CN115516376A - 转印膜、层叠体的制造方法、触摸传感器、印刷布线基板的制造方法 - Google Patents

转印膜、层叠体的制造方法、触摸传感器、印刷布线基板的制造方法 Download PDF

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Abstract

本发明提供一种在用于线宽窄的导电性细线的形成时，能够抑制导电性细线形成不良的产生的转印膜、层叠体的制造方法、印刷布线基板的制造方法及触摸传感器。本发明的转印膜具有临时支承体和配置在临时支承体上的感光性组合物层，感光性组合物层中的直径1μm以上的异物的数量为10个/mm2以下。

Description

转印膜、层叠体的制造方法、触摸传感器、印刷布线基板的制 造方法
技术领域
本发明涉及一种转印膜、层叠体的制造方法、触摸传感器及印刷布线基板的制造方法。
背景技术
由于用于获得规定图案的工序数量少，因此在经由掩模对使用转印膜设置于任意的基板上的感光性组合物层进行曝光之后进行显影的方法被广泛使用。
例如，在专利文献1中公开有一种感光性转印材料(转印膜)，其在覆盖膜上依次具有感光层、粘着性层及临时支承体，且感光层包含粒子，具有规定结构。
以往技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2019-128445号公报
发明内容
发明要解决的技术课题
要求在使用具有感光性组合物层的转印膜制作导电性细线(细线状的导电层)时，不易产生导电性细线的形成不良。具体而言，要求在使用转印膜所具有的感光性组合物层，在导电层上形成图案(抗蚀剂图案)，对未配置有图案的区域的导电层进行蚀刻处理而形成导电性细线时，不出现导电性细线的缺损(例如，也称为鼠啮的缺口)、导电性细线的断线(开路)及导电性细线的短路(short)等的形成不良。
另一方面，近年来，期望导电性细线的进一步细线化。即，期望高精细化的布线。具体而言，期望形成线宽8μm以下的导电性细线。
本发明人等对使用专利文献1中所述的转印膜形成线宽窄的导电性细线进行研究的结果，发现容易产生所形成的导电性细线的形成不良。若产生这种导电性细线的形成不良，则包括该导电性细线的电子设备的故障率有可能增加。
鉴于上述情况，本发明的课题在于，提供一种在用于线宽窄的导电性细线的形成时，能够抑制产生导电性细线的形成不良的转印膜。
并且，本发明的课题还在于，提供一种使用上述转印膜而成的层叠体的制造方法、使用上述转印膜而成的印刷布线基板的制造方法及触摸传感器。
用于解决技术课题的手段
本发明人等对上述问题进行了深入研究的结果，发现了能够通过以下结构解决上述课题。
〔1〕一种转印膜，其具有临时支承体和配置在临时支承体上的感光性组合物层，感光性组合物层中的直径1μm以上的异物的数量为10个/mm2以下。
〔2〕根据〔1〕所述的转印膜，其中，感光性组合物层的厚度为20μm以下。
〔3〕根据〔1〕或〔2〕所述的转印膜，其中，临时支承体中的直径1μm以上的异物的数量为10个/mm2以下。
〔4〕根据〔1〕至〔3〕中任一项所述的转印膜，其中，临时支承体的厚度为30μm以下。
〔5〕根据〔1〕至〔4〕中任一项所述的转印膜，其中，感光性组合物层包含聚合性化合物，聚合性化合物的含量相对于感光性组合物层的总质量为10.00～50.00质量％。
〔6〕根据〔1〕至〔5〕中任一项所述的转印膜，其中，感光性组合物层包含聚合引发剂，聚合引发剂的含量相对于感光性组合物层的总质量为0.10～10.00质量％。
〔7〕根据〔1〕至〔6〕中任一项所述的转印膜，其中，感光性组合物层中所包含的分子量为100000以上的成分的质量相对于感光性组合物层中所包含的分子量为10000以下的成分的质量之比为0.10以下。
〔8〕根据〔1〕至〔7〕中任一项所述的转印膜，其中，感光性组合物层包含阻聚剂，阻聚剂的含量相对于感光性组合物层的总质量为0.10～5.00质量％。
〔9〕根据〔1〕至〔8〕中任一项所述的转印膜，其中，感光性组合物层包含残余溶剂，残余溶剂的含量为2～15mg/m2。
〔10〕一种层叠体的制造方法，其包括：
贴合工序，使(1)至(9)中任一项所述的转印膜的临时支承体上的感光性组合物层与具有导电层的基板接触并贴合，而获得依次具有基板、导电层、感光性组合物层及临时支承体的带感光性组合物层的基板；
曝光工序，对感光性组合物层进行图案曝光；
显影工序，对经曝光的感光性组合物层进行显影而形成图案；
蚀刻工序，对位于未配置有图案的区域的导电层进行蚀刻处理而获得导电性细线；及
去除工序，去除图案，
在贴合工序与曝光工序之间，或者在曝光工序与显影工序之间，所述制造方法还包括从带感光性组合物层的基板剥离临时支承体的剥离工序。
〔11〕根据〔10〕所述的层叠体的制造方法，其中，导电性细线的线宽为8μm以下。
〔12〕一种触摸传感器，其包括通过〔10〕或〔11〕所述的制造方法制造的层叠体。
〔13〕一种印刷布线基板的制造方法，其包括：
种晶层形成工序，在基板上形成种晶层；
贴合工序，使〔1〕至〔9〕中任一项所述的转印膜的临时支承体上的感光性组合物层与具有种晶层的基板接触并贴合，而获得依次具有基板、种晶层、感光性组合物层及临时支承体的带感光性组合物层的基板；
曝光工序，对感光性组合物层进行图案曝光；
显影工序，对经曝光的感光性组合物层进行显影而形成图案；
金属镀层形成工序，通过镀覆处理在位于未配置有图案的区域的种晶层上，形成金属镀层；
保护层形成工序，在金属镀层上形成保护层；
图案去除工序，去除图案；及
种晶层去除工序，去除所暴露的种晶层，获得导电性细线，
在贴合工序与曝光工序之间，或者在曝光工序与显影工序之间，所述制造方法还包括从带感光性组合物层的基板剥离临时支承体的剥离工序。
发明效果
根据本发明，能够提供一种在用于线宽窄的导电性细线的形成时，能够抑制产生导电性细线的形成不良的转印膜。
并且，根据本发明，能够提供一种使用上述转印膜而成的层叠体的制造方法、使用上述转印膜而成的印刷布线基板的制造方法及触摸传感器。
具体实施方式
以下，对本发明进行详细说明。
在本说明书中，使用“～”表示的数值范围是指，包含记载于“～”前后的数值作为下限值及上限值的范围。
在本说明书中，阶段性记载的数值范围中，以某个数值范围记载的上限值或下限值可替换为其他阶段性记载的数值范围的上限值或下限值。并且，本说明书中所记载的数值范围中，某个数值范围中所记载的上限值或下限值可替换为实施例所示的值。
在本说明书中，“工序”这一术语不仅为独立的工序，即使在无法与其他工序明确地区别的情况下，只要可实现该工序的所期望的目的，则也包含于本术语中。
在本说明书中，“透明”是指波长400～700nm的可见光的平均透射率为80％以上，优选为90％以上。
在本说明书中，可见光的平均透射率为使用分光光度计测定的值，例如能够使用Hitachi，Ltd.制造的分光光度计U-3310来测定。
在本说明书中，只要没有特别指定，则聚合物的各结构单元的含有比率为摩尔比。
在本说明书中，只要没有特别指定，则重均分子量(Mw)及数均分子量(Mn)为作为柱而使用TSKgel GMHxL、TSKgel G4000HxL或TSKgel G2000HxL(均为TOSOH CORPORATION制造的产品名称)、作为洗脱液而使用THF(四氢呋喃)、作为检测器而使用差示折射计及作为标准物质而使用聚苯乙烯，并利用凝胶渗透色谱(GPC)分析装置测定的使用标准物质的聚苯乙烯换算的值。
在本说明书中，只要没有特别指定，则具有分子量分布的化合物的分子量为重均分子量(Mw)。
在本说明书中，只要没有特别指定，则金属元素的含量为使用电感耦合等离子体(ICP：Inductively Coupled Plasma)分光分析装置测定的值。
在本说明书中，只要没有特别指定，残余溶剂的含量为使用GC/MS(GasChromatography Mass spectrometry：气相色谱质谱联用仪)分析装置测定的值。
在本说明书中，只要没有特别指定，则折射率为在波长550nm下使用椭圆偏振计测定的值。
在本发明中，只要没有特别指定，则色相为使用色差计(CR-221，Minolta Co.，Ltd.制造)测定的值。
在本说明书中，“(甲基)丙烯酸”是包含丙烯酸及甲基丙烯酸这两者的概念，“(甲基)丙烯酰氧基”是包含丙烯酰氧基及甲基丙烯酰氧基这两者的概念。
作为本发明的转印膜的特征点，可举出后述的感光性组合物层中的直径1μm以上的异物的数量为10个/mm2以下。
本发明人对以往技术的问题点进行研究的结果，发现在使用以往的转印膜进行线宽粗的导电性细线的制造时不易产生导电性细线的形成不良，相对于此，在进行线宽窄的导电性细线的制造时容易产生导电性细线的形成不良。本发明人对其理由进行研究的结果，发现由感光性组合物层中所包含的规定的大小的异物引起上述问题。形成粗线宽的导电性细线时，感光性组合物层的曝光区域相对于异物较大，因此对导电性细线的形成几乎没有影响。相对于此，形成线宽窄的导电性细线时，感光性组合物层的曝光区域本身变窄，异物的大小与该曝光区域的大小的比例变大，基于异物引起防止感光性组合物层曝光的区域的比例变大。其结果，产生所形成的图案本身的形成不良，若基于这种图案进行导电层的蚀刻处理，则产生过度进行蚀刻的区域，结果导致导电性细线的形成不良。
如上所述，本发明人等发现，为了防止由异物引起的曝光障碍，控制规定大小的异物的数量，从而获得所期望的效果。
本发明的转印膜具有临时支承体及配置于临时支承体上的感光性组合物层。
以下，对构成转印膜的各部件进行详细说明。
<临时支承体＞
转印膜具有临时支承体。
临时支承体为支承后述的感光性组合物层的部件，最终通过剥离处理被去除。
临时支承体中的直径1μm以上的异物(以下，简称为“第1异物”。)的数量并不受特别限制，优选为10个/mm2以下，更优选为小于5个/mm2，进一步优选为小于1个/mm2。下限并不受特别限制，可举出0个/mm2。
第1异物是指，在使用光学显微镜观察临时支承体时，能够在光学上识别为与临时支承体的其他部分不同的部分(块)。第1异物可以为有机物及无机物中的任一种。第1异物可以为源自构成临时支承体的成分的成分，也可以为源自除构成临时支承体的成分以外的成分的成分。另外，在第1异物中不包含气泡。
作为第1异物，例如可举出凝聚物、未熔融物、无机物、凝胶化物、附着异物及着色异物。更具体而言，可举出制造临时支承体时产生的合成不良成分或凝聚物、源自添加剂的异物、添加剂等杂质、在制造工序中混入的灰尘、金属粒子及金属片。
第1异物的大小为直径1μm以上即可。上限并无特别限制，但优选为10000μm以下。另外，如后所述，在使用光学显微镜观察临时支承体时所观察到的第1异物的形状不是正圆状的情况下，将最长边(长径)设为直径。
临时支承体可以包含直径小于1μm的异物，优选为不包含。
作为临时支承体中的第1异物的数量的测定方法，可举出使用光学显微镜肉眼临时支承体的方法。具体而言，使用光学显微镜，从临时支承体的表面的法线方向，肉眼临时支承体的表面上的任意的5个区域(1mm×1mm)，测定各区域中的第1异物的数量，将其进行算术平均，并作为第1异物的数量而计算。
作为减少临时支承体中的第1异物的方法，例如在临时支承体由树脂构成的情况下，可举出使用异物被去除的树脂制作临时支承体的方法。
临时支承体可以为单层结构，也可以为多层结构。
临时支承体优选为膜，更优选为树脂膜。作为临时支承体，能够使用具有挠性，并且在加压下或加压及加热下不产生显著的变形、收缩或拉伸的膜。
作为上述膜，例如可举出聚对苯二甲酸乙二酯膜(例如，双轴拉伸聚对苯二甲酸乙二酯膜)、三乙酸纤维素膜、聚苯乙烯膜、聚酰亚胺膜及聚碳酸酯膜。
其中，作为临时支承体，优选为双轴拉伸聚对苯二甲酸乙二酯膜。
并且，优选为在用作临时支承体的膜中没有褶皱等变形及划痕等。
从能够经由临时支承体进行图案曝光的观点出发，临时支承体的透明性优选为高，365nm的透射率优选为60％以上，更优选为70％以上。
