CN116082067B - 一种使用免烧负离子釉料的装饰瓷砖及其制作工艺 - Google Patents
一种使用免烧负离子釉料的装饰瓷砖及其制作工艺 Download PDFInfo
- Publication number
- CN116082067B CN116082067B CN202310375725.8A CN202310375725A CN116082067B CN 116082067 B CN116082067 B CN 116082067B CN 202310375725 A CN202310375725 A CN 202310375725A CN 116082067 B CN116082067 B CN 116082067B
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- weight
- parts
- glaze
- baking
- ceramic tile
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 title claims abstract description 53
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 19
- 238000005034 decoration Methods 0.000 title description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims abstract description 54
- 239000000945 filler Substances 0.000 claims abstract description 27
- KCTAWXVAICEBSD-UHFFFAOYSA-N prop-2-enoyloxy prop-2-eneperoxoate Chemical compound C=CC(=O)OOOC(=O)C=C KCTAWXVAICEBSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 24
- 239000004111 Potassium silicate Substances 0.000 claims abstract description 15
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 claims abstract description 15
- 229910052913 potassium silicate Inorganic materials 0.000 claims abstract description 15
- 235000019353 potassium silicate Nutrition 0.000 claims abstract description 15
- NNHHDJVEYQHLHG-UHFFFAOYSA-N potassium silicate Chemical compound [K+].[K+].[O-][Si]([O-])=O NNHHDJVEYQHLHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 15
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 claims abstract description 14
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 claims abstract description 14
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 14
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 claims abstract description 13
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 13
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims abstract description 13
- PAZHGORSDKKUPI-UHFFFAOYSA-N lithium metasilicate Chemical compound [Li+].[Li+].[O-][Si]([O-])=O PAZHGORSDKKUPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 13
- 229910052912 lithium silicate Inorganic materials 0.000 claims abstract description 13
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims description 50
- 238000003756 stirring Methods 0.000 claims description 40
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 37
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 29
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 claims description 27
- 239000002002 slurry Substances 0.000 claims description 27
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 24
- 238000007639 printing Methods 0.000 claims description 19
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 claims description 17
