CN116003659A - 疏水性聚合物及制备方法、含疏水性聚合物的涂层材料及用其构建疏水/超疏水表面的方法 - Google Patents
疏水性聚合物及制备方法、含疏水性聚合物的涂层材料及用其构建疏水/超疏水表面的方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN116003659A CN116003659A CN202111226524.9A CN202111226524A CN116003659A CN 116003659 A CN116003659 A CN 116003659A CN 202111226524 A CN202111226524 A CN 202111226524A CN 116003659 A CN116003659 A CN 116003659A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- hydrophobic
- hydrophobic polymer
- methacrylate
- benzoylphenyl
- propyl
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 229920001600 hydrophobic polymer Polymers 0.000 title claims abstract description 77
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims abstract description 54
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims abstract description 51
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims abstract description 45
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 title claims abstract description 39
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 31
- 230000003075 superhydrophobic effect Effects 0.000 title claims abstract description 23
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title abstract description 29
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims abstract description 24
- 239000012752 auxiliary agent Substances 0.000 claims abstract description 11
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 11
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims abstract description 7
- -1 2-trifluoroethyl Chemical group 0.000 claims description 100
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 72
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 31
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 30
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 27
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 24
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 24
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 23
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 21
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 18
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 17
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 16
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims description 14
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 238000010560 atom transfer radical polymerization reaction Methods 0.000 claims description 13
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 claims description 13
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 12
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 12
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N benzoin Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- NPFYZDNDJHZQKY-UHFFFAOYSA-N 4-Hydroxybenzophenone Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 NPFYZDNDJHZQKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 10
- 239000003995 emulsifying agent Substances 0.000 claims description 10
- RHQDFWAXVIIEBN-UHFFFAOYSA-N Trifluoroethanol Chemical compound OCC(F)(F)F RHQDFWAXVIIEBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 claims description 9
- 239000003999 initiator Substances 0.000 claims description 9
- 239000002562 thickening agent Substances 0.000 claims description 9
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 8
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims description 8
- VHYFNPMBLIVWCW-UHFFFAOYSA-N 4-Dimethylaminopyridine Chemical compound CN(C)C1=CC=NC=C1 VHYFNPMBLIVWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 claims description 6
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 claims description 6
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 claims description 6
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 claims description 6
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 claims description 6
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 claims description 6
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 claims description 6
- 239000002105 nanoparticle Substances 0.000 claims description 6
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 claims description 6
