环己烷环、环戊烷环、降冰片烷环及异佛尔酮环。
其中，从本发明的效果更优异的方面考虑，优选2环以上的脂肪族烃环稠合而成的环，更优选四氢二环戊二烯环(三环[5.2.1.02，6]癸烷环)。
作为形成具有脂肪族烃环结构的结构单元的单体，可举出(甲基)丙烯酸二环戊酯、(甲基)丙烯酸环己酯、及(甲基)丙烯酸异冰片酯。
并且，从本发明的效果更优异的方面考虑，粘合剂聚合物更优选具有由下述式(Cy)表示的结构单元，更优选具有由上述式(S)表示的结构单元及由下述式(Cy)表示的结构单元。
[化学式3]
Figure BDA0004090576800000171
式(Cy)中，RM表示氢原子或甲基，RCy表示具有脂肪族烃环结构的1价基团。
式(Cy)中的RM优选为甲基。
从本发明的效果更优异的方面考虑，式(Cy)中的RCy优选为碳原子数5～20的具有脂肪族烃环结构的1价基团，更优选为碳原子数6～16的具有脂肪族烃环结构的1价基团，进一步优选为碳原子数8～14的具有脂肪族烃环结构的1价基团。
并且，从本发明的效果更优异的方面考虑，式(Cy)的RCy中的脂肪族烃环结构优选为环戊烷环结构、环己烷环结构、四氢二环戊二烯环结构、降冰片烷环结构或异佛尔酮环结构，更优选为环己烷环结构或四氢二环戊二烯环结构，进一步优选四氢二环戊二烯环结构。
而且，从本发明的效果更优异的方面考虑，式(Cy)的RCy中的脂肪族烃环结构优选为2环以上的脂肪族烃环稠合而成的环结构，更优选为2～4环的脂肪族烃环稠合而成的环。
而且，从本发明的效果更优异的方面考虑，式(Cy)中的RCy优选为式(Cy)中的-C(＝O)O-的氧原子与脂肪族烃环结构直接键合的基团即脂肪族烃环基，更优选为环己基或二环戊基，进一步优选为二环戊基。
粘合剂聚合物可以单独具有1种具有脂肪族烃环结构的结构单元，也可以具有2种以上。
粘合剂聚合物包含具有脂肪族烃环结构的结构单元时，从本发明的效果更优异的方面考虑，具有脂肪族烃环结构的结构单元的含量相对于粘合剂聚合物的所有结构单元，优选5～90质量％，更优选10～80质量％，进一步优选20～70质量％。
并且，从本发明的效果更优异的方面考虑，粘合剂聚合物中的具有脂肪族烃环结构的结构单元的含量相对于粘合剂聚合物的所有结构单元，优选5～70摩尔％，更优选10～60摩尔％，进一步优选20～50摩尔％。
而且，从本发明的效果更优异的方面考虑，粘合剂聚合物中的由上述式(Cy)表示的结构单元的含量相对于粘合剂聚合物的所有结构单元，优选5～70摩尔％，更优选10～60摩尔％，进一步优选20～50摩尔％。
粘合剂聚合物包含具有芳香环结构的结构单元及具有脂肪族烃环结构的结构单元时，从本发明的效果更优异的方面考虑，具有芳香环结构的结构单元及具有脂肪族烃环结构的结构单元的总含量相对于粘合剂聚合物的所有结构单元，优选10～90质量％，更优选20～80质量％，进一步优选40～75质量％。
并且，从本发明的效果更优异的方面考虑，粘合剂聚合物中的具有芳香环结构的结构单元及具有脂肪族烃环结构的结构单元的总含量相对于粘合剂聚合物的所有结构单元，优选10～80摩尔％，更优选20～70摩尔％，进一步优选40～60摩尔％。
而且，从本发明的效果更优异的方面考虑，粘合剂聚合物中的由上述式(S)表示的结构单元及由上述式(Cy)表示的结构单元的总含量相对于粘合剂聚合物的所有结构单元，优选10～80摩尔％，更优选20～70摩尔％，进一步优选40～60摩尔％。
并且，从本发明的效果更优异的方面考虑，粘合剂聚合物中的由上述式(S)表示的结构单元的摩尔量nS及由上述式(Cy)表示的结构单元的摩尔量nCy优选满足下述式(SCy)所示的关系，更优选满足下述式(SCy-1)，进一步优选满足下述式(SCy-2)。
0.2≤nS/(nS+nCy)≤0.8 式(SCy)
0.30≤nS/(nS+nCy)≤0.75 式(SCy-1)
0.40≤nS/(nS+nCy)≤0.70 式(SCy-2)
从本发明的效果更优异的方面考虑，粘合剂聚合物优选包含具有酸基的结构单元。
作为上述酸基，可举出羧基、磺基、膦酸基及磷酸基，优选羧基。
作为上述具有酸基的结构单元，优选以下所示的源自(甲基)丙烯酸的结构单元，更优选源自甲基丙烯酸的结构单元。
[化学式4]
Figure BDA0004090576800000191
粘合剂聚合物可以单独包含1种具有酸基的结构单元，也可以包含2种以上。
粘合剂聚合物包含具有酸基的结构单元时，从本发明的效果更优异的方面考虑，具有酸基的结构单元的含量相对于粘合剂聚合物的所有结构单元，优选5～50质量％，更优选5～40质量％，进一步优选10～30质量％。
并且，从本发明的效果更优异的方面考虑，粘合剂聚合物中的具有酸基的结构单元的含量相对于粘合剂聚合物的所有结构单元，优选5～70摩尔％，更优选10～50摩尔％，进一步优选20～40摩尔％。
而且，从本发明的效果更优异的方面考虑，粘合剂聚合物中的源自(甲基)丙烯酸的结构单元的含量相对于粘合剂聚合物的所有结构单元，优选5～70摩尔％，更优选10～50摩尔％，进一步优选20～40摩尔％。
从本发明的效果更优异的方面考虑，粘合剂聚合物优选具有反应性基团，更优选包含具有反应性基团的结构单元。
作为反应性基团，优选自由基聚合性基团，更优选烯属不饱和基团。并且，粘合剂聚合物具有烯属不饱和基团时，粘合剂聚合物优选包含在侧链具有烯属不饱和基团的结构单元。
在本说明书中，“主链”是指在构成树脂的高分子化合物的分子中相对最长的键合链，“侧链”是指从主链分支的原子团。
作为烯属不饱和基团，更优选烯丙基或(甲基)丙烯酰氧基。
作为具有反应性基团的结构单元的一例，可举出以下所示的例子，但并不限定于此。
[化学式5]
Figure BDA0004090576800000201
粘合剂聚合物可以单独包含1种具有反应性基团的结构单元，也可以包含2种以上。
粘合剂聚合物包含具有反应性基团的结构单元时，从本发明的效果更优异的方面考虑，具有反应性基团的结构单元的含量相对于粘合剂聚合物的所有结构单元，优选5～70质量％，更优选10～50质量％，进一步优选20～40质量％。
并且，从本发明的效果更优异的方面考虑，粘合剂聚合物中的具有反应性基团的结构单元的含量相对于粘合剂聚合物的所有结构单元，优选5～70摩尔％，更优选10～60摩尔％，进一步优选20～50摩尔％。
作为将反应性基团导入粘合剂聚合物中的方法，可举出使环氧化合物、封端异氰酸酯化合物、异氰酸酯化合物、乙烯基砜化合物、醛化合物、羟甲基化合物及羧酸酐等化合物与羟基、羧基、伯氨基、仲氨基、乙酰乙酰基及磺基等官能团反应的方法。
作为将反应性基团导入粘合剂聚合物中的方法的优选例，可举出如下方法：通过聚合反应合成具有羧基的聚合物之后，通过高分子反应使(甲基)丙烯酸缩水甘油酯与所获得的聚合物的羧基的一部分反应，由此将(甲基)丙烯酰氧基导入聚合物中。通过此方法，能够获得在侧链具有(甲基)丙烯酰氧基的粘合剂聚合物。
上述聚合反应优选在70～100℃的温度条件下进行，更优选在80～90℃的温度条件下进行。作为上述聚合反应中使用的聚合引发剂，优选偶氮系引发剂，例如，更优选FUJIFILM Wako Pure Chemical Corporation制V-601(商品名)或V-65(商品名)。上述高分子反应优选在80～110℃的温度条件下进行。在上述高分子反应中，优选使用铵盐等催化剂。
作为粘合剂聚合物，从本发明的效果更优异的方面考虑，优选以下所示的聚合物。另外，以下所示的各结构单元的含有比率(a～d)及重均分子量Mw等能够根据目的适当变更。
[化学式6]
Figure BDA0004090576800000211
[化学式7]
Figure BDA0004090576800000221
并且，粘合剂聚合物可以包含聚合物(以下，还称为“聚合物X”。)，该聚合物包含具有羧酸酐结构的结构单元。
羧酸酐结构可以为链状羧酸酐结构及环状羧酸酐结构中的任一种，优选为环状羧酸酐结构。
作为环状羧酸酐结构的环，优选5～7元环，更优选5元环或6元环，进一步优选5元环。
具有羧酸酐结构的结构单元优选为在主链中包含从由下述式P-1表示的化合物中去除2个氢原子而得的2价基团的结构单元或从由下述式P-1表示的化合物中去除1个氢原子而得的1价基团直接或经由2价连接基与主链键合的结构单元。
[化学式8]
Figure BDA0004090576800000222
式P-1中，RA1a表示取代基，n1a个RA1a可以相同，也可以不同，Z1a表示形成包含-C(＝O)-O-C(＝O)-的环的2价基团，n1a表示0以上的整数。
作为由RA1a表示的取代基，例如可举出烷基。
作为Z1a，优选碳原子数2～4的亚烷基，更优选碳原子数2或3的亚烷基，进一步优选碳原子数2的亚烷基。
n1a表示0以上的整数。在Z1a表示碳原子数2～4的亚烷基时，n1a优选为0～4的整数，更优选为0～2的整数，进一步优选为0。
n1a表示2以上的整数时，存在多个的RA1a可以相同，也可以不同。并且，存在多个的RA1a可以彼此键合而形成环，但优选不彼此键合而形成环。
作为具有羧酸酐结构的结构单元，优选源自不饱和羧酸酐的结构单元，更优选源自不饱和环式羧酸酐的结构单元，进一步优选源自不饱和脂肪族环式羧酸酐的结构单元，尤其优选源自马来酸酐或衣康酸酐的结构单元，最优选源自马来酸酐的结构单元。
以下，举出具有羧酸酐结构的结构单元的具体例，但具有羧酸酐结构的结构单元并不限定于这些具体例。在下述结构单元中，Rx表示氢原子、甲基、CH2OH基或CF3基，Me表示甲基。
[化学式9]
Figure BDA0004090576800000231
[化学式10]
Figure BDA0004090576800000232
聚合物X中的具有羧酸酐结构的结构单元可以为单独1种，也可以为2种以上。
具有羧酸酐结构的结构单元的总含量相对于聚合物X的所有结构单元，优选0～60摩尔％，更优选5～40摩尔％，进一步优选10～35摩尔％。
感光性组合物层可以仅包含1种聚合物X，也可以包含2种以上。
感光性组合物层包含聚合物X时，从本发明的效果更优异的方面考虑，聚合物X的含量相对于感光性组合物层的总质量，优选0.1～30质量％，更优选0.2～20质量％，进一步优选0.5～20质量％，进一步优选1.0～20质量％。
从本发明的效果更优异的方面考虑，粘合剂聚合物的重均分子量(Mw)优选5,000以上，更优选10,000以上，进一步优选10,000～100,000，尤其优选15,000～80,000。
粘合剂聚合物的酸值优选10～200mgKOH/g，更优选60mg～200mgKOH/g，进一步优选60～150mgKOH/g，尤其优选60～110mgKOH/g。
另外，粘合剂聚合物的酸值为按照JIS K0070：1992中记载的方法测定的值。
感光性组合物层可以仅包含1种粘合剂聚合物，也可以包含2种以上。
从本发明的效果更优异的方面考虑，粘合剂聚合物的含量相对于感光性组合物层的总质量，优选10～90质量％，更优选20～80质量％，进一步优选30～70质量％。
<聚合性化合物>
感光性组合物层可以包含聚合性化合物。
聚合性化合物是具有聚合性基团的化合物。作为聚合性基团，例如，可举出自由基聚合性基团及阳离子聚合性基团，优选自由基聚合性基团。
聚合性化合物优选包含具有烯属不饱和基团的自由基聚合性化合物(以下，还简称为“烯属不饱和化合物”。)。
作为烯属不饱和基团，优选(甲基)丙烯酰氧基。
另外，本说明书中的烯属不饱和化合物为上述粘合剂聚合物以外的化合物，优选分子量小于5，000。
作为聚合性化合物的优选方式之一，可举出由下述式(M)表示的化合物(还简称为“化合物M”。)。
Q2-R1-Q1 式(M)
式(M)中，Q1及Q2分别独立地表示(甲基)丙烯酰氧基，R1表示具有链状结构的2价连接基。
关于式(M)中的Q1及Q2，从合成容易性方面考虑，Q1及Q2优选为相同的基团。
并且，从反应性方面考虑，式(M)中的Q1及Q2优选为丙烯酰氧基。
作为式(M)中的R1，从本发明的效果更优异的方面考虑，优选亚烷基、亚烷氧基亚烷基(-L1-O-L1-)或聚亚烷氧基亚烷基(-(L1-O)p-L1-)，更优选碳原子数2～20的烃基或聚亚烷氧基亚烷基，进一步优选碳原子数4～20的亚烷基，尤其优选碳原子数6～18的直链亚烷基。
上述烃基在至少一部分中具有链状结构即可，作为上述链状结构以外的部分，并没有特别限制，例如，可以为支链状、环状或碳原子数1～5的直链状亚烷基、亚芳基、醚键及它们的组合中的任一种，优选亚烷基或2个以上的亚烷基与1个以上的亚芳基组合而成的基团，更优选亚烷基，进一步优选直链亚烷基。
另外，上述L1分别独立地表示亚烷基，优选乙烯基、丙烯基或丁烯基，更优选乙烯基或1，2-丙烯基。p表示2以上的整数，优选为2～10的整数。
并且，从本发明的效果更优异的方面考虑，化合物M中连接Q1与Q2之间的最短连接链的原子数优选3～50个，更优选4～40个，进一步优选6～20个，尤其优选8～12个。
在本说明书中，“连接Q1与Q2之间的最短连接链的原子数”是指从与Q1连接的R1中的原子连接到与Q2连接的R1中的原子为止的最短的原子数。
作为化合物M的具体例，可举出1，3-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、四亚甲基二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、1，6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、1，7-庚二醇二(甲基)丙烯酸酯、1，8-辛二醇二(甲基)丙烯酸酯、1，9-壬二醇二(甲基)丙烯酸酯、1，10-癸二醇二(甲基)丙烯酸酯、1，4-环己二醇二(甲基)丙烯酸酯、三环癸烷二甲醇二(甲基)丙烯酸酯、氢化双酚A的二(甲基)丙烯酸酯、氢化双酚F的二(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚(乙二醇/丙二醇)二(甲基)丙烯酸酯及聚丁二醇二(甲基)丙烯酸酯。上述酯单体还能够用作混合物。
上述化合物中，从本发明的效果更优异的方面考虑，优选为选自1，6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、1，9-壬二醇二(甲基)丙烯酸酯、1，10-癸二醇二(甲基)丙烯酸酯及新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯中的至少一种化合物，更优选为选自1，6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、1，9-壬二醇二(甲基)丙烯酸酯及1，10-癸二醇二(甲基)丙烯酸酯中的至少一种化合物，进一步优选为选自1，9-壬二醇二(甲基)丙烯酸酯及1，10-癸二醇二(甲基)丙烯酸酯中的至少一种化合物。
并且，作为聚合性化合物的优选方式之一，可举出2官能以上的烯属不饱和化合物。
在本说明书中，“2官能以上的烯属不饱和化合物”是指在一个分子中具有2个以上的烯属不饱和基团的化合物。
作为烯属不饱和化合物中的烯属不饱和基团，优选(甲基)丙烯酰基。
作为烯属不饱和化合物，优选(甲基)丙烯酸酯化合物。
作为2官能烯属不饱和化合物，并没有特别限制，能够从公知的化合物中适当选择。
作为上述化合物M以外的2官能烯属不饱和化合物，可举出三环癸烷二甲醇二(甲基)丙烯酸酯。
作为2官能烯属不饱和化合物的市售品，可举出三环癸烷二甲醇二丙烯酸酯(商品名：NK ESTETR A-DCP，SHIN-NAKAMURA CHEMICAL Co.，Ltd.制)、三环癸烷二甲醇二甲基丙烯酸酯(商品名：NK ESTETR DCP，SHIN-NAKAMURA CHEMICAL Co.，Ltd.制)、1，9-壬二醇二丙烯酸酯(商品名：NK ESTETR A-NOD-N，SHIN-NAKAMURA CHEMICAL Co.，Ltd.制)、1，6-己二醇二丙烯酸酯(商品名：NK ESTETR A-HD-N，SHIN-NAKAMURA CHEMICAL Co.，Ltd.制)。
作为3官能以上的烯属不饱和化合物，并没有特别限制，能够从公知的化合物中适当选择。
作为3官能以上的烯属不饱和化合物，可举出二季戊四醇(三/四/五/六)(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇(三/四)(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、二-三羟甲基丙烷四(甲基)丙烯酸酯、异氰脲酸(甲基)丙烯酸酯及甘油三(甲基)丙烯酸酯骨架的(甲基)丙烯酸酯化合物。
在此，“(三/四/五/六)(甲基)丙烯酸酯”是包括三(甲基)丙烯酸酯、四(甲基)丙烯酸酯、五(甲基)丙烯酸酯及六(甲基)丙烯酸酯的概念，“(三/四)(甲基)丙烯酸酯”是包括三(甲基)丙烯酸酯及四(甲基)丙烯酸酯的概念。
作为聚合性化合物，还可举出(甲基)丙烯酸酯化合物的己内酯改性化合物(Nippon Kayaku Co.，Ltd.制KAYARAD(注册商标)DPCA-20、SHIN-NAKAMURA CHEMICAL Co.，Ltd.制A-9300-1CL等)、(甲基)丙烯酸酯化合物的环氧烷改性化合物(Nippon Kayaku Co.，Ltd.制KAYARAD(注册商标)RP-1040、SHIN-NAKAMURA CHEMICAL Co.，Ltd.制ATM-35E、A-9300、DAICEL-ALLNEX LTD.制EBECRYL(注册商标)135等)、乙氧基化甘油三丙烯酸酯(SHIN-NAKAMURA CHEMICAL Co.，Ltd.制NK ESTER A-GLY-9E等)。
作为聚合性化合物，还可举出氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯化合物。
作为氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯，可举出氨基甲酸酯二(甲基)丙烯酸酯，例如，可举出环氧丙烷改性氨基甲酸酯二(甲基)丙烯酸酯、以及环氧乙烷及环氧丙烷改性氨基甲酸酯二(甲基)丙烯酸酯。
并且，作为氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯，还可举出3官能以上的氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯。作为官能团数的下限，更优选6官能以上，进一步优选8官能以上。另外，作为官能团数的上限，优选20官能以下。作为3官能以上的氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯，例如可举出8UX-015A(Taisei Fine Chemical Co.，Ltd.制)、UA-32P(SHIN-NAKAMURA CHEMICAL Co.，Ltd.制)、U-15HA(SHIN-NAKAMURA CHEMICAL Co.，Ltd.制)、UA-1100H(SHIN-NAKAMURACHEMICAL Co.，Ltd.制)、KYOEISHA CHEMICAL CO.，LTD.制AH-600(商品名)、以及UA-306H、UA-306T、UA-306I、UA-510H及UX-5000(均为Nippon Kayaku Co.，Ltd.制)等。
作为聚合性化合物的优选方式之一，可举出具有酸基的烯属不饱和化合物。
作为酸基，可举出磷酸基、磺基及羧基。
这些中，作为酸基，优选羧基。
作为具有酸基的烯属不饱和化合物，可举出具有酸基的3～4官能烯属不饱和化合物〔在季戊四醇三及四丙烯酸酯(PETA)骨架中导入羧基而成(酸值：80～120mgKOH/g)〕、具有酸基的5～6官能烯属不饱和化合物〔在二季戊四醇五及六丙烯酸酯(DPHA)骨架中导入羧基而成(酸值：25～70mgKOH/g)〕等。
这些具有酸基的3官能以上的烯属不饱和化合物也可以根据需要与具有酸基的2官能烯属不饱和化合物同时使用。
作为具有酸基的烯属不饱和化合物，优选选自具有羧基的2官能以上的烯属不饱和化合物及其羧酸酐中的至少一种。
若具有酸基的烯属不饱和化合物为选自具有羧基的2官能以上的烯属不饱和化合物及其羧酸酐中的至少一种，则显影性及膜强度进一步提高。
具有羧基的2官能以上的烯属不饱和化合物并没有特别限制，能够从公知的化合物中适当选择。
作为具有羧基的2官能以上的烯属不饱和化合物，可举出ARONIX(注册商标)T0-2349(TOAGOSEI CO.，LTD.制)、ARONIX(注册商标)M-520(TOAGOSEI CO.，LTD.制)、ARONIX(注册商标)M-510(TOAGOSEI CO.，LTD.制)。
作为具有酸基的烯属不饱和化合物，优选日本特开2004-239942号公报的[0025]～[0030]段中记载的具有酸基的聚合性化合物，该公报中记载的内容编入本说明书中。
并且，作为具有酸基的烯属不饱和化合物，还能够使用具有磷酸基的烯属不饱和化合物即环氧乙烷改性二甲基丙烯酸磷酸酯(KAYAMER PM-21，Nippon Kayaku Co.，Ltd.制)等。
作为聚合性化合物，例如，还可举出使多元醇与α，β-不饱和羧酸进行反应来获得的化合物、使含有缩水甘油基的化合物与α，β-不饱和羧酸进行反应来获得的化合物、具有氨基甲酸酯键的(甲基)丙烯酸酯化合物等氨基甲酸酯单体、γ-氯-β-羟丙基-β’-(甲基)丙烯酰氧基乙基-邻苯二甲酸酯、β-羟乙基-β’-(甲基)丙烯酰氧基乙基-邻苯二甲酸酯及β-羟丙基-β’-(甲基)丙烯酰氧基乙基-邻苯二甲酸酯等邻苯二甲酸系化合物、以及(甲基)丙烯酸烷基酯。
这些可以单独使用或组合使用2种以上。
作为使多元醇与α，β-不饱和羧酸进行反应来获得的化合物，例如，可举出2，2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基聚乙氧基)苯基)丙烷、2，2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基聚丙氧基)苯基)丙烷及2，2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基聚乙氧基聚丙氧基)苯基)丙烷等双酚A系(甲基)丙烯酸酯化合物、环氧乙烷基数为2～14的聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、环氧丙烷基数为2～14的聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、环氧乙烷基数为2～14且环氧丙烷基数为2～14的聚乙二醇聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷二(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷乙氧基三(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷二乙氧基三(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三乙氧基三(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷四乙氧基三(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷五乙氧基三(甲基)丙烯酸酯、二(三羟甲基丙烷)四丙烯酸酯、四羟甲基甲烷三(甲基)丙烯酸酯、四羟甲基甲烷四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、以及二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯。