- 239000004342 Benzoyl peroxide Substances 0.000 claims description 14
- OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N Benzoylperoxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 235000019400 benzoyl peroxide Nutrition 0.000 claims description 14
- 239000000243 solution Substances 0.000 claims description 14
- 238000005507 spraying Methods 0.000 claims description 14
- 239000000049 pigment Substances 0.000 claims description 12
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 claims description 12
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 11
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 claims description 10
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 claims description 10
- 239000004568 cement Substances 0.000 claims description 10
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 claims description 10
- 239000010453 quartz Substances 0.000 claims description 10
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 claims description 9
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 claims description 9
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 claims description 9
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 239000010431 corundum Substances 0.000 claims description 9
- 239000013530 defoamer Substances 0.000 claims description 9
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 claims description 9
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 claims description 9
- FPAFDBFIGPHWGO-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxomagnesium;hydrate Chemical compound O.[Mg]=O.[Mg]=O.[Mg]=O.O=[Si]=O.O=[Si]=O.O=[Si]=O.O=[Si]=O FPAFDBFIGPHWGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 9
- 239000004576 sand Substances 0.000 claims description 9
- 229910052613 tourmaline Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 239000011032 tourmaline Substances 0.000 claims description 9
- 229940070527 tourmaline Drugs 0.000 claims description 9
- 239000010456 wollastonite Substances 0.000 claims description 9
- 229910052882 wollastonite Inorganic materials 0.000 claims description 9
- HSJPMRKMPBAUAU-UHFFFAOYSA-N cerium(3+);trinitrate Chemical compound [Ce+3].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O HSJPMRKMPBAUAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- SCPWMSBAGXEGPW-UHFFFAOYSA-N dodecyl(trimethoxy)silane Chemical compound CCCCCCCCCCCC[Si](OC)(OC)OC SCPWMSBAGXEGPW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- FYDKNKUEBJQCCN-UHFFFAOYSA-N lanthanum(3+);trinitrate Chemical compound [La+3].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O FYDKNKUEBJQCCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 229910000420 cerium oxide Inorganic materials 0.000 claims description 7
- BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoceriooxy)cerium Chemical compound [Ce]=O.O=[Ce]=O BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 230000001680 brushing effect Effects 0.000 claims description 5
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 4
- KHJHBFLMOSTPIC-UHFFFAOYSA-N prop-2-enylidenechromium Chemical compound C(=C)C=[Cr] KHJHBFLMOSTPIC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- GFNGCDBZVSLSFT-UHFFFAOYSA-N titanium vanadium Chemical compound [Ti].[V] GFNGCDBZVSLSFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- CJOBVZJTOIVNNF-UHFFFAOYSA-N cadmium sulfide Chemical compound [Cd]=S CJOBVZJTOIVNNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 claims description 2
- MOUPNEIJQCETIW-UHFFFAOYSA-N lead chromate Chemical compound [Pb+2].[O-][Cr]([O-])(=O)=O MOUPNEIJQCETIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000001038 titanium pigment Substances 0.000 claims 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 abstract description 7
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 abstract description 5
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 abstract description 5
- 238000004814 ceramic processing Methods 0.000 abstract description 3
- 125000004185 ester group Chemical group 0.000 abstract description 3
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 abstract description 3
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 9
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 9
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 8
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 7
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 7
- 238000010422 painting Methods 0.000 description 7
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 7
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 6
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 6
- -1 acrylic ester Chemical class 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000001354 calcination Methods 0.000 description 2
- 239000010433 feldspar Substances 0.000 description 2
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 2
- MRELNEQAGSRDBK-UHFFFAOYSA-N lanthanum(3+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[La+3].[La+3] MRELNEQAGSRDBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000007711 solidification Methods 0.000 description 2
- 230000008023 solidification Effects 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000005995 Aluminium silicate Substances 0.000 description 1
- SUMMNLZZQDAGHO-UHFFFAOYSA-N CO.C(C1=CC=CC=C1)(=O)OOC(C1=CC=CC=C1)=O Chemical compound CO.C(C1=CC=CC=C1)(=O)OOC(C1=CC=CC=C1)=O SUMMNLZZQDAGHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000012211 aluminium silicate Nutrition 0.000 description 1