从经由临时支承体进行图案曝光时的图案形成性及临时支承体的透明性的观点出发，临时支承体的雾度优选为小。具体而言，临时支承体的雾度值优选为2％以下，更优选为0.5％以下，进一步优选为0.1％以下。
临时支承体的透明性优选为高，365nm下的透射率优选为60％以上，更优选为70％以上。
临时支承体的厚度并不受特别限制，但从进一步抑制导电性细线的形成不良的观点(以下，简称为“本发明的效果更优异的观点”。)出发，优选为15()μm以下，更优选为50μm以下，进一步优选为3(μm以下，尤其优选为16μm以下。下限并不受特别限制，但从操作性的观点出发，优选为5μm以上。
临时支承体的厚度作为通过基于SEM(扫描型电子显微镜：Scanning ElectronMicroscope)的剖面观察而测定的任意5个点的平均值而计算。
作为临时支承体的优选方式，例如可举出日本特开2014-085643号公报的[0017]～[0018]段、日本特开2016-027363号公报的[0019]～[0026]段、国际公开第2012/081680号的[041]～[0057]段、及国际公开第2018/179370号的[0029]～[0040]段中所记载的方式，这些公报的内容被编入到本说明书中。
<感光性组合物层＞
转印膜具有感光性组合物层。
在将感光性组合物层转印到被转印体上之后，进行曝光及显影，由此能够在被转印体上形成图案。
作为感光性组合物层，能够使用公知的感光性组合物层，优选为负型。另外，负型感光性组合物层是指，通过曝光而曝光部在显影液中的溶解性下降的感光性组合物层。当感光性组合物层为负型感光性组合物层时，所形成的图案对应于固化层。
[感光性组合物层的异物的数量]
感光性组合物层中的直径1μm以上的异物(以下，简称为“第2异物”。)的数量为10个/mm2以下。并且，从本发明的效果更优异的观点出发，更优选为小于5个/mm2。下限并不受特别限制，可举出0个/mm2。
第2异物是指，在使用光学显微镜观察感光性组合物层时，能够在光学上识别为与感光性组合物层的其他部分不同的部分(块)。第2异物可以为有机物及无机物中的任一种。第2异物可以为源自构成感光性组合物层的成分的成分，也可以为源自除构成感光性组合物层的成分以外的成分。另外，在第2异物中不包含气泡。
作为第2异物，例如可举出凝聚物、未熔融物、无机物、凝胶化物、附着异物及着色异物。更具体而言，可举出在制造感光性组合物层时产生的合成不良成分或凝聚物、源自添加剂的异物、添加剂等杂质、在制造工序中混入的灰尘、金属粒子及金属片。
第2异物的大小为直径1μm以上即可。上限并无特别限制，但优选为10000μm以下。另外，如后所述，在使用光学显微镜观察感光性组合物层时所观察到的第2异物的形状不是正圆状的情况下，将最长边(长径)设为直径。
感光性组合物层可以包含直径小于1μm的异物，优选为不包含。
作为感光性组合物层中的第2异物的数量的测定方法，可举出使用光学显微镜肉眼感光性组合物层的方法。具体而言，使用光学显微镜，从感光性组合物层的表面的法线方向，肉眼感光性组合物层的表面上的任意5个区域(1mm×1mm)，测定各区域中的第2异物的数量，将这些进行算术平均，作为第2异物的数量而计算。
另外，在使用光学显微镜计算临时支承体上的感光性组合物层中的第2异物的数量时，有时观察感光性组合物层中的第2异物的同时观察临时支承体中的第1异物。在这种情况下，首先，用光学显微镜观察包括临时支承体和感光性组合物层的转印膜本身，通过上述方法计算出所观察到的直径1μm以上的异物的数量。接着，去除所观察到的转印膜中的感光性组合物层之后，通过上述方法计算出所残留的临时支承体中的第1异物的数量。之后，从观察转印膜时所计算出的异物的数量减去临时支承体中的第1异物的数量，由此能够计算出感光性组合物层中的第2异物的数量。
作为减少感光性组合物层中的第2异物的方法，如后所述，可举出对感光性组合物层的形成中所使用的感光性组合物实施过滤处理的方法。关于详细内容，待后续进行详细叙述。
以下，对感光性组合物层(尤其，负型感光性组合物层)中所包含的成分进行详细叙述。
[聚合性化合物]
感光性组合物层可以包含聚合性化合物。
聚合性化合物为具有聚合性基团的化合物。作为聚合性基团，例如可以举出自由基聚合性基团及阳离子聚合性基团，优选为自由基聚合性基团。
聚合性化合物优选包含具有烯属不饱和基团的自由基聚合性化合物(以下，简称为“烯属不饱和化合物”。)。
作为烯属不饱和基团，优选为(甲基)丙烯酰氧基。
烯属不饱和化合物优选包含2官能以上的烯属不饱和化合物。“2官能以上的烯属不饱和化合物”是指，在一分子中具有2个以上烯属不饱和基团的化合物。
作为烯属不饱和化合物，优选为(甲基)丙烯酸酯化合物。
作为烯属不饱和化合物，例如，从固化后的膜强度的观点出发，优选包含2官能的烯属不饱和化合物(优选为2官能的(甲基)丙烯酸酯化合物)及3官能以上的烯属不饱和化合物(优选为3官能以上的(甲基)丙烯酸酯化合物)。
作为2官能的烯属不饱和化合物，例如可举出三环癸烷二甲醇二(甲基)丙烯酸酯、三环癸烷二甲醇二(甲基)丙烯酸酯、1，9-壬二醇二(甲基)丙烯酸酯、1，10-癸二醇二(甲基)丙烯酸酯及1，6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯。
作为2官能的烯属不饱和化合物的市售品，例如可举出乙氧基化双酚A二甲基丙烯酸酯〔产品名称：NK酯BPE-200、SHIN-NAKAMURA CHEMICAL CO，LTD.制〕、乙氧基化双酚A二甲基丙烯酸酯〔产品名称：NK酯BPE-500、SHIN-NAKAMURA CHEMICAL CO，LTD.制〕、聚丙二醇二丙烯酸酯〔产品名称：NK酯M-270、Toagosei Company，Limited制〕、三环癸烷二甲醇二丙烯酸酯〔产品名称：NK酯A-DCP、SHIN-NAKAMURA CHEMICAL CO，LTD.制〕、三环癸烷二甲醇二甲基丙烯酸酯〔产品名称：NK酯DCP、SHIN-NAKAMURA CHEMICAL CO，LTD.制〕、1，9-壬二醇二丙烯酸酯〔产品名称：NK酯A-NOD-N、SHIN-NAKAMURA CHEMICAL CO，LTD.制〕、1，10-癸二醇二丙烯酸酯〔产品名称：NK酯A-DOD-N、SHIN-NAKAMURA CHEMICAL CO，LTD.制〕及1，6-己二醇二丙烯酸酯〔产品名称：NK酯A-HD-N、SHIN-NAKAMURA CHEMICAL CO，LTD.制〕。
作为3官能以上的烯属不饱和化合物，例如可举出二季戊四醇(三/四/五/六)(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇(三/四)(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、二三羟甲基丙烷四(甲基)丙烯酸酯、异氰脲酸(甲基)丙烯酸酯及甘油三(甲基)丙烯酸酯。
“(三/四/五/六)(甲基)丙烯酸酯”是包含三(甲基)丙烯酸酯、四(甲基)丙烯酸酯、五(甲基)丙烯酸酯及六(甲基)丙烯酸酯的概念。并且，“(三/四)(甲基)丙烯酸酯”是包含三(甲基)丙烯酸酯及四(甲基)丙烯酸酯的概念。
作为3官能以上的烯属不饱和化合物，官能团数的上限并无特别限制，例如，优选为20官能以下，更优选为15官能以下。
作为3官能以上的烯属不饱和化合物的市售品，例如可举出三羟甲基丙烷三丙烯酸酯〔产品名称：A-TMPT、SHIN-NAKAMURA CHEMICAL CO，LTD.〕、三羟甲基丙烷EO加成三丙烯酸酯〔产品名称：SR 454、Arkema S.A.〕、三羟甲基丙烷EO加成三丙烯酸酯〔产品名称：SR502、Arkema S.A.〕、ε-己内酯改性三-(2-丙烯酰氧乙基)异氰脲酸酯〔产品名称：A-9300-1CL、SHIN-NAKAMURA CHEMICAL CO，LTD.〕及二季戊四醇六丙烯酸酯〔产品名称：KAYARADDPHA、SHIN-NAKAMURA CHEMICAL CO，LTD.〕。
烯属不饱和化合物更优选包含1，9-壬二醇二(甲基)丙烯酸酯或1，10-癸二醇二(甲基)丙烯酸酯及二季戊四醇(三/四/五/六)(甲基)丙烯酸酯。
作为烯属不饱和化合物，例如还可举出(甲基)丙烯酸酯化合物的己内酯改性化合物〔产品名称：KAYARAD(注册商标)DPCA-20、Nippon Kayaku Co.，Ltd.制及产品名称：A-9300-1CL等、SHIN-NAKAMURA CHEMICAL CO，LTD.〕、(甲基)丙烯酸酯化合物的环氧烷改性化合物〔Nippon Kayaku Co.，Ltd.制的KAYARAD(注册商标)RP-1040、SHIN-NAKAMURACHEMICAL CO，LTD.制的ATM-35E、A-9300、DAICEL-ALLNEX LTD.的EBECRYL(注册商标)135等〕及乙氧基化丙三醇三丙烯酸酯〔SHIN-NAKAMURA CHEMICAL CO，LTD.制的NK ESTER A-GLY-9E等〕。
作为烯属不饱和化合物，也可举出氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯化合物。作为氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯化合物，优选为3官能以上的氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯化合物。作为3官能以上的氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯化合物，例如可举出8UX-015A〔Taisei FineChemical Co.，Ltd.制〕、NK ESTER UA-32P〔SHIN-NAKAMURA CHEMICAL CO，LTD.制〕及NKESTER UA-1100H〔SHIN-NAKAMURA CHEMICAL CO，LTD.制〕。
从提高显影性的观点出发，烯属不饱和化合物优选包含具有酸基的烯属不饱和化合物。
作为酸基，例如可举出磷酸基、磺酸基及羧基。其中，从本发明的效果更优异的观点出发，作为酸基，优选为羧基。
作为具有酸基的烯属不饱和化合物，例如可举出具有酸基的3～4官能的烯属不饱和化合物〔将羧基导入至季戊四醇三和四丙烯酸酯(PETA)骨架而得的化合物(酸值：80～120mgKOH/g)〕及具有酸基的5～6官能的烯属不饱和化合物(将羧基导入至二季戊四醇五和六丙烯酸酯(DPHA)骨架而得的化合物〔酸值：25～70mgKOH/g〕)。具有酸基的3官能以上的烯属不饱和化合物根据需要可以与具有酸基的2官能的烯属不饱和化合物同时使用。
从进一步提高显影性及膜强度的观点出发，作为具有酸基的烯属不饱和化合物，优选为选自具有羧基的2官能以上的烯属不饱和化合物及其羧酸酐中的至少一种化合物。
作为具有羧基的2官能以上的烯属不饱和化合物，例如可举出ARONIX(注册商标)TO-2349〔TOAGOSEI CO.，LTD.制〕、ARONIX(注册商标)M-520〔TOAGOSEI CO.，LTD.制〕及ARONIX(注册商标)M-510〔TOAGOSEI CO.，LTD.制〕。
作为具有酸基的烯属不饱和化合物，能够优选使用日本特开2004-239942号公报的[0025]～[0030]段中记载的具有酸基的聚合性化合物，该公报中记载的内容通过参考被编入本说明书中。
聚合性化合物(优选为烯属不饱和化合物)的分子量优选为200～3，000，更优选为250～2,600，进一步优选为280～2,200，尤其优选为300～2,200。
聚合性化合物(优选为烯属不饱和化合物)中的分子量300以下的聚合性化合物的含量相对于感光性组合物层中所包含的所有聚合性化合物的含量优选为35.00质量％以下，更优选为30.00质量％以下，进一步优选为25.00质量％以下。
感光性组合物层可以包含单独1种聚合性化合物，也可以包含2种以上的聚合性化合物。