其中，优选具有四羟甲基甲烷结构或三羟甲基丙烷结构的烯属不饱和化合物，更优选四羟甲基甲烷三(甲基)丙烯酸酯、四羟甲基甲烷四(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯或二(三羟甲基丙烷)四丙烯酸酯。
作为聚合性化合物，还可举出烯属不饱和化合物的己内酯改性化合物(例如，Nippon Kayaku Co.，Ltd.制KAYARAD(注册商标)DPCA-20、SHIN-NAKAMURA CHEMICAL Co.，Ltd.制A-9300-1CL等)、烯属不饱和化合物的环氧烷改性化合物(例如，Nippon KayakuCo.，Ltd.制KAYARAD RP-1040、SHIN-NAKAMURA CHEMICAL Co.，Ltd.制ATM-35E、A-9300、DAICEL-ALLNEX LTD.制EBECRYL(注册商标)135等)、乙氧基化甘油三丙烯酸酯(SHIN-NAKAMURA CHEMICAL Co.，Ltd.制A-GLY-9E等)等。
作为聚合性化合物(尤其，烯属不饱和化合物)，其中，从转印后的感光性组合物层的显影性优异的方面考虑，还优选包含酯键。
作为包含酯键的烯属不饱和化合物，只要在分子内包含酯键，则并没有特别限制，从本发明的效果优异的方面考虑，优选具有四羟甲基甲烷结构或三羟甲基丙烷结构的烯属不饱和化合物，更优选四羟甲基甲烷三(甲基)丙烯酸酯、四羟甲基甲烷四(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯或二(三羟甲基丙烷)四丙烯酸酯。
从赋予可靠性方面考虑，作为烯属不饱和化合物，优选包含具有碳原子数6～20的脂肪族基的烯属不饱和化合物和具有上述四羟甲基甲烷结构或三羟甲基丙烷结构的烯属不饱和化合物。
作为具有碳原子数6以上的脂肪族结构的烯属不饱和化合物，可举出1，9-壬二醇二(甲基)丙烯酸酯、1，10-癸二醇二(甲基)丙烯酸酯及三环癸烷二甲醇二(甲基)丙烯酸酯。
作为聚合性化合物的优选方式之一，可举出具有脂肪族烃环结构的聚合性化合物(优选为2官能烯属不饱和化合物)。
作为上述聚合性化合物，优选具有2环以上的脂肪族烃环稠合而成的环结构(优选为选自三环癸烷结构及三环癸烯结构中的结构)的聚合性化合物，更优选具有2环以上的脂肪族烃环稠合而成的环结构的2官能烯属不饱和化合物，进一步优选三环癸烷二甲醇二(甲基)丙烯酸酯。
作为上述脂肪族烃环结构，从本发明的效果更优异的方面考虑，优选环戊烷结构、环己烷结构、三环癸烷结构、三环癸烯结构、降冰片烷结构或异佛尔酮结构。
聚合性化合物的分子量优选200～3,000，更优选250～2,600，进一步优选280～2,200，尤其优选300～2,200。
相对于感光性组合物层中包含的所有聚合性化合物的含量，感光性组合物层中包含的聚合性化合物中分子量300以下的聚合性化合物的含量的比例优选30质量％以下，更优选25质量％以下，进一步优选20质量％以下。
作为感光性组合物层的优选方式之一，感光性组合物层优选包含2官能以上的烯属不饱和化合物，更优选包含3官能以上的烯属不饱和化合物，进一步优选包含3官能或4官能烯属不饱和化合物。
并且，作为感光性组合物层的优选方式之一，感光性组合物层优选包含具有脂肪族烃环结构的2官能烯属不饱和化合物及含有具有脂肪族烃环的结构单元的粘合剂聚合物。
并且，作为感光性组合物层的优选方式之一，感光性组合物层优选包含由式(M)表示的化合物、具有脂肪族烃环结构的聚合性化合物及具有酸基的烯属不饱和化合物，更优选包含1，9-壬二醇二丙烯酸酯、三环癸烷二甲醇二丙烯酸酯及具有羧酸基的多官能烯属不饱和化合物，进一步优选包含1，9-壬二醇二丙烯酸酯、三环癸烷二甲醇二丙烯酸酯及二季戊四醇五丙烯酸酯的琥珀酸改性体。
并且，作为感光性组合物层的优选方式之一，感光性组合物层优选包含由式(M)表示的化合物、具有酸基的烯属不饱和化合物及后述热交联性化合物，更优选包含由式(M)表示的化合物、具有酸基的烯属不饱和化合物及后述封端异氰酸酯化合物。
并且，作为感光性组合物层的优选方式之一，感光性组合物层优选包含具有脂肪族烃环结构的聚合性化合物、具有酸基的烯属不饱和化合物及后述热交联性化合物，更优选包含具有脂肪族烃环结构的聚合性化合物、具有酸基的烯属不饱和化合物及后述封端异氰酸酯化合物。
并且，作为感光性组合物层的优选方式之一，感光性组合物层优选包含2官能烯属不饱和化合物(优选为2官能(甲基)丙烯酸酯化合物)和3官能以上的烯属不饱和化合物(优选为3官能以上的(甲基)丙烯酸酯化合物)。
并且，作为感光性组合物层的优选方式之一，从防锈性方面考虑，感光性组合物层优选包含由式(M)表示的化合物及具有脂肪族烃环结构的2官能烯属不饱和化合物。
并且，作为感光性组合物层的优选方式之一，从基板密合性、显影残渣抑制性及防锈性方面考虑，感光性组合物层优选包含由式(M)表示的化合物及具有酸基的烯属不饱和化合物，更优选包含由式(M)表示的化合物、具有脂肪族烃环结构的2官能烯属不饱和化合物及具有酸基的烯属不饱和化合物，进一步优选包含由式(M)表示的化合物、具有脂肪族烃环结构的2官能烯属不饱和化合物、3官能以上的烯属不饱和化合物及具有酸基的烯属不饱和化合物。并且，上述感光性组合物层还优选除了这些以外还包含氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯化合物。
并且，作为感光性组合物层的优选方式之一，从基板密合性、显影残渣抑制性及防锈性方面考虑，感光性组合物层优选包含1，9-壬二醇二丙烯酸酯及具有羧酸基的多官能烯属不饱和化合物，优选包含1，9-壬二醇二丙烯酸酯、三环癸烷二甲醇二丙烯酸酯及具有羧酸基的多官能烯属不饱和化合物，进一步优选包含1，9-壬二醇二丙烯酸酯、三环癸烷二甲醇二丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯及具有羧酸基的烯属不饱和化合物。并且，上述感光性组合物层还优选除了这些以外还包含氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯化合物。
感光性组合物层可以包含单官能烯属不饱和化合物作为烯属不饱和化合物。
上述烯属不饱和化合物中的2官能以上的烯属不饱和化合物的含量相对于感光性组合物层中包含的所有烯属不饱和化合物的总含量，优选60～100质量％，更优选80～100质量％，进一步优选90～100质量％。
聚合性化合物(尤其，烯属不饱和化合物)可以单独使用1种，也可以同时使用2种以上。
作为感光性组合物层中的聚合性化合物(尤其烯属不饱和化合物)的含量的下限值，相对于感光性组合物层的总质量，优选1质量％以上，更优选5质量％以上，进一步优选10质量％以上，尤其优选15质量％以上。并且，作为上限值，优选70质量％以下，更优选60质量％以下，进一步优选50质量％以下。
<聚合引发剂>
感光性组合物层可以包含聚合引发剂。
作为聚合引发剂，优选光聚合引发剂。
作为光聚合引发剂，并没有特别限制，能够使用公知的光聚合引发剂。
作为光聚合引发剂，可举出具有肟酯结构的光聚合引发剂(以下，还称为“肟系光聚合引发剂”。)、具有α-氨基烷基苯酮结构的光聚合引发剂(以下，还称为“α-氨基烷基苯酮系光聚合引发剂”。)、具有α-羟烷基苯酮结构的光聚合引发剂(以下，还称为“α-羟烷基苯酮系聚合引发剂”。)、具有酰基氧化膦结构的光聚合引发剂(以下，还称为“酰基氧化膦系光聚合引发剂”。)及具有N-苯基甘氨酸结构的光聚合引发剂(以下，还称为“N-苯基甘氨酸系光聚合引发剂”。)等。
光聚合引发剂优选包含选自肟系光聚合引发剂、α-氨基烷基苯酮系光聚合引发剂、α-羟烷基苯酮系聚合引发剂及N-苯基甘氨酸系光聚合引发剂中的至少一种，更优选包含选自肟系光聚合引发剂、α-氨基烷基苯酮系光聚合引发剂及N-苯基甘氨酸系光聚合引发剂中的至少一种。
并且，作为光聚合引发剂，例如也可以使用日本特开2011-095716号公报的[0031]～[0042]段及日本特开2015-014783号公报的[0064]～[0081]段中记载的聚合引发剂。
作为光聚合引发剂的市售品，可举出1-[4-(苯硫基)苯基]-1，2-辛二酮-2-(0-苯甲酰肟)〔商品名：IRGACURE(注册商标)OXE-01，BASF公司制〕、1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲酰基)-9H-咔唑-3-基]乙酮-1-(O-乙酰肟)〔商品名：IRGACURE(注册商标)OXE-02，BASF公司制〕、IRGACURE(注册商标)OXE03(BASF公司制)、IRGACURE(注册商标)OXE04(BASF公司制)、2-(二甲基氨基)-2-[(4-甲基苯基)甲基]-1-[4-(4-吗啉基)苯基]-1-丁酮〔商品名：Omnirad(注册商标)379EG，IGM Resins B.V.制〕、2-甲基-1-(4-甲硫基苯基)-2-吗啉基丙-1-酮〔商品名：Omnirad(注册商标)907，IGM Resins B.V.制〕、2-羟基-1-{4-[4-(2-羟基-2-甲基丙酰基)苄基]苯基}-2-甲基丙-1-酮〔商品名：Omnirad(注册商标)127、IGM ResinsB.V.制〕、2-苄基-2-二甲基氨基-1-(4-吗啉基苯基)丁酮-1〔商品名：Omnirad(注册商标)369，IGM Resins B.V.制〕、2-羟基-2-甲基-1-苯基丙-1-酮〔商品名：Omnirad(注册商标)1173，IGM Resins B.V.制〕、1-羟基环己基苯基酮〔商品名：Omnirad(注册商标)184，IGMResins B.V.制〕、2，2-二甲氧基-1，2-二苯基乙-1-酮〔商品名：Omnirad(注册商标)651，TGMResins B.V.制〕等、肟酯系光聚合引发剂〔商品名：Lunar(注册商标)6，DKSHJapan K.K.制〕、1-[4-(苯硫基)苯基]-3-环戊基丙-1，2-二酮-2-(O-苯甲酰肟)(商品名：TR-PBG-305，Changzhou Tronly New Electronic Materials Co.，LTD.制)、1，2-丙二酮，3-环己基-1-[9-乙基-6-(2-呋喃羰基)-9H-咔唑-3-基]-，2-(O-乙酰肟)(商品名：TR-PBG-326，Changzhou Tronly New Flectronic Materials Co.，LTD.制)、3-环己基-1-(6-(2-(苯甲酰氧基亚氨基)己酰基)-9-乙基-9H-咔唑-3-基)-丙-1，2-二酮-2-(O-苯甲酰肟)(商品名：TR-PBG-391，Changzhou Tronly New Electronic Materials Co.，LTD.制)、APi-307(1-(联苯-4-基)-2-甲基-2-吗啉基丙-1-酮，Shenzhen UV-ChemTech Ltd.制)等。
光聚合引发剂可以单独使用1种，也可以同时使用2种以上。
感光性组合物层包含光聚合引发剂时，光聚合引发剂的含量相对于感光性组合物层的总质量，优选为0.1质量％以上，更优选为0.5质量％以上，进一步优选为1.0质量％以上。并且，作为其上限值，相对于感光性组合物层的总质量，优选为10质量％以下，更优选为8质量％以下，进一步优选为5质量％以下。
<杂环化合物>
感光性组合物层可以包含杂环化合物。
杂环化合物所具有的杂环可以为单环及多环中的任一杂环。
作为杂环化合物所具有的杂原子，可举出氮原子、氧原子及硫原子。杂环化合物优选具有选自氮原子、氧原子及硫原子中的至少一种原子，更优选具有氮原子。
作为杂环化合物，例如可举出三唑化合物、苯并三唑化合物、四唑化合物、噻二唑化合物、三嗪化合物、绕丹宁化合物、噻唑化合物、苯并噻唑化合物、苯并咪唑化合物、苯并噁唑化合物及嘧啶化合物。
上述中，作为杂环化合物，优选选自三唑化合物、苯并三唑化合物、四唑化合物、噻二唑化合物、三嗪化合物、罗丹宁化合物、噻唑化合物、苯并咪唑化合物及苯并噁唑化合物中的至少一种化合物，更优选选自三唑化合物、苯并三唑化合物、四唑化合物、噻二唑化合物、噻唑化合物、苯并噻唑化合物、苯并咪唑化合物及苯并噁唑化合物中的至少一种化合物。
以下示出杂环化合物的优选具体例。作为三唑化合物及苯并三唑化合物，能够例示以下化合物。
[化学式11]
Figure BDA0004090576800000341
[化学式12]
Figure BDA0004090576800000342
作为四唑化合物，能够例示以下化合物。
[化学式13]
Figure BDA0004090576800000351
[化学式14]
Figure BDA0004090576800000352
作为噻二唑化合物，能够例示以下化合物。
[化学式15]
Figure BDA0004090576800000353
作为三嗪化合物，能够例示以下化合物。
[化学式16]
Figure BDA0004090576800000354
作为绕丹宁化合物，能够例示以下化合物。
[化学式17]
Figure BDA0004090576800000361
作为噻唑化合物，能够例示以下化合物。
[化学式18]
Figure BDA0004090576800000362
作为苯并噻唑化合物，能够例示以下化合物。
[化学式19]
Figure BDA0004090576800000363
作为苯并咪唑化合物，能够例示以下化合物。
[化学式20]
Figure BDA0004090576800000364
[化学式21]
Figure BDA0004090576800000371
作为苯并噁唑化合物，能够例示以下化合物。
[化学式22]
Figure BDA0004090576800000372
杂环化合物可以单独使用1种，也可以同时使用2种以上。
感光性组合物层包含杂环化合物时，杂环化合物的含量相对于感光性组合物层的总质量，优选0.01～20.0质量％，更优选0.10～10.0质量％，进一步优选0.30～8.0质量％，尤其优选0.50～5.0质量％。
<脂肪族硫醇化合物>
感光性组合物层可以包含脂肪族硫醇化合物。
通过感光性组合物层包含脂肪族硫醇化合物，抑制通过脂肪族硫醇化合物与具有烯属不饱和基团的自由基聚合性化合物进行烯-硫醇反应来形成的膜的固化收缩，应力被松弛。
作为脂肪族硫醇化合物，优选单官能脂肪族硫醇化合物或多官能脂肪族硫醇化合物(即，2官能以上的脂肪族硫醇化合物)。
上述中，作为脂肪族硫醇化合物，从所形成的图案的密合性(尤其，曝光后的密合性)方面考虑，优选多官能脂肪族硫醇化合物。
在本说明书中，“多官能脂肪族硫醇化合物”是指在分子内具有2个以上的硫醇基(还称为“巯基”。)的脂肪族化合物。
作为多官能脂肪族硫醇化合物，优选分子量为100以上的低分子化合物。具体而言，多官能脂肪族硫醇化合物的分子量更优选100～1,500，进一步优选150～1,000。
作为多官能脂肪族硫醇化合物的官能团数，例如，从所形成的图案的密合性方面考虑，优选2～10官能，更优选2～8官能，进一步优选2～6官能。
作为多官能脂肪族硫醇化合物，例如可举出三羟甲基丙烷三(3-巯基丁酸酯)、1，4-双(3-巯基丁酰氧基)丁烷、季戊四醇四(3-巯基丁酸酯)、1，3，5-三(3-巯基丁酰氧基乙基)-1，3，5-三嗪-2，4，6(1H，3H，5H)-三酮、三羟甲基乙烷三(3-巯基丁酸酯)、三[(3-巯基丙酰氧基)乙基]异氰脲酸酯、三羟甲基丙烷三(3-巯基丙酸酯)、季戊四醇四(3-巯基丙酸酯)、四乙二醇双(3-巯基丙酸酯)、二季戊四醇六(3-巯基丙酸酯)、乙二醇双硫基丙酸酯、1，4-双(3-巯基丁酰氧基)丁烷、1，2-乙二硫醇、1，3-丙烷二硫醇、1，6-六亚甲基二硫醇、2，2’-(乙烯二硫基)二乙硫醇、内消旋-2，3-二巯基丁二酸及二(巯基乙基)醚。
上述中，作为多官能脂肪族硫醇化合物，优选选自三羟甲基丙烷三(3-巯基丁酸酯)、1，4-双(3-巯基丁酰氧基)丁烷及1，3，5-三(3-巯基丁酰氧基乙基)-1，3，5-三嗪-2，4，6(1H，3H，5H)-三酮中的至少一种化合物。
作为单官能脂肪族硫醇化合物，例如可举出1-辛硫醇、1-十二烷硫醇、β-巯基丙酸、甲基-3-巯基丙酸酯、2-乙基己基-3-巯基丙酸酯、正辛基-3-巯基丙酸酯、甲氧基丁基-3-巯基丙酸酯及硬脂基-3-巯基丙酸酯。
感光性组合物层可以包含单独1种脂肪族硫醇化合物，也可以包含2种以上的脂肪族硫醇化合物。
感光性组合物层包含脂肪族硫醇化合物时，脂肪族硫醇化合物的含量相对于感光性组合物层的总质量，优选5质量％以上，更优选5～50质量％，进一步优选5～30质量％，尤其优选8～20质量％。
<热交联性化合物>
从所获得的固化膜的强度及所获得的未固化膜的粘合性方面考虑，感光性组合物层优选包含热交联性化合物。另外，在本说明书中，将后述具有烯属不饱和基团的热交联性化合物视为热交联性化合物，而不视为烯属不饱和化合物。
作为热交联性化合物，可举出环氧化合物、氧杂环丁烷化合物、羟甲基化合物及封端异氰酸酯化合物。其中，从所获得的固化膜的强度及所获得的未固化膜的粘合性方面考虑，优选封端异氰酸酯化合物。
由于封端异氰酸酯化合物与羟基及羧基进行反应，因此例如在粘合剂聚合物及具有烯属不饱和基团的自由基聚合性化合物中的至少一个具有羟基及羧基中的至少一个时，存在所形成的膜的亲水性降低且作为保护膜的功能增强的倾向。
另外，封端异氰酸酯化合物是指“具有利用封端剂保护(所谓的掩蔽)异氰酸酯的异氰酸酯基的结构的化合物”。
封端异氰酸酯化合物的解离温度并没有特别限制，优选100～160℃，更优选130～150℃。
封端异氰酸酯的解离温度是指“利用差示扫描量热计，通过DSC(Differentialscanning calorimetry，差示扫描量热法)分析测定时伴随封端异氰酸酯的脱保护反应的吸热峰的温度”。
作为差示扫描量热计，例如能够优选使用Seiko Instruments Inc.制差示扫描量热计(型号：DSC6200)。但是，差示扫描量热计并不限定于此。
作为解离温度为100～160℃的封端剂，可举出活性亚甲基化合物〔丙二酸二酯(丙二酸二甲酯、丙二酸二乙酯、丙二酸二正丁酯、丙二酸二2-乙基己酯等)〕、肟化合物(甲醛肟、乙醛肟、丙酮肟、甲基乙基酮肟及环己酮肟等在分子内具有由-C(＝N-OH)-表示的结构的化合物)。
这些中，作为解离温度为100～160℃的封端剂，例如，从保存稳定性方面考虑，优选选自肟化合物中的至少一种。
例如，从改善膜的脆性、提高与被转印体的密合力等方面考虑，封端异氰酸酯化合物优选具有异氰脲酸酯结构。
具有异氰脲酸酯结构的封端异氰酸酯化合物例如通过对六亚甲基二异氰酸酯进行异氰脲酸酯化来保护而得。
在具有异氰脲酸酯结构的封端异氰酸酯化合物中，从以下方面考虑优选将肟化合物用作封端剂的具有肟结构的化合物：相较于不具有肟结构的化合物，更容易将解离温度设定在优选范围内且容易减少显影残渣。
封端异氰酸酯化合物可以具有聚合性基团。
作为聚合性基团，并没有特别限制，能够使用公知的聚合性基团，优选自由基聚合性基团。
作为聚合性基团，可举出(甲基)丙烯酰氧基、(甲基)丙烯酰胺基及苯乙烯基等烯属不饱和基团、以及缩水甘油基等具有环氧基的基团等。
其中，作为聚合性基团，优选烯属不饱和基团，更优选(甲基)丙烯酰氧基，进一步优选丙烯酰氧基。
作为封端异氰酸酯化合物，能够使用市售品。
作为封端异氰酸酯化合物的市售品的例子，可举出Karenz(注册商标)AOI-BM、Karenz(注册商标)MOI-BM、Karenz(注册商标)MOI-BP等(以上为SHOWA DENKO K.K制)、封端型Duranate系列(例如，Duranate(注册商标)TPA-B80E、Duranate(注册商标)WT32-B75P等，Asahi Kasei Corporation制)。
热交联性化合物可以单独使用1种，也可以同时使用2种以上。
感光性组合物层包含热交联性化合物时，热交联性化合物的含量相对于感光性组合物层的总质量，优选1～50质量％，更优选5～30质量％。
<表面活性剂>
感光性组合物层可以包含表面活性剂。
作为表面活性剂，例如，可举出日本专利第4502784号公报的[0017]段及日本特开2009-237362号公报的[0060]～[0071]段中记载的表面活性剂。
作为表面活性剂，优选氟系表面活性剂或硅酮系表面活性剂。
作为氟系表面活性剂的市售品，例如可举出MEGAFACE F-171、F-172、F-173、F-176、F-177、F-141、F-142、F-143、F-144、F-437、F-475、F-477、F-479、F-482、F-551-A、F-552、F-554、F-555-A、F-556、F-557、F-558、F-559、F-560、F-561、F-565、F-563、F-568、F-575、F-780、EXP、MFS-330、EXP.MFS-578、EXP.MFS-578-2、EXP.MFS-579、EXP.MFS-586、EXP.MFS-587、EXP.MFS-628、EXP.MFS-631、EXP.MFS-603、R-41、R-41-LM、R-01、R-40、R-40-LM、RS-43、TF-1956、RS-90、R-94、RS-72-K、DS-21(以上为DIC Corporation制)、FluoradFC430、FC431、FC171(以上为Sumitomo 3M Limited制)、Surflon S-382、SC-101、SC-103、SC-104、SC-105、SC-1068、SC-381、SC-383、S-393、KH-40(以上为AGC Inc.制)、PolyFoxPF636、PF656、PF6320、PF6520、PF7002(以上为OMNOVA Solutions Inc.制)、Ftergent710FM、610FM、601AD、601ADH2、602A、215M、245F、251、212M、250、209F、222F、208G、710LA、710FS、730LM、650AC、681(以上为Neos Corporation制)、U-120E(Uni-chem Co.，Ltd)等。
并且，作为氟系表面活性剂，还能够优选使用如下丙烯酸系化合物：具有含有官能团的分子结构(该官能团含有氟原子)且加热时含有氟原子的官能团的一部分断裂而氟原子挥发。作为此类氟系表面活性剂，可举出DIC Corporation制MEGAFACE DS系列(TheChemical Daily Co.，Ltd.(2016年2月22日)、NIKKEI BUSINESS DAILY(2016年2月23日))，例如为MEGAFACE DS-21。
并且，作为氟系表面活性剂，还优选使用具有氟化烷基或氟化亚烷基醚基的含氟原子乙烯基醚化合物与亲水性乙烯基醚化合物的聚合物。
并且，作为氟系表面活性剂，还能够使用嵌段聚合物。
并且，作为氟系表面活性剂，还能够优选使用包含源自具有氟原子的(甲基)丙烯酸酯化合物的结构单元、及源自具有2个以上(优选为5个以上)亚烷氧基(优选为乙烯氧基、丙烯氧基)的(甲基)丙烯酸酯化合物的结构单元的含氟高分子化合物。
并且，作为氟系表面活性剂，还能够使用在侧链具有含烯属不饱和键基团的含氟聚合物。可举出MEGAFACE RS-101、RS-102、RS-718K、RS-72-K(以上为DIC Corporation制)等。