- 230000001580 bacterial effect Effects 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 230000036039 immunity Effects 0.000 description 1
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 1
- NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N kaolin Chemical compound O.O.O=[Al]O[Si](=O)O[Si](=O)O[Al]=O NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 230000004060 metabolic process Effects 0.000 description 1
- UIUXUFNYAYAMOE-UHFFFAOYSA-N methylsilane Chemical group [SiH3]C UIUXUFNYAYAMOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N methyltrimethoxysilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)OC BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 238000011056 performance test Methods 0.000 description 1
- 229910052573 porcelain Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- KEAYESYHFKHZAL-BJUDXGSMSA-N sodium-22 Chemical group [22Na] KEAYESYHFKHZAL-BJUDXGSMSA-N 0.000 description 1
- 239000004575 stone Substances 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 239000000454 talc Substances 0.000 description 1
- 235000012222 talc Nutrition 0.000 description 1
- 229910052623 talc Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
- C04B41/80—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone of only ceramics
- C04B41/81—Coating or impregnation
- C04B41/89—Coating or impregnation for obtaining at least two superposed coatings having different compositions
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
- C04B41/45—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements
- C04B41/52—Multiple coating or impregnating multiple coating or impregnating with the same composition or with compositions only differing in the concentration of the constituents, is classified as single coating or impregnation
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02W—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES RELATED TO WASTEWATER TREATMENT OR WASTE MANAGEMENT
- Y02W30/00—Technologies for solid waste management
- Y02W30/50—Reuse, recycling or recovery technologies
- Y02W30/91—Use of waste materials as fillers for mortars or concrete
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Aftertreatments Of Artificial And Natural Stones (AREA)
- Finishing Walls (AREA)
Abstract
本发明涉及一种使用免烧负离子釉料的装饰瓷砖及其制作工艺,属于陶瓷加工技术领域。本发明先后制备底层釉浆和面层釉浆,先将底层釉浆涂刷在熟烧坯表面,室温固化后再印刷面层釉浆,固化后得到使用免烧负离子釉料的装饰瓷砖。本发明选用硅酸锂、硅酸钠、硅酸钾作为无机成膜基质,提高底层釉浆在熟烧坯表面的渗透性,加入正硅酸乙酯进一步提高底层釉浆与熟烧坯的渗透性,选用环氧丙烯酸酯和环氧丙烯酸酯树脂作为有机成膜基质,其中的酯基和羟基提高有机成膜基质与无机成膜基质的结合力;面层釉浆中加入长链硅烷偶联剂提高丁二烯‑苯乙烯共聚物与填料之间的分散性,在保证负离子释放性能的同时综合提高釉面的附着力和强度。
Description
技术领域
本发明属于陶瓷加工技术领域,涉及一种使用免烧负离子釉料的装饰瓷砖及其制作工艺。
背景技术
釉是覆盖在陶瓷制品表面的无色或有色的玻璃质薄层,是用矿物原料(长石、石英、滑石、高岭土等)和原料按一定比例配合(部分原料可先制成熔块)经过研磨制成釉浆,施于坯体表面,经一定温度煅烧而成,能增加制品的机械强度、热稳定性和电介强度,还有美化器物、便于拭洗、不被尘土腥秽侵蚀等特点。釉的种类很多,按坯体类分,有瓷釉、陶釉及火石器釉;按烧成温度可分高温釉、低温釉;按外表特征可分透明釉、乳浊釉、颜色釉、有光釉、无光釉、裂纹釉(开片)、结晶釉等;按釉料组成可分为石灰釉、长石釉、铅釉、无铅釉、硼釉、铅硼釉等。施釉工艺是指在成型的陶瓷坯体表面施以釉浆,主要有蘸釉、荡釉、浇釉、刷釉、洒釉、轮釉等七种方法,按坯体的不同形状、厚薄,采用相应的施釉方法。