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- OMWSZDODENFLSV-UHFFFAOYSA-N (5-chloro-2-hydroxyphenyl)-phenylmethanone Chemical compound OC1=CC=C(Cl)C=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 OMWSZDODENFLSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- LCPUCXXYIYXLJY-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,4,4,4-hexafluorobutyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC(F)(F)C(F)CC(F)(F)F LCPUCXXYIYXLJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- QTKPMCIBUROOGY-UHFFFAOYSA-N 2,2,2-trifluoroethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(F)(F)F QTKPMCIBUROOGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- YJKHMSPWWGBKTN-UHFFFAOYSA-N 2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7-dodecafluoroheptyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)F YJKHMSPWWGBKTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- ZXDDPOHVAMWLBH-UHFFFAOYSA-N 2,4-Dihydroxybenzophenone Chemical compound OC1=CC(O)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 ZXDDPOHVAMWLBH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000013530 defoamer Substances 0.000 claims description 5
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 5
- RUETVLNXAGWCDS-UHFFFAOYSA-N (4-chlorophenyl)-(4-hydroxyphenyl)methanone Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(Cl)C=C1 RUETVLNXAGWCDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000012956 1-hydroxycyclohexylphenyl-ketone Substances 0.000 claims description 4
- HTQNYBBTZSBWKL-UHFFFAOYSA-N 2,3,4-trihydroxbenzophenone Chemical compound OC1=C(O)C(O)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 HTQNYBBTZSBWKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- ROOXNKNUYICQNP-UHFFFAOYSA-N ammonium persulfate Chemical compound [NH4+].[NH4+].[O-]S(=O)(=O)OOS([O-])(=O)=O ROOXNKNUYICQNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N bis[2-(1-hydroxycyclohexyl)phenyl]methanone Chemical compound C=1C=CC=C(C(=O)C=2C(=CC=CC=2)C2(O)CCCCC2)C=1C1(O)CCCCC1 MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 4
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 4
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 claims description 4
- HQYALQRYBUJWDH-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(propyl)silane Chemical compound CCC[Si](OC)(OC)OC HQYALQRYBUJWDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one Chemical compound CC(C)(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- HBZFBSFGXQBQTB-UHFFFAOYSA-N 3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,10,10,10-heptadecafluorodecyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F HBZFBSFGXQBQTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 3
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000003446 ligand Substances 0.000 claims description 3
- DWFKOMDBEKIATP-UHFFFAOYSA-N n'-[2-[2-(dimethylamino)ethyl-methylamino]ethyl]-n,n,n'-trimethylethane-1,2-diamine Chemical compound CN(C)CCN(C)CCN(C)CCN(C)C DWFKOMDBEKIATP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- WFUGQJXVXHBTEM-UHFFFAOYSA-N 2-hydroperoxy-2-(2-hydroperoxybutan-2-ylperoxy)butane Chemical compound CCC(C)(OO)OOC(C)(CC)OO WFUGQJXVXHBTEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000004342 Benzoyl peroxide Substances 0.000 claims description 2
- OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N Benzoylperoxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910001870 ammonium persulfate Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 235000019400 benzoyl peroxide Nutrition 0.000 claims description 2
- FDPIMTJIUBPUKL-UHFFFAOYSA-N dimethylacetone Natural products CCC(=O)CC FDPIMTJIUBPUKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- ZQMHJBXHRFJKOT-UHFFFAOYSA-N methyl 2-[(1-methoxy-2-methyl-1-oxopropan-2-yl)diazenyl]-2-methylpropanoate Chemical compound COC(=O)C(C)(C)N=NC(C)(C)C(=O)OC ZQMHJBXHRFJKOT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- USHAGKDGDHPEEY-UHFFFAOYSA-L potassium persulfate Chemical compound [K+].[K+].[O-]S(=O)(=O)OOS([O-])(=O)=O USHAGKDGDHPEEY-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 2
- GJBRNHKUVLOCEB-UHFFFAOYSA-N tert-butyl benzenecarboperoxoate Chemical compound CC(C)(C)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 GJBRNHKUVLOCEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 4
- 229960001701 chloroform Drugs 0.000 claims 4
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims 4
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 4
- 125000002572 propoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 claims 4
- QUKRIOLKOHUUBM-UHFFFAOYSA-N 3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,10,10,10-heptadecafluorodecyl prop-2-enoate Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)CCOC(=O)C=C QUKRIOLKOHUUBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- JQCICOOEVIPWGE-UHFFFAOYSA-N C(CC)[Si](Cl)(Cl)Cl.C(C(=C)C)(=O)O Chemical compound C(CC)[Si](Cl)(Cl)Cl.C(C(=C)C)(=O)O JQCICOOEVIPWGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims 2