作为氟系表面活性剂，从提高环境适性的观点考虑，优选源自全氟辛烷酸(PFOA)及全氟辛烷磺酸(PFOS)等具有碳原子数7以上的直链状全氟烷基的化合物的替代材料的表面活性剂。
作为烃表面活性剂，可举出甘油、三羟甲基丙烷、三羟甲基乙烷以及它们的乙氧基化物及丙氧基化物(例如，丙氧基甘油、乙氧基甘油等)、聚氧乙烯月桂基醚、聚氧乙烯硬脂基醚、聚氧乙烯油基醚、聚氧乙烯辛基苯基醚、聚氧乙烯壬基苯基醚、聚乙二醇二月桂酸酯、聚乙二醇二硬脂酸酯、脱水山梨糖醇脂肪酸酯、PLURONIC L10、L31、L61、L62、10R5、17R2、25R2(以上为BASF公司制)、TETRONIC 304、701、704、901、904、150R1(以上为BASF公司制)、SOLSPERSE 20000(以上为The Lubrizol Corporation制)、NCW-101、NCW-1001、NCW-1002(以上为FUJIFILM Wako Pure Chemical Corporation制)、PIONIN D-6112、D-6112-W、D-6315(以上为TAKEMOTO OIL&FAT Co.，Ltd.制)、OLFINE E1010、Surfynol 104、400、440(以上为Nissin Chemical Industry Co.，Ltd.制)等。
作为硅酮系表面活性剂，可举出由硅氧烷键构成的直链状聚合物及在侧链或末端导入有机基团的改性硅氧烷聚合物。
作为硅酮系表面活性剂的具体例，可举出EXP.S-309-2、EXP.S-315、EXP.S-503-2、EXP.S-505-2(以上为DIC Corporation制)、DOWSIL 8032 ADDITIVE、TORAY SILICONEDC3PA、TORAY SILICONE SHTPA、TORAY SILICONE DC11PA、TORAY SILICONE SH21PA、TORAYSILICONE SH28PA、TORAY SILICONE SH29PA、TORAY SILICONE SH30PA、TORAY SILICONESH8400(以上为Dow Corning Toray Co.，Ltd.制)以及X-22-4952、X-22-4272、X-22-6266、KF-351A、K354L、KF-355A、KF-945、KF-640、KF-642、KF-643、X-22-6191、X-22-4515、KF-6004、KP-341、KF-6001、KF-6002、KP-101KP-103、KP-104、KP-105、KP-106、KP-109、KP-109、KP-112、KP-120、KP-121、KP-124、KP-125、KP-301、KP-306、KP-310、KP-322、KP-323、KP-327、KP-341、KP-368、KP-369、KP-611、KP-620、KP-621、KP-626、及KP-652(以上为Shin-EtsuSilicone Co.，Ltd.制)、F-4440、TSF-4300、TSF-4445、TSF-4460、TSF-4452(以上为Momentive performance Materials Inc.制)、BYK307、BYK323、BYK330、BYK313、BYK315N、BYK331、BYK333、BYK345、BYK347、BYK348、BYK349、BYK370、BYK377、BYK378、及BYK323(以上为BYK-Chemie GmbH制)等。
表面活性剂可以单独使用1种，也可以同时使用2种以上。
感光性组合物层包含表面活性剂时，表面活性剂的含量相对于感光性组合物层的总质量，优选0.01～3.0质量％，更优选0.01～1.0质量％，进一步优选0.05～0.80质量％。
<聚合抑制剂>
感光性组合物层可以包含聚合抑制剂。
聚合抑制剂是指具有延迟或抑制聚合反应的功能的化合物。作为聚合抑制剂，例如，能够使用用作聚合抑制剂的公知的化合物。
作为聚合抑制剂，例如，可举出吩噻嗪、双-(1-二甲基苄基)吩噻嗪及3，7-二辛基吩噻嗪等吩噻嗪化合物；双[3-(3-叔丁基-4-羟基-5-甲基苯基)丙酸][乙烯基双(氧乙烯基)]2，4-双〔(月桂基硫基)甲基〕-邻甲酚、1，3，5-三(3，5-二-叔丁基-4-羟基苄基)、1，3，5-三(4-叔丁基-3-羟基-2，6-二甲基苄基)、2，4-双-(正辛基硫基)一6-(4一羟基-3，5一二-叔丁基苯胺基)-1，3，5-三嗪及季戊四醇四3-(3，5-二-叔丁基-4-羟基苯基)丙酸酯等受阻酚化合物；4-亚硝基苯酚、N-亚硝基二苯胺、N-亚硝基环己基羟基胺及N-亚硝基苯基羟基胺等亚硝基化合物或其盐；甲基氢醌、叔丁基氢醌、2，5-二-叔丁基氢醌及4-苯醌等醌化合物；4-甲氧基苯酚、4-甲氧基-1-萘酚及叔丁基邻苯二酚等酚化合物；二丁基二硫基氨基甲酸铜、二乙基二硫基氨基甲酸铜、二乙基二硫基氨基甲酸锰及二苯基二硫基氨基甲酸锰等金属盐化合物。
其中，从本发明的效果更优异的方面考虑，作为聚合抑制剂，优选选自吩噻嗪化合物、亚硝基化合物或其盐及受阻酚化合物中的至少一种，更优选吩噻嗪、双[3-(3-叔丁基-4-羟基-5-甲基苯基)丙酸][乙烯基双(氧乙烯基)]2，4-双〔(月桂基硫基)甲基〕-邻甲酚、1，3，5-三(3，5-二-叔丁基-4-羟基苄基)及N-亚硝基苯基羟基胺铝盐。
聚合抑制剂可以单独使用1种，也可以同时使用2种以上。
感光性组合物层包含聚合抑制剂时，聚合抑制剂的含量相对于感光性组合物层的总质量，优选0.01～10.0质量％，更优选0.01～5.0质量％，进一步优选0.04～3.0质量％。
<供氢化合物>
感光性组合物层可以包含供氢化合物。
供氢化合物具有进一步提高光聚合引发剂对活性光线的灵敏度及抑制氧气对聚合性化合物的聚合阻碍等作用。
作为供氢化合物，例如，可举出胺类及氨基酸化合物。
作为胺类，例如，可举出M.R.Sander等著“Journal of Polymer Society”第10卷3173页(1972)、日本特公昭44-020189号公报、日本特开昭51-082102号公报、日本特开昭52-134692号公报、日本特开昭59-138205号公报、日本特开昭60-084305号公报、日本特开昭62-018537号公报、日本特开昭64-033104号公报及Research Disclosure 33825号等中记载的化合物。更具体而言，可举出4，4’-双(二乙基氨基)二苯甲酮、三(4-二甲基氨基苯基)甲烷(别称：无色结晶紫)、三乙醇胺、对二甲基氨基苯甲酸乙酯、对甲酰基二甲基苯胺及对甲硫基二甲基苯胺。
其中，从本发明的效果更优异的方面考虑，作为胺类，优选选自4，4’-双(二乙基氨基)二苯甲酮及三(4-二甲基氨基苯基)甲烷中的至少一种。
作为氨基酸化合物，例如，可举出N-苯基甘氨酸、N-甲基-N-苯基甘氨酸、N-乙基-N-苯基甘氨酸。
其中，从本发明的效果更优异的方面考虑，作为氨基酸化合物，优选N-苯基甘氨酸。
并且，作为供氢化合物，例如还可举出日本特公昭48-042965号公报中记载的有机金属化合物(乙酸三丁基锡等)、日本特公昭55-034414号公报中记载的供氢体及日本特开平6-308727号公报中记载的硫化合物(三噻烷等)。
供氢化合物可以单独使用1种，也可以同时使用2种以上。
感光性组合物层包含供氢化合物时，从通过聚合生长速度与链转移之间的均衡来提高固化速度的方面考虑，供氢化合物的含量相对于感光性组合物层的总质量，优选0.01～10.0质量％，更优选0.01～8.0质量％，进一步优选0.03～5.0质量％。
<杂质等>
感光性组合物层可以包含规定量的杂质。
作为杂质的具体例，可举出钠、钾、镁、钙、铁、锰、铜、铝、钛、铬、钴、镍、锌、锡、卤素及它们的离子。其中，由于卤化物离子、钠离子及钾离子容易作为杂质混入，因此优选设定为下述含量。
以质量基准计，感光性组合物层中的杂质的含量优选为80ppm以下，更优选为10ppm以下，进一步优选为2ppm以下。以质量基准计，感光性组合物层中的杂质的含量能够设为1ppb以上或0.1ppm以上。
作为将杂质设为上述范围的方法，可举出选择杂质的含量少的原料作为感光性组合物层的原料的方法；在形成感光性组合物层时防止杂质混入的方法；及清洗去除的方法。通过这种方法，能够使杂质量在上述范围内。
例如，杂质能够通过CP(Inductively Coupled Plasma：电感耦合等离子体)发射光谱法、原子吸收光谱法及离子色谱法等公知的方法定量。
感光性组合物层中的苯、甲醛、三氯乙烯、1，3-丁二烯、四氯化碳、氯仿、N，N-二甲基甲酰胺、N，N-二甲基乙酰胺及己烷等化合物的含量优选少。作为这些化合物在感光性组合物层中的含量，以质量基准计，优选100ppm以下，更优选20ppm以下，进一步优选4ppm以下。下限以质量基准计，能够设为10ppb以上，也能够设为100ppb以上。这些化合物能够通过与上述金属的杂质相同的方法来抑制含量。并且，能够通过公知的测定法来定量。
从提高可靠性及层压性方面考虑，感光性组合物层中的水的含量优选0.01～1.0质量％，更优选0.05～0.5质量％。
<残留单体>
感光性组合物层有时会包含上述碱溶性树脂的各结构单元的残留单体。
从图案形成性及可靠性方面考虑，残留单体的含量相对于碱溶性树脂总质量，优选5,000质量ppm以下，更优选2,000质量ppm以下，进一步优选500质量ppm以下。下限并没有特别限制，优选1质量ppm以上，更优选10质量ppm以上。
从图案形成性及可靠性方面考虑，碱溶性树脂的各结构单元的残留单体相对于感光性组合物层的总质量，优选3,000质量ppm以下，更优选600质量ppm以下，进一步优选100质量ppm以下。下限并没有特别限制，优选0.1质量ppm以上，更优选1质量ppm以上。
通过高分子反应合成碱溶性树脂时的单体的残留单体量也优选在上述范围内。例如，使丙烯酸缩水甘油酯与羧酸侧链进行反应来合成碱溶性树脂时，丙烯酸缩水甘油酯的含量优选在上述范围内。
残留单体的量能够通过液相色谱法及气相色谱法等公知的方法测定。
<其他成分>
感光性组合物层可以包含上述成分以外的成分(以下，还称为“其他成分”。)。作为其他成分，例如，可举出着色剂、抗氧化剂及粒子(例如，金属氧化物粒子)。并且，作为其他成分，还可举出日本特开2000-310706号公报的[0058]～[0071]段中记载的其他添加剂。
-粒子-
作为粒子，优选金属氧化物粒子。
金属氧化物粒子中的金属还包括B、Si、Ge、As、Sb及Te等半金属。
例如，从固化膜的透明性方面考虑，粒子的平均一次粒径优选1～200nm，更优选3～80nm。
粒子的平均一次粒径为通过使用电子显微镜测定任意200个粒子的粒径，并将测定结果进行算术平均来计算。另外，在粒子的形状不是球形时，将最长边作为粒径。
在感光性组合物层包含粒子时，可以仅含有1种金属种类及大小等不同的粒子，也可以含有2种以上。
感光性组合物层不包含粒子，或者在感光性组合物层包含粒子时，优选粒子的含量相对于感光性组合物层的总质量超过0质量％且35质量％以下；更优选不包含粒子，或者粒子的含量相对于感光性组合物总质量超过0质量％且10质量％以下；进一步优选不包含粒子，或者粒子的含量相对于感光性组合物层的总质量超过0质量％且5质量％以下；进一步优选不包含粒子，或者粒子的含量相对于感光性组合物层的总质量超过0质量％且1质量％以下；尤其优选不包含粒子。
-着色剂-
感光性组合物层可以包含微量的着色剂(颜料、染料等)，但例如从透明性方面考虑，优选实质上不包含着色剂。
感光性组合物层含有着色剂时，着色剂的含量相对于感光性组合物层的总质量，优选小于1质量％，更优选小于0.1质量％。
-抗氧化剂-
作为抗氧化剂，例如，可举出1-苯基-3-吡唑酮(别称：菲尼酮)、1-苯基-4，4-二甲基-3-吡唑酮及1-苯基-4-甲基-4-羟甲基-3-吡唑酮等3-吡唑酮类；氢醌、邻苯二酚、邻苯三酚、甲基氢醌及氯氢醌等聚羟基苯类；对甲基氨基苯酚、对氨基苯酚、对羟基苯基甘氨酸及对苯二胺。
其中，从本发明的效果更优异的方面考虑，作为抗氧化剂，优选3-吡唑酮类，更优选1-苯基-3-吡唑酮。
感光性组合物层包含抗氧化剂时，抗氧化剂的含量相对于感光性组合物层的总质量，优选0.001质量％以上，更优选0.005质量％以上，进一步优选0.01质量％以上。上限并没有特别限制，优选1质量％以下。
<感光性组合物层的厚度>
感光性组合物层的厚度并没有特别限制，30μm以下的情况较多，从本发明的效果更优异的方面考虑，优选20μm以下，更优选15μm以下，进一步优选10μm以下，尤其优选5.0μm以下。作为下限，从固化感光性组合物层来获得的膜强度优异的方面考虑，优选0.60μm以上，更优选1.5μm以上。
例如，感光性组合物层的厚度能够作为通过基于扫描式电子显微镜(SEM)的剖面观察测定的任意5处的平均值来计算。
<感光性组合物层的折射率>
感光性组合物层的折射率优选1.47～1.56，更优选1.49～1.54。
<感光性组合物层的颜色>
感光性组合物层优选为无彩色。具体而言，全反射(入射角8°，光源：D-65(2°视野))在CIE1976(L*，a*，b*)颜色空间中，L*值优选为10～90，a*值优选为-1.0～1.0，b*值优选为-1.0～1.0。
另外，固化感光性组合物层来获得的图案(感光性组合物层的固化膜)优选为无彩色。
具体而言，全反射(入射角8°，光源：D-65(2°视野))在CIE1976(L*，a*，b*)颜色空间中，图案的L*值优选为10～90，图案的a*值优选为-1.0～1.0，图案的b*值优选为-1.0～1.0。
在第1实施方式的转印膜中，感光性组合物层的tanδ有可能对组合物层整体的tanδ的影响很大。
满足式(1A)～式(3A)的要件的组合物层通过适当选择上述感光性组合物层的构成成分的种类且适当调整其制造顺序而容易形成。
《保护膜》
转印膜可以具有保护膜。
作为保护膜，能够使用具有耐热性及耐溶剂性的树脂膜，例如，可举出聚丙烯膜及聚乙烯膜等聚烯烃膜、聚对苯二甲酸乙二醇酯膜等聚酯膜、聚碳酸酯膜以及聚苯乙烯膜。
并且，作为保护膜，可以使用由与上述临时支承体相同的材料构成的树脂膜。
其中，作为保护膜，优选聚烯烃膜，更优选聚丙烯膜或聚乙烯膜，进一步优选聚乙烯膜。
保护膜的厚度优选1～100μm，更优选5～50μm，进一步优选5～40μm，尤其优选15～30μm。
从机械强度优异的方面考虑，保护膜的厚度优选1μm以上，从相对廉价的方面考虑，优选100μm以下。
并且，在保护膜中，保护膜中包含的直径80μm以上的鱼眼数优选为5个/m2以下。
另外，“鱼眼”是指对材料进行热熔融，并通过混炼、挤压、双轴拉伸及流延法等方法制膜时，材料的异物、未溶解物及氧化劣化物等被带入膜中而成的缺陷。
保护膜中包含的直径3μm以上的粒子数优选30个/mm2以下，更优选10个/mm2以下，进一步优选5个/mm2以下。
由此，能够抑制因保护膜中包含的粒子所导致的凹凸被转印到感光性组合物层或导电层上而产生的缺陷。
从赋予卷取性方面考虑，保护膜的与接触组合物层的面相反的一侧的表面的算术平均粗糙度Ra优选0.01μm以上，更优选0.02μm以上，进一步优选0.03μm以上。另一方面，优选小于0.50μm，更优选0.40μm以下，进一步优选0.30μm以下。
从转印时的缺陷抑制方面考虑，保护膜的与组合物层接触的面的表面粗糙度Ra优选0.01μm以上，更优选0.02μm以上，进一步优选0.03μm以上。另一方面，优选小于0.50μm，更优选0.40μm以下，进一步优选0.30μm以下。
《折射率调整层》
转印膜优选具有折射率调整层。
作为折射率调整层，能够适用公知的折射率调整层。作为折射率调整层中包含的材料，例如，可举出粘合剂聚合物、聚合性化合物、金属盐及粒子。
控制折射率调整层的折射率的方法并没有特别限制，例如，可举出单独使用规定折射率的树脂的方法、使用树脂和粒子的方法及使用金属盐与树脂的复合物的方法。
作为粘合剂聚合物及聚合性化合物，例如，可举出在上述“感光性组合物层”一项中说明的粘合剂聚合物及聚合性化合物。
作为粒子，例如，可举出金属氧化物粒子及金属粒子。
金属氧化物粒子的种类并没有特别限制，可举出公知的金属氧化物粒子。金属氧化物粒子中的金属还包括B、Si、Ge、As、Sb及Te等半金属。
例如，从固化膜的透明性方面考虑，粒子的平均一次粒径优选1～200nm，更优选3～80nm。
粒子的平均一次粒径为通过使用电子显微镜测定任意200个粒子的粒径，并将测定结果进行算术平均来计算。另外，在粒子的形状不是球形时，将最长边作为粒径。
作为金属氧化物粒子，具体而言，优选为选自氧化锆粒子(ZrO2粒子)、Nb2O5粒子、氧化钛粒子(TiO2粒子)、二氧化硅粒子(SiO2粒子)及它们的复合粒子中的至少1种。
这些中，作为金属氧化物粒子，例如，从容易调整折射率的方面考虑，更优选为选自氧化锆粒子及氧化钛粒子中的至少1种。
作为金属氧化物粒子的市售品，可举出煅烧氧化锆粒子(CIK NanoTekCorporation制，产品名：ZRPGM15WT％-F04)、煅烧氧化锆粒子(CIK NanoTek Corporation制，产品名：ZRPGM15WT％-F74)、煅烧氧化锆粒子(CIK NanoTek Corporation制，产品名：ZRPGM15WT％-F75)、煅烧氧化锆粒子(CIK NanoTek Corporation制，产品名：ZRPGM15WT％-F76)、氧化锆粒子(NanoUse OZ-S30M，Nissan Chemical Corporation制)及氧化锆粒子(NanoUse OZ-S30K，Nissan Chemical Corporation制)。
粒子可以单独使用1种，也可以同时使用2种以上。
折射率调整层中的粒子的含量相对于折射率调整层的总质量，优选1～95质量％，更优选20～90质量％，进一步优选40～85质量％。
作为金属氧化物粒子使用氧化钛时，氧化钛粒子的含量相对于折射率调整层的总质量，优选1～95质量％，更优选20～90质量％，进一步优选40～85质量％。
折射率调整层的折射率优选高于感光性组合物层的折射率。
折射率调整层的折射率优选1.50以上，更优选1.55以上，进一步优选1.60以上，尤其优选1.65以上。折射率调整层的折射率的上限优选2.10以下，更优选1.85以下，进一步优选1.78以下，尤其优选1.74以下。
折射率调整层的厚度优选50～500nm，更优选55～110nm，进一步优选60～100nm。
折射率调整层的厚度作为通过基于扫描式电子显微镜(SEM)的剖面观察测定的任意5处的平均值来计算。
《第1实施方式的转印膜的制造方法》
第1实施方式的转印膜的制造方法并没有特别限制，能够使用公知的方法。
作为上述转印膜10的制造方法，例如可举出包括如下工序的方法：在临时支承体1的表面涂布感光性组合物而形成涂膜，进一步干燥该涂膜而形成感光性组合物层3的工序；及在感光性组合物层3的表面涂布折射率调整层形成用组合物而形成涂膜，进一步干燥该涂膜而形成折射率调整层5的工序。
在通过上述制造方法制造的层叠体的折射率调整层5上压接保护膜7，由此制造转印膜10。
作为第1实施方式的转印膜的制造方法，优选通过包括将保护膜7设置成接触折射率调整层5的与具有临时支承体1的一侧相反的一侧的面的工序，制造具备临时支承体l、感光性组合物层3、折射率调整层5及保护膜7的转印膜10。
通过上述制造方法制造转印膜10之后卷取转印膜10，由此可以制作并保管卷状转印膜。卷状转印膜在通过后述卷对卷方式进行的与基板的贴合工序中直接以卷状提供。
并且，作为上述转印膜10的制造方法，可以为如下方法：在保护膜7上形成折射率调整层5之后，在折射率调整层5的表面形成感光性树脂层3。
并且，作为上述转印膜10的制造方法，可以为如下方法：在临时支承体1上形成感光性组合物层3，另外在保护膜7上形成折射率调整层5，并将感光性组合物层3与折射率调整层5贴合而形成。
<感光性组合物及感光性组合物层的形成方法>
从生产率优异的方面及满足上述式(1A)～式(3A)的要件的组合物层容易形成的方面考虑，转印膜中的感光性组合物层优选使用包含构成上述感光性组合物层的成分(例如，粘合剂聚合物、聚合性化合物及聚合引发剂等)及溶剂的感光性组合物，通过涂布法形成。作为第1实施方式的转印膜的制造方法，具体而言，优选为如下方法：在临时支承体上涂布感光性组合物而形成涂膜，在规定温度下对该涂膜实施干燥处理而形成感光性组合物层。另外，推测通过涂膜的干燥处理调整残留溶剂量，其结果，感光性组合物层的tanδ被适当调整而满足上述式(1A)～式(3A)的要件的组合物层容易形成。
作为感光性组合物可含有的溶剂，优选有机溶剂。作为有机溶剂，例如，可举出甲基乙基酮、丙二醇单甲醚、丙二醇单甲醚乙酸酯(别称：乙酸-1-甲氧基-2-丙基酯)、二乙二醇乙基甲醚、环己酮、甲基异丁基酮、乳酸乙酯、乳酸甲酯、己内酰胺、正丙醇及2-丙醇。
并且，作为溶剂，还可以根据需要使用沸点为180～250℃的有机溶剂(高沸点溶剂)。
溶剂可以单独使用1种，也可以同时使用2种以上。
感光性组合物的总固体成分量相对于感光性组合物的总质量，优选5～80质量％，更优选5～40质量％，进一步优选5～30质量％。
即，作为感光性组合物中的溶剂的含量，相对于感光性组合物的总质量，优选20～95质量％，更优选60～95质量％，进一步优选70～95质量％。
例如，从涂布性方面考虑，感光性组合物在25℃下的粘度优选1～50mPa·s，更优选2～40mPa·s，进一步优选3～30mPa·s。粘度使用粘度计来进行测定。作为粘度计，例如能够优选使用TOKI SANGYO CO.，LTD.制粘度计(商品名：VISCOMETERTV-22)。然而，粘度计并不限定于上述粘度计。
例如，从涂布性方面考虑，感光性组合物在25℃下的表面张力优选5～100mN/m，更优选10～80mN/m，进一步优选15～40mN/m。表面张力使用表面张力计来进行测定。作为表面张力计，能够优选使用例如Kyowa Interface Science Co.，Ltd.制表面张力计(产品名：Automatic Surface Tensiometer CBVP-Z)。但是，表面张力计不限于上述表面张力计。
作为感光性组合物的涂布方法，例如可举出印刷法、喷涂法、辊涂法、棒涂法、帘涂法、旋涂法及模涂法(即，狭缝涂布法)。
作为感光性组合物的涂膜的干燥方法，优选加热干燥及减压干燥。另外，在本说明书中，“干燥”是指去除组合物中包含的溶剂的至少一部分。
从感光性组合物层的tanδ被适当调整而满足上述式(1A)～式(3A)的要件的组合物层容易形成的方面考虑，作为干燥温度，优选90℃以上，更优选100℃以上，进一步优选110℃以上。并且，作为其上限值，并没有特别限制，优选130℃以下，更优选120℃以下。
并且，从感光性组合物层的tanδ被适当调整而满足上述式(1A)～式(3A)的要件的组合物层容易形成的方面考虑，作为干燥时间，优选20秒以上，更优选40秒以上，进一步优选60秒以上。并且，作为其上限值，并没有特别限制，优选450秒以下，更优选300秒以下。
<折射率调整层形成用组合物及折射率调整层的形成方法>
作为折射率调整层形成用组合物，优选包含形成上述折射率调整层的各种成分和溶剂。另外，在折射率调整层形成用组合物中，相对于组合物的总固体成分的各成分的含量的优选范围与相对于上述折射率调整层的总质量的各成分的含量的优选范围相同。
作为溶剂，只要能够溶解或分散折射率调整层中包含的成分，则并没有特别限制，优选选自水及水混合性有机溶剂中的至少1种，更优选水或水与水混合性有机溶剂的混合溶剂。