负离子釉料是指在釉料中添加负离子粉,能释放负离子,不仅能改善空气质量,能抑制细菌霉菌,还能促进人体新陈代谢和提高人体免疫力等作用,传统的釉料涂布在陶瓷坯体上之后需要经过烧制,烧制过程不仅耗费大量热能,而且煤炭产生的灰尘和二氧化碳严重污染环境。对于负离子釉料,经过烧制过程还会使部分负离子粉结构发生改变从而降低甚至失去释放负离子的性能,因此,研制一种免烧负离子釉极为重要。
免烧负离子釉料需要涂布到熟烧坯上然后经过固化制备免烧负离子釉陶瓷,由于熟烧坯表面经过煅烧后其吸水率比较低,因此,釉料的渗透难度加大,如果直接通过丝网印刷图案至熟烧坯上,由于浆料本身的流动性大,将造成所印刷的图案模糊,装饰效果差,并且釉料的附着力较差,容易出现脱落等现象。
中国发明专利CN113956077A公开了一种使用免烧釉料的装饰瓷砖的制作工艺,包括以下步骤:(1)将底层浆料的原料搅拌混合均匀,得到底层浆料,所述底层浆料的原料包括硅酸钠、硅酸钾、丙烯酸酯、填料、硅烷偶联剂和水;(2)将底层浆料喷涂在熟烧坯的表面,进行固化处理;(3)将面层浆料的原料搅拌混合均匀,得到面层浆料,所述面层浆料的原料包括丁二烯-苯乙烯共聚物乳液、填料、白色水泥、颜料和硅烷偶联剂;(4)将面层浆料使用丝网印刷的方式在熟烧坯的表面印刷图案,经固化处理,得到使用免烧釉料的装饰瓷砖。该专利虽然公开了先喷涂底层浆料再丝网印刷面层浆料的技术方案,但是其浆料的渗透性能及其釉面的强度和附着力有待进一步提升。
发明内容
本发明的目的在于提供一种使用免烧负离子釉料的装饰瓷砖及其制作工艺,属于陶瓷加工技术领域。本发明先后制备底层釉浆和面层釉浆,先将底层釉浆涂刷在熟烧坯表面,室温固化后再印刷面层釉浆,固化后得到使用免烧负离子釉料的装饰瓷砖。本发明选用硅酸锂、硅酸钠、硅酸钾作为无机成膜基质,提高底层釉浆在熟烧坯表面的渗透性,加入正硅酸乙酯进一步提高底层釉浆与熟烧坯的渗透性,选用环氧丙烯酸酯和环氧丙烯酸酯树脂作为有机成膜基质,其中的酯基和羟基提高有机成膜基质与无机成膜基质的结合力;面层釉浆中加入长链硅烷偶联剂提高丁二烯-苯乙烯共聚物与填料之间的分散性,在保证负离子释放性能的同时综合提高釉面的附着力和强度。
本发明的目的可以通过以下技术方案实现:
一种使用免烧负离子釉料的装饰瓷砖的制作工艺,所述制作工艺包括以下步骤:
(1)将8-13重量份环氧丙烯酸酯、5-10重量份环氧丙烯酸酯树脂、1-3重量份硅烷偶联剂和1-3重量份正硅酸乙酯边搅拌边加入至18-25重量份去离子水中形成混合液A;将20-30重量份混合填料A、8-14重量份硅酸锂、6-12重量份硅酸钠、7-11重量份硅酸钾边搅拌边加入至混合液A中,继续搅拌得到底层釉浆;
(2)将2-4重量份十二烷基三甲氧基硅烷、3-8重量份印油、1-3重量份消泡剂、0.8-1.5重量份减水剂加入至20-30重量份丁二烯-苯乙烯共聚物乳液中得到混合液B,向混合液B中加入25-65重量份混合填料B、5-8重量份负离子粉、17-26重量份白色水泥和2-4重量份颜料,搅拌得到面层釉浆;
(3)将底层釉浆涂刷在熟烧坯表面,然后喷涂2-7重量份过氧化苯甲酰溶液,常温固化15-25min,得到预处理的陶瓷砖;
(4)将面层釉浆使用丝网印刷的方式在预处理的陶瓷砖表面印刷图案,升温固化,得到使用免烧负离子釉料的装饰瓷砖。
作为本发明的一种优选技术方案,所述继续搅拌时间为30-50min。
作为本发明的一种优选技术方案,所述混合填料A包括6-9重量份硅灰石粉、6-10重量份钛白粉和8-11重量份重钙粉。
作为本发明的一种优选技术方案,所述混合填料B包括8-20重量份刚玉砂、7-18重量份滑石粉和10-27重量份石英粉。
作为本发明的一种优选技术方案,所述熟烧坯的吸水率为0.1-0.3%。
作为本发明的一种优选技术方案,所述颜料为铬酸铅红、铬锡红、钒钛黄、镉黄、钴青、钴蓝中的至少一种。
作为本发明的一种优选技术方案,所述负离子粉为电气石粉、氧化铈、氧化镧、硝酸镧、硝酸铈中的至少一种。
作为本发明的一种优选技术方案,步骤(3)所述底层釉浆的涂刷量为250-350g/m2,所述过氧化苯甲酰溶液是指含有8-12g/L的过氧化苯甲酰的甲醇溶液。
作为本发明的一种优选技术方案,步骤(4)所述面层釉浆的印刷量为200-300g/m2。
作为本发明的一种优选技术方案,步骤(4)所述升温固化是指在50-58℃温度下固化30-35min。
上述的制作工艺制作得到的使用免烧负离子釉料的装饰瓷砖。
本发明的有益效果:
(1)本发明使用涂刷底层釉浆和丝网印刷面层釉浆的方式在熟烧坯表面涂布免烧负离子釉浆,有效避免了釉料煅烧过程中使负离子粉性能降低甚至失活的问题,保证了釉面有效释放负离子的性能;
(2)本发明在底层釉浆配方中添加硅酸锂、硅酸钠、硅酸钾作为无机成膜基质,同时添加正硅酸乙酯,协同增强底层釉浆在熟烧坯表面的渗透性能,原因可能是硅酸锂、硅酸钠、硅酸钾和正硅酸乙酯水解后的硅羟基与熟烧坯表面的极性物质结合,增强釉浆的渗透性能,进一步提高釉面的附着力;
(3)本发明在底层釉浆中选用环氧丙烯酸酯和环氧丙烯酸酯树脂作为有机成膜基质,采用喷涂过氧化苯甲酰溶液的方式,可避免在底层釉浆储存过程中固化的问题,且喷涂过氧化苯甲酰的方式可使固化过程更为均匀,成膜基质中的酯基和羟基提高有机成膜基质与无机成膜基质的结合力,进一步提高釉面的强度;
(4)本发明在面层釉浆中添加长链硅烷偶联剂,提高丁二烯-苯乙烯共聚物与填料之间的分散性,可进一步协同提高釉面的强度。
具体实施方式
为更进一步阐述本发明为实现预定发明目的所采取的技术手段及功效,以下结合实施例,对依据本发明的具体实施方式、结构、特征及其功效,详细说明如下。
实施例1
一种使用免烧负离子釉料的装饰瓷砖的制作工艺,所述制作工艺包括以下步骤:
(1)将8重量份环氧丙烯酸酯、9重量份环氧丙烯酸酯树脂、1重量份硅烷偶联剂和3重量份正硅酸乙酯边搅拌边加入至20重量份去离子水中形成混合液A;将22重量份混合填料A(包含7重量份硅灰石粉、6重量份钛白粉和9重量份重钙粉)、9重量份硅酸锂、10重量份硅酸钠、9重量份硅酸钾边搅拌边加入至混合液A中,继续搅拌40min得到底层釉浆;