聚合性化合物(优选为烯属不饱和化合物)的含量相对于感光性组合物层的总质量优选为1.00～70.00质量％，更优选为10.00～70.00质量％，进一步优选为10.00～60.00质量％，尤其优选为10.00～50.00质量％。
在感光性组合物层包含2官能以上的烯属不饱和化合物的情况下，还可以包含单官能烯属不饱和化合物。
在感光性组合物层包含2官能以上的烯属不饱和化合物的情况下，优选在感光性组合物层中所包含的烯属不饱和化合物中，2官能以上的烯属不饱和化合物为主成分。
在感光性组合物层包含2官能以上的烯属不饱和化合物的情况下，2官能以上的烯属不饱和化合物的含量相对于感光性组合物层中所包含的所有烯属不饱和化合物的含量，优选为10.00～100.00质量％，更优选为20.00～100.00质量％，进一步优选为40.00～100.00质量％。
在感光性组合物层包含具有酸基的烯属不饱和化合物(优选为具有羧基的2官能以上的烯属不饱和化合物或其羧酸酐)的情况下，具有酸基的烯属不饱和化合物的含量相对于感光性组合物层的总质量，优选为1.00～70.00质量％，更优选为10.00～70.00质量％，进一步优选为10.00～60.00质量％，尤其优选为10.00～50.00质量％。
[聚合引发剂]
感光性组合物层可以包含聚合引发剂。
作为聚合引发剂，优选为光聚合引发剂。
作为光聚合引发剂，例如可举出具有咪唑结构的光聚合引发剂(以下，也称为“咪唑系光聚合引发剂”。)、具有肟酯结构的光聚合引发剂(以下，也称为“肟系光聚合引发剂”。)、具有α-氨基烷基苯酮结构的光聚合引发剂(以下，也称为“α-氨基烷基苯酮系光聚合引发剂”。)、具有α-羟烷基苯酮结构的光聚合引发剂(以下，也称为“α-羟烷基苯酮系聚合引发剂”。)、具有酰基氧化膦结构的光聚合引发剂(以下，也称为“酰基氧化膦系光聚合引发剂”。)及具有N-苯基甘氨酸结构的光聚合引发剂(以下，也称为“N-苯基甘氨酸系光聚合引发剂”。)。
光聚合引发剂优选包括选自咪唑系光聚合引发剂、肟系光聚合引发剂、α-氨基烷基苯酮系光聚合引发剂、α-羟基烷基苯酮系聚合引发剂及N-苯基甘氨酸系光聚合引发剂中的至少一种，更优选为包括选自咪唑系光聚合引发剂、肟系光聚合引发剂、α-氨基烷基苯酮系光聚合引发剂及N-苯基甘氨酸系光聚合引发剂中的至少一种，进一步优选为包括咪唑系光聚合引发剂。
作为咪唑系光聚合引发剂，例如可举出2，2’-双(邻-氯苯基)-4，5，4’，5’-四苯基-1，2’-联咪唑、2，2’-双(邻-甲氧基苯基)-4，4’，5，5’-四苯基联咪唑及2，2’-双(邻-氯苯基)-4，4’，5，5’-四(对甲基苯基)联咪唑。
其中，从本发明的效果更优异的观点出发，优选为2，2’-双(邻-氯苯基)-4，5，4’，5’-四苯基-1，2’-联咪唑。
并且，作为光聚合引发剂，例如可使用日本特开2011-095716号公报的[0031]～[0042]段及日本特开2015-014783号公报的[0064]～[0081]段中记载的聚合引发剂。
作为光聚合引发剂的市售品，例如可举出2，2’双(2-氯苯基)-4，4’，5，5’-四苯基联咪唑〔产品名称：B-C[M、KUROGANE KASEI Co.，Ltd.制〕、1-[4-(苯硫基)]苯基-1，2-辛烷二酮-2-(O-苯甲酰肟)〔产品名称：IRGACURE(注册商标)OXE-01、BASF公司制〕、1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲酰基)-9H-咔唑-3-基]乙酮-1-(邻乙酰肟)〔产品名称：IRGACURE(注册商标)OXE-02、BASF公司制〕、8-[5-(2，4，6-三甲基苯基)-11-(2-乙基己基)-11H-苯并[a]咔唑][2-(2，2，3，3-四氟丙氧基)苯基]甲酮-(邻乙酰肟)〔产品名称：IRGACURE(注册商标)OXE-03、BASF公司制〕、1-[4-[4-(2-苯并呋喃基羰基)苯基]硫代]苯基-4-甲基-1-戊酮-1-(邻乙酰肟)〔产品名称：IRGACURE(注册商标)OXE-04、BASF公司制〕、2-(二甲基氨基)-2-[(4-甲基苯基)甲基]-1-[4-(4-吗啉基)苯基]-1-丁酮〔产品名称：IRGACURE(注册商标)379EG、BASF公司制〕、2-甲基-1-(4-甲硫基苯基)-2-吗啉代丙烷-1-酮〔产品名称：IRGACURE(注册商标)907、BASF公司制〕、2-羟基-1-{4-[4-(2-羟基-2-甲基-丙酰基)苄基]苯基}-2-甲基丙烷-1-酮〔产品名称：IRGACURE(注册商标)127、BASF公司制〕、2-苄基-2-二甲基氨基-1-(4-吗啉基苯基)-丁酮-1〔产品名称：IRGACURE(注册商标)369、BASF公司制〕、2-羟基-2-甲基-1-苯基-丙烷-1-酮〔产品名称：IRGACURE(注册商标)1173、BASF公司制〕、1-羟基环己基苯基酮〔产品名称：IRGACURE(注册商标)184、BASF公司制〕、2，2-二甲氧基-1，2-二苯基乙烷-1-酮〔产品名称：IRGACURE651、BASF公司制〕及肟酯系的化合物〔产品名称：Lunar(注册商标)6、DKSHHolding Ltd.制〕等。
感光性组合物层可以包含单独1种光聚合引发剂，也可以包含两种以上的光聚合引发剂。
聚合引发剂的含量相对于感光性组合物层的总质量优选为0.10～50.00质量％，更优选为0.10～30.00质量％，进一步优选为0.10～10.00质量％。
[碱溶性树脂]
感光性组合物层可以包含碱溶性树脂。
通过感光性组合物层包含碱溶性树脂，感光性组合物层(非曝光部)对显影液的溶解性提高。
在本说明书中，“碱溶性”是指，通过以下方法求出的溶解速度为0.01μm/秒以上。
将目标化合物(例如为树脂)的浓度为25质量％的丙二醇单甲醚乙酸酯溶液涂布于玻璃基板上，接着在100℃的烘箱中加热3分钟，由此形成上述目标化合物的涂膜(厚度2.0μm)。通过将上述涂膜浸渍于碳酸钠1质量％水溶液(液温30℃)来求出上述涂膜的溶解速度(μm/秒)。
另外，在目标化合物不溶于丙二醇单甲醚乙酸酯的情况下，将目标化合物溶解于除丙二醇单甲醚乙酸酯以外的沸点小于200℃的有机溶剂(例如，四氢呋喃、甲苯或乙醇)中。
作为碱溶性树脂，优选为碱溶性丙烯酸树脂。
以下，对碱溶性丙烯酸树脂进行详细说明。
碱溶性树脂的含量相对于感光性组合物层的总质量优选为10.00～100.00质量％，更优选为30.00～100.00质量％，进一步优选为40.00～100.00质量％，尤其优选为50.00～90.00质量％。
作为碱溶性丙烯酸树脂，只要为具有在上述中说明的碱溶性的丙烯酸树脂，则并无限制。在此，“丙烯酸树脂”是指包含源自(甲基)丙烯酸的结构单元及源自(甲基)丙烯酸酯的结构单元中的至少一个的树脂。
碱溶性丙烯酸树脂中的源自(甲基)丙烯酸的结构单元及源自(甲基)丙烯酸酯的结构单元的合计比例优选为30.0摩尔％以上，更优选为50.0摩尔％以上。上限并无特别限定，优选为100.0摩尔％以下，更优选为80.0摩尔％以下。
在本说明书中，在以摩尔分数(摩尔比例)规定“结构单元”的含量时，除非另有说明，则上述“结构单元”的含义与“单体单元”的含义相同。并且，在本说明书中，在树脂或聚合物具有2种以上的特定结构单元的情况下，除非另有说明，则上述特定的结构单元的含量表示上述2种以上的特定结构单元的总含量。
从显影性的观点出发，碱溶性丙烯酸树脂优选具有羧基。作为向碱溶性丙烯酸树脂导入羧基的方法，例如可举出使用具有羧基的单体来合成碱溶性丙烯酸树脂的方法。通过上述方法，具有羧基的单体作为具有羧基的结构单元而导入于碱溶性丙烯酸树脂中。作为具有羧基的单体，例如可举出丙烯酸及甲基丙烯酸。
碱溶性丙烯酸树脂可以具有一个羧基，也可具有2个以上的羧基。并且，碱溶性丙烯酸树脂中的具有羧基的结构单元可以为单独1种，也可以为2种以上。
具有羧基的结构单元的含量相对于碱溶性丙烯酸树脂的总量，优选为10.0～100.0摩尔％，更优选为30.0～100.0摩尔％，进一步优选为50.0～100.0摩尔％。
从固化后的透湿度及强度的观点出发，碱溶性丙烯酸树脂优选包含具有芳香环的结构单元。作为具有芳香环的结构单元，优选为源自苯乙烯化合物的结构单元。
作为形成具有芳香环的结构单元的单体，例如可举出形成源自苯乙烯化合物的结构单元的单体及(甲基)丙烯酸苄酯。
作为上述形成源自苯乙烯化合物的结构单位的单体，例如可举出苯乙烯、对甲基苯乙烯、α-甲基苯乙烯、对甲-α-甲基苯乙烯、对乙基苯乙烯、对叔丁基苯乙烯、叔丁氧基苯乙烯及1，1-二苯基乙烯。
其中，从本发明的效果更优异的观点出发，作为上述单体，优选为苯乙烯或者α-甲基苯乙烯，更优选为苯乙烯。
碱溶性丙烯酸树脂中的具有芳香环的结构单元可以为单独1种，也可以为2种以上。
在碱溶性丙烯酸树脂包含具有芳香环的结构单元的情况下，具有芳香环的结构单元的含量相对于碱溶性丙烯酸树脂的总量优选为10.0～100.0摩尔％，更优选为20.0～90.0摩尔％，进一步优选为30.0～90.0摩尔％。
从粘性及固化后的强度的观点出发，碱溶性丙烯酸树脂可以包含具有脂肪族环式骨架的结构单元。具有脂肪族环式骨架的结构单元可以为单环或多环。
作为脂肪族环式骨架中的脂肪族环，例如可举出二环戊烷环、环己烷环、异佛尔酮环及三环癸烷环。上述中，作为脂肪族环式骨架中的脂肪族环，优选为三环癸烷环。
作为形成具有脂肪族环式骨架的结构单元的单体，例如可举出(甲基)丙烯酸二环戊酯、(甲基)丙烯酸环己酯及(甲基)丙烯酸异冰片酯。
碱溶性丙烯酸树脂中的具有脂肪族环式骨架的结构单元可以为单独1种，也可以为2种以上。
在碱溶性丙烯酸树脂包含具有脂肪族环式骨架的结构单元的情况下，具有脂肪族环式骨架的结构单元的含量相对于碱溶性丙烯酸树脂的总量优选为5.0～90.0摩尔％，更优选为10.0～80.0摩尔％，进一步优选为10.0～60.0摩尔％。
从粘性及固化后的强度的观点出发，碱溶性丙烯酸树脂优选具有反应性基团。
作为反应性基团，优选为自由基聚合性基团，更优选为烯属不饱和基团。并且，在碱溶性丙烯酸树脂具有烯属不饱和基团的情况下，碱溶性丙烯酸树脂优选具有在侧链上具有烯属不饱和基团的结构单元。
在本说明书中，“主链”表示在构成树脂的高分子化合物的分子中相对最长的连接链，“侧链”表示从主链分支的原子团。
作为烯属不饱和基团，优选为(甲基)丙烯酸基或(甲基)丙烯酰氧基，更优选为(甲基)丙烯酰氧基。
碱溶性丙烯酸树脂中的具有烯属不饱和基团的结构单元可以为单独1种，也可以为2种以上。
在碱溶性丙烯酸树脂包含具有烯属不饱和基团的结构单元的情况下，具有烯属不饱和基团的结构单元的含量相对于碱溶性丙烯酸树脂的总量优选为10.0～100.0摩尔％，更优选为20.0～90.0摩尔％，进一步优选为30～90摩尔％。
作为将反应性基团导入到碱溶性丙烯酸树脂的方法，例如可举出使环氧化合物、封端异氰酸酯化合物、异氰酸酯化合物、乙烯基砜化合物、醛化合物、羟甲基化合物及羧酸酐等与羟基、羧基、伯氨基、仲氨基、乙酰乙酰基及磺酸等反应的方法。
作为将反应性基团导入到碱溶性丙烯酸树脂的方法的优选例，例如可举出通过聚合反应合成具有羧基的碱溶性丙烯酸树脂之后，通过聚合物反应，使(甲基)丙烯酸缩水甘油酯与碱溶性丙烯酸树脂的羧基的一部分反应，从而将(甲基)丙烯酰氧基导入到碱溶性丙烯酸树脂的方法。通过上述方法，能够获得在侧链上具有(甲基)丙烯酰氧基的碱溶性丙烯酸树脂。
上述聚合反应优选在70～100℃的温度条件下进行，更优选在80～90℃的温度条件下进行。作为用于上述聚合反应的聚合引发剂，优选为偶氮系引发剂，例如，更优选为FUJIFILM Wako Pure Chemieal Corporation制的V-601(产品名称)或V-65(产品名称)。并且，上述聚合物反应优选在80～110℃的温度条件下进行。在上述聚合物反应中，优选使用铵盐等催化剂。
碱溶性丙烯酸树脂的重均分子量(Mw)优选为10，000以上，更优选为10,000～100,000，进一步优选为15，000～70，000。