作为水混合性有机溶剂，例如，可举出碳原子数1～3的醇、丙酮、乙二醇及甘油，优选碳原子数1～3的醇，更优选甲醇或乙醇。
溶剂可以单独使用1种，也可以使用2种以上。
溶剂的含量相对于组合物的总固体成分100质量份，优选50～2,500质量份，更优选50～1,900质量份，进一步优选100～900质量份。
折射率调整层的形成方法只要是能够形成包含上述成分的层的方法，则并没有特别限制，例如，可举出公知的涂布方法(狭缝涂布、旋转涂布、帘式涂布及喷墨涂布等)。
并且，通过将保护膜贴合在折射率调整层，能够制造第1实施方式的转印膜。
在折射率调整层上贴合保护膜的方法并没有特别限制，可举出公知的方法。
作为在折射率调整层上贴合保护膜的装置，可举出真空层压机及自动切割层压机等公知的层压机。
层压机优选具备橡胶辊等任意可加热的辊且能够进行加压及加热。
〔第2实施方式的转印膜〕
以下，对第2实施方式的转印膜的实施方式的一例进行说明。
图2所示的转印膜20依次具有临时支承体11、包含热塑性树脂层13、中间层15及感光性组合物层17的组合物层12、保护膜19。并且，组合物层12满足上述式(1A)～式(3A)的全部要件。
另外，图2所示的转印膜20为配置有保护膜19的方式，但也可以不配置保护膜19。
并且，图2所示的转印膜20为配置有热塑性树脂层13及中间层15的方式，但也可以不配置热塑性树脂层13及中间层15。
以下，对构成转印膜的各元素进行说明。
在第2实施方式的转印膜中，作为临时支承体11及保护膜17，可举出与上述第1实施方式的临时支承体1及保护膜9相同的临时支承体及保护膜，优选方式也相同。
《感光性组合物层》
在具备静电电容型输入装置等触摸面板的显示装置(有机电致发光(EL)显示装置及液晶显示装置等)中，将相当于视觉辨认部的传感器的电极图案、周边配线部分及提取配线部分的配线等导电层图案设置于触摸面板内部。通常，在经图案化的层的形成中，广泛采用如下方法：使用转印膜等，在基板上设置负型感光性组合物层(感光层)，隔着具有所希望的图案的掩模对该感光层进行曝光之后显影。因此，作为感光性组合物层，优选为负型感光性组合物层。感光性组合物层为负型感光性组合物层时，所形成的图案相当于固化层。
感光性组合物层为负型感光性组合物层时，负型感光性组合物层优选包含树脂、聚合性化合物及聚合引发剂。并且，感光性组合物层为负型感光性组合物层时，如下所述，也优选包含碱溶性树脂(作为碱溶性树脂的聚合物A等)作为树脂的一部分或全部。即，在一方式中，感光性组合物层优选包含含有碱溶性树脂的树脂、聚合性化合物及聚合引发剂。
此类感光性组合物层(负型感光性组合物层)以感光性组合物层的总质量为基准，优选包含树脂：10～90质量％；聚合性化合物：5～70质量％；聚合引发剂：0.01～20质量％。
以下，依次对各成分进行说明。
<聚合物A(树脂)>
感光性组合物层为负型感光性组合物层时，感光性组合物层中包含的树脂还特别称为聚合物A。
聚合物A优选为碱溶性树脂。
通过抑制由显影液导致的负型感光性组合物层的溶胀而分辨率更优异的观点考虑，聚合物A的酸值优选220mgKOH/g以下，更优选低于200mgKOH/g，进一步优选低于190mgKOH/g。
聚合物A的酸值的下限并没有特别限制，从显影性更优异的观点考虑，优选60mgKOH/g以上，更优选120mgKOH/g以上，进一步优选150mgKOH/g以上，尤其优选170mgKOH/g以上。
另外，酸值(mgKOH/g)是指中和试样1g所希望的的氢氧化钾的质量[mg]。酸值例如能够根据化合物中的酸基的平均含量算出。
聚合物A的酸值根据构成聚合物A的结构单元的种类及包含酸基的结构单元的含量进行调整即可。
聚合物A的重均分子量优选5,000～500,000。重均分子量为500,000以下时，从提高分辨率及显影性的观点考虑优选。重均分子量更优选100,000以下，进一步优选60,000以下。另一方面，重均分子量为5，000以上时，从控制显影凝聚物的性状、以及设为负型感光性树脂层叠体时的边缘熔融性及切屑性等未曝光膜的性状的观点考虑优选。重均分子量更优选10,000以上，进一步优选20,000以上，尤其优选30,000以上。边缘熔融性是指作为负型感光性树脂层叠体以卷状卷取时，负型感光性组合物层从卷端面渗出的容易度。切屑性是指用刀切割未曝光膜时，切屑的易飞散性的程度。若该切屑附着在负型感光性树脂层叠体的上表面等，则会在后续曝光工序等中转印至掩模而成为不良品的原因。聚合物A的分散度优选1.0～6.0，更优选1.0～5.0，进一步优选1.0～4.0，尤其优选1.0～3.0。
在负型感光性组合物层中，从抑制曝光时的焦点位置偏离时的线宽变粗或分辨率降低的观点考虑，聚合物A优选包含基于具有芳香族烃基的单体的结构单元。另外，作为此类芳香族烃基，例如，可举出经取代或未经取代的苯基、及经取代或未经取代的芳烷基。聚合物A中基于具有芳香族烃基的单体的结构单元的含量相对于聚合物A的总质量，优选20质量％以上，更优选30质量％以上。作为上限，并没有特别限制，优选95质量％以下，更优选85质量％以下。另外，包含多种聚合物A时，基于具有芳香族烃基的单体的结构单元的含量的平均值优选在上述范围内。
作为具有芳香族烃基的单体，例如，可举出具有芳烷基的单体、苯乙烯及可聚合的苯乙烯衍生物(例如，甲基苯乙烯、乙烯基甲苯、叔丁氧基苯乙烯、乙酰氧基苯乙烯、4-乙烯基苯甲酸、苯乙烯二聚体及苯乙烯三聚体等)。其中，优选具有芳烷基的单体或苯乙烯。在一方式中，聚合物A中的具有芳香族烃基的单体成分为苯乙烯时，基于苯乙烯的结构单元的含量相对于聚合物A的总质量，优选20～70质量％，更优选25～65质量％，进一步优选30～60质量％，尤其优选30～55质量％。
作为芳烷基，可举出经取代或未经取代的苯基烷基(苄基除外)及经取代或未经取代的苄基等，优选经取代或未经取代的苄基。
作为具有苯基烷基的单体，可举出(甲基)丙烯酸苯乙酯等。
作为具有苄基的单体，可举出具有苄基的(甲基)丙烯酸酯，例如(甲基)丙烯酸苄酯及(甲基)丙烯酸氯苄酯等；具有苄基的乙烯基单体，例如乙烯基苄基氯及乙烯基苄醇等。其中，优选(甲基)丙烯酸苄酯。在一方式中，聚合物A中的具有芳香族烃基的单体成分为(甲基)丙烯酸苄酯时，基于(甲基)丙烯酸苄酯的结构单元的含量相对于聚合物A的总质量，优选50～95质量％，更优选60～90质量％，进一步优选70～90质量％，尤其优选75～90质量％。
包含基于具有芳香族烃基的单体的结构单元的聚合物A优选通过聚合具有芳香族烃基的单体与至少1种后述第一单体和/或至少1种后述第二单体来获得。
不包含基于具有芳香族烃基的单体的结构单元的聚合物A优选通过聚合至少1种后述第一单体来获得，更优选通过共聚至少1种第一单体与至少1种后述第二单体来获得。
第一单体是在分子中具有羧基的单体。作为第一单体，例如，可举出(甲基)丙烯酸、富马酸、肉桂酸、巴豆酸、衣康酸、4-乙烯基苯甲酸、马来酸酐及马来酸半酯等。这些中，优选(甲基)丙烯酸。
聚合物A中基于第一单体的结构单元的含量相对于聚合物A的总质量，优选5～50质量％，更优选10～40质量％，进一步优选15～30质量％。
从显示良好的显影性的观点、控制边缘熔融性等观点考虑，优选将上述含量设定为5质量％以上。从抗蚀剂图案的高分辨率及拖尾(Tailing)形状的观点，以及抗蚀剂图案的耐药品性的观点考虑，优选将上述含量设定为50质量％以下。
第二单体是非酸性且在分子中具有至少1个聚合性不饱和基团的单体。作为第二单体，例如，可举出(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丙酯、(甲基)丙烯酸异丙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸异丁酯、(甲基)丙烯酸叔丁酯、(甲基)丙烯酸2-羟乙酯、(甲基)丙烯酸2-羟丙酯、(甲基)丙烯酸环己酯及(甲基)丙烯酸2-乙基己酯等(甲基)丙烯酸酯类；乙酸乙烯酯等乙烯基醇的酯类；以及(甲基)丙烯腈等。其中，优选(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯或(甲基)丙烯酸正丁酯，更优选(甲基)丙烯酸甲酯。
聚合物A中基于第二单体的结构单元的含量相对于聚合物A的总质量，优选5～60质量％，更优选15～50质量％，进一步优选17～45质量％。
聚合物A包含基于具有芳烷基的单体的结构单元和/或基于苯乙烯单体的结构单元时，从抑制曝光时的焦点位置偏离时的线宽变粗或分辨率降低的观点考虑优选。例如，优选包含基于甲基丙烯酸的结构单元、基于甲基丙烯酸苄酯的结构单元及基于苯乙烯的结构单元的共聚物、包含基于甲基丙烯酸的结构单元、基于甲基丙烯酸甲酯的结构单元、基于甲基丙烯酸苄酯的结构单元及基于苯乙烯的结构单元的共聚物等。
在一方式中，聚合物A优选为包含25～55质量％的基于具有芳香族烃基的单体的结构单元、20～35质量％的基于第一单体的结构单元、15～45质量％的基于第二单体的结构单元的聚合物。并且，在另一方式中，优选为包含70～90质量％的基于具有芳香族烃基的单体的结构单元、10～25质量％的基于第一单体的结构单元的聚合物。
聚合物A可以在侧链具有支链结构和/或脂环结构。通过使用包含在侧链具有支链结构的基团的单体或包含在侧链具有脂环结构的基团的单体，能够将支链结构或脂环结构导入聚合物A的侧链。
作为包含在侧链具有支链结构的基团的单体的具体例，例如，可举出(甲基)丙烯酸异丙酯、(甲基)丙烯酸异丁酯、(甲基)丙烯酸仲丁酯、(甲基)丙烯酸叔丁酯、(甲基)丙烯酸异戊酯、(甲基)丙烯酸叔戊酯、(甲基)丙烯酸仲异戊酯、(甲基)丙烯酸2-辛酯、(甲基)丙烯酸3-辛酯及(甲基)丙烯酸叔辛酯等。这些中，优选(甲基)丙烯酸异丙酯、(甲基)丙烯酸异丁酯或甲基丙烯酸叔丁酯，更优选甲基丙烯酸异丙酯或甲基丙烯酸叔丁酯。
作为包含在侧链具有脂环结构的基团的单体的具体例，可举出具有单环脂肪族烃基的单体及具有多环脂肪族烃基的单体。并且，可举出具有碳原子数5～20个的脂环式烃基的(甲基)丙烯酸酯。作为更具体的例子，可举出(双环〔2.2.1〕庚基-2)-(甲基)丙烯酸酯、1-金刚烷基-(甲基)丙烯酸酯、2-金刚烷基-(甲基)丙烯酸酯、3-甲基-1-金刚烷基-(甲基)丙烯酸酯、3，5-二甲基-1-金刚烷基-(甲基)丙烯酸酯、3-乙基金刚烷基-(甲基)丙烯酸酯、3-甲基-5-乙基-1-金刚烷基-(甲基)丙烯酸酯、3，5，8-三乙基-1-金刚烷基-(甲基)丙烯酸酯、3，5-二甲基-8-乙基-1-金刚烷基-(甲基)丙烯酸酯、2-甲基-2-金刚烷基-(甲基)丙烯酸酯、2-乙基-2-金刚烷基-(甲基)丙烯酸酯、3-羟基-1-金刚烷基-(甲基)丙烯酸酯、八氢-4，7-薄荷烷茚(mentanoinden)-5-基-(甲基)丙烯酸酯、八氢-4，7-薄荷烷茚(mentanoinden)-1-基甲基-(甲基)丙烯酸酯、1-薄荷基-(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸三环癸酯、3-羟基-2，6，6-三甲基-双环〔3.1.1〕庚基-(甲基)丙烯酸酯、3，7，7-三甲基-4-羟基-双环〔4.1.0〕庚基-(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸(降)冰片酯、(甲基)丙烯酸异冰片酯、(甲基)丙烯酸葑酯、(甲基)丙烯酸-2，2，5-三甲基环己酯及(甲基)丙烯酸环己酯等。在这些(甲基)丙烯酸酯中，优选(甲基)丙烯酸环己酯、(甲基)丙烯酸(降)冰片酯、(甲基)丙烯酸异冰片酯、1-金刚烷基-(甲基)丙烯酸酯、2-金刚烷基-(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸葑酯、1-薄荷基-(甲基)丙烯酸酯或(甲基)丙烯酸三环癸酯，更优选(甲基)丙烯酸环己酯、(甲基)丙烯酸(降)冰片酯、(甲基)丙烯酸异冰片酯、2-金刚烷基-(甲基)丙烯酸酯或(甲基)丙烯酸三环癸酯。
聚合物A可以单独使用1种，也可以使用2种以上。
使用2种以上时，优选混合使用2种包含基于具有芳香族烃基的单体的结构单元的聚合物A、或混合使用包含基于具有芳香族烃基的单体的结构单元的聚合物A和不包含基于具有芳香族烃基的单体的结构单元的聚合物A。后者的情况下，包含基于具有芳香族烃基的单体的结构单元的聚合物A的使用比例相对于聚合物A的总质量，优选50质量％以上，更优选70质量％以上，优选80质量％以上，更优选90质量％以上。
聚合物A的合成优选通过如下方法进行：在用丙酮、甲基乙基酮及异丙醇等溶剂稀释上述一种或多种单体而成的溶液中添加适量的过氧化苯甲酰及偶氮异丁腈等自由基聚合引发剂并加热搅拌。有时会在反应液中滴加混合物的一部分的同时进行合成。有时会反应结束后，进一步添加溶剂而调整为所希望的浓度。作为合成方法，除了溶液聚合以外，还可以利用本体聚合、悬浮聚合或乳化聚合。
聚合物A的玻璃化转变温度Tg优选30～135℃。通过使用具有135℃以下的Tg的聚合物A，能够抑制曝光时的焦点位置偏离时的线宽变粗或分辨率降低。从该观点考虑，聚合物A的Tg更优选130℃以下，进一步优选120℃以下，尤其优选110℃以下。并且，从提高耐边缘熔融性的观点考虑，优选使用具有30℃以上的Tg的聚合物A。从该观点考虑，聚合物A的Tg更优选40℃以上，进一步优选50℃以上，尤其优选60℃以上，最优选70℃以上。
负型感光性组合物层可以包含上述以外的其他树脂作为聚合物A。
作为其他树脂，可举出丙烯酸树脂、苯乙烯-丙烯酸系共聚物、聚氨酯树脂、聚乙烯醇、聚乙烯醇缩甲醛、聚酰胺树脂、聚酯树脂、聚酰胺树脂、环氧树脂、聚缩醛树脂、聚羟基苯乙烯树脂、聚酰亚胺树脂、聚苯并噁唑树脂、聚硅氧烷树脂、聚乙烯亚胺、聚烯丙胺及聚亚烷基二醇。
作为聚合物A，可以使用在后述热塑性树脂层的说明中描述的碱溶性树脂。
聚合物A的含量相对于负型感光性组合物层的总质量，优选10～90质量％，更优选20～80质量％，进一步优选30～70质量％，尤其优选40～60质量％。从控制显影时间的观点考虑，优选将聚合物A的含量设定为90质量％以下。另一方面，从提高耐边缘熔融性的观点考虑，优选将聚合物A的含量设定为10质量％以上。
<聚合性化合物>
感光性组合物层为负型感光性组合物层时，负型感光性组合物层优选包含具有聚合性基团的聚合性化合物。
另外，上述“聚合性化合物”是指受到后述聚合引发剂的作用而聚合且与上述聚合物A不同的化合物。
作为聚合性化合物所具有的聚合性基团，只要是参与聚合反应的基团，则并没有特别限制，例如，可举出具有乙烯基、丙烯酰基、甲基丙烯酰基、苯乙烯基及马来酰亚胺等烯属不饱和基团的基团；以及具有环氧基及氧杂环丁烷基等阳离子性聚合性基团的基团。
作为聚合性基团，优选具有烯属不饱和基团的基团，更优选丙烯酰基或甲基丙烯酰基。
作为聚合性化合物，从负型感光性组合物层的感光性更优异的方面考虑，优选具有1个以上的烯属不饱和基团的化合物(烯属不饱和化合物)，更优选在一分子中具有2个以上的烯属不饱和基团的化合物(多官能烯属不饱和化合物)。
并且，从分辨率及剥离性更优异的方面考虑，烯属不饱和化合物在一分子中具有的烯属不饱和基团的数量优选6个以下，更优选3个以下，进一步优选2个以下。
从负型感光性组合物层的感光性与分辨率及剥离性之间的均衡更优异的方面考虑，优选包含在一分子中具有2个或3个烯属不饱和基团的2官能或3官能烯属不饱和化合物，更优选包含在一分子中具有2个烯属不饱和基团的2官能烯属不饱和化合物。
从剥离性优异的观点考虑，相对于聚合性化合物的总质量的2官能烯属不饱和化合物的含量相对于负型感光性组合物层的总质量，优选20质量％以上，更优选超过40质量％，进一步优选55质量％以上。上限并没有特别限制，可以是100质量％。即，聚合性化合物可以是全部为2官能烯属不饱和化合物。
并且，作为烯属不饱和化合物，优选具有(甲基)丙烯酰基作为聚合性基团的(甲基)丙烯酸酯化合物。
(聚合性化合物B1)
负型感光性组合物层还优选包含具有芳香环及2个烯属不饱和基团的聚合性化合物B1。在上述聚合性化合物B中，聚合性化合物B1是在一分子中具有1个以上的芳香环的2官能烯属不饱和化合物。
从分辨率更优异的观点考虑，负型感光性组合物层中相对于聚合性化合物的总质量的聚合性化合物B1的含量的质量比优选40％以上，更优选50质量％以上，进一步优选55质量％以上，尤其优选60质量％以上。上限并没有特别限制，从剥离性的观点考虑，例如为100质量％以下，优选99质量％以下，更优选95质量％以下，进一步优选90质量％以下，尤其优选85质量％以下。
作为聚合性化合物B1所具有的芳香环，例如，可举出苯环、萘环及蒽环等芳香族烃环、噻吩环、呋喃环、吡咯环、咪唑环、三唑环及吡啶环等芳香族杂环、以及它们的稠环，优选芳香族烃环，更优选苯环。另外，上述芳香环可以具有取代基。
聚合性化合物B1可以仅具有1个芳香环，也可以具有2个以上的芳香环。
从通过抑制由显影液导致的感光性组合物层的溶胀来提高分辨率的观点考虑，聚合性化合物B1优选具有双酚结构。
作为双酚结构，例如，可举出源自双酚A(2，2-双(4-羟基苯基)丙烷)的双酚A结构、源自双酚F(2，2-双(4-羟基苯基)甲烷)的双酚F结构及源自双酚B(2，2-双(4-羟基苯基)丁烷)的双酚B结构，优选双酚A结构。
作为具有双酚结构的聚合性化合物B1，例如，可举出具有双酚结构及键合于该双酚结构的两端的2个聚合性基团(优选为(甲基)丙烯酰基)的化合物。
双酚结构的两端与2个聚合性基团可以直接键合，也可以通过1个以上的亚烷氧基键合。作为对双酚结构的两端加成的亚烷氧基，优选乙烯氧基或丙烯氧基，更优选乙烯氧基。加成于双酚结构的亚烷氧基的加成数并没有特别限制，每1分子优选4～16个，更优选6～14个。
关于具有双酚结构的聚合性化合物B1，记载于日本特开2016-224162号公报的0072～0080段，该公报中记载的内容编入本说明书中。
作为聚合性化合物B1，优选具有双酚A结构的2官能烯属不饱和化合物，更优选2，2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基聚烷氧基)苯基)丙烷。
作为2，2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基聚烷氧基)苯基)丙烷，例如，可举出2，2-双(4-(甲基丙烯酰氧基二乙氧基)苯基)丙烷(FA-324M，Hitachi Chemical Co.，Ltd.制)、2，2-双(4-(甲基丙烯酰氧基乙氧基丙氧基)苯基)丙烷、2，2-双(4-(甲基丙烯酰氧基五乙氧基)苯基)丙烷(BPE-500，SHIN-NAKAMURACHEMICAL Co.，Ltd.制)、2，2-双(4-(甲基丙烯酰氧基十二乙氧基四丙氧基)苯基)丙烷(FA-3200MY，Hitachi Chemical Co.，Ltd.制)、2，2-双(4-(甲基丙烯酰氧基十五乙氧基)苯基)丙烷(BPE-1300，SHIN-NAKAMURA CHEMICAL Co.，Ltd.制)、2，2-双(4-(甲基丙烯酰氧基二乙氧基)苯基)丙烷(BPE-200，SHIN-NAKAMURA CHEMICALCo.，Ltd.制)及乙氧基化(10)双酚A二丙烯酸酯(NK ESTER A-BPE-10，SHIN-NAKAMURACHEMICAL Co.，Ltd.制)。
作为聚合性化合物B1，还优选由下述通式(B1)表示的化合物。
[化学式23]
Figure BDA0004090576800000611
在通式B1中，R1及R2分别独立地表示氢原子或甲基。A表示C2H4。B表示C3H6。n1及n3各自独立地为1～39的整数，且n1+n3是2～40的整数。n2及n4各自独立地为0～29的整数，且n2+n4是0～30的整数。-(A-O)-及-(B-O)-的结构单元的排列可以是无规，也可以嵌段。而且，在嵌段的情况下，-(A-O)-及-(B-0)-中的任1个可以在双苯基侧。
在一方式中，n1+n2+n3+n4优选2～20，更优选2～16，进一步优选4～12。并且，n2+n4优选0～10，更优选0～4，进一步优选0～2，尤其优选0。
聚合性化合物B1可以单独使用1种，也可以使用2种以上。
从分辨率更优异的观点考虑，聚合性化合物B1的含量相对于负型感光性组合物层的总质量，优选10质量％以上，更优选20质量％以上。上限并没有特别限制，从转印性及边缘熔融(感光性树脂从转印部件的端部渗出的现象)的观点考虑，优选70质量％以下，更优选60质量％以下。
负型感光性组合物层可以包含上述聚合性化合物B1以外的聚合性化合物。
聚合性化合物B1以外的聚合性化合物并没有特别限制，能够从公知的化合物中适当选择。例如，可举出在分子中具有1个烯属不饱和基团的化合物(单官能烯属不饱和化合物)、不具有芳香环的2官能烯属不饱和化合物及3官能以上的烯属不饱和化合物。
作为单官能烯属不饱和化合物，例如，可举出(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸乙基己酯、2-(甲基)丙烯酰氧基乙基琥珀酸酯、聚乙二醇单(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇单(甲基)丙烯酸酯及(甲基)丙烯酸苯氧基乙酯。
作为不具有芳香环的2官能烯属不饱和化合物，例如，可举出亚烷基二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚亚烷基二醇二(甲基)丙烯酸酯、氨基甲酸酯二(甲基)丙烯酸酯及三羟甲基丙烷二丙烯酸酯。
作为亚烷基二醇二(甲基)丙烯酸酯，例如可举出三环癸烷二甲醇二丙烯酸酯(A-DCP，SHIN-NAKAMURA CHEMICAL Co.，Ltd.制)、三环癸烷二甲醇二甲基丙烯酸酯(DCP，SHIN-NAKAMURA CHEMICAL Co.，Ltd.制)、1，9-壬二醇二丙烯酸酯(A-NOD-N，SHIN-NAKAMURACHEMICAL Co.，Ltd.制)、1，6-己二醇二丙烯酸酯(A-HD-N，SHIN-NAKAMURA CHEMICAL Co.，Ltd.制)、乙二醇二甲基丙烯酸酯、1，10-癸二醇二丙烯酸酯及新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯。
作为聚亚烷基二醇二(甲基)丙烯酸酯，例如，可举出聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二丙二醇二丙烯酸酯、三丙二醇二丙烯酸酯及聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯。
作为氨基甲酸酯二(甲基)丙烯酸酯，例如，可举出环氧丙烷改性氨基甲酸酯二(甲基)丙烯酸酯、以及环氧乙烷及环氧丙烷改性氨基甲酸酯二(甲基)丙烯酸酯。作为市售品，例如，可举出8UX-015A(Taisei Fine Chemical Co.，Ltd.制)、UA-32P(SHTN-NAKAMURACHEMICAL Co.，Ltd.制)及UA-1100H(SHIN-NAKAMURA CHEMICAL Co.，Ltd.制)。
作为3官能以上的烯属不饱和化合物，例如，可举出二季戊四醇(三/四/五/六)(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇(三/四)(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、二-三羟甲基丙烷四(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基乙烷三(甲基)丙烯酸酯、异氰脲酸三(甲基)丙烯酸酯、甘油三(甲基)丙烯酸酯及这些的环氧烷改性物。