(2)将3重量份十二烷基三甲氧基硅烷、5重量份印油、1重量份消泡剂、0.9重量份减水剂加入至25重量份丁二烯-苯乙烯共聚物乳液中得到混合液B,向混合液B中加入45重量份混合填料B(包含15重量份刚玉砂、12重量份滑石粉和18重量份石英粉)、7重量份负离子粉(包含2重量份电气石粉、3重量份氧化镧、2重量份硝酸铈)、19重量份白色水泥和2重量份颜料铬锡红,搅拌得到面层釉浆;
(3)将底层釉浆涂刷在吸水率为0.2%的熟烧坯表面,控制涂刷量为300g/m2,然后喷涂4重量份浓度为9g/L的过氧化苯甲酰的甲醇溶液,常温固化18min,得到预处理的陶瓷砖;
(4)将面层釉浆使用丝网印刷的方式在预处理的陶瓷砖表面印刷图案,控制印刷量为220g/m2,升温至55℃固化32min,得到使用免烧负离子釉料的装饰瓷砖。
上述的制作工艺制作得到的使用免烧负离子釉料的装饰瓷砖。
实施例2
一种使用免烧负离子釉料的装饰瓷砖的制作工艺,所述制作工艺包括以下步骤:
(1)将10重量份环氧丙烯酸酯、6重量份环氧丙烯酸酯树脂、2重量份硅烷偶联剂和2重量份正硅酸乙酯边搅拌边加入至22重量份去离子水中形成混合液A;将28重量份混合填料A(包含8重量份硅灰石粉、9重量份钛白粉和11重量份重钙粉)、11重量份硅酸锂、9重量份硅酸钠、8重量份硅酸钾边搅拌边加入至混合液A中,继续搅拌42min得到底层釉浆;
(2)将2重量份十二烷基三甲氧基硅烷、6重量份印油、1重量份消泡剂、1.1重量份减水剂加入至26重量份丁二烯-苯乙烯共聚物乳液中得到混合液B,向混合液B中加入32重量份混合填料B(包含8重量份刚玉砂、12重量份滑石粉和12重量份石英粉)、6重量份负离子粉(包含2重量份电气石粉、2重量份硝酸镧、2重量份硝酸铈)、22重量份白色水泥和3重量份颜料钒钛黄,搅拌得到面层釉浆;
(3)将底层釉浆涂刷在吸水率为0.18%的熟烧坯表面,控制涂刷量为330g/m2,然后喷涂5重量份浓度为10g/L的过氧化苯甲酰的甲醇溶液,常温固化20min,得到预处理的陶瓷砖;
(4)将面层釉浆使用丝网印刷的方式在预处理的陶瓷砖表面印刷图案,控制印刷量为250g/m2,升温至50℃固化35min,得到使用免烧负离子釉料的装饰瓷砖。
上述的制作工艺制作得到的使用免烧负离子釉料的装饰瓷砖。
实施例3
一种使用免烧负离子釉料的装饰瓷砖的制作工艺,所述制作工艺包括以下步骤:
(1)将13重量份环氧丙烯酸酯、9重量份环氧丙烯酸酯树脂、1重量份硅烷偶联剂和3重量份正硅酸乙酯边搅拌边加入至18重量份去离子水中形成混合液A;将22重量份混合填料A(包含6重量份硅灰石粉、6重量份钛白粉和10重量份重钙粉)、13重量份硅酸锂、10重量份硅酸钠、9重量份硅酸钾边搅拌边加入至混合液A中,继续搅拌48min得到底层釉浆;
(2)将4重量份十二烷基三甲氧基硅烷、8重量份印油、2重量份消泡剂、1.5重量份减水剂加入至21重量份丁二烯-苯乙烯共聚物乳液中得到混合液B,向混合液B中加入62重量份混合填料B(包含17重量份刚玉砂、18重量份滑石粉和27重量份石英粉)、8重量份负离子粉(包含3重量份电气石粉、3重量份硝酸镧、2重量份氧化铈)、25重量份白色水泥和2重量份颜料钴蓝,搅拌得到面层釉浆;
(3)将底层釉浆涂刷在吸水率为0.3%的熟烧坯表面,控制涂刷量为260g/m2,然后喷涂6重量份浓度为8g/L的过氧化苯甲酰的甲醇溶液,常温固化25min,得到预处理的陶瓷砖;
(4)将面层釉浆使用丝网印刷的方式在预处理的陶瓷砖表面印刷图案,控制印刷量为280g/m2,升温至58℃固化30min,得到使用免烧负离子釉料的装饰瓷砖。
上述的制作工艺制作得到的使用免烧负离子釉料的装饰瓷砖。
对比例1
一种使用免烧负离子釉料的装饰瓷砖的制作工艺,所述制作工艺包括以下步骤:
(1)将13重量份丙烯酸酯、9重量份丙烯酸酯树脂、1重量份硅烷偶联剂和3重量份正硅酸乙酯边搅拌边加入至18重量份去离子水中形成混合液A;将22重量份混合填料A(包含6重量份硅灰石粉、6重量份钛白粉和10重量份重钙粉)、13重量份硅酸锂、10重量份硅酸钠、9重量份硅酸钾边搅拌边加入至混合液A中,继续搅拌48min得到底层釉浆;
(2)将4重量份十二烷基三甲氧基硅烷、8重量份印油、2重量份消泡剂、1.5重量份减水剂加入至21重量份丁二烯-苯乙烯共聚物乳液中得到混合液B,向混合液B中加入62重量份混合填料B(包含17重量份刚玉砂、18重量份滑石粉和27重量份石英粉)、8重量份负离子粉(包含3重量份电气石粉、3重量份硝酸镧、2重量份氧化铈)、25重量份白色水泥和2重量份颜料钴蓝,搅拌得到面层釉浆;
(3)将底层釉浆涂刷在吸水率为0.3%的熟烧坯表面,控制涂刷量为260g/m2,然后喷涂6重量份浓度为8g/L的过氧化苯甲酰的甲醇溶液,常温固化25min,得到预处理的陶瓷砖;
(4)将面层釉浆使用丝网印刷的方式在预处理的陶瓷砖表面印刷图案,控制印刷量为280g/m2,升温至58℃固化30min,得到使用免烧负离子釉料的装饰瓷砖。
上述的制作工艺制作得到的使用免烧负离子釉料的装饰瓷砖。
对比例2
一种使用免烧负离子釉料的装饰瓷砖的制作工艺,所述制作工艺包括以下步骤:
(1)将13重量份环氧丙烯酸酯、9重量份环氧丙烯酸酯树脂和1重量份硅烷偶联剂边搅拌边加入至18重量份去离子水中形成混合液A;将22重量份混合填料A(包含6重量份硅灰石粉、6重量份钛白粉和10重量份重钙粉)、13重量份硅酸锂、10重量份硅酸钠、9重量份硅酸钾边搅拌边加入至混合液A中,继续搅拌48min得到底层釉浆;
(2)将4重量份十二烷基三甲氧基硅烷、8重量份印油、2重量份消泡剂、1.5重量份减水剂加入至21重量份丁二烯-苯乙烯共聚物乳液中得到混合液B,向混合液B中加入62重量份混合填料B(包含17重量份刚玉砂、18重量份滑石粉和27重量份石英粉)、8重量份负离子粉(包含3重量份电气石粉、3重量份硝酸镧、2重量份氧化铈)、25重量份白色水泥和2重量份颜料钴蓝,搅拌得到面层釉浆;
(3)将底层釉浆涂刷在吸水率为0.3%的熟烧坯表面,控制涂刷量为260g/m2,然后喷涂6重量份浓度为8g/L的过氧化苯甲酰的甲醇溶液,常温固化25min,得到预处理的陶瓷砖;
(4)将面层釉浆使用丝网印刷的方式在预处理的陶瓷砖表面印刷图案,控制印刷量为280g/m2,升温至58℃固化30min,得到使用免烧负离子釉料的装饰瓷砖。
上述的制作工艺制作得到的使用免烧负离子釉料的装饰瓷砖。
对比例3
一种使用免烧负离子釉料的装饰瓷砖的制作工艺,所述制作工艺包括以下步骤:
(1)将13重量份环氧丙烯酸酯、9重量份环氧丙烯酸酯树脂、1重量份硅烷偶联剂和3重量份正硅酸乙酯边搅拌边加入至18重量份去离子水中形成混合液A;将22重量份混合填料A(包含6重量份硅灰石粉、6重量份钛白粉和10重量份重钙粉)、10重量份硅酸钠、22重量份硅酸钾边搅拌边加入至混合液A中,继续搅拌48min得到底层釉浆;
(2)将4重量份十二烷基三甲氧基硅烷、8重量份印油、2重量份消泡剂、1.5重量份减水剂加入至21重量份丁二烯-苯乙烯共聚物乳液中得到混合液B,向混合液B中加入62重量份混合填料B(包含17重量份刚玉砂、18重量份滑石粉和27重量份石英粉)、8重量份负离子粉(包含3重量份电气石粉、3重量份硝酸镧、2重量份氧化铈)、25重量份白色水泥和2重量份颜料钴蓝,搅拌得到面层釉浆;
(3)将底层釉浆涂刷在吸水率为0.3%的熟烧坯表面,控制涂刷量为260g/m2,然后喷涂6重量份浓度为8g/L的过氧化苯甲酰的甲醇溶液,常温固化25min,得到预处理的陶瓷砖;
(4)将面层釉浆使用丝网印刷的方式在预处理的陶瓷砖表面印刷图案,控制印刷量为280g/m2,升温至58℃固化30min,得到使用免烧负离子釉料的装饰瓷砖。
上述的制作工艺制作得到的使用免烧负离子釉料的装饰瓷砖。
对比例4
一种使用免烧负离子釉料的装饰瓷砖的制作工艺,所述制作工艺包括以下步骤:
(1)将13重量份环氧丙烯酸酯、9重量份环氧丙烯酸酯树脂、1重量份硅烷偶联剂和3重量份正硅酸乙酯边搅拌边加入至18重量份去离子水中形成混合液A;将22重量份混合填料A(包含6重量份硅灰石粉、6重量份钛白粉和10重量份重钙粉)、13重量份硅酸锂、10重量份硅酸钠、9重量份硅酸钾边搅拌边加入至混合液A中,继续搅拌48min得到底层釉浆;
(2)将4重量份甲基三甲氧基硅烷、8重量份印油、2重量份消泡剂、1.5重量份减水剂加入至21重量份丁二烯-苯乙烯共聚物乳液中得到混合液B,向混合液B中加入62重量份混合填料B(包含17重量份刚玉砂、18重量份滑石粉和27重量份石英粉)、8重量份负离子粉(包含3重量份电气石粉、3重量份硝酸镧、2重量份氧化铈)、25重量份白色水泥和2重量份颜料钴蓝,搅拌得到面层釉浆;
(3)将底层釉浆涂刷在吸水率为0.3%的熟烧坯表面,控制涂刷量为260g/m2,然后喷涂6重量份浓度为8g/L的过氧化苯甲酰的甲醇溶液,常温固化25min,得到预处理的陶瓷砖;
(4)将面层釉浆使用丝网印刷的方式在预处理的陶瓷砖表面印刷图案,控制印刷量为280g/m2,升温至58℃固化30min,得到使用免烧负离子釉料的装饰瓷砖。
上述的制作工艺制作得到的使用免烧负离子釉料的装饰瓷砖。
性能测试
将实施例1-3和对比例1-4制备得到的使用免烧负离子釉料的装饰瓷砖按照JC/T2110-2012测试标准测试涂料的负离子释放量;按照JG/T559-2018测试釉面平拉黏结强度;采用莫氏硬度笔刻划法进行釉面的莫氏硬度测试,测试结果如下表1所示。
表1 陶瓷釉面性能测试
由表1测试结果可知,对比例1在实施例3基础上将环氧丙烯酸酯和环氧丙烯酸酯树脂更换为丙烯酸酯和丙烯酸酯树脂,其釉面的莫氏硬度明显下降,釉面平拉黏结强度有所降低;对比例2在实施例3基础上没有添加正硅酸乙酯,釉面的莫氏硬度和釉面平拉黏结强度明显降低;对比例3在实施例3基础上将硅酸钾替换等重量的硅酸锂,釉面的莫氏硬度和釉面平拉黏结强度明显降低;对比例4在实施例3基础上将长链硅烷偶联剂用甲基硅烷偶联剂替换,釉面的莫氏硬度明显降低,釉面平拉黏结强度有所降低。
以上所述,仅是本发明的较佳实施例而已,并非对本发明作任何形式上的限制,虽然本发明已以较佳实施例揭示如上,然而并非用以限定本发明,任何本领域技术人员,在不脱离本发明技术方案范围内,当可利用上述揭示的技术内容做出些许更动或修饰为等同变化的等效实施例,但凡是未脱离本发明技术方案内容,依据本发明的技术实质对以上实施例所作的任何简介修改、等同变化与修饰,均仍属于本发明技术方案的范围内。
Claims (6)
1.一种使用免烧负离子釉料的装饰瓷砖的制作工艺,其特征在于,所述制作工艺包括以下步骤:
(1)将8-13重量份环氧丙烯酸酯、5-10重量份环氧丙烯酸酯树脂、1-3重量份硅烷偶联剂和1-3重量份正硅酸乙酯边搅拌边加入至18-25重量份去离子水中形成混合液A;将20-30重量份混合填料A、8-14重量份硅酸锂、6-12重量份硅酸钠、7-11重量份硅酸钾边搅拌边加入至混合液A中,继续搅拌得到底层釉浆;
(2)将2-4重量份十二烷基三甲氧基硅烷、3-8重量份印油、1-3重量份消泡剂、0.8-1.5重量份减水剂加入至20-30重量份丁二烯-苯乙烯共聚物乳液中得到混合液B,向混合液B中加入25-65重量份混合填料B、5-8重量份负离子粉、17-26重量份白色水泥和2-4重量份颜料,搅拌得到面层釉浆;
(3)将底层釉浆涂刷在熟烧坯表面,然后喷涂2-7重量份过氧化苯甲酰溶液,常温固化15-25min,得到预处理的陶瓷砖;
(4)将面层釉浆使用丝网印刷的方式在预处理的陶瓷砖表面印刷图案,升温固化,得到使用免烧负离子釉料的装饰瓷砖;
所述熟烧坯的吸水率为0.1-0.3%;
所述负离子粉为电气石粉、氧化铈、氧化镧、硝酸镧、硝酸铈中的至少一种;
步骤(3)所述底层釉浆的涂刷量为250-350g/m2,所述过氧化苯甲酰溶液是指含有8-12g/L的过氧化苯甲酰的甲醇溶液;
步骤(4)所述面层釉浆的印刷量为200-300g/m2。
2.根据权利要求1所述的一种使用免烧负离子釉料的装饰瓷砖的制作工艺,其特征在于,所述继续搅拌时间为30-50min。
3.根据权利要求1所述的一种使用免烧负离子釉料的装饰瓷砖的制作工艺,其特征在于,所述混合填料A包括6-9重量份硅灰石粉、6-10重量份钛白粉和8-11重量份重钙粉;所述混合填料B包括8-20重量份刚玉砂、7-18重量份滑石粉和10-27重量份石英粉。
4.根据权利要求1所述的一种使用免烧负离子釉料的装饰瓷砖的制作工艺,其特征在于,所述颜料为铬酸铅红、铬锡红、钒钛黄、镉黄、钴青、钴蓝中的至少一种。
5.根据权利要求1所述的一种使用免烧负离子釉料的装饰瓷砖的制作工艺,其特征在于,步骤(4)所述升温固化是指在50-58℃温度下固化30-35min。