从显影性的观点出发，碱溶性丙烯酸树脂的酸值优选为50mgKOH/g以上，更优选为60mgKOH/g以上，进一步优选为70mgKOH/g以上，尤其优选为80mgKOH/g以上。在本说明书中，碱溶性丙烯酸树脂的酸值为通过JIS K0070：1992中所记载的方法测定的值。
从抑制溶解于显影液中的观点出发，碱溶性丙烯酸树脂的酸值的上限优选为200mgKOH/g以下，更优选为150mgKOH/g以下。
从图案形成性及可靠性的观点出发，感光性组合物层中的碱溶性树脂的各结构单元的残留单体的含量相对于碱溶性树脂的总质量，优选为1000质量ppm以下，更优选为500质量ppm以下，进一步优选为100质量ppm以下。下限并无特别限制，优选为0.1质量ppm以上，更优选为1质量ppm以上。
以下示出碱溶性丙烯酸树脂的具体例。另外，下述碱溶性丙烯酸树脂中的各结构单元的含有比率(摩尔比)能够根据目的适当地设定。
[化学式1]
Figure BDA0003926727240000181
[化学式2]
Figure BDA0003926727240000182
[化学式3]
Figure BDA0003926727240000183
感光性组合物层可以包含单独1种碱溶性树脂，也可以包含2种以上的碱溶性树脂。
[包含具有羧酸酐结构的结构单元的聚合物]
感光性组合物层可进一步含有包含具有羧酸酐结构的结构单元的聚合物(以下，也称为“聚合物B”。)作为粘合剂。感光性组合物层包含聚合物B，从而能够提高显影性及固化后的强度。
羧酸酐结构可以为链状羧酸酐结构及环状羧酸酐结构中的任一种，优选为环状羧酸酐结构。
作为环状羧酸酐结构的环，优选为5～7元环，更优选为5元环或6元环，进一步优选为5元环。
具有羧酸酐结构的结构单元优选为在主链中包含从由下述式P-1表示的化合物去除2个氢原子而得的2价的基团的结构单元或从由下述式P-1表示的化合物去除1个氢原子而得的1价的基团直接或经由2价的连结基团键合于主链的结构单元。
[化学式4]
Figure BDA0003926727240000191
式P-1中，RA1a表示取代基，n1a个RA1a可以相同也可以不同，Z1a表示形成包含-C(＝O)-O-C(＝O)-的环的2价的基团，n1a表示0以上的整数。
作为由RAww表示的取代基，例如可举出烷基。
作为Z1a，优选为碳原子数2～4的亚烷基，更优选为碳原子数2或3的亚烷基，进一步优选为碳原子数2的亚烷基。
n1a表示0以上的整数。当Z1a表示碳原子数2～4的亚烷基时，n1a优选为0～4的整数，更优选为0～2的整数，进一步优选为0。
当n1a表示2以上的整数时，存在多个的RA1a可以相同也可以不同。并且，存在多个的RA1a可以彼此键合而形成环，但优选为不彼此键合而形成环。
作为具有羧酸酐结构的结构单元，优选为源自不饱和羧酸酐的结构单元，更优选为源自不饱和环式羧酸酐的结构单元，进一步优选为源自不饱和脂肪族环式羧酸酐的结构单元，尤其优选为源自马来酸酐或衣康酸酐的结构单元，最优选为源自马来酸酐的结构单元。
聚合物B中的具有羧酸酐结构的结构单元可以为单独1种，也可以为2种以上。
具有羧酸酐结构的结构单元的含量相对于聚合物B的总量，优选为0～60摩尔％，更优选为5～40摩尔％，进一步优选为10～35摩尔％。
感光性组合物层可以包含单独1种聚合物B，也可以包含2种以上的聚合物B。
从图案形成性及可靠性的观点出发，感光性组合物层中的聚合物B的各结构单元的残留单体的含量相对于聚合物B的总质量，优选为1000质量ppm以下，更优选为500质量ppm以下，进一步优选为100质量ppm以下。下限并无特别限制，优选为0.1质量ppm以上，更优选为1质量ppm以上。
在感光性组合物层包含聚合物B的情况下，从显影性及固化后的强度的方面考虑，聚合物B的含量相对于感光性组合物层的总质量，优选为0.1～30质量％，更优选为0.2～20质量％，进一步优选为0.5～20质量％，尤其优选为1～20质量％。
[封端异氰酸酯化合物]
感光性组合物层可以包含封端异氰酸酯化合物。
封端异氰酸酯化合物有助于提高所形成的图案的强度。
由于封端异氰酸酯化合物与羟基及羧基反应，因此，例如在粘合剂聚合物及具有烯属不饱和基团的自由基聚合性化合物中的至少一个具有羟基及羧基中的至少一个的情况下，具有所形成的膜的亲水性下降，作为保护膜的功能增强的倾向。另外，封端异氰酸酯化合物是指“具有使用封端剂保护(所谓掩模)异氰酸酯的异氰酸酯基的结构的化合物”。
作为封端异氰酸酯化合物的解离温度，优选为100～160℃，更优选为110～150℃。
在本说明书中，“封端异氰酸酯化合物的解离温度”是指，使用差示扫描量热计，通过DSC(Differentjal scannjng calorimetry：差示扫描量热法)分析进行测定时、伴随封端异氰酸酯化合物的脱保护反应的吸热峰的温度。作为差示扫描量热计，例如能够优选使用Seiko Instruments Inc.制的差示扫描量热计(型号：DSC6200)。但是，差示扫描量热计并不限定于上述差示扫描量热计。
作为解离温度为100～160℃的封端剂，例如可举出活性亚甲基化合物〔(丙二酸二酯(丙二酸二甲酯、丙二酸二乙酯、丙二酸二正丁酯、丙二酸二2*乙基己酯等))等〕及肟化合物(甲醛肟、乙醛肟、丙酮肟、甲基乙基酮肟、环己酮肟等在分子内具有由-C(＝N-OH)-表示的结构的化合物)。在上述中，作为解离温度为100～160℃的封端剂，从保存稳定性的观点出发，优选为肟化合物。
从改善膜的脆性或提高与被转印体的密合力等观点出发，封端异氰酸酯化合物优选具有异氰脲酸酯结构。具有异氰脲酸酯结构的封端异氰酸酯化合物例如可通过将六亚甲基二异氰酸酯进行异氰脲酸酯化来进行保护而获得。
作为具有异氰脲酸酯结构的封端异氰酸酯化合物，从比不具有肟结构的化合物更容易将解离温度设在优选范围，并且容易减少显影残渣的观点出发，优选为具有将肟化合物用作封端剂的肟结构的化合物。
从所形成的图案的强度的观点出发，封端异氰酸酯化合物优选为具有聚合性基团，更优选为具有自由基聚合性基团。
作为聚合性基团，可举出(甲基)丙烯酰氧基、(甲基)丙烯酰胺基及苯乙烯基等烯属不饱和基团、以及缩水甘油基等具有环氧基的基团。在上述中，作为聚合性基团，从所获得的图案中的表面的面状、显影速度及反应性的观点出发，优选为烯属不饱和基团，更优选为(甲基)丙烯酰氧基。
作为封端异氰酸酯化合物，能够使用市售品。作为封端异氰酸酯化合物的市售品的例子，例如可举出Karenz(注册商标)AOI-BM、Karenz(注册商标)MOI-BM、Karenz(注册商标)AOI-BP、Karenz(注册商标)MOI-BP等〔以上为Showa Denko K.K.制〕及封端型的DURANATE系列〔例如，DURANATE(注册商标)TPA-B80E、Asahi Kasei ChemicalsCorporation制〕。
感光性组合物层可以包含单独1种封端异氰酸酯化合物，也可以包含2种以上的封端异氰酸酯化合物。
在感光性组合物层包含封端异氰酸酯化合物的情况下，封端异氰酸酯化合物的含量相对于感光性组合物层的总质量，优选为1～50质量％，更优选为5～30质量％。
[阻聚剂]
感光性组合物层可以包含阻聚剂。
阻聚剂是指，具有延迟或禁止聚合反应的功能的化合物。作为阻聚剂，例如能够使用用作阻聚剂的公知的化合物。
在感光性组合物层包含阻聚剂的情况下，阻聚剂的含量相对于感光性组合物层的总质量，优选为0.01～10.00质量％，更优选为0.05～5.00质量％，进一步优选为0.10～3.00质量％。
作为阻聚剂，例如可举出吩噻嗪、双-(1-二甲基苄基)吩噻嗪、及3，7-二辛基吩噻嗪等吩噻嗪化合物；二缩三乙二醇双[3-(3-叔丁基-5-甲基-4-羟基苯基)丙酸酯]2，4-双〔(十二烷基)甲基〕-邻甲酚、1，3，5-三(3，5-二叔丁基-4-羟基苄基)、1，3，5-三(4-叔丁基-3-羟基-2，6-二甲苯基)、6-(4-羟基-3，5-二叔丁基苯氨基)-2，4-二-(正辛硫基)-1，3，5-三嗪及四[3-(3，5-二叔丁基-4-羟苯基)丙酸]季戊四醇酯等受阻酚化合物；4-硝基苯酚、N-亚硝基二苯胺、N-亚硝基环己基羟胺及N-亚硝基苯基羟胺等亚硝基化合物或其盐；甲基氢醌、叔丁基氢醌、2，5-二-叔丁基氢醌、及4*苯醌等醌化合物；4*甲氧基苯酚、4*甲氧基*1-萘酚及叔丁基邻苯二酚等酚化合物；二丁基二硫代氨基甲酸铜、二甲基二硫代氨基甲酸铜、二乙基二硫代氨基甲酸锰及二苯基二硫代氨基甲酸锰等金属盐化合物。
其中，从本发明的效果更优异的观点出发，作为阻聚剂，优选包括选自吩噻嗪化合物、亚硝基化合物或其盐及受阻酚化合物中的至少一种，更优选为吩噻嗪、二缩三乙二醇双[3-(3-叔丁基-5-甲基-4-羟基苯基)丙酸酯]2，4-双〔(十二烷基)甲基〕-邻甲酚、1，3，5-三(3，5-二叔丁基-4-羟基苄基)及N-亚硝基苯基羟胺铝盐。
感光性组合物层可以包含单独1种阻聚剂，也可以包含2种以上的阻聚剂。
[供氢性化合物]
感光性组合物层可以包含供氢性化合物。
供氢性化合物具有进一步提高光聚合引发剂对活化光线的灵敏度、及抑制由氧引起的聚合性化合物的聚合阻碍等的作用。
作为供氢性化合物，例如可以举出胺类及氨基酸化合物。
作为胺类，例如可举出M.R.Sander等人著“Journal of Polymer Society”第10卷3173页(1972)、日本特公昭44-020189号公报、日本特开昭51-082102号公报、日本特开昭52-134692号公报、日本特开昭59-138205号公报、日本特开昭60-084305号公报、日本特开昭62-018537号公报、日本特开昭64-033104号公报及Research Disclosure 33825号等中记载的化合物。更具体而言，可以举出4，4’-双(二乙基氨基)二苯甲酮、三(4-二甲氨基苯基)甲烷(别名：无色结晶紫)、三乙醇胺、对二甲基氨基苯甲酸乙酯、对甲酰基二甲基苯胺及对甲硫基二甲基苯胺。
其中，从本发明的效果更优异的观点出发，作为胺类，优选选自4，4’-双(二乙基氨基)二苯甲酮及三(4-二甲基氨基苯基)甲烷中的至少一种。
作为氨基酸化合物，例如可以举出N-苯基甘氨酸、N-甲基-N-苯基甘氨酸、N-乙基-N-苯基甘氨酸。
其中，从本发明的效果更优异的观点出发，作为氨基酸化合物，优选为N-苯基甘氨酸。
并且，作为供氢性化合物，例如还可以举出日本特公昭48-042965号公报中所记载的有机金属化合物(乙酸三丁锡等)、日本特公昭55-034414号公报中所记载的供氢体及日本特开平6-308727号公报中所记载的硫化合物(三噻烷等)。
感光性组合物层可以包含单独1种供氢性化合物，也可以包含2种以上的供氢性化合物。
在感光性组合物层包含供氢性化合物的情况下，从通过聚合生长速度和链转移的平衡而提高固化速度的观点出发，供氢性化合物的含量相对于感光性组合物层的总质量，优选为0.01～10.00质量％，更优选为0.03～8.00质量％，进一步优选为0.10～5.00质量％。
[杂环化合物]
感光性组合物层可以包含杂环化合物。
杂环化合物所具有的杂环可以为单环及多环中的任一杂环。
作为杂环化合物所具有的杂原子，可举出氮原子、氧原子及硫原子。杂环化合物优选具有选自氮原子、氧原子及硫原子中的至少一种原子，更优选具有氮原子。
作为杂环化合物，例如可举出三唑化合物、苯并三唑化合物、四唑化合物、噻二唑化合物、三嗪化合物、绕丹宁化合物、噻唑化合物、苯并噻唑化合物、苯并咪唑化合物、苯并噁唑化合物及嘧啶化合物。
在上述中，作为杂环化合物，优选为选自三唑化合物、苯并三唑化合物、四唑化合物、噻二唑化合物、三嗪化合物、绕丹宁化合物、噻唑化合物、苯并咪唑化合物及苯并噁唑化合物中的至少一种化合物，更优选为选自三唑化合物、苯并三唑化合物、四唑化合物、噻二唑化合物、噻唑化合物、苯并噻唑化合物、苯并咪唑化合物及苯并噁唑化合物中的至少一种化合物。