在此，“(三/四/五/六)(甲基)丙烯酸酯”是包括三(甲基)丙烯酸酯、四(甲基)丙烯酸酯、五(甲基)丙烯酸酯及六(甲基)丙烯酸酯的概念，“(三/四)(甲基)丙烯酸酯”是包括三(甲基)丙烯酸酯及四(甲基)丙烯酸酯的概念。
在一方式中，负型感光性组合物层优选包含上述聚合性化合物B1及3官能以上的烯属不饱和化合物，更优选包含上述聚合性化合物B1及2种以上的3官能以上的烯属不饱和化合物。此时，聚合性化合物B1与3官能以上的烯属不饱和化合物的质量比优选(聚合性化合物B1的合计质量)∶(3官能以上的烯属不饱和化合物的合计质量)＝1∶1～5∶1，更优选1.2∶1～4∶1，进一步优选1.5∶1～3∶1。
并且，在一方式中，负型感光性组合物层优选包含上述聚合性化合物B1及2种以上的3官能的烯属不饱和化合物。
作为3官能以上的烯属不饱和化合物的环氧烷改性物，可举出己内酯改性(甲基)丙烯酸酯化合物(Nippon Kayaku Co.，Ltd.制KAYARAD(注册商标)DPCA-20、SHIN-NAKAMURACHEMICAL Co.，Ltd.制A-9300-1CL等)、环氧烷改性(甲基)丙烯酸酯化合物(Nippon KayakuCo.，Ltd.制KAYARAD RP-1040、SHIN-NAKAMURA CHEMICAL Co.，Ltd.制ATM-35E及A-9300、DAICEL-ALLNEX LTD.制EBECRYL(注册商标)135等)、乙氧基化甘油三丙烯酸酯(SHIN-NAKAMURA CHEMICAL Co.，Ltd.制A-GLY-9E等)、ARONIX(注册商标)T0-2349(TOAGOSEI CO.，LTD.制)、ARONIXM-520(TOAGOSEI CO.，LTD.制)及ARONIXM-510(TOAGOSEI CO.，LTD.制)。
并且，作为聚合性化合物，可以使用具有酸基(羧基等)的聚合性化合物。上述酸基可以形成酸酐基。作为具有酸基的聚合性化合物，可举出ARONIX(注册商标)T0-2349(TOAGOSEI CO.，LTD.制)、ARONIX(注册商标)M-520(TOAGOSEI CO.，LTD.制)及ARONIX(注册商标)M-510(TOAGOSEI CO.，LTD.制)。
作为具有酸基的聚合性化合物，例如，可以使用日本特开2004-239942号公报的0025～0030段中记载的具有酸基的聚合性化合物。
聚合性化合物可以单独使用1种，也可以使用2种以上。
聚合性化合物的含量相对于负型感光性组合物层的总质量，优选10～70质量％，更优选15～70质量％，进一步优选20～70质量％。
作为聚合性化合物(包括聚合性化合物B1)的分子量(具有分子量分布的情况下为重均分子量)，优选200～3,000，更优选280～2,200，进一步优选300～2,200。
<聚合引发剂>
感光性组合物层为负型感光性组合物层时，负型感光性组合物层还优选包含聚合引发剂。
聚合引发剂根据聚合反应的形式选择，例如，可举出热聚合引发剂及光聚合引发剂。
聚合引发剂可以是自由基聚合引发剂，也可以是阳离子聚合引发剂。
负型感光性组合物层优选包含光聚合引发剂。
光聚合引发剂是接受紫外线、可见光线及X射线等活性光线来开始聚合性化合物的聚合的化合物。作为光聚合引发剂，并没有特别限制，能够使用公知的光聚合引发剂。
作为光聚合引发剂，例如，可举出光自由基聚合引发剂及光阳离子聚合引发剂，优选光自由基聚合引发剂。
作为光自由基聚合引发剂，例如，可举出具有肟酯结构的光聚合引发剂、具有α-氨基烷基苯酮结构的光聚合引发剂、具有α-羟烷基苯酮结构的光聚合引发剂、具有酰基氧化膦结构的光聚合引发剂及具有N-苯基甘氨酸结构的光聚合引发剂。
并且，从感光性、曝光部及非曝光部的视觉辨认度、以及分辨率的观点考虑，负型感光性组合物层优选包含选自2，4，5-三芳基咪唑二聚体及其衍生物中的至少1种作为光自由基聚合引发剂。另外，2，4，5-三芳基咪唑二聚体及其衍生物中的2个2，4，5-三芳基咪唑结构可以相同，也可以不同。
作为2，4，5-三芳基咪唑二聚体的衍生物，例如，可举出2-(邻氯苯基)-4，5-二苯基咪唑二聚体、2-(邻氯苯基)-4，5-二(甲氧基苯基)咪唑二聚体、2-(邻氟苯基)-4，5-二苯基咪唑二聚体、2-(邻甲氧基苯基)-4，5-二苯基咪唑二聚体及2-(对甲氧基苯基)-4，5-二苯基咪唑二聚体。
作为光自由基聚合引发剂，例如，可以使用日本特开2011-95716号公报的0031～0042段、日本特开2015-14783号公报的0064～0081段中记载的聚合引发剂。
作为光自由基聚合引发剂，例如，可举出二甲基氨基苯甲酸乙酯(DBE，CASNo.10287-53-3)、安息香甲醚、茴香醚(p，p’-二甲氧基苄基，TAZ-110(商品名：MidoriKagaku Co.，Ltd.制)、二苯甲酮、4，4’-双(二乙基氨基)二苯甲酮、TAZ-111(商品名：MidoriKagaku Co.，Ltd.制)、IrgacureOXE01、OXE02、OXE03、OXE04(BASF公司制)、Omnirad651及369(商品名：IGM Resins B.V.制)及2，2’-双(2-氯苯基)-4，4’，5，5’-四苯基-1，2’-联咪唑(Tokyo Chemical Industry Co.，Ltd.制)。
作为光自由基聚合引发剂的市售品，例如，可举出1-[4-(苯硫基)]-1，2-辛二酮-2-(0-苯甲酰肟)(商品名：IRGACURE(注册商标)OXE-01，BASF公司制)、1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲酰基)-9H-咔唑-3-基]乙酮-1-(0-乙酰肟)(商品名：IRGACURE OXE-02，BASF公司制)、IRGACURE OXE-03(BASF公司制)、IRGACURE OXE-04(BASF公司制)、2-(二甲基氨基)-2-[(4-甲基苯基)甲基]-1-[4-(4-吗啉基)苯基]-1-丁酮(商品名：Omnirad 379EG，IGMResins B.V.制)、2-甲基-1-(4-甲硫基苯基)-2-吗啉基丙-1-酮(商品名：Omnirad 907，IGMResins B.V.制)、2-羟基-1-{4-[4-(2-羟基-2-甲基丙酰基)苄基]苯基}-2-甲基丙-1-酮(商品名：Omnirad 127，IGM Resins B.V.制)、2-苄基-2-二甲基氨基-1-(4-吗啉基苯基)丁酮-1(商品名：Omnirad 369，IGM Resins B.V.制)、2-羟基-2-甲基-1-苯基丙-1-酮(商品名：Omnirad 1173，IGM Resins B.V.制)、1-羟基环己基苯基酮(Omnirad 184，IGM ResinsB.V.制)、2，2-二甲氧基-1，2-二苯基乙-1-酮(商品名：Omnirad 651，IGM Resins B.V.制)、2，4，6-三甲基苯甲酰基-二苯基氧化膦(商品名：Omnirad TPO H，TGM Resins B.V.制)、双(2，4，6-三甲基苯甲酰基)苯基氧化膦(商品名：Omnirad 819，IGM Resins B.V.制)、肟酯系光聚合引发剂(商品名：Lunar 6，DKSH Japan K.K.制)、2，2’-双(2-氯苯基)-4，4’，5，5’-四苯基双咪唑(2-(2-氯苯基)-4，5-二苯基咪唑二聚体)(商品名：B-CIM，Hampford公司制)、2-(邻氯苯基)-4，5-二苯基咪唑二聚体(商品名：BCTB，Tokyo Chemical Industry Co.，Ltd.制)、1-[4-(苯硫基)苯基]-3-环戊基丙-1，2-二酮-2-(O-苯甲酰肟)(商品名：TR-PBG-305，ChangzhouTronly New Electronic Materials Co.，LTD.制)、1，2-丙二酮，3-环己基-1-[9-乙基-6-(2-呋喃羰基)-9H-咔唑-3-基]-，2-(O-乙酰肟)(商品名：TR-PBG-326，Changzhou Tronly New Flectronic Materials Co.，LTD.制)及3-环己基-1-(6-(2-(苯甲酰氧基亚氨基)己酰基)-9-乙基-9H-咔唑-3-基)-丙-1，2-二酮-2-(O-苯甲酰肟)(商品名：TR-PBG-391，Changzhou Tronly New Electronic Materials Co.，LTD.制)。
光阳离子聚合引发剂(光产酸剂)是接受活性光线来产生酸的化合物。作为光阳离子聚合引发剂，优选对波长300nm以上(优选为波长300～450nm)的活性光线感应且产生酸的化合物，但其化学结构并不受限制。并且，即使是不会直接对波长300nm以上的活性光线感应的光阳离子聚合引发剂，只要是通过与增感剂组合使用而对波长300nm以上的活性光线感应且产生酸的化合物，则能够优选与增感剂组合使用。
作为光阳离子聚合引发剂，优选产生pKa为4以下的酸的光阳离子聚合引发剂，更优选产生pKa为3以下的酸的光阳离子聚合引发剂，尤其优选产生pKa为2以下的酸的光阳离子聚合引发剂。pKa的下限值并没有特别限定，例如，优选-10.0以上。
作为光阳离子聚合引发剂，可举出离子性光阳离子聚合引发剂及非离子性光阳离子聚合引发剂。
作为离子性光阳离子聚合引发剂，例如，可举出二芳基碘鎓盐类及三芳基锍盐类等鎓盐化合物、以及季铵盐类。
作为离子性光阳离子聚合引发剂，可以使用日本特开2014-085643号公报的0114～0133段中记载的离子性光阳离子聚合引发剂。
作为非离子性光阳离子聚合引发剂，例如，可举出三氯甲基均三嗪类、重氮甲烷化合物、酰亚胺磺酸酯化合物及肟磺酸酯化合物。作为三氯甲基均三嗪类、重氮甲烷化合物及酰亚胺磺酸酯化合物，可以使用日本特开2011-221494号公报的0083～0088段中记载的化合物。并且，作为肟磺酸酯化合物，可以使用国际公开第2018/179640号的0084～0088段中记载的化合物。
负型感光性组合物层优选包含光自由基聚合引发剂，更优选包含选自2，4，5-三芳基咪唑二聚体及其衍生物中的至少1种。
聚合引发剂可以单独使用1种，也可以使用2种以上。
聚合引发剂(优选为光聚合引发剂)的含量并没有特别限制，相对于负型感光性组合物层的总质量，优选0.1质量％以上，更优选0.5质量％以上，进一步优选1.0质量％以上。上限并没有特别限制，相对于负型感光性组合物层的总质量，优选20质量％以下，进一步优选15质量％以下，更优选10质量％以下。
<色素>
从曝光部及非曝光部的视觉辨认度、显影后的图案视觉辨认度、及分辨率的观点考虑，感光性组合物层还优选包含显色时的波长范围400～780nm处的最大吸收波长为450nm以上且最大吸收波长通过酸、碱或自由基改变的色素(还称为“色素N”)。详细的机理虽尚不明确，但若包含色素N，则与相邻层(例如，水溶性树脂层)的密合性提高而分辨率更优异。
在本说明书中，色素“通过酸、碱或自由基而极大吸收波长改变”可以表示处于显色状态的色素通过酸、碱或自由基脱色的方式、处于脱色状态的色素通过酸、碱或自由基显色的方式及处于显色状态的色素变成其他色相的显色状态的方式中的任一方式。
具体而言，色素N可以是通过曝光从脱色状态改变而显色的化合物，也可以是通过曝光从显色状态改变而脱色的化合物。此时，可以是通过利用曝光在感光性组合物层内产生酸、碱或自由基并起作用来改变显色或脱色的状态的色素，也可以是通过利用酸、碱或自由基改变感光性组合物层内的状态(例如pH)来改变显色或脱色的状态的色素。并且，也可以是不经过曝光而直接接受酸、碱或自由基作为刺激来改变显色或脱色的状态的色素。
其中，从曝光部及非曝光部的视觉辨认度、以及分辨率的观点考虑，色素N优选最大吸收波长通过酸或自由基改变的色素，更优选最大吸收波长通过自由基改变的色素。
从曝光部及非曝光部的视觉辨认度以及分辨率的观点考虑，感光性组合物层为负型感光性组合物层时，负型感光性组合物层优选包含最大吸收波长通过自由基改变的色素、及光自由基聚合引发剂这两者作为色素N。
并且，从曝光部及非曝光部的视觉辨认度的观点考虑，色素N优选为通过酸、碱或自由基显色的色素。
作为色素N的显色机理的例子，可举出在感光性组合物层中添加光自由基聚合引发剂、光阳离子聚合引发剂(光产酸剂)或光产碱剂，并在曝光后通过从光自由基聚合引发剂、光阳离子聚合引发剂或光产碱剂产生的自由基、酸或碱，自由基反应性色素、酸反应性色素或碱反应性色素(例如，无色色素)显色的方式。
从曝光部及非曝光部的视觉辨认度的观点考虑，色素N在显色时的波长范围400～780nm处的极大吸收波长优选为550nm以上，更优选为550～700nm，进一步优选为550～650nm。
并且，色素N可以仅具有1个显色时的波长范围400～780nm处的极大吸收波长，也可以具有2个以上。色素N具有2个以上的显色时的波长范围400～780nm处的极大吸收波长时，2个以上的极大吸收波长中吸光度最高的极大吸收波长为450nm以上即可。
色素N的极大吸收波长可通过如下方法获得：在大气环境下，利用分光光度计：UV3100(SHIMADZU CORPORATION制)，在400～780nm的范围内测定包含色素N的溶液(液温25℃)的透射光谱，检测光强度变为极小的波长(极大吸收波长)。
作为通过曝光显色或脱色的色素，例如，可举出无色化合物。
作为通过曝光脱色的色素，例如，可举出无色化合物、二芳基甲烷系色素、噁嗪系色素、呫吨系色素、亚胺基萘醌系色素、偶氮甲碱系色素及蒽醌系色素。
作为色素N，从曝光部及非曝光部的视觉辨认度的观点考虑，优选无色化合物。
作为无色化合物，例如，可举出具有三芳基甲烷骨架的无色化合物(三芳基甲烷系色素)、具有螺吡喃骨架的无色化合物(螺吡喃系色素)、具有荧烷骨架的无色化合物(荧烷系色素)、具有二芳基甲烷骨架的无色化合物(二芳基甲烷系色素)、具有罗丹明内酰胺骨架的无色化合物(罗丹明内酰胺系色素)、具有吲哚基苯酞骨架的无色化合物(吲哚基苯酞系色素)及具有无色金胺骨架的无色化合物(无色金胺系色素)。
其中，优选三芳基甲烷系色素或荧烷系色素，更优选具有三苯基甲烷骨架的无色化合物(三苯基甲烷系色素)或荧烷系色素。
作为无色化合物，从曝光部及非曝光部的视觉辨认度的观点考虑，优选具有内酯环、亚磺内酯(sultine)环或磺内酯环。由此，能够使无色化合物所具有的内酯环、亚磺内酯环或磺内酯环与从光自由基聚合引发剂产生的自由基或从光阳离子聚合引发剂产生的酸进行反应而将无色化合物改变成闭环状态而使其脱色或将无色化合物改变成开环状态而使其显色。作为无色化合物，优选具有内酯环、亚磺内酯环或磺内酯环且内酯环、亚磺内酯环或磺内酯环通过自由基或酸开环而显色的化合物，更优选具有内酯环且内酯环通过自由基或酸开环而显色的化合物。
作为色素N，例如，可举出以下染料及无色化合物。
作为色素N中染料的具体例，例如，可举出亮绿、乙基紫、甲基绿、结晶紫、碱性品红、甲基紫2B、喹哪啶红、玫瑰红、间苯胺黄、百里酚蓝、二甲苯酚蓝、甲基橙、对甲基红、刚果红、苯并红紫4B、α-萘基红、尼罗蓝2B、尼罗蓝A、甲基紫、孔雀绿、偶合品红、维多利亚纯蓝-萘磺酸盐、维多利亚纯蓝BOH(Hodogaya Chemical Co.，Ltd.制)、OIL BLUE#603(0RIENTCHEMICAL INDUSTRIES CO.，LTD制)、OIL PINK#312(ORIENT CHEMICAL INDUSTRIES CO.，LTD制)、OIL RED 5B(ORIENT CHEMICAL INDUSTRIES CO.，LTD制)、OIL SCARLET#308(ORIENT CHEMICAL INDUSTRIES CO.，LTD制)、0IL RED OG(ORIENT CHEMICAL INDUSTRIESCO.，LTD制)、OIL RED RR(ORIENT CHEMICAL INDUSTRIES CO.，LTD制)、OILGREEN#5O2(ORIENT CHEMICAL INDUSTRIES CO.，LTD制)、Spilon BEH special(Hodogaya ChemicalCo.，Ltd.制)、间甲酚紫、甲酚红、罗丹明B、罗丹明6G、磺酰罗丹明B、金胺、4-对二乙基氨基苯基亚胺基萘醌、2-羧基苯胺基-4-对二乙基氨基苯基亚胺基萘醌、2-羧基硬脂基氨基-4-对N，N-双(羟乙基)氨基-苯基亚胺基萘醌、1-苯基-3-甲基-4-对二乙基氨基苯基亚胺基-5-吡唑啉及1-β-萘-4-对联萘二乙基氨基苯基亚胺基-5-吡唑啉。
作为色素N中无色化合物的具体例，可举出p，p’，p”-六甲基三氨基三苯基甲烷(无色结晶紫)、Pergascript Blue SRB(Ciba-Geigy AG制)、结晶紫内酯、孔雀绿内酯、苯甲酰基无色亚甲基蓝、2-(N-苯基-N-甲基氨基)-6-(N-对甲苯基-N-乙基)氨基荧烷、2-苯胺基-3-甲基-6-(N-乙基-对甲苯胺)荧烷、3，6-二甲氧基荧烷、3-(N，N-二乙基氨基)-5-甲基-7-(N，N-二苄基氨基)荧烷、3-(N-环己基-N-甲基氨基)-6-甲基-7-苯胺基荧烷、3-(N，N-二乙基氨基)-6-甲基-7-苯胺基荧烷、3-(N，N-二乙基氨基)-6-甲基-7-二甲苯胺荧烷、3-(N，N-二乙基氨基)-6-甲基-7-氯荧烷、3-(N，N-二乙基氨基)-6-甲氧基-7-氨基荧烷、3-(N，N-二乙基氨基)-7-(4-氯苯胺基)荧烷、3-(N，N-二乙基氨基)-7-氯荧烷、3-(N，N-二乙基氨基)-7-苄基氨基荧烷、3-(N，N-二乙基氨基)-7，8-苯并荧烷、3-(N，N-二丁基氨基)-6-甲基-7-苯胺基荧烷、3-(N，N-二丁基氨基)-6-甲基-7-二甲苯胺荧烷、3-哌啶-6-甲基-7-苯胺基荧烷、3-吡咯烷-6-甲基-7-苯胺基荧烷、3，3-双(1-乙基-2-甲基吲哚-3-基)苯酞、3，3-双(1-正丁基-2-甲基吲哚-3-基)苯酞、3，3-双(对二甲基氨基苯基)-6-二甲基氨基苯酞、3-(4-二乙基氨基-2-乙氧基苯基)-3-(1-乙基-2-甲基吲哚-3-基)-4-苯酞、3-(4-二乙基氨基苯基)-3-(1-乙基-2-甲基吲哚-3-基)苯酞及3’，6’-双(二苯基氨基)螺异苯并呋喃-1(3H)，9’-[9H]呫吨-3-酮。
从曝光部及非曝光部的视觉辨认度、显影后的图案视觉辨认度及分辨率的观点考虑，色素N优选为最大吸收波长通过自由基改变的色素，更优选为通过自由基显色的色素。
作为色素N，优选无色结晶紫、结晶紫内酯、亮绿或维多利亚纯蓝-萘磺酸盐。
色素N可以单独使用1种，也可以使用2种以上。
从曝光部及非曝光部的视觉辨认度、显影后的图案视觉辨认度及分辨率的观点考虑，色素N的含量相对于感光性组合物层的总质量，优选0.1质量％以上，更优选0.1～10质量％，进一步优选0.1～5质量％，尤其优选0.1～1质量％。
色素N的含量是指使感光性组合物层的总质量中包含的所有色素N成为显色状态时的色素的含量。以下，以通过自由基显色的色素为例，对色素N的含量的定量方法进行说明。
制备在甲基乙基酮100mL中溶解有色素0.001g及0.01g的溶液。在所获得的各溶液中添加光自由基聚合引发剂Irgacure OXE01(商品名，BASF Japan Ltd.制)并照射365nm的光，由此产生自由基并使所有的色素成为显色状态。之后，在大气环境下，利用分光光度计(UV3100，SHIMADZU CORPORATION制)，测定液温为25℃的各溶液的吸光度并制成校准曲线。
接着，代替色素，将感光性组合物层3g溶解于甲基乙基酮中，除此以外，以与以上相同的方法测定使所有色素显色的溶液的吸光度。根据校准曲线，从所获得的包含感光性组合物层的溶液的吸光度算出感光性组合物层中包含的色素的含量。
另外，感光性组合物层3g与感光性树脂组合物中的总固体成分的3g相同。
<热交联性化合物>
感光性组合物层为负型感光性组合物层时，从所获得的固化膜的强度及所获得的未固化膜的粘合性的观点考虑，优选包含热交联性化合物。另外，在本说明书中，将后述具有烯属不饱和基团的热交联性化合物视为热交联性化合物，而不视为聚合性化合物。
作为热交联性化合物，可举出羟甲基化合物及封端异氰酸酯化合物。其中，从所获得的固化膜的强度及所获得的未固化膜的粘合性的观点考虑，优选封端异氰酸酯化合物。
由于封端异氰酸酯化合物与羟基及羧基进行反应，因此例如在树脂和/或聚合性化合物等具有羟基及羧基中的至少一个时，存在所形成的膜的亲水性降低且将固化负型感光性组合物层而得的膜用作保护膜时的功能被强化的倾向。
另外，封端异氰酸酯化合物是指“具有利用封端剂保护(所谓的掩蔽)异氰酸酯的异氰酸酯基的结构的化合物”。
封端异氰酸酯化合物的解离温度并没有特别限制，优选100～160℃，更优选130～150℃。
封端异氰酸酯的解离温度是指“利用差示扫描量热计，通过DSC(Differentialscanning calorimetry，差示扫描量热法)分析测定时伴随封端异氰酸酯的脱保护反应的吸热峰的温度”。
作为差示扫描量热计，例如能够优选使用Seiko Instruments Inc.制差示扫描量热计(型号：DSC6200)。但是，差示扫描量热计并不限定于此。
作为解离温度为100～160℃的封端剂，可举出活性亚甲基化合物〔丙二酸二酯(丙二酸二甲酯、丙二酸二乙酯、丙二酸二正丁酯、丙二酸二2一乙基己酯等)〕、肟化合物(甲醛肟、乙醛肟、丙酮肟、甲基乙基酮肟及环己酮肟等在分子内具有由-C(＝N-OH)-表示的结构的化合物)。
这些中，作为解离温度为100～160℃的封端剂，例如，从保存稳定性的观点考虑，优选选自肟化合物中的至少一种。
例如，从改善膜的脆性、提高与被转印体的密合力等观点考虑，封端异氰酸酯化合物优选具有异氰脲酸酯结构。
具有异氰脲酸酯结构的封端异氰酸酯化合物例如通过对六亚甲基二异氰酸酯进行异氰脲酸酯化来保护而得。
在具有异氰脲酸酯结构的封端异氰酸酯化合物中，从以下观点考虑优选将肟化合物用作封端剂的具有肟结构的化合物：相较于不具有肟结构的化合物，更容易将解离温度设为优选范围且容易减少显影残渣。
封端异氰酸酯化合物可以具有聚合性基团。
作为聚合性基团，并没有特别限制，能够使用公知的聚合性基团，优选自由基聚合性基团。
作为聚合性基团，可举出(甲基)丙烯酰氧基、(甲基)丙烯酰胺基及苯乙烯基等烯属不饱和基团、以及缩水甘油基等具有环氧基的基团等。
其中，作为聚合性基团，优选烯属不饱和基团，更优选(甲基)丙烯酰氧基，进一步优选丙烯酰氧基。
作为封端异氰酸酯化合物，能够使用市售品。
作为封端异氰酸酯化合物的市售品的例子，可举出Karenz(注册商标)AOI-BM、Karenz(注册商标)MOI-BM、Karenz(注册商标)MOI-BP等(以上为SHOWA DENKO K.K制)、封端型Duranate系列(例如，Duranate(注册商标)TPA-B80E、Duranate(注册商标)WT32-B75P等，Asahi Kasei Corporation制)。
并且，作为封端异氰酸酯化合物，还能够使用下述结构的化合物。
[化学式24]
Figure BDA0004090576800000721
热交联性化合物可以单独使用1种，也可以使用2种以上。
感光性组合物层包含热交联性化合物时，热交联性化合物的含量相对于感光性组合物层的总质量，优选1～50质量％，更优选5～30质量％。
<其他添加剂>
感光性组合物层除了包含上述成分以外，还可以根据需要包含公知的添加剂。
作为添加剂，例如，可举出自由基聚合抑制剂、增感剂、增塑剂、杂环状化合物(三唑等)、苯并三唑类、羧基苯并三唑类、吡啶类(异烟酰胺等)、嘌呤碱(腺嘌呤等)及表面活性剂。