- KGGBUGLHJUGXEF-UHFFFAOYSA-N [6-hydroxy-4-(2-hydroxyethoxy)-6-methylcyclohexa-2,4-dien-1-yl]-phenylmethanone Chemical compound OC1(C(C(=O)C2=CC=CC=C2)C=CC(=C1)OCCO)C KGGBUGLHJUGXEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 239000012429 reaction media Substances 0.000 claims 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 abstract description 21
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 abstract description 6
- 238000002156 mixing Methods 0.000 abstract description 4
- 238000001035 drying Methods 0.000 abstract description 3
- 239000005038 ethylene vinyl acetate Substances 0.000 description 68
- 229920001200 poly(ethylene-vinyl acetate) Polymers 0.000 description 68
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 27
- 241000195493 Cryptophyta Species 0.000 description 23
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- 241000195649 Chlorella <Chlorellales> Species 0.000 description 19
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 14
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 14
- 230000003373 anti-fouling effect Effects 0.000 description 13
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 12
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 10
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 8
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 7
- 238000002791 soaking Methods 0.000 description 7
- ROFVEXUMMXZLPA-UHFFFAOYSA-N Bipyridyl Chemical compound N1=CC=CC=C1C1=CC=CC=N1 ROFVEXUMMXZLPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- ODWXUNBKCRECNW-UHFFFAOYSA-M bromocopper(1+) Chemical compound Br[Cu+] ODWXUNBKCRECNW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 5
- 238000003851 corona treatment Methods 0.000 description 5
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 5
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 5
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 5
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 4
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000007385 chemical modification Methods 0.000 description 4
- 238000005086 pumping Methods 0.000 description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910021589 Copper(I) bromide Inorganic materials 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 3
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 3
- NKNDPYCGAZPOFS-UHFFFAOYSA-M copper(i) bromide Chemical compound Br[Cu] NKNDPYCGAZPOFS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 3
- 238000009775 high-speed stirring Methods 0.000 description 3
- 238000002329 infrared spectrum Methods 0.000 description 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 3
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 3
- JEQDSBVHLKBEIZ-REOHCLBHSA-N (2s)-2-chloropropanoyl chloride Chemical compound C[C@H](Cl)C(Cl)=O JEQDSBVHLKBEIZ-REOHCLBHSA-N 0.000 description 2
- YOCIJWAHRAJQFT-UHFFFAOYSA-N 2-bromo-2-methylpropanoyl bromide Chemical compound CC(C)(Br)C(Br)=O YOCIJWAHRAJQFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 241000894006 Bacteria Species 0.000 description 2
- NVZFCJWVVYUDSA-UHFFFAOYSA-N C(CC)O[Si](OC(C)=O)(OC(C)=O)OC(C)=O Chemical compound C(CC)O[Si](OC(C)=O)(OC(C)=O)OC(C)=O NVZFCJWVVYUDSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- VGCXGMAHQTYDJK-UHFFFAOYSA-N Chloroacetyl chloride Chemical compound ClCC(Cl)=O VGCXGMAHQTYDJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HFBMWMNUJJDEQZ-UHFFFAOYSA-N acryloyl chloride Chemical compound ClC(=O)C=C HFBMWMNUJJDEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009360 aquaculture Methods 0.000 description 2
- 244000144974 aquaculture Species 0.000 description 2
- 238000002296 dynamic light scattering Methods 0.000 description 2
- 230000032050 esterification Effects 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 230000005661 hydrophobic surface Effects 0.000 description 2
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- VHRYZQNGTZXDNX-UHFFFAOYSA-N methacryloyl chloride Chemical compound CC(=C)C(Cl)=O VHRYZQNGTZXDNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 244000005700 microbiome Species 0.000 description 2
- 238000000655 nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 2
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 2
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 description 2
- 239000005053 propyltrichlorosilane Substances 0.000 description 2
- 102000004169 proteins and genes Human genes 0.000 description 2
- 108090000623 proteins and genes Proteins 0.000 description 2