以下示出杂环化合物的优选具体例。作为三唑化合物及苯并三唑化合物，能够例示以下化合物。
[化学式5]
Figure BDA0003926727240000241
[化学式6]
Figure BDA0003926727240000242
作为四唑化合物，能够例示以下化合物。
[化学式7]
Figure BDA0003926727240000243
[化学式8]
Figure BDA0003926727240000244
作为噻二唑化合物，能够例示以下化合物。
[化学式9]
Figure BDA0003926727240000251
作为三嗪化合物，能够例示以下化合物。
[化学式10]
Figure BDA0003926727240000252
作为绕丹宁化合物，能够例示以下化合物。
[化学式11]
Figure BDA0003926727240000253
作为噻唑化合物，能够例示以下化合物。
[化学式12]
Figure BDA0003926727240000254
作为苯并噻唑化合物，能够例示以下化合物。
[化学式13]
Figure BDA0003926727240000261
作为苯并咪唑化合物，能够例示以下化合物。
[化学式14]
Figure BDA0003926727240000262
[化学式15]
Figure BDA0003926727240000271
作为苯并噁唑化合物，能够例示以下化合物。
[化学式16]
Figure BDA0003926727240000272
感光性组合物层可以包含单独1种杂环化合物，也可以包含2种以上的杂环化合物。
在感光性组合物层包含杂环化合物的情况下，杂环化合物的含量相对于感光性组合物层的总质量，优选为0.01～20.00质量％，更优选为0.10～10.00质量％，进一步优选为0.30～8.00质量％，尤其优选为0.50～5.00质量％。
[脂肪族硫醇化合物]
感光性组合物层可以包含脂肪族硫醇化合物。
通过感光性组合物层包含脂肪族硫醇化合物，脂肪族硫醇化合物在与具有烯属不饱和基团的自由基聚合性化合物之间进行烯-硫醇反应，从而所形成的膜的固化收缩得到抑制，并且应力得到缓解。
作为脂肪族硫醇化合物，优选为单官能的脂肪族硫醇化合物或多官能的脂肪族硫醇化合物(即，2官能以上的脂肪族硫醇化合物)。
在上述中，作为脂肪族硫醇化合物，从所形成的图案的密合性(尤其为曝光后的密合性)的观点出发，优选为多官能的脂肪族硫醇化合物。
在本说明书中，“多官能的脂肪族硫醇化合物”是指，在分子内具有2个以上的硫醇基(也称为“巯基”。)的脂肪族化合物。
作为多官能的脂肪族硫醇化合物，优选为分子量为100以上的低分子化合物。具体而言，多官能的脂肪族硫醇化合物的分子量更优选为100～1,500，进一步优选为150～1,000。
作为多官能的脂肪族硫醇化合物的官能团数，例如从所形成的图案的密合性的观点出发，优选为2～10官能，更优选为2～8官能，进一步优选为2～6官能。
作为多官能的脂肪族硫醇化合物，例如可举出三羟甲基丙烷三(3-巯基丁酸酯)、1，4-双(3-巯基丁酰氧基)丁烷、季戊四醇四(3-巯基丁酸酯)、1，3，5-三(3-巯基丁酰氧基乙基)-1，3，5-三嗪-2，4，6(1H，3H，5H)-三酮、三羟甲基乙烷三(3-巯基丁酸酯)、三[(3-巯基丙酰基氧基)乙基]异氰脲酸酯、三羟甲基丙烷三(3-巯基丙酸酯)、季戊四醇四(3-巯基丙酸酯)、四乙二醇双(3-巯基丙酸酯)、二季戊四醇六(3-巯基丙酸酯)、乙二醇双硫代丙酸酯、1，4-双(3-巯基丁酰氧基)丁烷、1，2-乙二硫醇、1，3-丙二硫醇、1，6-六亚甲基二硫醇、2，2’-(亚乙基二硫代)双乙硫醇、meso-2，3-二巯基丁二酸及二(巯基乙基)醚。
在上述中，作为多官能的脂肪族硫醇化合物，优选为选自三羟甲基丙烷三(3-巯基丁酸酯)、1，4-双(3-巯基丁酰氧基)丁烷及1，3，5-三(3-巯基丁酰氧基乙基)-1，3，5-三嗪-2，4，6(1H，3H，5H)-三酮中的至少一种化合物。
作为单官能的脂肪族硫醇化合物，例如可举出1-辛硫醇、1-十二烷硫醇、β-巯基丙酸、甲基-3-巯基丙酸酯、2-乙基己基-3-巯基丙酸酯、正辛基-3-巯基丙酸酯、甲氧基丁基-3-巯基丙酸酯及硬酯基-3-巯基丙酸酯。
感光性组合物层可以包含单独1种脂肪族硫醇化合物，也可以包含2种以上的脂肪族硫醇化合物。
在感光性组合物层包含脂肪族硫醇化合物的情况下，脂肪族硫醇化合物的含量相对于感光性组合物层的总质量，优选为5质量％以上，更优选为5～50质量％，进一步优选为5～30质量％，尤其优选为8～20质量％。
[表面活性剂]
感光性组合物层可以包含表面活性剂。
作为表面活性剂，例如可举出在日本专利第4502784号公报的[0017]段及日本特开2009-237362号公报的[0060]～[0071]段中记载的表面活性剂。
作为表面活性剂，优选为氟系表面活性剂或硅系表面活性剂，更优选为氟系表面活性剂。作为氟系表面活性剂的市售品，例如可举出MEGAFACE(注册商标)F552(DICCorporation制)及MEGAFACE(注册商标)F551A(DIC Corporation制)。作为硅系表面活性剂的市售品，例如可举出DOWNSIL(注册商标)8032Additive。
作为氟系表面活性剂的市售品，例如可举出Megaface F-171、F-172、F-173、F-176、F-177、F-141、F-142、F-143、F-144、F-437、F-475、F-477、F-479、F-482、F-554、F-555-A、F-556、F-557、F-558、F-559、F-560、F-561、F-565、F-563、F-568、F-575、F-780、EXP、MFS-330、MFS-578、MFS-579、MFS-586、MFS-587、R-41、R-41-LM、R-01、R-40、R-40-LM、RS-43、TF-1956、RS-90、R-94、RS-72-K、DS-21(以上，DIC Corporation制)、Fluorad FC430、FC431、FC171(以上，Sumitomo 3M Limited制)、Surflon S-382、SC-101、SC-103、SC-104、SC-105、SC-1068、SC-381、SC-383、S-393、KH-40(以上，AGC Inc.制)、PolyFox PF636、PF656、PF6320、PF6520、PF7002(以上，OMNOVA Solutions Inc.制)、Ftergent 710FL、710FM、610FM、601AD、601ADH2、602A、215M、245F、251、212M、250、209F、222F、208G、710LA、710FS、730LM、650AC、681、683(以上，Neos Corporation制)等。
并且，作为氟系表面活性剂，也能够优选使用丙烯酸系化合物，该丙烯酸系化合物具有带含有氟原子的官能团的分子结构，若加热，则含氟原子的官能团的部分被切断而氟原子挥发。作为这种氟系表面活性剂，可举出DIC Corporation制的MAGAFACE DS系列(化学工业日报(2016年2月22日)、日经产业新闻(2016年2月23日))、例如MAGAFACE DS-21。
并且，作为氟系表面活性剂还优选使用具有氟化烷基或氟化亚烷基醚基的含氟原子乙烯醚化合物与亲水性乙烯醚化合物的聚合物。
并且，作为氟系表面活性剂，还能够使用封端聚合物。
并且，作为氟系表面活性剂，还能够优选使用含氟高分子化合物，该含氟高分子化合物包含：源自具有氟原子的(甲基)丙烯酸酯化合物的结构单元；及源自具有2个以上(优选为5个以上)亚烷氧基(优选为亚乙氧基、亚丙氧基)的(甲基)丙烯酸酯化合物的结构单元。
并且，作为氟系表面活性剂，还能够使用在侧链上包含具有烯属不饱和键的基团的含氟聚合物。可以举出MEGAFACE RS-101、RS-102、RS-718K、RS-72-K(以上，DICCorporation制)等。
作为氟系表面活性剂，从提高环境适应性的观点出发，优选为源自全氟辛酸(PFOA)及全氟辛烷磺酸(PFOS)等具有碳原子数为7以上的直链状全氟烷基的化合物的替代材料的表面活性剂。
作为非离子系表面活性剂，可以举出甘油、三羟甲基丙烷、三羟甲基乙烷以及它们的乙氧基化物及丙氧基化物(例如，甘油丙氧基化物、甘油乙氧基化物等)、聚氧乙烯月桂基醚、聚氧乙烯十八烷基醚、聚氧乙烯油基醚、聚氧乙烯辛基苯基醚、聚氧乙烯壬基苯基醚、聚乙二醇二月桂酸酯、聚乙二醇二硬脂酸酯、脱水山梨糖醇脂肪酸酯、Pluronic(注册商标)L10、L31、L61、L62、10R5、17R2、25R2(以上，BASF公司制造)、Tetronic 304、701、704、901、904、150R1(以上，BASF公司制造)、Solsperse 20000(以上，Lubrizol Japan Limited.制造)、NCW-101、NCW-1001、NCW-1002(以上，FUJIFILM Wako Pure Chemical Corporation制造)、PIONIN D-6112、D-6112-W、D-6315(以上，Takemoto Oil&Fat Co.，Ltd.制造)、OlfineE1010、Surfynol 104、400、440(以上，Nissin Chemical Co.，Ltd.制造)等。
作为硅酮系表面活性剂，可以举出由硅氧烷键构成的直链状聚合物及在侧链或末端导入有有机基团的改性硅氧烷聚合物。
并且，作为硅酮系表面活性剂的具体例，可举出ToraySilicone DC3PA、ToraySilicone SH7PA、Toray Silicone DC11PA、Toray Silicone SH21PA、Toray SiliconeSH28PA、Toray Silicone SH29PA、Toray Silicone SH30PA、Toray Silicone SH8400(以上，Dow Corning Toray Co.，Ltd.制)、以及X-22-4952、X-22-4272、X-22-6266、KF-351A、K354L、KF-355A、KF-945、KF-640、KF-642、KF-643、X-22-6191、X-22-4515、KF-6004、KP-341、KF-6001、KF-6002(以上，Shin-Et su Chemical Co.，Ltd.制)、F-4440、TSF-4300、TSF-4445、TSF-4460、TSF-4452(以上，Momentive Performance Materials Inc.制)、BYK307、BYK323、BYK330(以上，BYK Chemie GmbH制)等。
感光性组合物层可以包含单独1种表面活性剂，也可以包含两种以上表面活性剂。
在感光性组合物层包含表面活性剂的情况下，表面活性剂的含量相对于感光性组合物层的总质量，优选为0.01～3.00质量％，更优选为0.05～1.00质量％，进一步优选为0.10～0.80质量％。
[金属离子]
感光性组合物层可以包含金属离子。
从感光性组合物层与支承体的密合性的观点出发，感光性组合物层优选包含金属离子。构成金属离子的金属元素可以为金属元素，也可以为半金属元素。并且，金属离子可以为过氧化物离子。金属离子的价数并不受特别限制，可以为1价，也可以为2价以上。
在感光性组合物层包含金属离子的情况下，感光性组合物层中的金属离子的含量相对于感光性组合物层的总质量，优选为500质量ppm以下，更优选为0.01～200质量ppm，进一步优选为0.01～100质量ppm。
作为金属离子，例如可举出碱金属离子、碱土类金属离子、典型金属离子及过渡金属离子。具体而言，例如可举出钠离子、钾离子、镁离子、钙离子、铁离子、锰离子、高锰酸盐、铜离子、铝离子、钛离子、铬离子、铬酸离子、钴离子、镍离子、锌离子及锡离子。
其中，从本发明的效果更优异的观点出发，优选将钠离子及钾离子设为上述的含量。