各添加剂可以单独使用1种，也可以使用2种以上。
感光性组合物层可以包含自由基聚合抑制剂。
作为自由基聚合抑制剂，例如，可举出日本专利第4502784号公报的0018段中记载的热聚合抑制剂。其中，优选吩噻嗪、吩噁嗪或4-甲氧基苯酚。作为其他自由基聚合抑制剂，可举出萘胺、氯化亚铜、亚硝基苯基羟基胺铝盐及二苯基亚硝基胺等。为了不损害感光性组合物层的灵敏度，优选使用亚硝基苯基羟基胺铝盐作为自由基聚合抑制剂。
作为苯并三唑类，例如，可举出1，2，3-苯并三唑、1-氯-1，2，3-苯并三唑、双(N-2-乙基己基)胺亚甲基-1，2，3-苯并三唑、双(N-2-乙基己基)胺亚甲基-1，2，3-甲基苯并三唑及双(N-2-羟乙基)胺亚甲基-1，2，3-苯并三唑。
作为羧基苯并三唑类，例如，可举出4-羧基-1，2，3-苯并三唑、5-羧基-1，2，3-苯并三唑、N-(N，N-二-2-乙基己基)氨基亚甲基羧基苯并三唑、N-(N，N-二-2-羟乙基)氨基亚甲基羧基苯并三唑及N-(N，N-二-2-乙基己基)氨基乙烯基羧基苯并三唑等。作为羧基苯并三唑类，例如，能够使用CBT-1(JOHOKU CHEMICAL CO.，LTD，商品名)等市售品。
自由基聚合抑制剂、苯并三唑类及羧基苯并三唑类的合计含量相对于感光性组合物层的总质量，优选0.01～3质量％，更优选0.05～1质量％。含量为0.01质量％以上时，感光性组合物层的保存稳定性更优异。另一方面，含量为3质量％以下时，维持灵敏度及抑制染料脱色更优异。
感光性组合物层可以包含增感剂。
增感剂并没有特别限制，能够使用公知的增感剂、染料及颜料。作为增感剂，例如，可举出二烷基氨基二苯甲酮化合物、吡唑啉化合物、蒽化合物、香豆素化合物、呫吨酮化合物、噻吨酮化合物、吖啶酮化合物、噁唑化合物、苯并噁唑化合物、噻唑化合物、苯并噻唑化合物、三唑化合物(例如，1，2，4-三唑)、芪化合物、三嗪化合物、噻吩化合物、萘亚胺化合物、三芳基胺化合物及氨基吖啶化合物。
增感剂可以单独使用1种，也可以使用2种以上。
感光性组合物层包含增感剂时，增感剂的含量可根据目的适当选择，从通过对光源的灵敏度的提高及聚合速度与链转移的均衡来提高固化速度的观点考虑，相对于感光性组合物层的总质量，优选0.01～5质量％，更优选0.05～1质量％。
感光性组合物层可以包含选自增塑剂及杂环状化合物中的至少1种。
作为增塑剂及杂环状化合物，可举出国际公开第2018/179640号的0097～0103及0111～0118段中记载的化合物。
并且，感光性组合物层还可以含有金属氧化物粒子、抗氧化剂、分散剂、酸增殖剂、显影促进剂、导电性纤维、紫外线吸收剂、增稠剂、交联剂、及有机或无机防沉剂等公知的添加剂。
关于感光性组合物层中包含的添加剂，记载于日本特开2014-085643号公报的0165～0184段，该公报的内容编入本说明书中。
从提高可靠性及层压性的观点考虑，感光性组合物层中的水的含量优选0.01～1.0质量％，更优选0.05～0.5质量％。
感光性组合物层的层厚(膜厚)通常为0.1～300μm，优选0.2～100μm，更优选0.5～50μm，进一步优选0.5～15μm，尤其优选0.5～10μm，最优选0.5～8μm。由此，感光性组合物层的显影性提高，并能够提高分辨率。
并且，在一方式中，优选0.5～5μm，更优选0.5～4μm，进一步优选0.5～3μm。
并且，从密合性更优异的观点考虑，感光性组合物层对波长365nm的光的透射率优选10％以上，更优选30％以上，进一步优选50％以上。上限并没有特别限制，优选99.9％以下。
<杂质等>
感光性组合物层可以包含规定量的杂质。
作为杂质的具体例，可举出钠、钾、镁、钙、铁、锰、铜、铝、钛、铬、钴、镍、锌、锡、卤素及它们的离子。其中，由于卤化物离子、钠离子及钾离子容易作为杂质混入，因此优选设定为下述含量。
以质量基准计，感光性组合物层中的杂质的含量优选为80ppm以下，更优选为10ppm以下，进一步优选为2ppm以下。杂质的含量以质量基准可以设定为1ppb以上，也可以设定为0.1ppm以上。
作为将杂质设定在上述范围内的方法，可举出选择杂质的含量少的原料作为组合物的原料的方法；在制作感光性组合物层时防止杂质混入的方法；及清洗去除的方法。通过这种方法，能够使杂质量在上述范围内。
例如，杂质能够通过CP(Inductively Coupled Plasma：电感耦合等离子体)发射光谱法、原子吸收光谱法及离子色谱法等公知的方法定量。
感光性组合物层中的苯、甲醛、三氯乙烯、1，3-丁二烯、四氯化碳、氯仿、N，N-二甲基甲酰胺、N，N-二甲基乙酰胺及己烷等化合物的含量优选少。作为相对于感光性组合物层的总质量的这些化合物的含量，以质量基准计，优选100ppm以下，更优选20ppm以下，进一步优选4ppm以下。
以质量基准计，相对于感光性组合物层的总质量，下限能够设为10ppb以上，还能够设为100ppb以上。这些化合物能够通过与上述金属的杂质相同的方法来抑制含量。并且，能够通过公知的测定法来定量。
从提高可靠性及层压性的观点考虑，感光性组合物层中的水的含量优选0.01～1.0质量％，更优选0.05～0.5质量％。
<颜料>
感光性组合物层可以成为包含颜料的着色树脂层。
最近的电子设备所具有的液晶显示窗上有时会安装有在透明玻璃基板等的背面周缘部形成有黑色框状遮光层的覆盖玻璃以保护液晶显示窗。着色树脂层能够用于形成此类遮光层。
作为颜料，根据所希望的色相适当选择即可，能够选自黑色颜料、白色颜料、除黑色及白色以外的彩色颜料。其中，形成黑色系图案时，作为颜料，优选选择黑色颜料。
作为黑色颜料，只要在不损害本发明的效果的范围内，则能够适当选择公知的黑色颜料(有机颜料或无机颜料等)。其中，从光密度的观点考虑，作为黑色颜料，例如，可优选举出炭黑、氧化钛、碳化钛、氧化铁、氧化钛、及石墨等，尤其优选炭黑。作为炭黑，从表面电阻的观点考虑，优选表面的至少一部分被树脂包覆的炭黑。
从分散稳定性的观点考虑，以数均粒径计，黑色颜料的粒径优选0.001～0.1μm，更优选0.01～0.08μm。
在此，粒径是指根据用电子显微镜拍摄的颜料粒子的照片像求出颜料粒子的面积并设想与颜料粒子的面积相同面积的圆时的圆的直径，数均粒径是针对任意100个粒子求出上述粒径并对所求出的100个粒径进行平均来获得的平均值。
作为黑色颜料以外的颜料，关于白色颜料，能够使用日本特开2005-007765号公报的0015及0114段中记载的白色颜料。具体而言，在白色颜料中，作为无机颜料，优选氧化钛、氧化锌、锌钡白、轻质碳酸钙、白炭、氧化铝、氢氧化铝或硫酸钡，更优选氧化钛或氧化锌，进一步优选氧化钛。作为无机颜料，进一步优选金红石型或锐钛矿型氧化钛，尤其优选金红石型氧化钛。
并且，可以对氧化钛的表面实施二氧化硅处理、氧化铝处理、二氧化钛处理、氧化锆处理或有机物处理，也可以实施2种以上的处理。由此，氧化钛的催化活性得到抑制，耐热性及褪光性等得到改善。
从减少加热后的感光性组合物层厚度的观点考虑，作为对氧化钛表面的表面处理，优选氧化铝处理及氧化锆处理中的至少一种，尤其优选氧化铝处理及氧化锆处理这两者。
并且，感光性组合物层为着色树脂层时，从转印性的观点考虑，感光性组合物层还优选进一步包含除黑色颜料及白色颜料以外的彩色颜料。包含彩色颜料时，作为彩色颜料的粒径，从分散性更优异的方面考虑，优选0.1μm以下，更优选0.08μm以下。
作为彩色颜料，例如，可举出维多利亚纯蓝BO(颜料索引：Color Index(以下C.I.)42595)、金胺(C.I.41000)、脂肪黑HB(C.I.26150)、MONOLITE黄GT(C.I.颜料黄12)、永固黄GR(C.T.颜料黄17)、永固黄HR(C.I.颜料黄83)、永固胭脂红FBB(C.I.颜料红146)、HOSTABERM红ESB(C.I.颜料紫19)、永固宝石红FBH(C.I.颜料红11)、FASTEL粉红B SUPRA(C.I.颜料红81)、酞菁固蓝(C.I.颜料蓝15)、MONOLITE FAST黑B(C.I.颜料黑1)及碳、C.I.颜料红97、C.I.颜料红122、C.I.颜料红149、C.I.颜料红168、C.I.颜料红177、C.I.颜料红180、C.I.颜料红192、C.I.颜料红215、C.I.颜料绿7、C.I.颜料蓝15:1、C.I.颜料蓝15:4、C.I.颜料蓝22、C.I.颜料蓝60、C.I.颜料蓝64及C.I.颜料紫23等。其中，优选C.I.颜料红177。
感光性组合物层包含颜料时，作为颜料的含量，相对于感光性组合物层的总质量，优选超过3质量％且40质量％以下，更优选超过3质量％且35质量％以下，进一步优选超过5质量％且35质量％以下，尤其优选10质量％以上且35质量％以下。
感光性组合物层包含黑色颜料以外的颜料(白色颜料及彩色颜料)时，黑色颜料以外的颜料的含量相对于黑色颜料，优选30质量％以下，更优选1～20质量％，进一步优选3～15质量％。
另外，感光性组合物层包含黑色颜料且感光性组合物层由感光性树脂组合物形成时，黑色颜料(优选为炭黑)优选以颜料分散液的形态导入感光性树脂组合物。
分散液可以通过以下方法制备：将预先混合黑色颜料及颜料分散剂来获得的混合物添加到有机溶剂(或载体)中并用分散机分散。颜料分散剂根据颜料及溶剂选择即可，例如，能够使用市售的分散剂。另外，载体是指作为颜料分散液时使颜料分散的介质的部分，该载体为液体状且包含以分散状态保持黑色颜料的粘合剂成分及溶解并稀释粘合剂成分的溶剂成分(有机溶剂)。
作为分散机，并没有特别限制，例如，可举出捏合机、辊磨机、磨碎机、超级磨机、溶解器、均质混合器及砂磨机等公知的分散机。而且，也可以通过机械磨碎，利用摩擦力进行微粉碎。关于分散机及微粉碎，能够参考“颜料百科”(朝仓邦造著，第一版，朝仓书店，2000年，438页、310页)中的记载。
《热塑性树脂层》
通常，热塑性树脂层配置于临时支承体与感光性组合物层之间。由于转印膜具备热塑性树脂层，在转印膜与基板的贴合工序中的向基板的追随性提高，能够抑制气泡混入基板与转印膜之间。其结果，能够确保与和热塑性树脂层相邻的层(例如临时支承体)之间的密合性。
热塑性树脂层包含树脂。上述树脂包含热塑性树脂作为其一部分或全部。即，在一方式中，热塑性树脂层的树脂还优选为热塑性树脂。
<碱溶性树脂(热塑性树脂)>
作为热塑性树脂，优选为碱溶性树脂。
作为碱溶性树脂，例如，可举出丙烯酸树脂、聚苯乙烯树脂、苯乙烯-丙烯酸系共聚物、聚氨酯树脂、聚乙烯醇、聚乙烯醇缩甲醛、聚酰胺树脂、聚酯树脂、聚酰胺树脂、环氧树脂、聚缩醛树脂、聚羟基苯乙烯树脂、聚酰亚胺树脂、聚苯并噁唑树脂、聚硅氧烷树脂、聚乙烯亚胺、聚烯丙胺及聚亚烷基二醇。
作为碱溶性树脂，从显影性及与相邻层的密合性的观点考虑，优选丙烯酸树脂。
在此，丙烯酸树脂是指具有选自源自(甲基)丙烯酸的结构单元、源自(甲基)丙烯酸酯的结构单元及源自(甲基)丙烯酰胺的结构单元中的至少1种结构单元的树脂。
作为丙烯酸树脂，源自(甲基)丙烯酸的结构单元、源自(甲基)丙烯酸酯的结构单元及源自(甲基)丙烯酰胺的结构单元的合计含量相对于丙烯酸树脂的总质量，优选为50质量％以上。
其中，源自(甲基)丙烯酸的结构单元及源自(甲基)丙烯酸酯的结构单元的合计含量相对于丙烯酸树脂的总质量，优选30～100质量％，更优选50～100质量％。
并且，碱溶性树脂优选为具有酸基的聚合物。
作为酸基，可举出羧基、磺基、磷酸基及膦酸基，优选羧基。
从显影性的观点考虑，碱溶性树脂更优选酸值60mgKOH/g以上的碱溶性树脂，进一步优选酸值60mgKOH/g以上的含有羧基的丙烯酸树脂。
碱溶性树脂的酸值的上限并没有特别限制，优选300mgKOH/g以下，更优选250mgKOH/g以下，进一步优选200mgKOH/g以下，尤其优选150mgKOH/g以下。
作为酸值60mgKOH/g以上的含有羧基的丙烯酸树脂，并没有特别限制，能够从公知的树脂中适当选用。
例如，可举出日本特开2011-095716号公报的0025段中记载的聚合物中酸值60mgKOH/g以上的含有羧基的丙烯酸树脂即碱溶性树脂、日本特开2010-237589号公报的0033～0052段中记载的聚合物中酸值60mgKOH/g以上的含有羧基的丙烯酸树脂及日本特开2016-224162号公报的0053～0068段中记载的粘合剂聚合物中酸值60mgKOH/g以上的含有羧基的丙烯酸树脂。
相对于丙烯酸树脂的总质量，上述含有羧基的丙烯酸树脂中的具有羧基的结构单元的共聚比优选为5～50质量％，更优选为10～40质量％，进一步优选为12～30质量％。
作为碱溶性树脂，从显影性及与相邻层的密合性的观点考虑，尤其优选具有源自(甲基)丙烯酸的结构单元的丙烯酸树脂。
碱溶性树脂可以具有反应性基团。作为反应性基团，只要是能够加成聚合的基团即可，可举出烯属不饱和基团；羟基及羧基等缩聚性基；环氧基、(封端)异氰酸酯基等加成聚合反应性基团。
碱溶性树脂的重均分子量(Mw)优选1,000以上，更优选1万～10万，进一步优选2万～5万。
碱溶性树脂可以单独使用1种，也可以使用2种以上。
从显影性及与相邻层的密合性的观点考虑，碱溶性树脂的含量相对于热塑性树脂层的总质量，优选10～99质量％，更优选20～90质量％，进一步优选40～80质量％，尤其优选50～75质量％。
<色素>
热塑性树脂层优选包含显色时的波长范围400～780nm处的极大吸收波长为450nm以上且极大吸收波长通过酸、碱或自由基改变的色素(还简称为“色素B”。)。
除了后述方面以外，色素B的优选方式与上述色素N的优选方式相同。
从曝光部及非曝光部的视觉辨认度、以及分辨率的观点考虑，色素B优选为最大吸收波长通过酸或自由基改变的色素，更优选为最大吸收波长通过酸改变的色素。
从曝光部及非曝光部的视觉辨认度、以及分辨率的观点考虑，热塑性树脂层优选包含作为色素B的极大吸收波长通过酸改变的色素及后述通过光产生酸的化合物这两者。
色素B可以单独使用1种，也可以使用2种以上。
从曝光部及非曝光部的视觉辨认度的观点考虑，色素B的含量相对于热塑性树脂层的总质量，优选0.2质量％以上，更优选0.2～6质量％，进一步优选0.2～5质量％，尤其优选0.25～3.0质量％。
在此，色素B的含量是指使热塑性树脂层中包含的所有色素B成为显色状态时的色素的含量。以下，以通过自由基显色的色素为例，对色素B的含量的定量方法进行说明。
制备在甲基乙基酮100mL中溶解有色素0.001g及0.01g的溶液。在所获得的各溶液中添加光自由基聚合引发剂Irgacure OXE01(商品名，BASF Japan Ltd.制)并照射365nm的光，由此产生自由基并使所有的色素成为显色状态。之后，在大气环境下，利用分光光度计(UV3100，SHIMADZU CORPORATION制)，测定液温为25℃的各溶液的吸光度并制成校准曲线。
接着，代替色素，将热塑性树脂层0.1g溶解于甲基乙基酮中，除此以外，以与上述相同的方法测定使所有色素显色的溶液的吸光度。根据校准曲线，从所获得的包含热塑性树脂层的溶液的吸光度算出热塑性树脂层中包含的色素的量。
另外，热塑性树脂层3g与组合物的固体成分3g相同。
<通过光产生酸、碱或自由基的化合物>
热塑性树脂层可以包含通过光产生酸、碱或自由基的化合物(还简称为“化合物C”。)。
作为化合物C，优选接受紫外线及可见光线等活性光线来产生酸、碱或自由基的化合物。
作为化合物C，能够使用公知的光产酸剂、光产碱剂及光自由基聚合引发剂(光自由基产生剂)。
(光产酸剂)
从分辨率的观点考虑，热塑性树脂层可以包含光产酸剂。
作为光产酸剂，可举出上述负型感光性组合物层可包含的光阳离子聚合引发剂，除了后述方面以外，优选方式也相同。
作为光产酸剂，从灵敏度及分辨率的观点考虑，优选包含选自鎓盐化合物及肟磺酸酯化合物中的至少1种化合物，从灵敏度、分辨率及密合性的观点考虑，更优选包含肟磺酸酯化合物。
并且，作为光产酸剂，还优选具有以下结构的光产酸剂。
[化学式25]
Figure BDA0004090576800000801
(光自由基聚合引发剂)
热塑性树脂层可以包含光自由基聚合引发剂。
作为光自由基聚合引发剂，可举出上述负型感光性组合物层可包含的光自由基聚合引发剂，优选方式也相同。
(光产碱剂)
热塑性树脂组合物可以包含光产碱剂。
作为光产碱剂，只要是公知的光产碱剂，则并没有特别限制，例如可举出2-硝基苄基环己基氨基甲酸酯、三苯基甲醇、O-氨基甲酰基羟基酰胺、O-氨基甲酰肟、[[(2，6-二硝基苄基)氧基]羰基]环己基胺、双[[(2-硝基苄基)氧基]羰基]己烷1，6-二胺、4-(甲硫基苯甲酰基)-1-甲基-1-吗啉基乙烷、(4-吗啉基苯甲酰基)-1-苄基-1-二甲基氨基丙烷、N-(2-硝基苄氧基羰基)吡咯烷、三(三苯基甲基硼酸)六氨合钴(III)、2-苄基-2-二甲基氨基-1-(4-吗啉基苯基)-丁酮、2，6-二甲基-3，5-二乙酰基-4-(2-硝基苯基)-1，4-二氢吡啶及2，6-二甲基-3，5-二乙酰基-4-(2，4-二硝基苯基)-1，4-二氢吡啶。
化合物C可以单独使用1种，也可以使用2种以上。
从曝光部及非曝光部的视觉辨认度、以及分辨率的观点考虑，化合物C的含量相对于热塑性树脂层的总质量，优选0.1～10质量％，更优选0.5～5质量％。
<增塑剂>
从分辨率、与相邻层的密合性及显影性的观点考虑，热塑性树脂层优选包含增塑剂。
增塑剂的分子量(是低聚物或聚合物且具有分子量分布时为重均分子量)优选小于碱溶性树脂。增塑剂的分子量(重均分子量)优选200～2,000。
增塑剂只要是与碱溶性树脂相溶而显现增塑性的化合物，则并没有特别限制，从赋予增塑性的观点考虑，增塑剂优选在分子中具有亚烷氧基，更优选聚亚烷基二醇化合物。增塑剂中包含的亚烷氧基更优选具有聚乙烯氧基结构或聚丙烯氧基结构。
并且，从分辨率及保存稳定性的观点考虑，增塑剂优选包含(甲基)丙烯酸酯化合物。从相溶性、分辨率及与相邻层的密合性的观点考虑，更优选碱溶性树脂为丙烯酸树脂且增塑剂包含(甲基)丙烯酸酯化合物。
作为用作增塑剂的(甲基)丙烯酸酯化合物，可举出记载为上述负型感光性组合物层中包含的聚合性化合物的(甲基)丙烯酸酯化合物。
转印膜中，在热塑性树脂层与负型感光性组合物层直接接触而被层叠时，优选热塑性树脂层及负型感光性组合物层均包含(甲基)丙烯酸酯化合物。这是因为通过热塑性树脂层及负型感光性组合物层分别包含相同的(甲基)丙烯酸酯化合物，层间的成分扩散得到抑制，保存稳定性提高。
热塑性树脂层包含(甲基)丙烯酸酯化合物作为增塑剂时，从热塑性树脂层与相邻层的密合性的观点考虑，在曝光后的曝光部也优选(甲基)丙烯酸酯化合物不聚合。
并且，作为可用作增塑剂的(甲基)丙烯酸酯化合物，从热塑性树脂层的分辨率、与相邻层之间的密合性及显影性的观点考虑，优选在1分子中具有2个以上(甲基)丙烯酰基的多官能(甲基)丙烯酸酯化合物。
而且，作为可用作增塑剂的(甲基)丙烯酸酯化合物，还优选具有酸基的(甲基)丙烯酸酯化合物或氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯化合物。
增塑剂可以单独使用1种，也可以使用2种以上。
从热塑性树脂层的分辨率、与相邻层的密合性及显影性的观点考虑，增塑剂的含量相对于热塑性树脂层的总质量，优选1～70质量％，更优选10～60质量％，进一步优选20～50质量％。
<增感剂>
热塑性树脂层可以包含增感剂。
作为增感剂，并没有特别限制，可举出上述负型感光性组合物层可包含的增感剂。
增感剂可以单独使用1种，也可以使用2种以上。
增感剂的含量能够根据目的适当选择，但从对光源的灵敏度的提高、以及曝光部及非曝光部的视觉辨认度的观点考虑，相对于热塑性树脂层的总质量，优选0.01～5质量％，更优选0.05～1质量％。
<添加剂等>
热塑性树脂层除了含有上述成分以外，还可以根据需要含有公知的添加剂。
并且，关于热塑性树脂层，记载于日本特开2014-085643号公报的0189～0193段中，该公报中记载的内容编入本说明书中。
热塑性树脂层的层厚并没有特别限制，从与相邻层的密合性的观点考虑，优选1μm以上，更优选2μm以上。上限并没有特别限制，从显影性及分辨率的观点考虑，优选20μm以下，更优选10μm以下，进一步优选8μm以下。
《中间层》
在转印膜20中，通过中间层15存在于热塑性树脂层13与感光性组合物层17之间，能够抑制热塑性树脂层13及感光性组合物层17的涂布形成时及涂布形成后保存时有可能产生的成分的混合。
作为中间层，能够使用包含水溶性树脂的水溶性树脂层。
并且，作为中间层，还能够使用日本特开平5-072724号公报中记载为“分离层”的具有阻氧功能的阻氧层。中间层为阻氧层时，曝光时的灵敏度提高，曝光机的时间负荷减少而生产率提高，因此优选。
可用作中间层的阻氧层适当选自上述公报等中记载的公知的层即可。其中，优选显示出低透氧性且在水或碱水溶液(22℃的碳酸钠的1质量％水溶液)中分散或溶解的阻氧层。
以下，对水溶性树脂层(中间层)可包含的各成分进行说明。
水溶性树脂层(中间层)包含树脂。
上述树脂包含水溶性树脂作为其一部分或全部。
作为能够用作水溶性树脂的树脂，例如，可举出聚乙烯醇系树脂、聚乙烯吡咯烷酮系树脂、纤维素系树脂、丙烯酰胺系树脂、聚环氧乙烷系树脂、明胶、乙烯基醚系树脂、聚酰胺树脂及这些的共聚物等树脂。
并且，作为水溶性树脂，还能够使用(甲基)丙烯酸/乙烯基化合物的共聚物等。作为(甲基)丙烯酸/乙烯基化合物的共聚物，优选(甲基)丙烯酸/(甲基)丙烯酸烯丙酯的共聚物，更优选甲基丙烯酸/甲基丙烯酸烯丙酯的共聚物。
水溶性树脂为(甲基)丙烯酸/乙烯基化合物的共聚物时，作为各组成比(摩尔％)，例如，优选90/10～20/80，更优选80/20～30/70。
作为水溶性树脂的重均分子量的下限值，优选5,000以上，更优选7,000以上，进一步优选10,000以上。并且，作为其上限值，优选200,000以下，更优选100,000以下，进一步优选50,000以下。
水溶性树脂的分散度(Mw/Mn)优选1～10，更优选1～5。
另外，从进一步提高水溶性树脂层(中间层)的层间混合抑制能力的方面考虑，水溶性树脂层(中间层)中的树脂优选为与在水溶性树脂层(中间层)的一面侧配置的层中包含的树脂及在另一面侧配置的层中包含的树脂不同的树脂。例如，在感光性组合物层17中包含聚合物A，热塑性树脂层13中包含热塑性树脂(碱溶性树脂)时，水溶性树脂层(中间层)15的树脂优选为与聚合物A及热塑性树脂(碱溶性树脂)不同的树脂。
从进一步提高阻氧性以及层间混合抑制能力方面考虑，水溶性树脂优选包含聚乙烯醇，更优选包含聚乙烯醇及聚乙烯吡咯烷酮这两者。
水溶性树脂可以单独使用1种，也可以使用2种以上。
水溶性树脂的含量并没有特别限制，从进一步提高阻氧性以及层间混合抑制能力的方面考虑，相对于水溶性树脂层(中间层)的总质量，优选50质量％以上，更优选70质量％以上，进一步优选80质量％以上，尤其优选90质量％以上。另外，作为其上限值，并没有特别限制，例如，优选99.9质量％以下，进一步优选99.8质量％以下。
水溶性树脂层(中间层)的层厚并没有特别限制，优选0.1～5μm，更优选0.5～3μm。若水溶性树脂层(中间层)的厚度在上述范围内，则层间混合抑制能力优异而不会降低阻氧性。并且，还能够进一步抑制显影时的水溶性树脂层(中间层)的去除时间的增加。
《第2实施方式的转印膜的制造方法》
第2实施方式的转印膜的制造方法并没有特别限制，能够使用公知的方法。
作为上述转印膜20的制造方法，例如，可举出包括如下工序的方法：在临时支承体11的表面涂布热塑性树脂组合物形成涂膜并进一步干燥该涂膜而形成热塑性树脂层13的工序；在热塑性树脂层13的表面涂布水溶性树脂组合物形成涂膜并进一步干燥该涂膜而形成中间层15的工序；及在中间层15的表面涂布感光性组合物形成涂膜并进一步干燥该涂膜而形成感光性组合物层17的工序。