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 2
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 2
- DOEHJNBEOVLHGL-UHFFFAOYSA-N trichloro(propyl)silane Chemical compound CCC[Si](Cl)(Cl)Cl DOEHJNBEOVLHGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PQDJYEQOELDLCP-UHFFFAOYSA-N trimethylsilane Chemical compound C[SiH](C)C PQDJYEQOELDLCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940094989 trimethylsilane Drugs 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- IXPNQXFRVYWDDI-UHFFFAOYSA-N 1-methyl-2,4-dioxo-1,3-diazinane-5-carboximidamide Chemical compound CN1CC(C(N)=N)C(=O)NC1=O IXPNQXFRVYWDDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VUNWOWKGBXOBGY-UHFFFAOYSA-N 2-bromo-2-methylpropanoyl chloride Chemical compound CC(C)(Br)C(Cl)=O VUNWOWKGBXOBGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LSTRKXWIZZZYAS-UHFFFAOYSA-N 2-bromoacetyl bromide Chemical compound BrCC(Br)=O LSTRKXWIZZZYAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KVQJVAOMYWTLEO-UHFFFAOYSA-N 2-chlorobutanoyl chloride Chemical compound CCC(Cl)C(Cl)=O KVQJVAOMYWTLEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IIYDTSAAECYHAE-UHFFFAOYSA-N 2-methylidenebutanoyl chloride Chemical compound CCC(=C)C(Cl)=O IIYDTSAAECYHAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FRXLFVNGTPQFEJ-UHFFFAOYSA-N 3-bromopropanoyl bromide Chemical compound BrCCC(Br)=O FRXLFVNGTPQFEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- INUNLMUAPJVRME-UHFFFAOYSA-N 3-chloropropanoyl chloride Chemical compound ClCCC(Cl)=O INUNLMUAPJVRME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CDIIZULDSLKBKV-UHFFFAOYSA-N 4-chlorobutanoyl chloride Chemical compound ClCCCC(Cl)=O CDIIZULDSLKBKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OZAIFHULBGXAKX-VAWYXSNFSA-N AIBN Substances N#CC(C)(C)\N=N\C(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-VAWYXSNFSA-N 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YGYAWVDWMABLBF-UHFFFAOYSA-N Phosgene Chemical compound ClC(Cl)=O YGYAWVDWMABLBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 238000003854 Surface Print Methods 0.000 description 1
- 150000001266 acyl halides Chemical class 0.000 description 1
- 239000002671 adjuvant Substances 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- 238000000089 atomic force micrograph Methods 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- 150000008366 benzophenones Chemical class 0.000 description 1
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N carbonic acid Chemical class OC(O)=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 239000007810 chemical reaction solvent Substances 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- LVYZJEPLMYTTGH-UHFFFAOYSA-H dialuminum chloride pentahydroxide dihydrate Chemical compound [Cl-].[Al+3].[OH-].[OH-].[Al+3].[OH-].[OH-].[OH-].O.O LVYZJEPLMYTTGH-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 1
- 238000005265 energy consumption Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 1
- 235000013305 food Nutrition 0.000 description 1
- 238000007602 hot air drying Methods 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000001000 micrograph Methods 0.000 description 1
- 239000005543 nano-size silicon particle Substances 0.000 description 1
- SOQBVABWOPYFQZ-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);titanium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Ti+4] SOQBVABWOPYFQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 description 1
- UKODFQOELJFMII-UHFFFAOYSA-N pentamethyldiethylenetriamine Chemical compound CN(C)CCN(C)CCN(C)C UKODFQOELJFMII-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 1
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 238000002203 pretreatment Methods 0.000 description 1
- 230000002035 prolonged effect Effects 0.000 description 1
- VWQXLMJSFGLQIT-UHFFFAOYSA-N prop-2-enoyl bromide Chemical compound BrC(=O)C=C VWQXLMJSFGLQIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 238000007348 radical reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052761 rare earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002910 rare earth metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 230000027756 respiratory electron transport chain Effects 0.000 description 1
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 1
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 1
- 239000010865 sewage Substances 0.000 description 1
- 238000010008 shearing Methods 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 229920002545 silicone oil Polymers 0.000 description 1