作为半金属元素离子，例如可举出硅酸离子、硅离子、硼离子、锗离子、砷离子、锑离子及碲离子。
金属离子的含量例如能够通过ICP发射光谱分析法的公知的方法进行定量。
感光性组合物层可以包含单独1种金属离子，也可以包含两种以上金属离子。
[残余溶剂]
感光性组合物层可以包含残余溶剂。
残余溶剂是指，感光性组合物层中所包含的溶剂。上述溶剂可以为源自感光性组合物的溶剂，也可以为源自除感光性组合物以外的溶剂。
在感光性组合物层包括表面活性剂的情况下，从本发明的效果更优异的观点出发，感光性组合物层中的残余溶剂的含量优选为50mg/m2以下，优选为1～50mg/m2，更优选为1～20mg/m2，进一步优选为2～15mg/m2。
作为残余溶剂的测定方法如下。
首先、从具有临时支承体和感光性组合物层的转印膜冲裁出1cm×1cm的样品片。接着，将样品片与四氢呋喃1mL一同放入药瓶中，振动1小时，提取感光性组合物层中的残余溶剂。对所获得的溶液实施GC-MS(Gas Chromatography-Mass spectrometry：气相色谱质谱联用仪)测定，以测定残余溶剂的量。
作为残余溶剂，例如可举出后述的感光性组合物中所包含的有机溶剂。并且，可举出苯、甲醛、三氯乙烯、1，3-丁二烯、四氯化碳、氯仿、N，N-二甲基甲酰胺、N，N-二甲基乙酰胺及己烷。
[其他成分]
感光性组合物层还可以包含除上述成分以外的成分(以下，也称为“其他成分”。)。作为其他成分，例如可以举出着色剂、抗氧化剂及粒子(例如，金属氧化物粒子)。并且，作为其他成分，还可举出日本特开2000-310706号公报的[0058]～[0071]段中记载的其他添加剂。
作为着色剂，例如可举出亮绿、曙红、乙基紫、赤藓红B、甲基绿、结晶紫、碱性品红、酚酞、1，3-二苯基三嗪、茜素红S、百里酚酞、甲基紫2B、喹哪啶红、玫瑰红、间胺黄、百里酚蓝、二甲苯酚蓝、甲基橙、橙黄IV、二苯基硫卡巴腙、2，7-二氯荧光素、对甲基红、刚果红、苯紫红素4B、α-萘红、尼罗蓝A、非那西沙啉(phenacetarine)、甲基紫、孔雀绿、副品红、罗丹明B、及罗丹明6G。
其中，从本发明的效果更优异的观点出发，作为着色剂，优选为亮绿。
在感光性组合物层包含着色剂的情况下，着色剂的含量相对于感光性组合物层的总质量，优选为0.01质量％以上，更优选为0.01～5.00质量％，进一步优选为0.01～1.00质量％。
作为抗氧化剂，例如可以举出1-苯基-3-吡唑烷酮(别名：菲尼酮)、1-苯基-4，4-二甲基-3-吡唑烷酮及1-苯基-4-甲基-4-羟基甲基-3-吡唑烷酮等3-吡唑烷酮类；氢醌、邻苯二酚、邻苯三酚、甲基氢醌及氯代氢醌等聚羟基苯类；对甲氨基苯酚、对氨基苯酚、对羟基苯甘氨酸及对苯二胺。
其中，从本发明的效果更优异的观点出发，作为抗氧化剂，优选为3-吡唑烷酮类，更优选为1-苯基-3-吡唑烷酮。
在感光性组合物层包含抗氧化剂情况下，抗氧化剂的含量相对于感光性组合物层的总质量优选为0.001质量％以上，更优选为0.005质量％以上，进一步优选为0.01质量％以上。上限并不受特别限制，但优选为1质量％以下。
[感光性组合物层的厚度]
感光性组合物层的厚度并不受特别限制，但通常多为30μm以下，从本发明的效果更优异的观点出发，优选为20μ m以下，更优选为15μm以下，进一步优选为10μm以下，尤其优选为5μm以下。下限没有特别限制，但优选为0.05μ m以上。
感光性组合物层的厚度例如能够作为通过基于扫描式电子显微镜(SEM)的剖面观察而测定的任意5个点的平均值而算出。
[感光性组合物层的折射率]
感光性组合物层的折射率优选为1.47～1.56，更优选为1.49～1.54。
[感光性组合物层的颜色]
感光性组合物层优选为无彩色。在L＊a＊b＊表色系中，感光性组合物层的a＊值优选为-1.0～1.0，感光性组合物层的b＊值优选为-1.0～1.0。
[成分比]
感光性组合物层中所包含的分子量为100000以上的成分的质量相对于感光性组合物层中所包含的分子量为10000以下的成分的质量之比(分子量为100000以上的成分的质量/分子量为50000以下的成分的质量)并不受特别限制，从本发明的效果更优异的观点出发，优选为0.10以下。上述比的下限并不受特别限制，可举出0。
上述比能够通过以下方法来计算：准备溶解感光性组合物层而成的试样，进行GPC测定，并根据所获得的GPC图表对分子量为10000以下的区域的面积和分子量为100000以上的区域的面积进行比较。
＜其他层＞
转印膜可以包含除上述临时支承体及感光性组合物层以外的其他层。
作为其他层，例如可举出保护膜及抗静电层。
转印膜可以在与临时支承体相反的一侧的表面具有用于保护感光性组合物层的保护膜。
保护膜优选为树脂膜，能够使用具有耐热性及耐溶剂性的树脂膜。
作为保护膜，例如可举出聚丙烯膜及聚乙烯膜等聚烯烃膜。并且，作为保护膜可以使用由与上述临时支承体相同的材料构成的树脂膜。
保护膜的厚度优选为1～100μm，更优选为5～50μm，进一步优选为5～40μm，尤其优选为15～30μm。从机械强度优异的观点出发，保护膜的厚度优选为1μm以上，从相对廉价的观点出发，优选为100μ m以下。
转印膜可以包含抗静电层。
通过转印膜具有抗静电层，能够抑制剥离配置于抗静电层上的膜等时产生静电，并且也能够抑制与设备或其他膜等的摩擦引起的静电的产生，因此例如能够抑制电子设备中产生故障。
抗静电层优选配置于临时支承体与感光性组合物层之间。
抗静电层为具有抗静电性的层，至少包含抗静电剂。作为抗静电剂并无特别限制，能够适用公知的抗静电剂。
＜转印膜的制造方法＞
本发明的转印膜的制造方法并无特别限制，能够使用公知的方法。
其中，从生产性优异的观点出发，优选将感光性组合物塗布于临时支承体上，根据需要实施干燥处理而形成感光性组合物层的方法(以下，将该方法称为“塗布方法”。)。
另外，可举出在塗布方法中，为了减少感光性组合物层中的异物的数量，对感光性组合物层的形成中所使用的感光性组合物实施过滤处理的方法。
以下，首先对过滤处理进行详细叙述。
如上所述，作为调整感光性组合物层中的异物的数量的方法，可举出对感光性组合物层的形成中所使用的感光性组合物实施过滤处理的方法。更具体而言，可举出对感光性组合物进行过滤器过滤的方法。
优选在对感光性组合物进行过滤器过滤时，实施2次以上的过滤器过滤(以下，也称为“多阶段过滤”。)。多阶段过滤中的过滤器过滤的次数优选为2次以上，更优选为3次以上，进一步优选为4次以上。上限并不受特别限制，从经济性的观点出发，优选为10次以下。
在多阶段过滤的情况下，可以将同种或多种的过滤器串联或并联使用。并且，多阶段过滤的工序可以为循环过滤工序。
使用多种过滤器的情况下，可以组合使用孔径和/或材质不同的过滤器。
作为过滤器孔径，优选为10μm以下，更优选为5μm以下，进一步优选为1μm以下，尤其优选为0.2μm以下，最优选为0.1μm以下。下限没有特别限制，但优选为0.01μm以上。
在使用多种过滤器的多阶段过滤的情况下，优选使用所使用的过滤器的孔径随着过滤器过滤的次数的增加，孔径逐渐减小的过滤器。例如，优选依次使用孔径5μm的过滤器、孔径3μm的过滤器、孔径1μm的过滤器、孔径0.2μm的过滤器及孔径0.1μm的过滤器进行过滤。
作为过滤器，优选为聚四氟乙烯制成的过滤器、聚乙烯制成的过滤器或者尼龙制成的过滤器。其中，优选为聚四氟乙烯制成的过滤器。
并且，作为过滤器，例如优选为日本特开2016-201426号公报中所公开的溶出物减少的过滤器。
除上述过滤器过滤以外，可以使用吸附材料去除异物，还可以组合使用过滤器过滤与吸附材料。作为吸附材料，能够使用公知的吸附材料，例如能够使用硅胶或沸石等无机类吸附材料、或活性碳等有机类吸附材料。作为金属吸附材料，例如可举出日本特开2016-206500号公报所公开的材料。
并且，作为减少异物的方法，可举出作为构成各种材料的原料选择金属含量少的原料，对构成各种材料的原料进行过滤器过滤，或者使用特氟龙(注册商标)对装置内进行加衬等而在尽可能抑制污染物的条件下进行蒸馏等方法。对构成各种材料的原料进行的过滤器过滤时的优选条件与上述的过滤器过滤相同。
在涂布方法中所使用的感光性组合物优选包含构成上述感光性组合物层的成分(例如，聚合性化合物、碱溶性树脂及光聚合引发剂等)及溶剂。
作为溶剂，优选为有机溶剂。作为有机溶剂，例如可举出甲基乙基酮、丙二醇单甲醚、丙二醇单甲醚乙酸酯(别名：1-甲氧基-2-丙基乙酸酯)、二乙二醇乙基甲基醚、环己酮、甲基异丁基酮、乳酸乙酯、乳酸甲酯、己内酰胺、正丙醇及2-丙醇。作为溶剂，优选为甲基乙基酮与丙二醇单甲醚乙酸酯的混合溶剂或二乙二醇乙基甲基醚与丙二醇单甲醚乙酸酯的混合溶剂。
并且，作为溶剂，根据需要也能够使用沸点为180～250℃的有机溶剂(高沸点溶剂)。
感光性组合物可以包含单独1种溶剂，也可以包含两种以上的溶剂。
在感光性组合物包含溶剂的情况下，感光性组合物的总固体成分量相对于感光性组合物的总质量，优选为5～80质量％，更优选为5～40质量％，进一步优选为5～30质量％。
在感光性组合物包含溶剂的情况下，例如从涂布性的观点出发，感光性组合物在25℃下的粘度优选为1～50mPa·s，更优选为2～40mPa·s，进一步优选为3～30mPa·s。粘度是通过使用粘度计来进行测定。作为粘度计，能够优选使用例如TOKI SANGYO CO.，LTD.制的粘度计(产品名称：VISCOMETER TV-22)。但是，粘度计不限于上述粘度计。
在感光性组合物包含溶剂的情况下，例如从涂布性的观点出发，感光性组合物在25℃下的表面张力优选为5～100mN/m，更优选为10～80mN/m，进一步优选为15～40mN/m。表面张力是通过使用表面张力计来进行测定。作为表面张力计，能够优选使用例如KyowaInterface Science Co.，Ltd.制的表面张力计(产品名称：Automatic SurfaceTensiometer CBVP-Z)。但是，表面张力计不限于上述表面张力计。
作为感光性组合物的涂布方法，例如可举出印刷法、喷涂法、辊涂法、棒涂法、帘涂法、旋涂法及模涂法(即，狭缝涂布法)。
作为干燥方法，例如可举出自然干燥、加热干燥及减压干燥。能够单独使用上述方法或组合使用多个上述方法。
在本发明中，“干燥”是指去除组合物中所含有的溶剂的至少一部分。
并且，在转印膜具有保护膜的情况下，能够通过将保护膜贴合于感光性组合物层来制造转印膜。
将保护膜贴合于感光性组合物层的方法并无特别限制，可以举出公知的方法。
作为将保护膜贴合于感光性组合物层的装置，可以举出真空层压机及自动切割层压机等公知的层压机。
层压机优选具备橡胶辊等任意的可加热的辊，并能够进行加压及加热。
＜层叠体的制造方法＞
通过使用上述转印膜，能够将感光性组合物层转印到被转印体。
其中，本发明的转印膜优选使用于具有导电性细线的层叠体的制造中。
其中，本发明的层叠体的制造方法(以下也称为“制造方法A”)优选包括：贴合工序，使转印膜的临时支承体上的感光性组合物层与具有导电层的基板接触并贴合，从而获得依次具有基板、导电层、感光性组合物层及临时支承体的带感光性组合物层的基板；
曝光工序，对感光性组合物层进行图案曝光；
显影工序，对经曝光的感光性组合物层进行显影而形成图案；
蚀刻工序，对位于未配置有图案的区域的导电层进行蚀刻处理而获得导电性细线；及
去除工序，去除图案，
还包括在贴合工序与曝光工序之间，或者在曝光工序与显影工序之间，进行从带感光性组合物层的基板剥离临时支承体的剥离工序。
以下，对上述工序的步骤进行详细叙述。
[贴合工序]
贴合工序为使转印膜的临时支承体上的感光性组合物层与具有导电层的基板接触并贴合，从而获得依次具有基板、导电层、感光性组合物层及临时支承体的带感光性组合物层的基板的工序。
使转印膜的临时支承体上的经暴露的感光性组合物层与具有导电层的基板接触并贴合。通过该贴合，在具有导电层的基板上配置感光性组合物层及临时支承体。
在上述贴合中，以上述导电层与上述感光性组合物层的表面接触的方式进行压接。若为上述方式，则能够将曝光及显影后获得的图案优选用作对导电层进行蚀刻时的蚀刻抗蚀剂。