在通过上述制造方法制造的层叠体的感光性组合物层17上压接保护膜19，由此制造转印膜20。
作为第2实施方式的转印膜的制造方法，优选通过包括将保护膜19设置成接触感光性树脂层17的与具有临时支承体11的一侧相反的一侧的面的工序，制造具备临时支承体11、热塑性树脂层13、中间层15、感光性组合物层17、及保护膜19的转印膜20。
通过上述制造方法制造转印膜20之后卷取转印膜20，由此可以制作并保管卷状转印膜。卷状转印膜在通过后述卷对卷方式进行的与基板的贴合工序中直接以卷状提供。
并且，作为上述转印膜20的制造方法，可以是在覆盖膜19上形成感光性树脂层17及中间层15之后，在中间层15的表面形成热塑性树脂层3的方法。
<热塑性树脂层形成用组合物及热塑性树脂层的形成方法>
作为在临时支承体上形成热塑性树脂层的方法，并没有特别限制，能够使用公知的方法。例如，能够通过在临时支承体上涂布热塑性树脂层形成用组合物之后根据需要使其干燥来形成。
作为热塑性树脂层形成用组合物，优选包含上述形成热塑性树脂层的各种成分及溶剂。另外，在热塑性树脂层形成用组合物中，相对于组合物的总固体成分的各成分的含量的优选范围与相对于上述热塑性树脂层的总质量的各成分的含量的优选范围相同。
作为溶剂，只要能够溶解或分散溶剂以外的各成分，则并没有特别限制，能够使用公知的溶剂。作为溶剂，可举出与后述感光性组合物所包含的溶剂相同的溶剂，优选方式也相同。
溶剂的含量相对于组合物的总固体成分100质量份，优选50～1,900质量份，更优选100～900质量份。
热塑性树脂层的形成方法只要是能够形成包含上述成分的层的方法，则并没有特别限制，例如，可举出公知的涂布方法(狭缝涂布、旋转涂布、帘式涂布及喷墨涂布等)。
<水溶性树脂组合物及中间层(水溶性树脂层)的形成方法>
作为水溶性树脂组合物，优选包含形成上述中间层(水溶性树脂层)的各种成分和溶剂。另外，在水溶性树脂组合物中，相对于组合物的总固体成分的各成分的含量的优选范围与相对于上述水溶性树脂层的总质量的各成分的含量的优选范围相同。
作为溶剂，只要能够溶解或分散水溶性树脂，则并没有特别限制，优选选自水及水混和性有机溶剂中的至少1种，更优选水或水与水混和性有机溶剂的混合溶剂。
作为水混合性有机溶剂，例如，可举出碳原子数1～3的醇、丙酮、乙二醇及甘油，优选碳原子数1～3的醇，更优选甲醇或乙醇。
溶剂可以单独使用1种，也可以使用2种以上。
溶剂的含量相对于组合物的总固体成分100质量份，优选50～2,500质量份，更优选50～1,900质量份，进一步优选100～900质量份。
水溶性树脂层的形成方法只要是能够形成包含上述成分的层的方法，则并没有特别限制，例如，可举出公知的涂布方法(狭缝涂布、旋转涂布、帘式涂布及喷墨涂布等)。
<感光性组合物及感光性组合物层的形成方法>
从生产率优异的方面及满足上述式(1A)～式(3A)的要件的组合物层容易形成的方面考虑，优选使用包含构成上述感光性组合物层的成分(例如，粘合剂聚合物、聚合性化合物及聚合引发剂等)及溶剂的感光性组合物，通过涂布法形成。
作为第2实施方式的转印膜的制造方法，具体而言，优选为如下方法：在中间层上涂布感光性组合物而形成涂膜，在规定温度下对该涂膜实施干燥处理而形成感光性组合物层。另外，推测通过涂膜的干燥处理调整残留溶剂量，其结果，感光性组合物层的tanδ被适当调整而满足上述式(1A)～式(3A)的要件的组合物层容易形成。
作为感光性组合物，优选包含上述形成感光性组合物层的各种成分及溶剂。另外，在感光性组合物中，相对于组合物的总固体成分的各成分的含量的优选范围与上述相对于感光性组合物层的总质量的各成分的含量的优选范围相同。
作为溶剂，只要能够溶解或分散溶剂以外的各成分，则并没有特别限制，能够使用公知的溶剂。具体而言，例如，可举出亚烷基二醇醚溶剂、亚烷基二醇醚乙酸酯溶剂、醇溶剂(甲醇及乙醇等)、酮溶剂(丙酮及甲基乙基酮等)、芳香族烃溶剂(甲苯等)、非质子性极性溶剂(N，N-二甲基甲酰胺等)、环状醚溶剂(四氢呋喃等)、酯溶剂(乙酸正丙酯等)、酰胺溶剂、内酯溶剂以及包含这些中的2种以上的混合溶剂。
作为溶剂，优选包含选自亚烷基二醇醚溶剂及亚烷基二醇醚乙酸酯溶剂中的至少1种。其中，更优选包含选自亚烷基二醇醚溶剂及亚烷基二醇醚乙酸酯溶剂中的至少1种和选自酮溶剂及环状醚溶剂中的至少1种的混合溶剂，进一步优选至少包含选自亚烷基二醇醚溶剂及亚烷基二醇醚乙酸酯溶剂中的至少1种、酮溶剂、以及环状醚溶剂这3种的混合溶剂。
作为亚烷基二醇醚溶剂，例如，可举出乙二醇单烷基醚、乙二醇二烷基醚、丙二醇单烷基醚(丙二醇单甲醚乙酸酯等)、丙二醇二烷基醚、二乙二醇二烷基醚、二丙二醇单烷基醚及二丙二醇二烷基醚。
作为亚烷基二醇醚乙酸酯溶剂，例如，可举出乙二醇单烷基醚乙酸酯、丙二醇单烷基醚乙酸酯、二乙二醇单烷基醚乙酸酯及二丙二醇单烷基醚乙酸酯。
作为溶剂，可以使用国际公开第2018/179640号的0092～0094段中记载的溶剂及日本特开2018-177889公报的0014段中记载的溶剂，这些内容编入本说明书中。
溶剂可以单独使用1种，也可以使用2种以上。
溶剂的含量相对于组合物的总固体成分100质量份，优选50～1,900质量份，进一步优选100～1200质量份，进一步优选100～900质量份。
作为感光性组合物的涂布方法，例如可举出印刷法、喷涂法、辊涂法、棒涂法、帘涂法、旋涂法及模涂法(即，狭缝涂布法)。
作为感光性组合物的涂膜的干燥方法，优选加热干燥及减压干燥。
从感光性组合物层的tanδ被适当调整而满足上述式(1A)～式(3A)的要件的组合物层容易形成的方面考虑，作为干燥温度，优选90℃以上，更优选100℃以上，进一步优选110℃以上。并且，作为其上限值，并没有特别限制，优选130℃以下，更优选120℃以下。
并且，从感光性组合物层的tanδ被适当调整而满足上述式(1A)～式(3A)的要件的组合物层容易形成的方面考虑，作为干燥时间，优选20秒以上，更优选40秒以上，进一步优选60秒以上。并且，作为其上限值，并没有特别限制，优选450秒以下，更优选300秒以下。
而且，通过将保护膜贴合在感光性组合物层，能够制造第2实施方式的转印膜。
在感光性组合物层上贴合保护膜的方法并没有特别限制，可举出公知的方法。
作为在感光性组合物层上贴合保护膜的装置，可举出真空层压机及自动切割层压机等公知的层压机。
层压机优选具备橡胶辊等任意可加热的辊且能够进行加压及加热。
[层叠体的制造方法]
通过使用上述转印膜，能够将组合物层转印至被转印体。
其中，本发明的转印膜优选用于制造触摸面板。
其中，优选本发明的层叠体的制造方法包括：贴合工序，通过使转印膜所具有的与临时支承体相反的一侧的表面与具有导电部的基板接触而进行贴合，获得依次具有基板、导电层、组合物层及临时支承体的带组合物层的基板；
曝光工序，对组合物层进行图案曝光；及
显影工序，通过对经曝光的组合物层进行显影而形成保护导电层的保护膜图案；
层叠体的制造方法还包括：剥离工序，在贴合工序与曝光工序之间或曝光工序与显影工序之间，从带组合物层的基板剥离临时支承体。
以下，对上述工序的顺序进行详细说明。
〔贴合工序〕
贴合工序是通过使转印膜所具有的与临时支承体相反的一侧的表面与具有导电部的基板接触而进行贴合，获得依次具有基板、导电层、感光性组合物层及临时支承体的带组合物层的基板的工序。另外，转印膜为具有保护膜的结构的情况下，剥离保护膜之后实施贴合工序。
在上述贴合中，优选以上述导电层与上述组合物层的表面接触的方式进行压接。
作为上述压接方法，并没有特别限制，能够使用公知的转印方法及层压方法。其中，优选将组合物层的表面重叠于具有导电部的基板上，并进行基于辊等的加压及加热。
能够使用真空层压机及自动切割层压机等公知的层压机进行贴合。
作为层压温度，并没有特别限制，例如，优选为70～130℃。
具有导电层的基板在基板上具有导电层，可根据需要形成任意层。即，具有导电层的基板是至少具有基板及配置于基板上的导电层的导电性基板。
作为基板，例如，可举出树脂基板、玻璃基板及半导体基板。
作为基板的优选方式，例如记载于国际公开第2018/155193号的[0140]段，该内容编入本说明书中。
作为导电层，从导电性及细线形成性方面考虑，优选为选自金属层、导电性金属氧化物层、石墨烯层、碳纳米管层及导电聚合物层中的至少一种层。
并且，在基板上可以仅配置1层导电层，也可以配置2层以上。配置2层以上导电层时，优选具有不同材质的导电层。
作为导电层的优选方式，例如记载于国际公开第2018/155193号的[0141]段，该内容编入本说明书中。
作为具有导电层的基板，优选具有透明电极及迂回布线中的至少一种的基板。如上所述的基板能够优选用作触摸面板用基板。
透明电极能够优选作为触摸面板用电极发挥功能。透明电极优选由ITO(氧化铟锡)及IZO(氧化铟锌)等金属氧化膜、以及金属网及银纳米线等金属细线构成。
作为金属细线，可举出银、铜等的细线。其中，优选银网、银纳米线等银导电性材料。
作为迂回布线的材质，优选金属。
作为迂回布线的材质即金属，可举出金、银、铜、钼、铝、钛、铬、锌及锰、以及由这些金属元素的2种以上构成的合金。作为迂回布线的材质，优选铜、钼、铝或钛，尤其优选铜。
使用本发明的转印膜中的感光性组合物层形成的触摸面板用电极保护膜优选以保护电极等(即触摸面板用电极及触摸面板用配线中的至少一个)为目的，设置成将电极等直接覆盖或隔着其他层覆盖。
〔曝光工序〕
曝光工序是对组合物层进行图案曝光的工序。
另外，在此“图案曝光”是指以图案状曝光的方式，即存在曝光部和非曝光部的方式的曝光。
图案曝光中的曝光区域与未曝光区域的位置关系并没有特别限制，可适当调整。
作为图案曝光的光源，只要是至少能够照射可固化感光性组合物层的波长区域的光(例如，365nm或405nm)的光源，则能够适当选用。其中，图案曝光的曝光光的主波长优选为365nm。另外，主波长是指强度最高的波长。
作为光源，例如，可举出各种激光器、发光二极管(LED)、超高压汞灯、高压汞灯及金属卤化物灯。
曝光量优选5～200mJ/cm2，更优选10～200mJ/cm2。
作为曝光中使用的光源、曝光量及曝光方法的优选方式，例如，记载于国际公开第2018/155193号的[0146]～[0147]段，这些内容编入本说明书中。
通过进行曝光工序及后述显影工序，在基板上的导电层上形成保护导电层的至少一部分的保护膜图案。
〔剥离工序〕
剥离工序是在贴合工序与曝光工序之间或曝光工序与后述显影工序之间，从带组合物层的基板剥离临时支承体的工序。
剥离方法并没有特别限制，能够使用与日本特开2010-072589号公报的[0161]～[0162]段中记载的覆盖膜剥离机构相同的机构。
〔显影工序〕
显影工序是对经曝光的组合物层进行显影而形成图案的工序。
上述组合物层的显影能够使用显影液进行。
作为显影液，优选碱性水溶液。作为碱性水溶液中可含有的碱性化合物，例如可举出氢氧化钠、氢氧化钾、碳酸钠、碳酸钾、碳酸氢钠、碳酸氢钾、氢氧化四甲基铵、氢氧化四乙基铵、氢氧化四丙基铵、氢氧化四丁基铵及胆碱(2-羟乙基三甲基氢氧化铵)。
作为显影方式，例如可举出旋覆浸没显影、喷淋显影、旋转显影及浸渍显影等方式。
作为在本说明书中优选使用的显影液，例如，可举出国际公开第2015/093271号的[0194]段中记载的显影液，作为优选使用的显影方式，例如，可举出国际公开第2015/093271号的[0195]段中记载的显影方式。
〔后曝光工序及后烘烤工序〕
上述层叠体的制造方法可以包括对通过上述显影工序获得的图案进行曝光的工序(后曝光工序)和/或进行加热的工序(后烘烤工序)。
包括后曝光工序及后烘烤工序两者时，优选在后曝光之后实施后烘烤。
〔层叠体的用途〕
通过本发明的层叠体的制造方法制造的层叠体能够适用于各种装置。作为具备上述层叠体的装置，例如可举出显示装置、印刷线路板、半导体封装及输入装置等，优选为触摸面板，更优选为静电电容型触摸面板。并且，上述输入装置能够应用于有机电致发光显示装置、液晶显示装置等显示装置。
将层叠体适用于触摸面板时，由组合物层形成的图案优选用作触摸面板用电极或触摸面板用配线的保护膜。即，转印膜中包含的组合物层优选用于形成触摸面板用电极保护膜或触摸面板用配线。
作为由组合物层形成的图案(固化膜)的用途，例如，可举出各种电极保护膜、平坦化膜、顶涂膜、硬涂膜、钝化膜、隔壁、间隔物、微透镜、光学滤波器及防反射膜。
[电路配线的制造方法]
通过使用上述转印膜，还能够制造电路配线。
电路配线的制造方法只要是使用上述转印膜的电路配线的制造方法，则并没有特别限制。
其中，优选本发明的电路配线的制造方法包括：
贴合工序，通过使转印膜所具有的与临时支承体相反的一侧的表面接触具有导电层的基板而获得依次具有基板、导电层、组合物层及临时支承体的带组合物层的基板；
曝光工序，对组合物层进行图案曝光；
显影工序，通过对经曝光的组合物层进行显影而形成树脂图案；及
蚀刻工序，对未配置有树脂图案的区域内的导电层进行蚀刻处理；
电路配线的制造方法还包括：
剥离工序，在贴合工序与曝光工序之间或曝光工序与显影工序之间，从带感光性组合物层的基板剥离临时支承体。
以下，对电路配线的制造方法的具体顺序进行说明。
关于电路配线的制造方法中的贴合工序、曝光工序、显影工序及剥离工序，与上述层叠体的制造方法中的贴合工序、曝光工序、显影工序及剥离工序相同，优选方式也相同。
〔蚀刻工序〕
电路配线的制造方法包括对在依次层叠有基板、导电层(基板所具有的导电层)及树脂图案(更优选为通过包括上述贴合工序、上述曝光工序及上述显影工序的制造方法制造的树脂图案)的层叠体上位于未配置有树脂图案的区域的导电层进行蚀刻处理的工序(蚀刻工序)。
在上述蚀刻工序中，使用通过上述显影工序由感光性组合物层获得的树脂图案作为抗蚀剂，进行导电层的蚀刻处理。
作为蚀刻处理方法，能够适用公知的方法，例如，可举出日本特开2017-120435号公报的[0209]～[0210]段中记载的方法、日本特开2010-152155号公报的[0048]～[0054]段等中记载的方法、基于浸渍于蚀刻液的湿式蚀刻法及等离子体蚀刻等干式蚀刻的方法。
湿式蚀刻中使用的蚀刻液根据蚀刻对象适当选择酸性或碱性蚀刻液即可。
作为酸性蚀刻液，例如，可举出选自盐酸、硫酸、硝酸、乙酸、氟酸、草酸及磷酸中的酸性成分单独的水溶液以及酸性成分与选自氯化铁、氟化铵及高锰酸钾中的盐的混合水溶液。酸性成分可以是组合多种酸性成分而成的成分。
作为碱性蚀刻液，可举出选自氢氧化钠、氢氧化钾、氨、有机胺及有机胺的盐(四甲基氢氧化铵等)中的碱成分单独的水溶液、以及碱成分与盐(高锰酸钾等)的混合水溶液。碱成分可以是组合多种碱成分而成的成分。
〔去除工序〕
在电路配线的制造方法中，优选进行去除残留的树脂图案的工序(去除工序)。
去除工序并没有特别限制，可根据需要来进行，优选在蚀刻工序之后进行。
作为去除残留的树脂图案的方法，并没有特别限制，例如，可举出通过药品处理去除的方法，优选使用去除液去除的方法。
作为感光性树脂层的去除方法，可举出优选为在30～80℃、更优选为在50～80℃的液温下进行搅拌的去除液中浸渍具有残留的树脂图案的基板1～30分钟的方法。
作为去除液，例如，可举出将无机碱成分或有机碱成分溶解于水、二甲基亚砜、N-甲基吡咯烷酮或这些的混合溶液的去除液。作为无机碱成分，例如，可举出氢氧化钠及氢氧化钾。作为有机碱成分，可举出伯胺化合物、仲胺化合物、叔胺化合物及季铵盐化合物。
并且，可以使用去除液，通过喷涂法、喷淋法、旋覆浸没法等公知的方法去除。
〔其他工序〕
电路配线的制造方法可以包括除上述工序以外的任意工序(其他工序)。
例如，可举出国际公开第2019/022089号的[0172]段中记载的降低可见光线反射率的工序、国际公开第2019/022089号的[0172]段中记载的在绝缘膜上形成新导电层的工序等，但并不限定于这些工序。
<降低可见光线反射率的工序>
电路配线的制造方法可以包括如下工序：进行降低基材所具有的多个导电层的一部分或全部的可见光线反射率的处理。
作为降低可见光线反射率的处理，可举出氧化处理。基材含有含铜导电层时，对铜进行氧化处理而制成氧化铜，并对导电层进行黑化，由此能够降低导电层的可见光线反射率。
关于降低可见光线反射率的处理，记载于日本特开2014-150118号公报的0017～0025段、以及日本特开2013-206315号公报的0041段、0042段、0048段及0058段，这些公报中记载的内容编入本说明书中。
<形成绝缘膜的工序、在绝缘膜的表面形成新导电层的工序>
电路配线的制造方法还优选包括在电路配线的表面形成绝缘膜的工序和在绝缘膜的表面形成新导电层的工序。
通过上述工序，能够形成第一电极图案及绝缘的第二电极图案。
作为形成绝缘膜的工序，并没有特别限制，可举出公知的形成永久膜的方法。并且，可以使用具有绝缘性的感光性材料，通过光刻形成所希望的图案的绝缘膜。
在绝缘膜上形成新导电层的工序并没有特别限制，例如，可以使用具有导电性的感光性材料，通过光刻形成所希望的图案的新导电层。
电路配线的制造方法还优选使用在基材的两个表面分别具有多个导电层的基板，逐次或同时在形成于基材的两个表面的导电层上形成电路。通过此类结构，能够形成如下触摸面板用电路配线：在基材的一表面形成第一导电图案，在另一表面形成第二导电图案。并且，还优选通过卷对卷，从基材的两面形成此类结构的触摸面板用电路配线。
〔电路配线的用途〕
通过电路配线的制造方法制造的电路配线能够适用于各种装置。作为具备通过上述制造方法制造的电路配线的装置，例如，可举出显示装置、印刷线路板、半导体封装及输入装置，优选触摸面板，更优选静电电容型触摸面板。并且，上述输入装置能够适用于有机EL显示装置及液晶显示装置等显示装置。
实施例
以下，根据实施例对本发明进行进一步详细的说明。以下实施例所示的材料、使用量、比例、处理内容及处理顺序等只要不脱离本发明的主旨，则能够适当变更。因此，本发明的范围不应因以下所示的实施例而做限定性解释。
另外，只要没有特别说明，“份”及“％”是质量基准。
并且，在以下实施例中，树脂的重均分子量是通过基于凝胶渗透色谱(GPC)的聚苯乙烯换算求出的重均分子量。并且，酸值使用了理论酸值。
〔合成例〕
<聚合物P-1～P-5的合成>
(聚合物P-1的合成)
将丙二醇单甲醚(82.4g，FUJIFILM Wako Pure Chemical Corporation)加入烧瓶中，并在氮气气流下加热至90℃。在该溶液中，经3小时同时滴加使苯乙烯(38.4g，FUJIFILMWako Pure Chemical Corporation)、甲基丙烯酸二环戊酯(30.1g，FANCRYL FA-513M，Hitachi Chemical Co.，Ltd.)及甲基丙烯酸(34.0g，FUJIFILM Wako Pure ChemmicalCorporation)溶解于丙二醇单甲醚(20g)中的溶液、以及使聚合引发剂V-601(5.4g，FUJIF[LM Wako Pure Chemical Corporation)溶解于丙二醇单甲醚乙酸酯(43.6g，FUJIFILMWako Pure Chemical Corporation)中的溶液。滴加结束后，在每隔1小时添加了V-601(0.75g)共计3次。之后，使溶液进一步反应3小时。之后，用丙二醇单甲醚乙酸酯(58.4g)及丙二醇单甲醚(11.7g)稀释了所获得的溶液。在空气气流下，将溶液升温至100℃，添加了四乙基溴化铵(0.53g，FUJIFILM Wako Pure Chemical Corporation)及对甲氧基苯酚(0.26g，FUJIFILM Wako Pure Chemical Corporation)。在所获得的溶液中，经20分钟滴加了甲基丙烯酸缩水甘油酯(25.5g，NOF CORPORATION，BLEMMER GH)。使所获得的溶液在100℃下反应7小时，获得了聚合物P-1的溶液。所获得的溶液的固体成分浓度为36.3质量％。GPC中的标准聚苯乙烯换算的重均分子量为17,000，分散度(Mw/Mn)为2.4，聚合物的酸值为94.5mgKOH/g。在所有单体中，利用气相色谱法测定的残留单体量相对于聚合物固体成分均低于0.1质量％。
(聚合物P-2～P-3的合成)
将聚合物中包含的各结构单元的种类及各结构单元的含量变更为表1所示，除此以外，以与聚合物P-1的合成相同的方法，合成了聚合物P-2～P-3。另外，关于聚合物P-2，也以固体成分浓度为36.3质量％的聚合物P-2的溶液的形态获得。并且，关于聚合物P-3，也以固体成分浓度为36.3质量％的聚合物P-3的溶液的形态获得。
(聚合物P-4的合成)
混合丙二醇单甲醚(55.8g，FUJIFILM Wako Pure Chemical Corporation)及甲苯(55.8g，FUJIFILM Wako Pure Chemical Corporation)，制备了第1液。并且，混合甲基丙烯酸(12.0g，FUJIFILM Wako Pure Chemical Corp oration)、甲基丙烯酸甲酯(58.0g，FUJIFILM Wako Pure Chemical Corpor ation)、丙烯酸乙酯(30.0g，FUJIFILM Wako PureChemical Corporation)、聚合引发剂2，2’-偶氮双(异丁腈)(1.0g，FUJIFILM Wako PureChem ical Corporation)、丙二醇单甲醚(32.0g)及甲苯(32.0g)，在室温下搅拌1小时使固体2，2’-偶氮双(异丁腈)溶解而制备了第2液。
在烧瓶中加入第1液，在氮气环境下升温至80℃。搅拌下维持液温的同时，使用滴加泵，经4小时将第2液添加到烧瓶内的第1液中。添加结束后，在搅拌下将混合液的液温维持在80℃进一步使其反应6小时，由此获得了聚合物P-4的溶液。所获得的溶液的固体成分浓度为36.3质量％。GPC中的标准聚苯乙烯换算的重均分子量为65，000，聚合物的酸值为78mgKOH/g。
(聚合物P-5的合成)
除了变更单体的种类和量以外，以与聚合物P-4相同的方法合成，获得了聚合物P-5的溶液。所获得的溶液的固体成分浓度为36.3质量％。GPC中的标准聚苯乙烯换算的重均分子量为65，000。
以下，在表1中示出聚合物P-1～P-5。
表1中，关于具有(甲基)丙烯酰基的结构单元以外的结构单元，以用于形成各结构单元的单体的缩写表示。
关于具有(甲基)丙烯酰基的结构单元，以单体与单体的加成结构的形式表示。例如，MAA-GMA是指对源自甲基丙烯酸的结构单元加成甲基丙烯酸缩水甘油酯而成的结构单元。
聚合物P-1～P-5相当于碱溶性树脂。
[表1]
(表1)
Figure BDA0004090576800000961
表1中的缩写为如下。
St：苯乙烯(FUJIFILM Wako Pure Chemical Corporation)
BzMA：甲基丙烯酸苄酯(FUJIFILM Wako Pure Chemical Corporation)
CHMA：甲基丙烯酸环己酯(FUJIFILM Wako Pure Chemical Corporation)
MAA-GMA：对源自甲基丙烯酸的结构单元加成甲基丙烯酸缩水甘油酯而成的结构单元
MAA：甲基丙烯酸(FUJIFILM Wako Pure Chemical Corporation)
DCPMA：甲基丙烯酸二环戊酯(FANCRYL FA-513M，Hitachi Chemical Co.，Ltd.)