- 235000010413 sodium alginate Nutrition 0.000 description 1
- 239000000661 sodium alginate Substances 0.000 description 1
- 229940005550 sodium alginate Drugs 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- 238000010345 tape casting Methods 0.000 description 1
- 238000004506 ultrasonic cleaning Methods 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Abstract
本发明公开了一种疏水性聚合物及其制备方法和利用其构建疏水/超疏水表面的方法，所述的疏水性聚合物主链或侧链含有光反应性基团，结构如下：
所示构建疏水/超疏水表面的方法包括以下步骤：首先将该疏水聚合物、助剂、溶剂混合获得疏水性涂层材料，将基材清洗并预处理后，将含有该疏水性聚合物的涂层材料涂覆在基材表面，涂层干燥或固化后利用紫外光照射一定时间。本发明解决现有疏水或超疏水涂层存在的难以低成本、大面积制备和寿命较短问题。
Description
技术领域
本发明属于材料的表面处理技术领域，具体是一种疏水性聚合物及其制备方法、包含该疏水性聚合物的涂层材料及利用该涂层材料构建疏水/超疏水表面的方法。
背景技术
生物污染是非特异性的生物物质(蛋白质、细胞、细菌以及其他微生物)吸附并聚集在材料表面形成的生物膜，导致在生物医药、食品包装及储存、污水净化处理、水产养殖以及海洋运输等领域出现的材料性能和寿命下降、效率降低和能耗增大等问题。
构建疏水/超疏水性的自清洁表面是解决生物污染问题的有效途径之一。自清洁表面是通过对表面进行粗糙度处理和(或)固定疏水性物质构建低表面能和低模量的改性层，削弱微生物等与材料表面的相互作用，施加一定强度的剪切力或机械力便可轻易去除生物污染。目前构建自清洁涂层的方法主要有表面物理涂覆和表面化学改性，但表面物理涂覆方法制备的涂层在应用过程中长期稳定性较差，利用表面化学改性方法使基材和涂层建立化学键合，可大幅提高涂层的寿命。但现有化学改性过程一般较为复杂，需要特殊的设备和反应条件，反应时间很长，制备成本很高，很难实现大面积制备和工业化应用。
中国专利申请CN102079819A公开了一种紫外光接枝制备超疏水性聚合物表面的方法，选用聚乙烯作为基材以及孔径小于20μm的微孔薄膜作为光栅，制备时，将板材放入配制好的接枝液中浸泡30min，取出后用滤纸吸干表面多余溶液，并在板材表面盖上微孔薄膜：采用高压汞灯紫外辐照装置，光强为9.2μW/cm2，辐照时间为15min；在一次接枝完成后，移动微孔薄膜光栅进行二次接枝；接枝结束后用丙酮对板材表面进行擦拭，以除去未接枝上的残留单体。与传统化学改性方法相比，反应时间大为减少，但仍存在需要多次接枝反应、反应过程复杂、时间较长等问题。
发明内容
本发明的目的在于提供一种疏水性聚合物及其制备方法、包含该疏水性聚合物的涂层材料及利用其构建疏水/超疏水表面的方法，以解决现有疏水或超疏水表面存在的难以低成本大面积制备和寿命较短问题。
为达到上述目的，本发明的技术方案如下：
一种疏水性聚合物，所述的疏水性聚合物主链或侧链上含有光反应性基团。
当疏水性聚合物主链上含有光反应性基团时，其结构式为：
其中，R1包括苯基、长链烷基或
R5包括但不限于甲基、2,2,2-三氟乙基、六氟丁基、十二氟庚基、十七氟癸基、三甲基硅甲基、3-(三氯硅甲基) 丙基、3-(三甲氧基硅甲基)丙基和3-(三乙酰氧基硅甲基)丙基中的一种或几种；
R2包括氢原子、甲基或乙基；
R3为甲基、乙基或氢原子，y为1～5；
R4包括但不限于对苯甲酰基苯基、2-羟基-4-苯甲酰基苯基、3-羟基-4-苯甲酰基苯基、2-苯甲酰基-4-氯苯基、2,3-二羟基-4-苯甲酰基苯基、2,6-二羟基-3-苯甲酰基苯基、1,2-二羟基-6苯甲酰基苯基、对(4-氯苯甲酰基)苯基、2-苯甲酰基异丙基、 1-苯基苯乙酰基和1-环己基苯乙酰基中的一种或几种；
m为聚合度，为1～200；
当疏水性聚合物侧链上含有光反应性基团时，其结构式为：
其中，R1包括苯基、长链烷基或
R5包括但不限于甲基、2,2,2-三氟乙基、六氟丁基、十二氟庚基、十七氟癸基、三甲基硅甲基、3-(三氯硅甲基) 丙基、3-(三甲氧基硅甲基)丙基和3-(三乙酰氧基硅甲基)丙基中的一种或几种；
R2为氢原子、甲基或乙基；
R4为光引发剂(二苯甲酮衍生物、苯偶姻和羟基酮类化合物等)反应生成的基团，包括但不限于对苯甲酰基苯基、2-羟基-4-苯甲酰基苯基、3-羟基-4-苯甲酰基苯基、2-苯甲酰基-4-氯苯基、2,3-二羟基-4-苯甲酰基苯基、2,6-二羟基-3-苯甲酰基苯基、1,2-二羟基-6苯甲酰基苯基、对(4-氯苯甲酰基)苯基、2-苯甲酰基异丙基、 1-苯基苯乙酰基和1-环己基苯乙酰基中的一种或几种；
m为聚合度，为1～200；
z为聚合度，为1～200。
本发明还提供了该疏水性聚合物的制备方法：
当疏水性聚合物主链上含有光反应性基团时，反应式如下：
其制备方法包括以下步骤：将光引发剂加入含缚酸剂和溶剂的烧瓶中，之后在冰浴条件下将ATRP引发剂逐渐滴加至烧瓶中，滴加时间控制在0～5h，30～120℃下反应1～12h进行酯化；反应结束后，经过提纯得到了改性的光引发剂；
将上述改性的光引发剂溶于溶剂中，加入含双键的疏水单体、配体和催化剂，无水无氧条件下进行原子转移自由基聚合，在20～120℃反应1～24h，反应完成并经过提纯，得到主链上含有光反应性基团的疏水性聚合物；
所述的光引发剂包括但不限于4-羟基二苯甲酮、2,4-二羟基二苯甲酮、4-氯-4’-羟基二苯甲酮、2-羟基-5-氯二苯甲酮、2,3,4-三羟基二苯甲酮、2-羟基-2-甲基-1-苯基-1-丙酮(1173光引发剂)、苯偶姻、1-羟基环己基苯基甲酮(184光引发剂)、2- 羟基-4-(2-羟乙氧基)-2-甲基苯丙酮(2959光引发剂)、1000光引发剂(20％184+80％1173)、4265光引发剂(50％TPO+50％1173)或500光引发剂(50％苯甲酮+50％184)中的一种或几种；
所述的ATRP引发剂为卤代酰卤，包括但不限于2-溴代异丁酰溴、溴乙酰溴、溴代丙酰溴、氯乙酰氯、氯甲酰氯、2-氯丙酰氯、3-氯丙酰氯、4-氯丁酰氯、2-氯丁酰氯和溴代异丁酰氯中的一种或几种；
所述酯化反应中的溶剂包括但不限于三氟乙醇、甲醇、乙醇、四氢呋喃、二氯甲烷、三氯甲烷、二甲基亚砜和丙酮等中的一种或几种；
所述的缚酸剂包括但不限于三乙胺、吡啶、氢氧化钾和氢氧化钠中的一种或几种；
所述的原子转移自由基聚合包括但不限于原子转移自由基聚合(ATRP)、反向原子转移自由基聚合、电子转移再生催化剂原子转移自由基聚合(ARGET ATRP) 和引发剂连续再生催化剂原子转移自由基聚合(ICAR ATRP)；
所述的疏水单体包括但不限于苯乙烯、甲基丙烯酸(甲-十八烷)基酯、甲基(或乙基)丙烯酸三甲基硅烷、甲基(或乙基)丙烯酸三氟乙酯、甲基(或乙基)丙烯酸六氟丁酯、甲基(或乙基)丙烯酸十二氟庚酯、2-(全氟辛基)乙基甲基(或乙基) 丙烯酸酯、甲基(或乙基)丙烯酸丙基三氯硅烷、3-(甲基(或乙基)丙烯酰氧)丙基三甲氧基硅烷和甲基(或乙基)丙烯酸丙氧基三乙酰氧基硅烷中的一种或几种；
所述的配体包括但不限于2’,2-联吡啶(Bpy)、N,N,N,N’,N’-五甲基三乙胺(PMDETA)、4-二甲基氨基吡啶(DMAP)和1,1,4,7,10,10-六甲基三亚乙基四胺 (HMTETA)等中的一种或几种；
所述的原子转移自由基反应溶剂包括但不限于三氟乙醇、甲醇、乙醇、四氢呋喃、二氯甲烷、三氯甲烷、二甲基亚砜、水等中的一种或几种。
当疏水性聚合物侧链上含有光反应性基团时，反应式如下：
其制备方法包括以下步骤：将光引发剂加入含缚酸剂和溶剂的烧瓶中，之后在冰浴条件下将丙烯酰卤或其衍生物逐渐滴加至烧瓶中，滴加时间控制在0～5h， 30～120℃下反应1～12h进行酯化；反应结束并经过提纯，得到含有双键的光引发剂；
利用自由基聚合反应制备侧链上含有光反应性基团的疏水聚合物：将上述得到的含有双键的光引发剂与含双键的疏水单体溶解在溶剂中，再加入自由基引发剂，抽真空充氮气三次，密封并升温至40～150℃反应1～24h，反应结束经过提纯，得到侧链上含有光反应性基团的疏水性聚合物。
所述的光引发剂包括但不限于(包括4-羟基二苯甲酮、2,4-二羟基二苯甲酮、 4-氯-4’-羟基二苯甲酮、2-羟基-5-氯二苯甲酮、2,3,4-三羟基二苯甲酮等)、2-羟基-2- 甲基-1-苯基-1-丙酮(1173光引发剂)、苯偶姻、1-羟基环己基苯基甲酮(184光引发剂)和2-羟基-4-(2-羟乙氧基)-2-甲基苯丙酮(2959光引发剂)中的一种或几种。
所述的酯化反应中的酰化试剂包括但不限于丙烯酰氯、丙烯酰溴、甲基丙烯酰氯和2-乙基丙烯酰氯。
所述的酯化反应中的溶剂包括但不限于三氟乙醇、甲醇、乙醇、四氢呋喃、二氯甲烷、三氯甲烷、二甲基亚砜等中的一种或几种；
所述的缚酸剂包括但不限于三乙胺、吡啶、氢氧化钾或氢氧化钠中的一种或几种；
所述的疏水单体包括但不限于苯乙烯、甲基丙烯酸(甲-十八烷)基酯、甲基(或乙基)丙烯酸三甲基硅烷、甲基(或乙基)丙烯酸三氟乙酯、甲基(或乙基)丙烯酸六氟丁酯、甲基(或乙基)丙烯酸十二氟庚酯、2-(全氟辛基)乙基甲基(或乙基) 丙烯酸酯、甲基(或乙基)丙烯酸丙基三氯硅烷、3-(甲基(或乙基)丙烯酰氧)丙基三甲氧基硅烷和甲基(或乙基)丙烯酸丙氧基三乙酰氧基硅烷中的一种或几种；
所述的自由基引发剂包括但不限于偶氮二异丁腈、偶氮二异庚腈、偶氮二异丁酸二甲酯、过氧化氢、过硫酸铵、过硫酸钾、过氧化苯甲酰、过氧化苯甲酰叔丁酯和过氧化甲乙酮中的一种或几种；
所述的自由基聚合反应中的溶剂包括但不限于三氟乙醇、甲醇、乙醇、四氢呋喃、二氯甲烷、三氯甲烷、环己酮、二甲基亚砜、水等中的一种或几种。
本发明进一步提供了一种包含有该疏水性聚合物的涂层材料和利用该涂层材料构建疏水/超疏水表面的方法，包括以下步骤：
所述的包含有该疏水性聚合物的涂层材料中，其组成按质量百分比计，疏水性聚合物0.1～50％、助剂(流平剂0.1～5％、分散剂0～10％、消泡剂0.1～5％、增稠剂0.1～5％、乳化剂0～10％和微纳米粒子0～30％)，其余为溶剂；
所述含疏水性聚合物的涂层材料采用以下方法制备：
将疏水性聚合物溶解至溶剂中，再加入助剂，配制成涂层材料；
或将疏水性聚合物溶解至溶剂中得到溶液A，同时在去离子水中加入乳化剂得到溶液B，再将溶液A滴加至溶液B中，加入助剂配制成涂层材料。