6.一种如权利要求1-5任一项所述的制作工艺制作得到的使用免烧负离子釉料的装饰瓷砖。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202310375725.8A CN116082067B (zh) | 2023-04-11 | 2023-04-11 | 一种使用免烧负离子釉料的装饰瓷砖及其制作工艺 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202310375725.8A CN116082067B (zh) | 2023-04-11 | 2023-04-11 | 一种使用免烧负离子釉料的装饰瓷砖及其制作工艺 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN116082067A CN116082067A (zh) | 2023-05-09 |
CN116082067B true CN116082067B (zh) | 2023-06-23 |
Family
ID=86214292
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN202310375725.8A Active CN116082067B (zh) | 2023-04-11 | 2023-04-11 | 一种使用免烧负离子釉料的装饰瓷砖及其制作工艺 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN116082067B (zh) |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3321205B2 (ja) * | 1992-08-25 | 2002-09-03 | エムエスエンジニアリング株式会社 | 無機質多孔基材の表面仕上げ方法 |
CN112961604A (zh) * | 2021-03-17 | 2021-06-15 | 三明市联星环保科技材料有限公司 | 高硬度面釉及其制备方法 |
CN113956077B (zh) * | 2021-11-26 | 2023-03-10 | 佛山市东鹏陶瓷发展有限公司 | 一种使用免烧釉料的装饰瓷砖及其制作工艺 |
-
2023
- 2023-04-11 CN CN202310375725.8A patent/CN116082067B/zh active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN116082067A (zh) | 2023-05-09 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN109867446B (zh) | 一种超平熔块干粒釉全抛砖及其制备方法 | |
CN109279918A (zh) | 一种柔光砖及其制备方法 | |
CN105198217B (zh) | 一种用于全抛釉瓷砖生产、利于陶瓷墨水发色的底釉 | |
WO2021232784A1 (zh) | 一种高耐磨远红外陶瓷抛釉砖及其制备方法 | |
CN111116235B (zh) | 一种细干粒陶瓷砖及其制备方法、细干粒釉 | |
CN110776256A (zh) | 白色放射状晶花干粒釉、透光陶瓷砖及其制备方法 | |
CN113716967A (zh) | 一种具有闪光效果的陶瓷砖及其制备方法 | |
CN112500196B (zh) | 一种具有立体宝石颗粒感釉面的陶瓷砖及其制备方法 | |
CN108484114B (zh) | 一种高掺量抛光废料的釉面瓷质砖及其制备方法 | |
CN110790507B (zh) | 一种底釉及其制备方法、黑色喷墨陶瓷砖及其制造方法 | |
CN109455934B (zh) | 一种流彩装饰效果陶瓷砖及其制备方法 | |
CN109279919A (zh) | 一种水磨精石砖及其制备方法 | |
CN112608029B (zh) | 炫光仿古砖及其制备方法 | |
CN108164139A (zh) | 仿大理石柔光砖面釉、仿大理石柔光砖及其制备方法 | |
CN113860742B (zh) | 一种仿真大理石釉、仿真大理石大板及制备方法 | |
CN110683867B (zh) | 一种黑色喷墨陶瓷砖及其制造方法 | |
CN107827363A (zh) | 一种高温金黄色珠光釉及其应用 | |
CN113121113A (zh) | 一种全抛晰晶釉瓷质砖的制作方法 | |
CN113582545B (zh) | 一种具有星光效果的陶瓷釉料及其制备方法和应用方法 | |
CN116082067B (zh) | 一种使用免烧负离子釉料的装饰瓷砖及其制作工艺 | |
CN110713393B (zh) | 一种交融陶瓷颜料釉及其生产方法、仿石材釉面砖及其生产方法 | |
CN113956077B (zh) | 一种使用免烧釉料的装饰瓷砖及其制作工艺 | |
CN114956866B (zh) | 一种低温烧结彩砂的制备方法 | |
CN113683308B (zh) | 一种超白陶瓷砖及其生产工艺 | |
CN110526744B (zh) | 一种斑点仿古砖及其制作方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
GR01 | Patent grant | ||
GR01 | Patent grant | ||
PE01 | Entry into force of the registration of the contract for pledge of patent right | ||
PE01 | Entry into force of the registration of the contract for pledge of patent right |
Denomination of invention: A decorative ceramic tile using non fired negative ion glaze and its production process Effective date of registration: 20231204 Granted publication date: 20230623 Pledgee: Foshan Rural Commercial Bank Co.,Ltd. Lanshi Branch Pledgor: FOSHAN TAOYING NEW MATERIAL CO.,LTD. Registration number: Y2023980069216 |