MMA：甲基丙烯酸甲酯(FUJIFILM Wako Pure Chemical Corporation)
EA：丙烯酸乙酯(FUJIFILM Wako Pure Chemical Corporation制)
<聚合物P’-1的合成>
在三口烧瓶中导入丙二醇单甲醚(270.0g)，进行搅拌的同时在氮气气流下升温至70℃。另一方面，通过将甲基丙烯酸烯丙酯(45.6g，FUJIFILM Wako Pure ChemicalCorporation)及甲基丙烯酸(14.4g)溶解于丙二醇单甲醚(270.0g)中，进一步溶解V-65(3.94g，FUJIFILM Wako Pure Chemical Corporation)而制作滴加液，经2.5小时滴加至烧瓶中。将所获得的溶液保持搅拌状态并使其反应了2小时。之后，使所获得的溶液的温度恢复至室温，滴加至搅拌状态的离子交换水(2.7L)中，并实施再沉淀，由此获得了悬浮液。通过在加了滤纸的吸滤器中导入悬浮液而进行过滤，将过滤物进一步用离子交换水清洗，由此获得了润湿状态的粉体。接着，实施45℃的送风干燥，确认成为恒量，以产率70％获得了作为粉体的聚合物P’-1(下述结构式)。
另外，在下述聚合物P’-1的结构式中，聚合物中包含的各结构单元的比率为质量％。
[化学式26]
Figure BDA0004090576800000971
<封端异氰酸酯化合物Q-1的合成>
在氮气气流下，使丁酮肟(453g，Idemitsu Kosan Co.，Ltd.制)溶解于甲基乙基酮(700g)中。在冰冷下，经1小时对其滴加1，3-双(异氰酸酯甲基)环己烷(500g，顺反式同分异构体混合物，Mitsui Chemicals，Inc.制，Takenate 600)，滴加后使溶液进一步反应1小时。之后，将所获得的溶液升温至40℃而使其反应1小时。通过1H-NMR及HPLC确认反应结束，获得了封端异氰酸酯化合物Q-1(下述结构式)的甲基乙基酮溶液。所获得的溶液的固体成分浓度为57.7质量％。
[化学式27]
Figure BDA0004090576800000972
〔感光性组合物的制备〕
制备了下述表2所示的成分及配比的感光性组合物A-1～A-18、A’-1～A’-3。
另外，在表2中，各成分栏中记载的数值表示各成分的含量(质量份)。其中，碱溶性一栏中的聚合物P-1～P-5的各量表示聚合物溶液的量。
并且，表2中“SMA EF-40”是苯乙烯/无水马来酸酐＝4∶1(摩尔比)的共聚物(酸酐值1.94mmol/g，Mw10500，Cray Valley公司制)。
[表2]
Figure BDA0004090576800000981
[表3]
Figure BDA0004090576800000991
<折射率调整层形成用组合物的制备>
接着，以下述表3中记载的成分及配比制备了折射率调整层形成用组合物B-1。
另外，表3中的聚合物P’-1使用了在上段部的合成例中合成的聚合物。
表3中，各成分栏中记载的数值表示各成分的含量(质量份)。
[表4]
(表3)
Figure BDA0004090576800001001
〔实施例1～25及比较例1～4的转印膜的制作〕
<实施例1～12、18～25、以及比较例1～3的转印膜的制作>
使用狭缝状喷嘴，在厚度16μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜(Lumirror 16KS40(Lumirror 16QS62)，TORAY INDUSTRIES，INC.制)的临时支承体上涂布所制备的感光性组合物A-1～A-18、A’-1～A’-3中的任一种，直至干燥后的感光性组合物层的膜厚成为指定膜厚(表4中记载的膜厚)，使其在120℃的干燥区干燥3分钟，由此形成了感光性组合物层。
之后，在感光性组合物层上压接作为保护膜的厚度25μm的聚丙烯膜(TORAYFAN25A-KW37，TORAY INDUSTRIES，INC.制)，制作了实施例1～12、18～25、以及比较例1～3的转印膜。
<实施例13～17的转印膜的制作>
使用狭缝状喷嘴，在厚度16μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜(Lumirror 16KS40(Lumirror 16QS62)，TORAY INDUSTRIES，INC.制)的临时支承体上涂布所制备的感光性组合物A-8～A-12中的任一种，直至干燥后的感光性组合物层的膜厚成为指定膜厚(表4中记载的膜厚)，使其在120℃的干燥区干燥3分钟，由此形成了感光性组合物层。
而且，使用狭缝状喷嘴，将表3中记载的折射率调整层形成用组合物B-1调整为干燥后的折射率调整层的膜厚成为73nm的涂布量而涂布于感光性组合物层上。接着，在80℃的干燥温度下干燥涂膜，形成了折射率调整层。
之后，在折射率调整层上压接作为保护膜的厚度25μm的聚丙烯膜(TORAYFAN 25A-KW37，TORAY INDUSTRIES，INC.制)，制作了实施例13～17的转印膜。
<比较例4的转印膜的制作>
将在临时支承体上涂布感光性组合物之后的干燥条件(在120℃的干燥区干燥3分钟)变更为在100℃的干燥区干燥3分钟，除此以外，以与实施例19相同的方法，制作了比较例4的转印膜。
〔转印膜的测定及评价〕
<tanδ的测定>
关于不具有折射率调整层的实施例1～12、18～25及比较例1～4的转印膜，进行了如下处理。
将所制作的实施例1～12、18～25及比较例1～4的转印膜切割成240mm×240mm的大小并剥离了保护膜。接着，将所获得的膜以通过剥离保护膜而露出的感光性组合物层表面彼此相对的方式折叠而贴合感光性组合物层表面彼此，由此制作了临时支承体/感光性组合物层(层叠2层)/临时支承体的层叠体1。
而且，剥离了上述层叠体1中的一侧临时支承体。接着，将剥离了临时支承体的层叠体1以通过剥离临时支承体而露出的感光性组合物层(层叠2层)彼此相对的方式折叠而贴合感光性组合物层(层叠2层)彼此，由此制作了临时支承体/感光性组合物层(层叠4层)/临时支承体的层叠体2。
而且，剥离了上述层叠体2中的一侧临时支承体。接着，将剥离了临时支承体的层叠体2以通过剥离临时支承体而露出的感光性组合物层(层叠4层)彼此相对的方式折叠而贴合感光性组合物层(层叠4层)彼此，由此制作了临时支承体/感光性组合物层(层叠8层)/临时支承体的层叠体3。以相同的顺序重复感光性组合物层的贴合，由此制作了临时支承体/厚度0.5mm的感光性组合物层/临时支承体的层叠体N。
并且，关于具有折射率调整层的实施例13～17的转印膜，进行了如下处理。
将所制作的实施例13～17的转印膜切割成240mm×240mm的大小并剥离了保护膜。接着，将所获得的膜以通过剥离保护膜而露出的折射率调整层表面彼此相对的方式折叠而贴合感光性组合物层表面彼此，由此制作了临时支承体/感光性组合物层/折射率调整层/折射率调整层/感光性组合物层/临时支承体的层叠体1。
而且，剥离了上述层叠体1中的一侧临时支承体。接着，将剥离了临时支承体的层叠体1以通过剥离临时支承体而露出的感光性组合物层彼此相对的方式折叠而进行贴合，由此制作了临时支承体/感光性组合物层/折射率调整层/折射率调整层/感光性组合物层/感光性组合物层/折射率调整层/折射率调整层/感光性组合物层/临时支承体的层叠体2。
以相同的顺序重复感光性组合物层及折射率调整层的贴合，由此制作了临时支承体/合计厚度为0.5mm的感光性组合物层+折射率调整层/临时支承体的层叠体N。
之后，剥离层叠体N的两侧的临时支承体并切割成直径20mm的圆形，由此作为tanδ的测定样品。将所制作的样品在23℃、RH50％下进行24小时调湿之后，用于试验。
利用动态粘弹性测定装置流变仪DHR-2(TA Instruments Japan Inc.制)，测定了以上述顺序制作的样品的tanδ。使用直径20mm的平行板及帕尔贴板(Gap：0.5mm)，在Gap固定(0.5mm)模式下进行了测定。具体而言，在以下条件下进行动态粘弹性测定，求出了25℃下的tanδ(tanδT25)、80℃下的tanδ(tanδT80)及120℃下的tanδ(tanδT120)的各值。并且，根据所获得的值，算出了tanδT120/tanδT80的值。将所获得的结果记载于表4。
(测定条件)
样品尺寸：直径20mm、厚度0.5mm
测定温度条件：25～150℃
升温速度：5℃/分钟
频率：1Hz
应变：1deg(0.0174rad)
<感光性组合物层对引导辊的污染(附着)评价>
(实施例1～12、18～25、及比较例1～4的转印膜)
将以上制作的实施例1～12、18～25、及比较例1～4的转印膜针对3.5英寸的圆筒状的支管，通过以与卷轴宽度方向平行的方式配置的表面材质为橡胶制的加压辊，对支管以线状施加200kg/m的压力，以15kg/m的张力卷取200m，由此获得了宽度500mm的感光性膜卷。
接着，剥离感光性膜卷的保护膜的同时送出，以运载速度20m/分钟运载剥离了保护膜的由临时支承体和感光性组合物层构成的感光性膜。具体而言，在感光性组合物层的表面与引导辊(直径100mm、不锈钢制)接触且引导辊与感光性膜的包角成为90°的状态下，将感光性膜的张力设定为60N/m，以感光性组合物层的表面与引导辊接触的状态运载了总长100m的感光性膜。
运载100m的感光性膜之后，目视观察了引导辊的污染。根据观察结果，按照下述评价基准，评价了对引导辊的污染(附着)。
在下述评价基准中，只要是“C”评价以上，则适于实际应用，其中优选“A”。将评价结果示于表4。
-对引导辊的污染(附着)的评价基准-
A：未观察到引导辊上附着有感光性组合物层。
B：引导辊上附着有感光性组合物层的区域相对于观察面积低于5％。
C：引导辊上附着有感光性组合物层的区域相对于观察面积为5％以上且低于10％。
D：引导辊上附着有感光性组合物层的区域相对于观察面积为10％以上且低于20％。
E：引导辊上附着有感光性组合物层的区域相对于观察面积为20％以上。
(实施例13～17的转印膜)
将以上制作的实施例13～17的转印膜针对3.5英寸的圆筒状的支管，通过以与卷轴宽度方向平行的方式配置的表面材质为橡胶制的加压辊，对支管以线状施加200kg/m的压力，以15kg/m的张力卷取200m，由此获得了宽度500mm的感光性膜卷。
接着，剥离感光性膜卷的保护膜的同时送出，以运载速度20m/分钟运载剥离了保护膜的由临时支承体、感光性组合物层及折射率调整层构成的感光性膜。具体而言，在折射率调整层的表面与引导辊(直径100mm、不锈钢制)接触且引导辊与感光性膜的包角成为90°的状态下，将感光性膜的张力设定为60N/m，以折射率调整层的表面与引导辊接触的状态运载了总长100m的感光性膜。
运载100m的感光性膜之后，目视观察了引导辊的污染。根据观察结果，按照上述评价基准，评价了对引导辊的污染(附着)。
在上述评价基准中，只要是“C”评价以上，则适于实际应用，其中优选“A”。将评价结果示于表4。
<层压性评价>
(层压性评价用层叠体的制作)
接着，作为层压性评价用层叠体，制作了图3～图5所示的具有阶梯差的基材43。以下，参考图3～图5，对具有阶梯差的基材43的结构进行说明。
如图3所示，具有阶梯差的基材43具有膜基材1A和设置于膜基材1A上的厚度为100nm的阶梯差41。
关于阶梯差41，从上方观察膜基材1A的具有阶梯差41的一侧的面时，若以层压方向42为纵向，则其形状为纵2cm、横5cm的矩形，并且其材料为铜。
并且，在图4中示出从与层压方向42平行的方向观察具有阶梯差的基材43的侧面(两侧面)时的示意图，在图5中示出从与层压方向42正交的方向观察具有阶梯差的基材43的侧面(两侧面)时的示意图。如图4及图5所示，从侧面观察具有阶梯差的基材43时，阶梯差41的与底部41c相反的一面的上部41a的长度La比与膜基材1A接触的底部41c的长度Lc短，是所谓的锥形形状。阶梯差41的侧面部41b与膜基材1A所成的角度θ为约78°。并且，阶梯差41的各侧面部41b中，上部41a的长度La和底部41c的长度Lc的间隙长度为20nm。
(层叠体的气泡个数的评价(层压性))
以从图3所示的层压方向42覆盖阶梯差41整体的方式，将剥离了保护膜的实施例1～12、18～21及比较例1～4的转印膜层压于具有阶梯差的基材43上以使感光性组合物层与具有阶梯差的基材43对置。并且，通过相同的方法，将剥离了保护膜的实施例13～17的转印膜层压于具有阶梯差的基材43上以使折射率调整层与具有阶梯差的基材43对置。
层压的条件在以下2个条件下进行了评价。
〔1〕橡胶辊温度80℃、线压100N/cm、运载速度2.0m/分钟
〔2〕橡胶辊温度120℃、线压100N/cm、运载速度2.0m/分钟
另外，在该层压方法中，分别包括1次从阶梯差41中的底部41c至上部41a依次层压转印膜的阶梯差上升工序、及从阶梯差41中的上部41a至底部41c依次层压转印膜的阶梯差下降工序。即，在从图3所示的层压方向42覆盖阶梯差41的顺序中，阶梯差上升工序是指区域X1内的层压处理，阶梯差下降工序是指区域X2内的层压处理。
接着，在不剥离临时支承体的状态下使用光学显微镜观察沿着阶梯差的区域内的“卷入气泡数”，按照以下基准进行了评价。
沿着阶梯差的区域是指在图3中的区域X1及X2内从阶梯差41中的上部41a连续至底部41c的侧面部41b的下端部分、以及在图3中的区域Y1及Y2内从阶梯差41中的上部41a连续至底部41c的侧面部41b的下端部分。
针对层压温度(橡胶辊温度)为80℃、120℃的2个条件，分别进行了评价。
在下述评价基准中，只要是“C”评价以上，则适于实际应用，其中优选“A”。将评价结果示于表4。
-层压性的评价基准-
A：沿着阶梯差的区域内的气泡数少于5个
B：沿着阶梯差的区域内的气泡数为5个以上且少于30个
C：沿着阶梯差的区域内的气泡数为30个以上且少于100个
D：沿着阶梯差的区域内的气泡数为100个以上
[表5]
Figure BDA0004090576800001061
根据表4的结果确认到，根据实施例的转印膜，运载膜时，在组合物层与引导辊的接触面不易发生感光性组合物层对引导辊的附着，而且在热层压于配线基板等具有阶梯差的基材上时对广范围的各种层压温度具有优异的阶梯差追随性。
并且，根据表4的结果，可知在25℃下的tanδ(tanδT25)为1.2以下的情况(换言之，转印膜的组合物层满足式(1A’)的要件的情况)下，进一步抑制感光性组合物层对引导辊的附着。尤其，在25℃下的tanδ(tanδT25)为1.0以下的情况(换言之，转印膜的组合物层满足式(1A”)的要件的情况)下，进一步抑制感光性组合物层对引导辊的附着。
并且，根据表4的结果，可知在120℃下的tanδ(tanδT120)为1.0以上的情况(换言之，转印膜的组合物层满足式(2A’)的要件的情况)下，层压性更优异。
并且，根据表4的结果，可知在将120℃下的tanδ除以80℃下的tanδ而得的值(tanδT120/tanδT80)为1.0～8.0的情况(换言之，转印膜的组合物层满足式(3A’)的要件的情况)下，层压性更优异。
可知在比较例的转印膜中无法获得所希望的效果。
〔实施例101(触摸面板用基板的制作)〕
使用高频振荡器，在输出电压100％、功率250W、直径1.2mm的线状电极、电极长度240mm、工作电极间距1.5mm的条件下，对膜厚38μm、折射率1.53的环烯烃树脂膜进行3秒电晕放电处理来实施了表面改性。将所获得的膜作为透明膜基板。
接着，使用狭缝状喷嘴，将下述表5中所示的材料-C(表中的各成分的数值为含量(质量份)。)涂布于透明膜基板上之后，进行紫外线照射(累计光量300mJ/cm2)，以约110℃干燥，由此形成为折射率1.60、膜厚80nm的折射率调整层。
[表6]
(表5)
Figure BDA0004090576800001071
[化学式28]
Figure BDA0004090576800001081
通过DC多腔磁控管溅射，在带折射率调整层的透明膜基板的折射率调整层上形成厚度为40nm且折射率为1.82的ITO(Indium Tin Oxide：氧化铟锡)膜，利用光刻对所形成的ITO膜进行图案化，由此在折射率调整层上形成了ITO透明电极图案。通过记载于日本特开2014-10814号公报的[0119]～[0122]段的方法进行了ITO膜的形成及ITO膜的图案化(即，ITO透明电极图案的形成)。
如上获得了具有ITO透明电极图案/折射率调整层/透明膜基板这一层叠结构的触摸面板用基板。
(使用了转印膜的感光性组合物层的转印(层压))
从上述实施例1的转印膜剥离保护膜，将剥离了保护膜的转印膜层压到上述触摸面板用基板上，由此将转印膜的感光性组合物层转印到触摸面板用基板的形成有ITO透明电极图案的一侧的面。将层压的条件设定为触摸面板用基板的温度40℃、橡胶辊温度(即，层压温度)110℃、线压3N/cm、运载速度2m/分钟的条件。
由此，获得了具有临时支承体/感光性组合物层/ITO透明电极图案/折射率调整层/透明膜基板的层叠结构的层叠体。
(透明层叠体的制作)
隔着临时支承体对上述层叠体的感光性组合物层进行了图案曝光。使用具有超高压汞灯的接近式曝光机(Hitachi High-Tech Corporation制)及曝光掩膜，隔着临时支承体，以曝光量100mJ/cm2(i射线)进行了图案曝光。图案曝光后，从层叠体剥离临时支承体，使用作为显影液的碳酸钠1质量％水溶液(液温33℃)，对剥离了临时支承体的层叠体的感光性组合物层进行了45秒显影。显影后，吹气去除水分，进一步以曝光量375mJ/cm2(i射线)进行曝光之后，在145℃下进行30分钟的加热(后烘烤)处理，由此获得了具有使ITO透明电极图案的一部分露出的开口部(即，非曝光部)的触摸面板用保护膜的固化膜。
如上获得了具有触摸面板用保护膜的固化膜/ITO透明电极图案/折射率调整层/透明膜基板这一层叠结构的透明层叠体。
(图像显示装置(触摸面板)的制作)
在通过日本特开2009-047936号公报的[0097]～[0119]中记载的方法制造的液晶表示元件上贴合预先制造的各实施例的包含透明层叠体的膜，进一步贴合前面玻璃板，由此通过公知的方法制作了具备静电电容型输入装置作为构成元素的包含触摸面板保护膜的图像显示装置。确认所制作的图像显示装置的动作的结果，触摸面板正常工作。
〔实施例102～124〕
将转印膜从实施例1的转印膜变更为实施例2～24的转印膜，除此以外，以与实施例101相同的方法制作了图像显示装置(触摸面板)(实施例102～121)。触摸面板均正常工作。
符号说明
1、11-临时支承体，2、12-组合物层，3、17-感光性组合物层，5-折射率调整层，13-热塑性树脂层，15-中间层，10、20-转印膜，1A-膜基材，41-阶梯差，42-层压方向，43-具有阶梯差的基材，41a-阶梯差41的上部，41b-阶梯差41的侧面部，41c-与膜基材1A接触的阶梯差41的底部，La-上部41a的长度，Lc-底部41c的长度，θ-侧面部41b与膜基材1A所成的角度，X1、X2、Y1、Y2-区域。

Claims (11)

1.一种转印膜，其具有：
临时支承体；及
配置于所述临时支承体上的组合物层，
所述组合物层包含感光性组合物层，
在频率1Hz及升温速度5℃/分钟的条件下测定所述组合物层在25℃～150℃下的动态粘弹性时满足下述式(1A)～式(3A)的全部要件，
式(1A)tanδT25≤1.5
式(2A)tanδT120≥0.80
式(3A)0.50≤tanδT120/tanδT80≤10
其中，在上述式(1A)～式(3A)中，tanδT25表示在25℃下的tanδ，tanδT120表示在120℃下的tanδ，tanδT80表示在80℃下的tanδ。
2.根据权利要求1所述的转印膜，其满足下述式(1A’)的要件，
式(1A’)tanδT25≤1.2。
3.根据权利要求1或2所述的转印膜，其满足下述式(1A”)的要件，
式(1A”)tanδT25≤1.0。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的转印膜，其满足下述式(3A’)的要件，
式(3A’)1.0≤tanδT120/tanδT80≤8.0。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的转印膜，其满足下述式(2A’)的要件，
式(2A’)tanδT120≥1.0。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的转印膜，其中，
所述感光性组合物层的膜厚为20μm以下。
7.根据权利要求1至6中任一项所述的转印膜，其中，
所述感光性组合物层包含粘合剂聚合物、光聚合性化合物及光聚合引发剂。
8.根据权利要求1至7中任一项所述的转印膜，其用于形成触摸面板用保护膜。
9.一种层叠体的制造方法，其包括：
贴合工序，使与权利要求1至8中任一项所述的转印膜所具有的所述临时支承体相反的一侧的表面与具有导电层的基板接触而进行贴合，获得依次具有所述基板、所述导电层、所述组合物层及所述临时支承体的带组合物层的基板；
曝光工序，对所述组合物层进行图案曝光；及
显影工序，对经曝光的所述组合物层进行显影而形成保护所述导电层的保护膜图案；
所述层叠体的制造方法还包括：
剥离工序，在所述贴合工序与所述曝光工序之间或所述曝光工序与所述显影工序之间，从所述带组合物层的基板剥离所述临时支承体。
10.根据权利要求9所述的层叠体的制造方法，其中，
所述具有导电层的基板是具有触摸面板用电极及触摸面板用配线中的至少一个的基板。
11.一种电路配线的制造方法，其包括：
贴合工序，使与权利要求1至8中任一项所述的转印膜所具有的所述临时支承体相反的一侧的表面接触具有导电层的基板，获得依次具有所述基板、所述导电层、所述组合物层及所述临时支承体的带组合物层的基板；
曝光工序，对所述组合物层进行图案曝光；
显影工序，对经曝光的所述组合物层进行显影而形成树脂图案；及
蚀刻工序，对未配置有所述树脂图案的区域内的所述导电层进行蚀刻处理；
所述电路配线的制造方法还包括：
剥离工序，在贴合工序与曝光工序之间或曝光工序与显影工序之间，从所述带感光性组合物层的基板剥离临时支承体。
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