所述助剂包括流平剂、分散剂、消泡剂、增稠剂和微纳米粒子等。
所述的涂层材料中，所有组分可以溶解在溶剂中，也可以以乳液或悬浮液等分散在溶剂中；
所述的流平剂包括但不限于丙烯酸树脂、聚二甲基硅氧烷和硅油等中的一种或几种；
所述的分散剂包括但不限于EFKA-4800、EFKA-7732、BYK-U100、BYK-110、 BYK-160、KYC-920和904S中的一种或多种；
所述的消泡剂包括但不限于JZ-177、B-001、FM-3110、B-365和SMXP-P1中的一种或多种；
所述的增稠剂包括但不限于PTE、PFL和海藻酸钠中的一种或多种；
所述的乳化剂包括但不限于OP-10、SR-10、305和AEO-7中的一种或多种；
所述的微纳米粒子材料包括但不限于纳米二氧化硅、纳米碳酸钙、纳米氧化锌和纳米二氧化钛、稀土纳米粒子等中的一种或几种，上述助剂(流平剂、分散剂、消泡剂、增稠剂和微纳米粒子)以及乳化剂均可商业购买得到；
所述的用于溶解聚合物的溶剂包括但不限于水、甲醇、乙醇、丙酮、二甲基亚砜、乙酸、乙酸乙酯、四氢呋喃、三氟乙醇、二氯甲烷、三氯甲烷、甲苯等中的一种或几种；
所述的利用该涂层材料构建疏水/超疏水表面的方法，包含如下步骤：
将基材清洗并预处理后，将含有该疏水性聚合物的涂层材料涂覆在基材表面，涂层干燥或固化后，利用紫外光照射一定时间；
所述的基材可以是塑料、橡胶、纤维等高分子材料，也可以是陶瓷、玻璃、硅片、金属等表面含氢的材料，所述的高分子材料包括但不限于聚乙烯、聚苯乙烯、聚丙烯、聚氯乙烯、乙烯-醋酸乙烯共聚物、聚氨酯、聚四氟乙烯、聚酰亚胺等中的一种或多种；
所述的基材的清洗方法为在乙醇中浸泡并清洗，或依次在丙酮、乙醇和水中超声清洗30min；
所述的预处理方法包括但不限于刻蚀、臭氧处理、紫外辐照、电晕处理、等离子体处理、辉光放电和高能粒子辐照中的一种或多种；
所述的涂层材料涂覆方法包括但不限喷涂，浸渍、刮涂、表面印刷等方法中的一种或几种；
所述的涂层材料干燥或固化方法包括但不限于溶剂挥发，在氮气氛围下进行吹干或热风烘干等方法；
所述的紫外辐照光源包括但不限于高压汞灯、紫外光固化装置、紫外光固化机和UV LED面光源；
所述的紫外辐照时间为0～20min，紫外光的强度为0～100mW/cm2。
本发明更进一步提供了疏水改性制品，所述的疏水改性制品采用上述构建疏水表面的方法对制品进行表面改性处理；
所述的疏水改性制品可用于防止蛋白质、细菌、细胞黏附的领域，可以增强防污效果，如用于微藻培养的光生物反应器表面，提高光生物反应器的抗污性能，还可用于生物传感器、海洋防污和水产养殖装备如网箱等；
所述的疏水改性制品在防尘、防雾和防结冰领域中也可应用，如透明农膜、防尘玻璃和防覆冰金属等；
与现有的疏水/超疏水表面的制备方法相比，本发明提供的疏水/超疏水表面的制备方法具有以下优势：
与传统物理涂覆方法相比，本发明提供的制备方法仅需增加紫外光照，即可实现涂层材料与基材的化学键合，大幅提高疏水/超疏水改性表面的寿命；
与传统表面接枝方法相比，本发明提供的制备方法，反应快速，常温条件下仅需0-10min即可完成。
本发明提供的疏水材料及疏水表面的制备方法可以用于大面积基材的表面改性，有望同时解决现有疏水/超疏水表面制备方法存在的难以大面积制备且长期使用寿命不佳问题。
附图说明
图1为实施例1所述的疏水性聚合物的制备流程图；
图2为实施例1所述的疏水性聚合物的红外谱图；
图3为实施例1所述的疏水性聚合物的核磁氢谱图；
图4为实施例1所述的疏水改性表面的扫描电镜图；
图5为实施例1所述的疏水改性表面的原子力显微镜图；
图6为实施例1所述的疏水改性表面的防污性能和自清洁性能；
图7为实施例4所述的疏水性聚合物的制备流程图；
图8为实施例4所述的疏水性聚合物的红外谱图；
图9为实施例4所述的疏水性聚合物的核磁氢谱图；
图10为实施例1(10a)、实施例2(10b)、实施例3(10c)所述的疏水改性表面的接触角图。
具体实施方式
下面以附图和具体实施方式对本发明作进一步详细的说明。
实施例1
如图1所示，一种疏水性聚合物的制备方法，包括以下步骤：
1、将0.01mol的4-羟基二苯甲酮加入含0.02mol三乙胺的四氢呋喃溶液中搅拌溶解后，将体系用冰浴保持在0℃左右，之后将0.05molα-溴异丁酰溴缓慢滴加至其中，滴加时间保持在1～2h之间，之后升温至50℃～90℃进行酯化反应，反应8h 后纯化制备出棕色粉末，得到改性的光引发剂，附图2为其红外谱图。
2、将1mmol改性的光引发剂、40mmol疏水单体甲基丙烯酸三氟乙酯TFEMA、0.02mmol溴化铜和2mmol的2’,2-联吡啶(Bpy)加入至二甲基亚砜中，抽真空通氮气三次后，在氮气氛围下加入1mmol溴化亚铜，再次抽真空通氮气三次后，密封后升至50℃～100℃进行反应8h后，纯化制备出浅棕色粉末，得到主链上含有光反应性基团的疏水性聚合物，附图2和附图3为其红外谱图和核磁谱图。
3、将上述的疏水性聚合物溶解至甲醇中，加入JZ-177有机硅消泡剂、增稠剂 PTE、EFKA-4800分散剂和丙烯酸酯流平剂，混合后得到涂层材料，将EVA薄膜清洗干净后，电晕处理30s，将涂层材料涂覆在EVA膜表面晾干后，在紫外灯下(波长为275nm)照射1～5min，之后在甲醇溶液中浸泡1h除去未接枝的聚合物，之后晾干进行保存。未改性EVA(4a)和改性后EVA膜(4b)表面的扫描电镜图片如附图4所示；未改性EVA(5a、5c)和改性后EVA膜(5b、5d)表面原子力显微镜图片如附图5所示；未改性的EVA膜的接触角如图10a所示，疏水改性后的EVA 膜接触角可达103±4°。
4、测试改性前后EVA膜的防污性能和自清洁性能，浸泡在小球藻培养体系中 14天后，EVA膜表面附着的藻细胞数量为169.3×104cells/cm2，改性EVA膜的藻细胞附着数量比EVA少20.1％。用高压水枪清洗附着藻细胞的所有膜片后，改性膜表面的小球藻数量降低50.9％，而EVA膜表面的数量仅降低26.2％，见附图6(膜 EVA-PTFEMA)。
实施例2
其他步骤同实施例1，所不同的是涂层材料中，疏水性聚合物及其它助剂是以乳液形式分散在水中，其制备过程如下：
1、将上述的主链上含光反应基团的疏水性聚合物溶解至甲醇中，配制成 30mg/ml的溶液后，向20ml的去离子水中加入0.5wt％的OP-10乳化剂，之后用注射器将约5ml疏水聚合物溶液缓慢滴加至高速搅拌的含乳化剂的去离子水中，加入与实施例1中相同的助剂配制成乳液，用动态光散射粒度仪确定其直径后。
2、利用其制得的疏水改性膜表面接触角可达105±5°，如附图10b。
3、测试改性前后EVA膜的防污性能和自清洁性能，浸泡在小球藻培养体系中 14天后，EVA膜表面附着的藻细胞数量为169.3×104cells/cm2，改性EVA膜的藻细胞附着数量比EVA少29.1％。用高压水枪清洗附着藻细胞的所有膜片后，改性膜表面的小球藻数量降低68.9％，而EVA膜表面的数量仅降低26.2％，见附图6(膜 EVA-PTFEMA-R)。
实施例3
其他步骤同实施例1，所不同的是涂层材料中包含有5％的纳米SiO2，其制备过程如下：
1、将上述的主链上含光反应性基团的疏水性聚合物溶解至甲醇中，加入与实施例1中相同的助剂混合成溶液后，在高速搅拌状态下加入5％的纳米SiO2，配制成乳液。
2、利用其改性可得到超疏水改性膜接触角可达153±3°，如附图10c。
3、测试改性前后EVA膜的防污性能和自清洁性能，浸泡在小球藻培养体系中 14天后，EVA膜表面附着的藻细胞数量为169.3×104cells/cm2，改性EVA膜的藻细胞附着数量比EVA少80.1％。用高压水枪清洗附着藻细胞的所有膜片后，改性膜表面的小球藻数量降低74.9％，而EVA膜表面的数量仅降低26.2％，见附图6(膜 EVA-PTFEMA-N)。
实施例4
如图7所示，一种疏水性聚合物的制备方法，所述的疏水性聚合物为侧链上包含有光反应性基团，其制备过程如下：
1、将0.02mol的2-羟基-2-甲基-1-苯基-1-丙酮加入至含0.02mol三乙胺的四氢呋喃溶液中，搅拌溶解后，将体系用冰浴保持在0℃左右，将0.04mol的丙烯酰氯缓慢滴加至其中，滴加时间为1～2h之间，之后升温至60℃～90℃反应8h，纯化后得到橙黄粉末，得到含双键的光引发剂，附图8为其红外谱图。
2、将5mmol的含双键的光引发剂、45mmol的疏水单体2-(全氟辛基)乙基甲基丙烯酸酯和AIBN加入到二甲基亚砜中，抽真空通氮气三次后密闭体系，升温至60℃反应20h后，纯化后得到侧链上含光反应性基团的疏水性聚合物，附图8和附图9 为其红外谱图和核磁谱图。
3、利用其对基材进行改性，得到疏水改性膜，其接触角可达102±4°。
4、测试改性前后EVA膜的防污性能和自清洁性能，浸泡在小球藻培养体系中 14天后，EVA膜表面附着的藻细胞数量为169.3×104cells/cm2，改性EVA膜的藻细胞附着数量比EVA少25.5％。用高压水枪清洗附着藻细胞的所有膜片后，改性膜表面的小球藻数量降低59.3％，而EVA膜表面的数量仅降低26.2％。
实施例5
其他步骤同实施例4，所不同的是涂层材料中，疏水性聚合物及其它助剂是以乳液形式分散在水中，其制备过程如下：
1、将上述的侧链上含光反应基团的疏水性聚合物溶解至甲醇中，配制成 20mg/ml的溶液后，向20ml的去离子水中加入0.5wt％的OP-10乳化剂，之后用注射器将约5ml疏水聚合物溶液缓慢滴加至高速搅拌的含乳化剂的去离子水中，加入与实施例1中相同的助剂配制成乳液，用动态光散射粒度仪确定其直径后。
2、利用其制得的疏水改性膜表面接触角可达110±5°。
3、测试改性前后EVA膜的防污性能和自清洁性能，浸泡在小球藻培养体系中 14天后，EVA膜表面附着的藻细胞数量为169.3×104cells/cm2，改性EVA膜的藻细胞附着数量比EVA少40.1％。用高压水枪清洗附着藻细胞的所有膜片后，改性膜表面的小球藻数量降低71.9％，而EVA膜表面的数量仅降低26.2％。
实施例6
其他步骤同实施例4，所不同的是涂层材料中包含有10％的纳米SiO2，其制备过程如下：
1、将侧链上含光反应性基团的疏水性聚合物溶解至甲醇中，加入与实施例1 中相同的助剂混合成溶液后，在高速搅拌状态下加入10％的纳米SiO2，配制成乳液。
2、利用其改性可得到超疏水改性膜接触角可达156±3°。
3、测试改性前后EVA膜的防污性能和自清洁性能，浸泡在小球藻培养体系中 14天后，EVA膜表面附着的藻细胞数量为169.3×104cells/cm2，改性EVA膜的藻细胞附着数量比EVA少56.1％。用高压水枪清洗附着藻细胞的所有膜片后，改性膜表面的小球藻数量降低83.9％，而EVA膜表面的数量仅降低26.2％。