作为上述压接方法并无特别限制，能够使用公知的转印方法及层压方法。其中，优选将感光性组合物层的表面重叠于具有导电层的基板上，通过基于辊等加压及加热来进行。
贴合时，能够使用真空层压机及自动切割层压机等公知的层压机。
具有导电层的基板在基板上具有导电层，并且可以根据需要形成任意的层。即，具有导电层的基板为至少具有基板及配置于基板上的导电层的导电性基板。
作为基板，例如可举出树脂基板、玻璃基板及半导体基板。
作为基板的优选方式，例如在国际公开第2018/155193号的0140段中有记载，该内容被编入本说明书中。
作为导电层，从导电性及细线形成性的观点出发，优选为选自金属层、导电性金属氧化物层、石墨烯层、碳纳米管层及导电聚合物层中的至少一种层。
并且，在基板上可以仅配置1层导电层，也可以配置2层以上。在配置2层以上的导电层的情况下，优选具有不同材质的导电层。
作为导电层的优选方式，例如在国际公开第2018/155193号的0141段中有记载，该内容被编入本说明书中。
[曝光工序]
曝光工序为对感光性组合物层进行图案曝光的工序。
另外，在此，“图案曝光”是指以图案状曝光的方式、即存在曝光部和非曝光部的方式的曝光。
图案曝光中的曝光区域与未曝光区域的位置关系并无特别限制，可适当调整以获得后述的导电性细线。
作为图案曝光的光源，只要至少能够照射能够使感光性组合物层固化的波长区域的光(例如为365nm或405nm)，则能够适当选择使用。其中，图案曝光的曝光光的主波长优选为365nm。另外，主波长是指强度最高的波长。
作为光源，例如可举出各种激光、发光二极管(LED)、超高压汞灯、高压汞灯及金属卤化物灯。
曝光量优选为5～200mJ/cm2，更优选为10～200mJ/cm2。
作为用于曝光的光源、曝光量及曝光方法的优选方式，例如在国际公开第2018/155193号的[0146]～[0147]段中有记载，这些内容被编入本说明书中。
[剥离工序]
剥离工序为在贴合工序与曝光工序之间或曝光工序与后述的显影工序之间，进行从带感光性组合物层的基板剥离临时支承体的工序。
剥离方法并无特别限制，能够使用与日本特开2010-072589号公报的[0161]～[0162]段中所记载的覆盖膜剥离机构相同的机构。
[显影工序]
显影工序为对经曝光的感光性组合物层进行显影而形成图案的工序。
上述感光性组合物层的显影能够使用显影液来进行。
作为显影液，优选为碱性水溶液。作为可包含于碱性水溶液中的碱性化合物，例如可举出氢氧化钠、氢氧化钾、碳酸钠、炭酸钾、碳酸氢钠、碳酸氢钾、四甲基氢氧化铵、四乙基氢氧化铵、四丙基氢氧化铵、四丁基氢氧化铵及胆碱(2-羟乙基三甲基氢氧化铵)。
作为显影的方式，例如可举出旋覆浸没显影、喷淋显影、旋转显影及浸渍显影等方式。
作为本发明中可优选使用的显影液，例如可举出国际公开第2015/093271号的[0194]段中所记载的显影液，作为可优选使用的显影方式，例如可举出国际公开第2015/093271号的[0195]段中所记载的显影方式。
所形成的图案的详细配置及具体尺寸并不受特别限制，但形成能够得到后述的导电性细线的图案。另外，图案的间隔优选为8μm以下，更优选为6μm以下。下限并不受特别限制，但2μm以上的情况较多。
通过上述工序形成的图案(感光性组合物层的固化膜)优选为无彩色。具体而言，在L*a*b*表色系中，图案的a*值优选为-1.0～1.0，图案的b*值优选为-1.0～1.0。
[蚀刻工序]
蚀刻工序为对位于所获得的层叠体中的未配置有图案的区域的导电层进行蚀刻处理，获得导电性细线的工序。
在上述蚀刻工序中，将通过上述显影工序由上述感光性组合物层形成的图案用作蚀刻抗蚀剂，进行上述导电层的蚀刻处理。
作为蚀刻处理的方法，能够适用日本特开2017-120435号公报的[0209]～[0210]段中所记载的方法、日本特开2010-152155号公报的[0048]～[0054]段等中所记载的方法、基于公知的等离子体蚀刻等干式蚀刻的方法等、公知的方法。
所形成的导电性细线的线宽优选为8μm以下，更优选为6μm以下。下限并不受特别限制，但2μm以上的情况较多。
[去除工序]
去除工序为去除图案的工序。
作为去除图案的方法并无特别限制，但可举出通过药品处理去除的方法，优选为使用去除液。
作为图案的去除方法，可举出在优选为30～80℃、更优选为50～80℃下进行搅拌的去除液中浸渍具有图案的层叠体1～30分钟的方法。
作为去除液，例如可举出将氢氧化钠、氢氧化钾等无机碱成分或伯胺化合物、仲胺化合物、叔胺化合物、季铵盐化合物等有机碱成分溶解于水、二甲基亚砜、N-甲基吡咯烷酮或这些的混合溶液而成的去除液。
并且，可以使用去除液，通过喷涂法、喷淋法或者旋覆浸没法等进行去除。
[其他工序]
本发明的层叠体的制造方法可以包括除上述以外的任意工序(其他工序)。
上述层叠体的制造方法可以具有对通过上述显影工序获得的图案进行曝光的工序(后曝光工序)及/或进行加热的工序(后烘烤工序)。
在包括后曝光工序及后烘烤工序这两者的情况下，优选在后曝光之后实施后烘烤。
作为除上述以外的工序，例如可举出在国际公开第2019/022089号的[0172]段中所记载的降低可见光线反射率的工序、在国际公开第2019/022089号的[0172]段中所记载的在绝缘膜上形成新的导电层的0序等。
通过本发明的层叠体的制造方法制造的层叠体能够适用于各种用途中。例如，上述层叠体能够适用于触摸传感器。换言之，作为具备上述层叠体的装置，优选为触摸面板，更优选为电容型触摸面板。并且，上述输入装置能够适用于有机电致发光显示装置、液晶显示装置等显示装置。
尤其，上述制作的导电性细线优选适用于触摸传感器的传感器电极或引出布线，更优选适用于引出布线。
＜印刷布线基板的制造方法＞
本发明的转印膜优选用于印刷布线基板的制造方法中。
印刷布线基板的制造方法包括：
种晶层形成工序，在基板上形成种晶层；
贴合工序，使本发明的转印膜的临时支承体上的感光性组合物层与具有种晶层的基板接触并贴合，从而获得依次具有基板、种晶层、感光性组合物层及临时支承体的带感光性组合物层的基板；
曝光工序，对感光性组合物层进行图案曝光；
显影工序，对经曝光的感光性组合物层进行显影而形成图案；
金属镀层形成工序，通过镀覆处理在位于未配置有图案的区域的种晶层上，形成金属镀层；
保护层形成工序，在金属镀层上形成保护层；
图案去除工序，去除图案；及
种晶层去除工序，去除所暴露的种晶层，获得导电性细线，
此外，包括在贴合工序与曝光工序之间，或者在曝光工序与显影工序之间，进行从带感光性组合物层的基板剥离临时支承体的剥离工序。
以下，对上述工序的步骤进行详细叙述。
[种晶层形成工序]
种晶层形成工序为在基板上形成种晶层的工序。
作为在本工序中所使用的基板，可举出上述<层叠体的制造方法＞中所使用的基板。
(种晶层)
作为种晶层中所包含的金属并无特别限制，但能够使用公知的金属。
作为种晶层中所包含的主成分(所谓主金属)，例如可举出铜、铬、铅、镍、金、银、锡及锌。另外，上述主成分是指，种晶层中所包含的金属中含量最多的金属。
种晶层的厚度并不受特别限制，优选为50nm以上，更优选为100nm以上。下限没有特别限制，但优选为2μm以上。
种晶层的形成方法并无特别限制，可举出涂布分散有金属微粒的分散液而烧结塗膜的方法、溅射法及蒸镀法。
作为上述印刷布线基板的制造方法中的贴合工序、曝光工序及显影工序的步骤，分别可举出在上述<层叠体的制造方法＞中所实施的工序中说明的步骤。
[金属镀层形成工序]
金属镀层形成工序为通过镀覆处理在位于未配置有图案的区域的种晶层上形成金属镀层的工序。
作为镀覆处理，可举出电解电镀法及非电解电镀法，从生产性的观点出发，优选为电解电镀法。
作为金属镀层中所包含的金属并无特别限制，能够使用公知的金属。
金属镀层例如可以包含铜、铬、铅、镍、金、银、锡及锌等金属、以及这些金属的合金。
其中，从导电性细线的导电性更优异的观点出发，金属镀层优选包含铜或其合金。并且，从导电性细线的导电性更优异的观点出发，金属镀层的主成分优选为铜。
金属镀层的厚度并不受特别限制，优选为0.1～1μm，更优选为0.3～1μm。
[保护层形成工序]
保护层层叠工序为在金属镀层上形成保护层的工序。
作为保护层的材料，优选为去除工序或者导电部形成工序中的对去除液或蚀刻液具有耐性的材料。例如可举出镍、铬、錫、锌、镁、金、银等金属、这些的合金及树脂。其中，作为保护层的材料，优选为镍或铬。
作为保护层的形成方法，例如可以举出无电解电镀法、电镀法等，优选为电镀法。
保护层的厚度并无特别限制，优选为0.3μm以上，更优选为0.5μm以上。上限并无特别限制，优选为3.0μm以下，更优选为2.0μm以下。
作为上述印刷布线基板的制造方法中的图案去除工序的步骤，分别可举出在上述<层叠体的制造方法＞中所实施的去除工序中说明的步骤。
[种晶层去除工序]
种晶层去除工序为去除经暴露的种晶层而获得导电性细线的工序。
作为去除种晶层的一部分的方法，并不受特别限制，能够使用公知的蚀刻液。
作为公知的蚀刻液，例如可以举出氯化铁溶液、氯化铜溶液、氨碱溶液、硫酸-过氧化氢混合液及磷酸-过氧化氢混合液等。
所形成的导电性细线的线宽优选为8μm以下，更优选为6μm以下。下限并不受特别限制，但2μm以上的情况较多。
作为上述印刷布线基板的制造方法中的剥离工序的步骤，可举出上述<层叠体的制造方法＞中所实施的工序中说明的步骤。
实施例
以下列举实施例进一步对本发明进行具体说明。以下实施例中所示的材料、使用量、比例、处理内容、处理步骤等只要不脱离本发明的主旨，则能够适当进行变更。因此，本发明的范围并不限定于以下所示的具体例。另外，只要无特别说明，则“份”及“％”为质量基准。并且，除非另有说明，聚合物中的组成比为摩尔比。
<聚合物A-1的合成＞
向三口烧瓶放入丙二醇单甲醚乙酸酯(SHOWA DENKO K.K.制)(116.5份)，在氮气气氛下升温至90℃。将添加有苯乙烯(FUJIFILM Wako Pure Chemical Corporation制)(32.0份)、甲基丙烯酸(FUJIFILM Wako Pure Chemical Corporation制)(28.0份)、甲甲基丙烯酸甲酯(FUJIFILM Wako Pure Chemical Corporation制)(40.0份)、2，2’-偶氮双(2-甲基丙酸)二甲酯(FUJIFILM Wako Pure Chemical Corporation制)(4.0份)、及丙二醇单甲醚乙酸酯(SHOWA DENKO K.K.制)(116.5份)的溶液经2小时滴加到维持在90℃±2℃的三口烧瓶溶液中。结束滴加之后，在90℃±2℃下搅拌了2小时，由此合成了表1所示的聚合物A-1(固体成分浓度30.0％)。
[表1]
Figure BDA0003926727240000431
在表1中，各记载表示以下。
St：苯乙烯(FUJIFILM Wako Pure Chemical Corporation制)
MAA：甲基丙烯酸(FUJIFILM Wako Pure Chemical Corporation制)
MMA：甲基丙烯酸甲酯(FUJIFILM Wako Pure Chemical Corporation制)
BZMA：甲基丙烯酸苄酯(FUJIFILM Wako Pure Chemical Corporation制)
PGMEA：丙二醇单甲醚乙酸酯(SHOWA DENKO K.K制)
V-601：2，2’-偶氮双(2-甲基丙酸)二甲酯(FUJIFILM Wako Pure ChemicalCorporation制)
<聚合物A-2～A-3的合成＞
按照表1混合各成分，并以与上述合成法相同的步骤，合成了重合体A-2～A-3。
＜感光性组合物1的制备＞
对于各成分和甲基乙基酮(SANKYO CHEMICAL Co.，Ltd.制)(60份)、丙二醇单甲醚乙酸酯(SHOWA DENKO K.K.制)(40份)的混合溶剂，按照表2及3，以感光性组合物1的固形分濃度成为13质量％的方式，添加混合溶剂而获得了混合液。之后，使用孔径5.0μm的聚四氟乙烯制过滤器、孔径3.0μm的聚四氟乙烯制过滤器、孔径1.0μm的聚四氟乙烯制过滤器、孔径0.2μm的聚四氟乙烯制过滤器及孔径0.1μm的聚四氟乙烯制过滤器，依次对所获得的混合溶液进行多阶段过滤，由此制备了感光性组合物1。
[表2]
Figure BDA0003926727240000451
[表3]
Figure BDA0003926727240000461
＜实施例1＞
使用狭缝状喷嘴将感光性组合物1涂布于作为临时支承体的厚度16μm的聚对苯二甲酸乙二酯(PET)膜上，使其经40秒钟通过80℃的干燥区，从而形成了厚度5μm的感光性组合物层1。
接着，在上述感光性组合物层上层压厚度16μm的PET膜作为保护膜，从而获得了实施例1的转印膜。
＜实施例2～19＞
除按照表1～3变更了各种成分的种类及使用量以外，以与实施例1相同的步骤，获得了实施例2～19的转印膜。
＜比较例1～2＞
按照表1及3调整各成分，使用孔径0.2μm的聚四氟乙烯制过滤器，仅过滤1次(单阶段过滤)来代替多阶段过滤，除此之外，以与实施例1相同的步骤，获得了比较例1～2的转印膜。
＜试验评价＞
[残余溶剂]
从实施例及比较例中所获得的转印膜剥离保护膜，制作了包括感光性组合物层及临时支承体的层叠体。从所获得的层叠体冲裁出1cm×1m的样品片，将所获得的样品片放入药瓶中，向药瓶添加1mL四氢呋喃，并振动1小时，提取了感光性组合物层中的残余溶剂。使用所获得的溶液，实施GC-MS测定，以测定残余溶剂的量。
[成分B/成分A]
将各感光性组合物层中所包含的分子量为10000以下的成分设为成分A，将各感光性组合物层中所包含的分子量为100000以上的成分设为成分B，并计算出成分B与成分A的质量比(成分B的质量/成分A的质量)。
上述比(成分B/成分A)通过以下方法来计算，准备溶解各感光性组合物层而成的溶液，在以下条件下进行GPC测定，根据所获得的GPC图表计算出分子量1000000以上的区域的面积与分子量10000以下的区域的面积之比作为上述质量比。
具体而言，GPC测定是在下述条件下以聚苯乙烯换算计算出的值。首先，将约20mg的感光性组合物层溶解于4mL的四氢呋喃(THF)中，通过0.5μm膜过滤器进行过滤，从而获得了试样溶液。
并且，关于校准曲线，制作标准聚苯乙烯(下述的TOSOH CORPORATION制的标准聚苯乙烯)的THF溶液，使用通过0.5μm膜过滤器进行过滤而得的溶液，在下述条件下注入到分离柱中，从而求出了溶出时间与分子量的关系。
(标准聚苯乙烯的THF溶液的制备)
将F-128(Mw＝1，090，000、0.05g)、F-40(Mw＝427，000、0.05g)、F-20(Mw＝190，000、0.05g)、F-4(Mw＝37，900、0.05g)、F-1(Mw＝10，200、0.05g)、A-2500(Mw＝2，550、0.05g)及A-500(Mw＝590，0.05g)放入50mL容量瓶中，用THF稀释成规定的浓度。
(GPC测定条件)
装置：TOSOH CORPORATION制、TOSOH高速GPC装置HLC-8220GPC(产品名称)
保护柱：TOSOH CORPORATION制、HZ-L
分离柱：串联3根TOSOH CORPORATION制、TSK gel Super HZM-N(产品名称)
测定温度：40℃
洗脱液：THF
流量：样品泵0.35mL/分钟、参比泵0.20mL/分钟
注入量：10μL
检测器：差示折射计
[异物个数]
使用光学显微镜从转印膜的感光性组合物层侧的表面的法线方向以肉眼转印膜的任意5个区域(1mm×1mm)，测定各区域中的直径1μm以上的异物的数量，将这些进行算术平均而计算出转印膜中的异物的数量。
接着，使用光学显微镜从转印膜中所使用的临时支承体的表面的方向，以肉眼临时支承体的任意5个区域(1mm×1mm)，测定各区域中的直径1μm以上的异物的数量，将这些进行算术平均而计算出临时支承体中的异物的数量。
接着，从上述中获得的转印膜中的异物的数量减去临时支承体中的异物的数量，从而计算出感光性组合物层中的直径1μm以上的异物的数量。
将计算出的感光性组合物层中的直径1μm以上的异物的数量，按照以下基准进行了评价。
(感光性组合物层的评价基准)
A：感光性组合物层中的异物的个数小于5个/mm2
B：感光性组合物层中的异物的个数为5个/mm2以上且10个/mm2以下
C：感光性组合物层中的异物的个数超过10个/mm2
(临时支承体的评价基准)
A：临时支承体中的异物的个数小于1个/mm2
B：临时支承体中的异物的个数为1个/mm2以上且10个/mm2以下
C：临时支承体中的异物的个数超过10个/mm2
[评价导电性细线的形成不良]
通过蒸镀法在厚度0.1mm的PET基板上设置厚度200nm的铜层，准备了带有铜层的玻璃基板。
剥离所制作的转印膜的保护膜之后，在辊温度100℃、线压1.0MPa、线速度4.0m/min的层压条件下，以铜层与感光性组合物层接触的方式层压于上述带有铜层的玻璃基板上。
接着，使用具有线/间隔＝6μm/6μm的图案的光掩模，从临时支承体侧以90mJ/cm2进行曝光，然后剥离去除了临时支承体。
接着，用液温为25℃的1％碳酸钠水溶液进行喷淋显影，并实施水洗，在铜上形成了规定的图案。
对配置有图案的PET基板，使用蚀刻液去除了位于未配置有图案的区域的铜层。
接着，使用去除液，从所获得的层叠体去除图案，从而获得了具有导电性细线的层叠体。
(评价基准)
A：图案形状的缺口小于10个/mm2，且断裂及短路为0个/mm2
B：图案形状的缺口为10个/mm2以上，且断裂及短路为0个/mm2
C：图案形状的缺口为10个/mm2以上，且断裂及短路小于5个/mm2
D：图案形状的缺口为10个/mm2以上，且断裂及短路为5个/mm2以上
[表4]
Figure BDA0003926727240000501
[表5]
Figure BDA0003926727240000502
在表4及5中，作为临时支承体使用了厚度不同的PET膜。如上述表所示，各PET膜中的直径1μm以上的异物的数量小于1个/mm2。
＜结果＞
如表4所示，确认到在使用本发明的转印膜的情况下，可得到所期望的效果。
通过实施例1～3的比较，确认到当感光性组合物层的厚度为20μm以下时，效果更优异。
通过比较实施例1与实施例6，确认到当临时支承体的厚度为30μm以下时，效果更优异。
通过比较实施例1与实施例8，确认到当感光性组合物层中的聚合性化合物的含量相对于感光性组合物层的总质量为10.00～50.00质量％时，效果更优异。
通过比较实施例1与实施例9，确认到当感光性组合物层中的聚合引发剂的含量相对于感光性组合物层的总质量为0.10～10.00质量％时，效果更优异。并且，
通过比较实施例1与实施例7，确认到当感光性组合物层中所包含的分子量为100000以上的成分的质量相对于感光性组合物层中所包含的分子量为10000以下的成分的质量之比为0.10以下时，效果更优异。
通过比较实施例1与实施例10，确认到当感光性组合物层中的阻聚剂的含量相对于感光性组合物层的总质量为0.10～5.00质量％时，效果更优异。
通过比较实施例1与实施例11，确认到当感光性组合物层包含残余溶剂，残余溶剂的含量为2～15mg/m2时，效果更优异。
＜实施例20＞
使用狭缝状喷嘴将感光性组合物10塗布于厚度16μm的PET膜(16QS71、TorayIndustries，Inc.制)上，使其经40秒钟通过80℃的干燥区，从而形成了厚度15μm的感光性组合物层20。
接着，在上述感光性组合物层上层压厚度12μm的PP膜(TORAYFAN、TorayIndustries，Inc.制)作为保护膜，从而获得了实施例20的转印膜。
将如此获得的转印膜用作日本特开2019-121740号公报的0050段中的抗蚀剂图案形成材料，实施了上述日本特开公报中所公开的印刷线路板制造方法的结果，获得了具有无浸蚀且良好的布线的基板。
确认到本发明所涉及的转印膜也适于获得用于半加法的抗蚀剂图案的目的。

Claims (13)

1.一种转印膜，其具有临时支承体和配置在所述临时支承体上的感光性组合物层，
所述感光性组合物层中的直径1μm以上的异物的数量为10个/mm2以下。
2.根据权利要求1所述的转印膜，其中，
所述感光性组合物层的厚度为20μm以下。
3.根据权利要求1或2所述的转印膜，其中，
所述临时支承体中的直径1μm以上的异物的数量为10个/mm2以下。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的转印膜，其中，
所述临时支承体的厚度为30μm以下。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的转印膜，其中，
所述感光性组合物层包含聚合性化合物，
所述聚合性化合物的含量相对于所述感光性组合物层的总质量为10.00质量％～50.00质量％。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的转印膜，其中，
所述感光性组合物层包含聚合引发剂，
所述聚合引发剂的含量相对于所述感光性组合物层的总质量为0.10质量％～10.00质量％。
7.根据权利要求1至6中任一项所述的转印膜，其中，
所述感光性组合物层中所包含的分子量为100000以上的成分的质量相对于所述感光性组合物层中所包含的分子量为10000以下的成分的质量之比为0.10以下。
8.根据权利要求1至7中任一项所述的转印膜，其中，
所述感光性组合物层包含阻聚剂，
所述阻聚剂的含量相对于所述感光性组合物层的总质量为0.10质量％～5.00质量％。
9.根据权利要求1至8中任一项所述的转印膜，其中，
所述感光性组合物层包含残余溶剂，
所述残余溶剂的含量为2mg/m2～15mg/m2。
10.一种层叠体的制造方法，其包括：
贴合工序，使权利要求1至9中任一项所述的转印膜的所述临时支承体上的所述感光性组合物层与具有导电层的基板接触并贴合，而获得依次具有所述基板、所述导电层、所述感光性组合物层及所述临时支承体的带感光性组合物层的基板；
曝光工序，对所述感光性组合物层进行图案曝光；
显影工序，对经曝光的所述感光性组合物层进行显影而形成图案；
蚀刻工序，对位于未配置有所述图案的区域的导电层进行蚀刻处理而获得导电性细线；及
去除工序，去除所述图案，
在所述贴合工序与所述曝光工序之间，或者在所述曝光工序与所述显影工序之间，所述制造方法还包括从所述带感光性组合物层的基板剥离所述临时支承体的剥离工序。
11.根据权利要求10所述的层叠体的制造方法，其中，
所述导电性细线的线宽为8μm以下。
12.一种触摸传感器，其包含通过权利要求10或11所述的制造方法制造的层叠体。
13.一种印刷布线基板的制造方法，其包括：
种晶层形成工序，在基板上形成种晶层；
贴合工序，使权利要求1至9中任一项所述的转印膜的所述临时支承体上的所述感光性组合物层与具有种晶层的基板接触并贴合，而获得依次具有所述基板、所述种晶层、所述感光性组合物层及所述临时支承体的带感光性组合物层的基板；
曝光工序，对所述感光性组合物层进行图案曝光；
显影工序，对经曝光的所述感光性组合物层进行显影而形成图案；
金属镀层形成工序，通过镀覆处理在位于未配置有所述图案的区域的所述种晶层上，形成金属镀层；
保护层形成工序，在所述金属镀层上形成保护层；
图案去除工序，去除所述图案；及
种晶层去除工序，去除所暴露的所述种晶层，获得导电性细线，
在所述贴合工序与所述曝光工序之间，或者在所述曝光工序与所述显影工序之间，所述制造方法还包括从所述带感光性组合物层的基板剥离所述临时支承体的剥离工序。
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