实施例7
1、将0.01mol的2-羟基-5-氯二苯甲酮加入含0.02mol吡啶的二氯甲烷溶液中搅拌溶解后，将体系用冰浴保持在0℃左右，之后将0.05mol氯乙酰氯缓慢滴加至其中，滴加时间保持在1～2h之间，之后升温至60℃～90℃进行酯化反应，反应8h后纯化制备出淡黄色粉末，即为改性的光引发剂。
2、将1mmol改性的光引发剂、40mmol疏水单体甲基丙烯酸十二氟庚酯、 0.02mmol溴化铜和2mmol的2’,2-联吡啶(Bpy)加入至二甲基亚砜中，抽真空通氮气三次后，在氮气氛围下加入1mmol溴化亚铜，再次抽真空通氮气三次后，密封后升至60℃～90℃之间进行反应8h后，纯化制备出浅棕色粉末，即为主链上含有光反应性基团的疏水性聚合物。
3、将上述的疏水性聚合物溶解至甲醇中，加入JZ-177有机硅消泡剂、PTE增稠剂PTE、EFKA-4800分散剂和丙烯酸酯流平剂配制成溶液后，将EVA薄膜清洗干净后，电晕处理30s，将涂层材料涂覆在EVA膜表面晾干后，在紫外灯下(波长为275nm)照射1～5min，之后在甲醇溶液中浸泡1h除去未接枝的聚合物，之后晾干进行保存。得到的疏水改性膜的接触角可达109±4°。
4、测试改性前后EVA膜的防污性能和自清洁性能，浸泡在小球藻培养体系中 14天后，EVA膜表面附着的藻细胞数量为169.3×104cells/cm2，改性EVA膜的藻细胞附着数量比EVA少30.1％。用高压水枪清洗附着藻细胞的所有膜片后，改性膜表面的小球藻数量降低56.9％，而EVA膜表面的数量仅降低26.2％。
实施例8
1、将0.01mol的苯偶姻加入含0.02mol吡啶的甲醇溶液中搅拌溶解后，将体系用冰浴保持在0℃左右，之后将0.05mol 2-氯丙酰氯缓慢滴加至其中，滴加时间保持在1～2h之间，之后升温至60℃～90℃进行酯化反应，反应8h后纯化制备出粉末，即为改性的光引发剂。
2、将1mmol改性的光引发剂、60mmol疏水单体苯乙烯、0.02mmol溴化铜和 2mmol的2’,2-联吡啶(Bpy)加入至甲醇中，抽真空通氮气三次后，在氮气氛围下加入1mmol溴化亚铜，再次抽真空通氮气三次后，密封后升至60℃～90℃之间进行反应12h后，纯化制备出浅棕色粉末，即为主链上含有光反应性基团的疏水性聚合物。
3、将上述的疏水性聚合物溶解至甲醇中，加入JZ-177有机硅消泡剂、PTE增稠剂PTE、EFKA-4800分散剂和丙烯酸酯流平剂配制成溶液后，将EVA薄膜清洗干净后，电晕处理30s，将涂层材料涂覆在PE膜表面晾干后，在紫外灯下(波长为 275nm)照射1～5min，之后在甲醇溶液中浸泡1h除去未接枝的聚合物，之后晾干进行保存。得到的疏水改性膜的接触角可达104±4°。
4、测试改性前后EVA膜的防污性能和自清洁性能，浸泡在小球藻培养体系中 14天后，EVA膜表面附着的藻细胞数量为169.3×104cells/cm2，改性EVA膜的藻细胞附着数量比EVA少40.1％。用高压水枪清洗附着藻细胞的所有膜片后，改性膜表面的小球藻数量降低39.9％，而EVA膜表面的数量仅降低26.2％。
实施例9
1、将0.01mol的2，4-二羟基二苯甲酮加入含0.02mol三乙胺的四氢呋喃溶液中搅拌溶解后，将体系用冰浴保持在0℃左右，之后将0.03mol甲基丙烯酰氯缓慢滴加至其中，滴加时间保持在1～2h之间，之后升温至60℃～90℃进行酯化反应，反应8h后纯化制备出粉末，即为改性的光引发剂。
2、将1mmol改性的光引发剂、60mmol疏水单体甲基丙烯酸六氟丁酯、0.02mmol 溴化铜和2mmol的2’,2-联吡啶(Bpy)加入至甲醇中，抽真空通氮气三次后，在氮气氛围下加入1mmol溴化亚铜，再次抽真空通氮气三次后，密封后升至60℃～90℃之间进行反应12h后，纯化制备出粉末，即为侧链上含有光反应性基团的疏水性聚合物。
3、将上述的疏水性聚合物溶解至甲醇中，加入JZ-177有机硅消泡剂、增稠剂 PTE、EFKA-4800分散剂和丙烯酸酯流平剂配制成溶液后，在高速搅拌状态下加入5％的纳米SiO2，配制成乳液。将EVA薄膜清洗干净后，电晕处理30s，将涂层材料涂覆在PE膜表面晾干后，在紫外灯下(波长为275nm)照射1～5min，之后在甲醇溶液中浸泡1h除去未接枝的聚合物，之后晾干进行保存。得到的疏水改性膜的接触角可达110±2°。
4、测试改性前后EVA膜的防污性能和自清洁性能，浸泡在小球藻培养体系中 14天后，EVA膜表面附着的藻细胞数量为169.3×104cells/cm2，改性EVA膜的藻细胞附着数量比EVA少35.1％。用高压水枪清洗附着藻细胞的所有膜片后，改性膜表面的小球藻数量降低60.9％，而EVA膜表面的数量仅降低26.2％。
其余涂层材料制备方法同上述实施例所述，主要原料与改性膜的性能如附表1：
表1本发明所涉及的实施例中未详细描述制备过程的疏水性聚合物
a改性EVA膜的藻细胞附着数量与EVA膜相比减少的百分比b清洗后，改性膜表面的小球藻数量减少百分比。
本发明的工艺参数(如温度、时间等)区间上下限取值以及区间值都能实现本法，在此不一一列举实施例。
本发明未详细说明的内容均可采用本领域的常规技术知识。
最后所应说明的是，以上实施例仅用以说明本发明的技术方案而非限制。尽管参照实施例对本发明进行了详细说明，本领域的普通技术人员应该理解，对本发明的技术方案进行修改或者等同替换，都不脱离本发明技术方案的精神和范围，其均应涵盖在本发明的权利要求范围当中。
Claims (9)
1.一种疏水性聚合物，其特征在于，所述的疏水性聚合物主链或者侧链上含有光反应性基团：
当疏水性聚合物主链上含有光反应性基团时，具有如下通式I：
其中，R1包括苯基、长链烷基或
R5包括但不限于甲基、2,2,2-三氟乙基、六氟丁基、十二氟庚基、十七氟癸基、三甲基硅甲基、3-(三氯硅甲基)丙基、3-(三甲氧基硅甲基)丙基和3-(三乙酰氧基硅甲基)丙基中的一种或几种；
R2包括氢原子、甲基或乙基；
R3为甲基、乙基或氢原子，y为1～5；
R4包括但不限于对苯甲酰基苯基、2-羟基-4-苯甲酰基苯基、3-羟基-4-苯甲酰基苯基、2-苯甲酰基-4-氯苯基、2,3-二羟基-4-苯甲酰基苯基、2,6-二羟基-3-苯甲酰基苯基、1,2-二羟基-6苯甲酰基苯基、对(4-氯苯甲酰基)苯基、2-苯甲酰基异丙基、1-苯基苯乙酰基和1-环己基苯乙酰基中的一种或几种；
m为聚合度，为1～200；
当疏水性聚合物侧链上含有光反应性基团时，其具有如下通式II：
其中，R1包括苯基、长链烷基或
R5包括但不限于甲基、2,2,2-三氟乙基、六氟丁基、十二氟庚基、十七氟癸基、三甲基硅甲基、3-(三氯硅甲基)丙基、3-(三甲氧基硅甲基)丙基和3-(三乙酰氧基硅甲基)丙基中的一种或几种；
R2为氢原子、甲基或乙基；
R4包括但不限于对苯甲酰基苯基、2-羟基-4-苯甲酰基苯基、3-羟基-4-苯甲酰基苯基、2-苯甲酰基-4-氯苯基、2,3-二羟基-4-苯甲酰基苯基、2,6-二羟基-3-苯甲酰基苯基、1,2-二羟基-6苯甲酰基苯基、对(4-氯苯甲酰基)苯基、2-苯甲酰基异丙基、1-苯基苯乙酰基和1-环己基苯乙酰基中的一种或几种；
m为聚合度，为1～200；
z为聚合度，为1～200。
2.一种权利要求1所述疏水性聚合物的制备方法，包括以下步骤：
当疏水性聚合物主链上含有光反应性基团时，反应式如下；
含羟基的光引发剂与
进行酯化反应，得到改性的光引发剂，改性的光引发剂与含双键的疏水单体进行原子转移自由基聚合反应，得到主链上含有光反应性基团的疏水性聚合物；
当疏水性聚合物的侧链上含有紫外光反应性基团时，反应式如下；
含羟基的光引发剂与丙烯酰卤或其衍生物进行酯化反应，得到含有双键的光引发剂，含有双键的光引发剂与含双键的疏水单体进行自由基聚合反应，得到侧链上含有光反应性基团的疏水性聚合物。
3.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，当疏水性聚合物主链上含有光反应性基团时，
含羟基的光引发剂包括但不限于4-羟基二苯甲酮、2,4-二羟基二苯甲酮、4-氯-4’-羟基二苯甲酮、2-羟基-5-氯二苯甲酮、2,3,4-三羟基二苯甲酮、2-羟基-2-甲基-1-苯基-1-丙酮、苯偶姻、1-羟基环己基苯基甲酮和2-羟基-4-(2-羟乙氧基)-2-甲基苯丙酮中的一种或几种；
含双键的疏水单体包括但不限于苯乙烯、甲基丙烯酸(甲-十八烷)基酯、甲基丙烯酸三甲基硅烷、乙基丙烯酸三甲基硅烷、甲基丙烯酸三氟乙酯、乙基丙烯酸三氟乙酯、甲基丙烯酸六氟丁酯、乙基丙烯酸六氟丁酯、甲基丙烯酸十二氟庚酯、乙基丙烯酸十二氟庚酯、2-(全氟辛基)乙基甲基丙烯酸酯、2-(全氟辛基)乙基乙基丙烯酸酯、甲基丙烯酸丙基三氯硅烷、乙基丙烯酸丙基三氯硅烷、3-(甲基丙烯酰氧)丙基三甲氧基硅烷、3-(乙基丙烯酰氧)丙基三甲氧基硅烷、甲基丙烯酸丙氧基三乙酰氧基硅烷和乙基丙烯酸丙氧基三乙酰氧基硅烷中的一种或几种；
酯化反应中，反应介质包括缚酸剂和溶剂的混合物，缚酸剂包括但不限于三乙胺、吡啶、氢氧化钾或氢氧化钠中的一种或几种，溶剂包括但不限于三氟乙醇、甲醇、乙醇、四氢呋喃、二氯甲烷、三氯甲烷、二甲基亚砜和丙酮中的一种或几种；
原子转移自由基聚合反应中，配体包括但不限于2’,2-联吡啶、N,N,N,N’,N’-五甲基三乙胺、4-二甲基氨基吡啶或1,1,4,7,10,10-六甲基三亚乙基四胺；溶剂包括但不限于三氟乙醇、甲醇、乙醇、四氢呋喃、二氯甲烷、三氯甲烷、二甲基亚砜和水中的一种或几种。
4.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，当疏水性聚合物的侧链上含有紫外光反应性基团时，
含羟基的光引发剂包括但不限于4-羟基二苯甲酮、2,4-二羟基二苯甲酮、4-氯-4’-羟基二苯甲酮、2-羟基-5-氯二苯甲酮、2,3,4-三羟基二苯甲酮、2-羟基-2-甲基-1-苯基-1-丙酮、苯偶姻、1-羟基环己基苯基甲酮和2-羟基-4-(2-羟乙氧基)-2-甲基苯丙酮中的一种或几种；
含双键的疏水单体包括但不限于苯乙烯、甲基丙烯酸(甲-十八烷)基酯、甲基丙烯酸三甲基硅烷、乙基丙烯酸三甲基硅烷、甲基丙烯酸三氟乙酯、乙基丙烯酸三氟乙酯、甲基丙烯酸六氟丁酯、乙基丙烯酸六氟丁酯、甲基丙烯酸十二氟庚酯、乙基丙烯酸十二氟庚酯、2-(全氟辛基)乙基甲基丙烯酸酯、2-(全氟辛基)乙基乙基丙烯酸酯、甲基丙烯酸丙基三氯硅烷、乙基丙烯酸丙基三氯硅烷、3-(甲基丙烯酰氧)丙基三甲氧基硅烷、3-(乙基丙烯酰氧)丙基三甲氧基硅烷、甲基丙烯酸丙氧基三乙酰氧基硅烷和乙基丙烯酸丙氧基三乙酰氧基硅烷中的一种或几种；
酯化反应中，反应介质包括缚酸剂和溶剂的混合物，缚酸剂包括但不限于三乙胺、吡啶、氢氧化钾和氢氧化钠中的一种或几种，溶剂包括但不限于三氟乙醇、甲醇、乙醇、四氢呋喃、二氯甲烷、三氯甲烷和二甲基亚砜中的一种或几种；
自由基聚合反应中，引发剂包括但不限于偶氮二异丁腈、偶氮二异庚腈、偶氮二异丁酸二甲酯、过氧化氢、过硫酸铵、过硫酸钾、过氧化苯甲酰、过氧化苯甲酰叔丁酯和过氧化甲乙酮中的一种或多种，溶剂包括但不限于三氟乙醇、甲醇、乙醇、四氢呋喃、二氯甲烷、三氯甲烷、环己酮、二甲基亚砜和水中的一种或几种。
5.一种涂层材料，其特征在于，其组成按质量百分比计包括：权利要求1所述疏水性聚合物0.1～50％、流平剂0.1～5％、分散剂0～10％、消泡剂0.1～5％、增稠剂0.1～5％、乳化剂0～10％，微纳米粒子0～30％，其余为溶剂。
6.一种利用权利要求5所述涂层材料构建疏水/超疏水表面的方法，所述方法包括以下步骤：
将基材清洗并预处理后，将涂层材料涂覆在基材表面，涂层干燥或固化后，利用紫外光照射一定时间。
7.根据权利要求6所述的构建疏水/超疏水表面的方法，其特征在于，所述涂层材料采用以下方法制备：
将疏水性聚合物溶解至溶剂中，再加入助剂，配制成涂层材料；
或，
将疏水性聚合物溶解至溶剂中得到溶液A，同时在去离子水中加入乳化剂得到溶液B，再将溶液A滴加至溶液B中，加入助剂配制成涂层材料。
8.根据权利要求6所述的构建疏水/超疏水表面的方法，其特征在于，紫外光辐照接枝反应的过程中，紫外辐照时间为0～20min，紫外光的强度为0～100mW/cm2。
9.一种制品，所述制品采用权利要求6-8任一项所述构建疏水/超疏水表面的方法对制品进行表面改性处理。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202111226524.9A CN116003659A (zh) | 2021-10-21 | 2021-10-21 | 疏水性聚合物及制备方法、含疏水性聚合物的涂层材料及用其构建疏水/超疏水表面的方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202111226524.9A CN116003659A (zh) | 2021-10-21 | 2021-10-21 | 疏水性聚合物及制备方法、含疏水性聚合物的涂层材料及用其构建疏水/超疏水表面的方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN116003659A true CN116003659A (zh) | 2023-04-25 |
Family
ID=86019716
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN202111226524.9A Pending CN116003659A (zh) | 2021-10-21 | 2021-10-21 | 疏水性聚合物及制备方法、含疏水性聚合物的涂层材料及用其构建疏水/超疏水表面的方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN116003659A (zh) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN116640508A (zh) * | 2023-05-08 | 2023-08-25 | 泰州市创新电子有限公司 | 一种构筑石墨烯仿生超疏水涂层及其制作工艺 |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20080139689A1 (en) * | 2006-08-17 | 2008-06-12 | Jinyu Huang | Modification of surfaces with polymers |
| CN107108813A (zh) * | 2015-03-03 | 2017-08-29 | 国立大学法人东京大学 | 聚合物及其交联体 |
| US20190010268A1 (en) * | 2015-08-14 | 2019-01-10 | Arrow International, Inc. | Photoactivatable fouling-resistant copolymers |
| CN112029371A (zh) * | 2020-08-25 | 2020-12-04 | 成都思博特科技有限公司 | 一种具有高交联性双膜层结构的防雾抗霜涂层的制备方法 |
-
2021
- 2021-10-21 CN CN202111226524.9A patent/CN116003659A/zh active Pending
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20080139689A1 (en) * | 2006-08-17 | 2008-06-12 | Jinyu Huang | Modification of surfaces with polymers |
| CN107108813A (zh) * | 2015-03-03 | 2017-08-29 | 国立大学法人东京大学 | 聚合物及其交联体 |
| US20190010268A1 (en) * | 2015-08-14 | 2019-01-10 | Arrow International, Inc. | Photoactivatable fouling-resistant copolymers |
| CN112029371A (zh) * | 2020-08-25 | 2020-12-04 | 成都思博特科技有限公司 | 一种具有高交联性双膜层结构的防雾抗霜涂层的制备方法 |
Non-Patent Citations (3)
| Title |
|---|
| GOKHAN TEMEL 等: "Synthesis of Block and Star Copolymers by Photoinduced Radical Coupling Process", JOURNAL OF POLYMER SCIENCE: PART A: POLYMER CHEMISTRY, pages 2938 - 2947 * |
| MUSTAFA DEGIRMENCI 等: "Synthesis of Well-Defined Polystyrene Macrophotoinitiators by Atom-Transfer Radical Polymerization", MACROMOL. CHEM. PHYS., pages 1279 - 1284 * |
| PIETER SAMYN 等: "Confining acrylate-benzophenone copolymers into adhesive micropads by photochemical crosslinking", JOURNAL OF PHOTOCHEMISTRY & PHOTOBIOLOGY A: CHEMISTRY, pages 80 - 91 * |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN116640508A (zh) * | 2023-05-08 | 2023-08-25 | 泰州市创新电子有限公司 | 一种构筑石墨烯仿生超疏水涂层及其制作工艺 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP5589387B2 (ja) | シロキサン樹脂組成物およびそれを用いたタッチパネル用保護膜 | |
| CN106634761B (zh) | 一种紫外光固化组合物及母版的制备方法 | |
| CN101501087B (zh) | 具有高硅氧烷含量和高固体含量的包含有机硅共聚物的固体的溶液、其制备方法和用途 | |
| CN102504701B (zh) | 可紫外固化的有机/无机纳米复合耐磨透明涂层材料及制备方法 | |
| WO2006088079A1 (ja) | 有機無機複合体 | |
| CN101027330A (zh) | 含有二氧化硅的有机硅树脂组合物及其成型体 | |
| CN116003659A (zh) | 疏水性聚合物及制备方法、含疏水性聚合物的涂层材料及用其构建疏水/超疏水表面的方法 | |
| CN106497302A (zh) | 光催化自清洁双亲网络海洋防污涂层及其制备方法 | |
| CN1172995C (zh) | 涂层剂及具有涂层的树脂模塑制品 | |
| JP2007535587A (ja) | 表面改質した粒子を含有する硬化性組成物 | |
| CN109593390A (zh) | 一种具有高透光率持久超亲水性的二氧化钛-有机复合自清洁涂层及其温和制备方法 | |
| CN111234136A (zh) | 一种光固化有机硅树脂体系和光固化膜的制备方法 | |
| JP2007016191A (ja) | コーティング用組成物、保護被膜形成方法および積層物 | |
| JP5460302B2 (ja) | 有機無機複合体分散液の製造方法 | |
| JP5336925B2 (ja) | 活性エネルギー線硬化性被覆材組成物及び積層体 | |
| JP7232442B2 (ja) | 光に応答して可逆的に表面相分離構造を変える細胞培養用基材 | |
| JP2001151830A (ja) | 光硬化性シリコーンブロックアクリル共重合体、共重合体組成物、およびその塗膜、塗膜付き基材、並びに該共重合体の製造方法 | |
| JP2023153774A (ja) | タンパク質付着抑制用共重合体、共重合体の製造方法、樹脂改質剤、成形材料、共重合体含有組成物、塗膜および物品 | |
| JPH06100799A (ja) | 耐摩耗性紫外線硬化性被覆組成物 | |
| JP2662352B2 (ja) | シリコーンを含む重合体ラテックス組成物 | |
| JP6950812B2 (ja) | 粘着剤組成物、粘着剤、及び粘着シート | |
| JP5801902B2 (ja) | 光触媒担持構造体 | |
| JP2011088942A (ja) | 活性エネルギー線硬化性組成物およびその硬化物 | |
| CN106905152B (zh) | 含2-羰基溴和炔基的丙烯酸酯类单体及其聚合物、合成方法和用途 | |
| JP6509977B2 (ja) | 水系組成物、水系塗料、塗膜、及び塗装製品 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination |