CN115315318A - 涂敷装置及涂敷方法 - Google Patents

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Abstract

提供能够形成均匀的涂敷膜的涂敷装置及涂敷方法。根据实施方式，涂敷装置包含：能够与被涂敷构件相向的涂敷杆；以及能够朝向所述涂敷杆供给液体的多个喷嘴。所述多个喷嘴的数量为3个以上。所述涂敷杆的表面的至少一部分的算术平均粗糙度Ra为0.5μm以上且10μm以下。

Description

涂敷装置及涂敷方法
技术领域
本发明的实施方式涉及涂敷装置及涂敷方法。
背景技术
存在使用涂敷杆涂敷液体的涂敷装置。希望能够形成均匀的涂敷膜的涂敷装置。
在先技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2016-174992号公报
发明内容
发明要解决的课题
本发明的实施方式提供一种能够形成均匀的涂敷膜的涂敷装置及涂敷方法。
用于解决课题的方案
根据本发明的实施方式，涂敷装置包含：能够与被涂敷构件相向的涂敷杆；以及能够朝向所述涂敷杆供给液体的多个喷嘴。所述多个喷嘴的数量为3个以上。所述涂敷杆的表面的至少一部分的算术平均粗糙度Ra为0.5μm以上且10μm以下。
附图说明
图1(a)和图1(b)是例示第一实施方式的涂敷装置的示意图。
图2是例示第一实施方式的涂敷装置的示意性侧视图。
图3(a)和图3(b)是例示涂敷装置的特性的曲线图。
图4是例示第一实施方式的涂敷装置的示意图。
图5是例示第一实施方式的涂敷装置的示意图。
具体实施方式
下面，参照附图详细说明本发明的实施方式。
另外，附图是示意性或概念性的图，各部分的厚度与宽度的关系、部分间的大小的比率等未必与现实的情况相同。另外，即使在表示相同的部分的情况下，也存在根据附图而相互的尺寸、比率不同地表示的情况。
另外，在本申请说明书和各图中，对于与在已出现的图中已叙述的要素相同的要素标注相同的附图标记，并适当省略详细的说明。
(第一实施方式)
图1(a)和图1(b)是例示第一实施方式的涂敷装置的示意图。图1(a)是俯视图。图1(b)是侧视图。在图1(b)中，为了容易看图，省略了一部分要素。
图2是例示第一实施方式的涂敷装置的示意性侧视图。
如图1(a)所示，实施方式的涂敷装置110包含涂敷杆10以及多个喷嘴21。多个喷嘴21也可以包含在喷嘴部20中。
如图2所示，涂敷杆10能够与被涂敷构件80相向。
如图1(a)及图2所示，多个喷嘴21能够与涂敷杆10相向。如图2所示，多个喷嘴21能够朝向涂敷杆10供给液体84。
如图1(a)所示，多个喷嘴21沿着第一方向排列。第一方向例如是Y轴方向。将与Y轴方向垂直的1个方向设为X轴方向。将与Y轴方向及X轴方向垂直的方向设为Z轴方向。涂敷杆10例如沿着Y轴方向延伸。
如图2所示，在被涂敷构件80与涂敷杆10之间能够形成液体84的弯液面84M。通过弯液面84M与被涂敷构件80接触，在被涂敷构件80上形成由液体84形成的涂敷膜85。通过使涂敷膜85固体化(例如干燥)，能够得到作为目标的膜(固体膜)。例如，通过使被涂敷构件80沿着移动方向88移动，能够在被涂敷构件80上形成大面积的涂敷膜85。
在实施方式中，多个喷嘴21的数量为3个以上。由此，能够稳定地形成大面积的涂敷膜85。在图1(a)的例子中，多个喷嘴21的数量为6。在实施方式中，数量可以是3以上的任意整数。
在实施方式中，在涂敷杆10的表面10F设置有凹凸。凹凸例如能够通过喷砂等方法形成。通过控制凹凸的形成条件等，能够控制凹凸的算术平均粗糙度Ra。通过控制凹凸的形成条件等，能够控制凹凸的最大高度Rz。在使用喷砂等方法的情况下，凹凸的形成条件例如包含所使用的粒子的大小(例如平均直径)、粒子的种类、以及处理时间中的至少任一个。
在实施方式中，涂敷杆10的表面10F的算术平均粗糙度Ra例如为0.5μm以上且10μm以下。由此可知，能够减少所形成的涂敷膜85的厚度不均。例如，通过在涂敷杆10的表面10F设置适当粗糙度的凹凸，表面10F的润湿性提高。这被认为是容易得到均匀厚度的涂敷膜85的原因。
图3(a)和图3(b)是例示涂敷装置的特性的曲线图。
图3(a)的横轴是涂敷杆10的表面10F的算术平均粗糙度Ra。图3(b)的横轴是涂敷杆10的表面10F的凹凸的最大高度Rz。这些图的纵轴是通过涂敷膜85得到的固体的膜的厚度不均Dz。厚度不均Dz是相对标准偏差(％)。
如图3(a)所示，在算术平均粗糙度Ra为约3μm以上约8μm以下的范围内，能够得到小的厚度不均Dz。在实用上，在算术平均粗糙度Ra为0.5μm以上且10μm以下时，能够得到小的厚度不均Dz。在算术平均粗糙度Ra小于0.5μm的情况下，厚度不均Dz大。若算术平均粗糙度Ra大于10μm，则涂敷杆10容易被污染。若算术平均粗糙度Ra大于10μm，则难以清洗涂敷杆10。算术平均粗糙度Ra例如优选为2μm以上且6μm以下。
一般认为，通过设置0.5μm以上10μm以下的算术平均粗糙度Ra的凹凸，在涂敷杆10的表面10F能够得到良好的润湿性。由此，一般认为厚度不均Dz能够减小。
在多个喷嘴21的数量为2个的情况下，2个喷嘴21的末端位于1条直线上。该直线例如沿着涂敷杆10延伸的方向。两个喷嘴21的每一个与涂敷杆10之间的相对的位置容易变得均匀。因此，涂敷杆10的表面10F的凹凸程度(例如算术平均粗糙度Ra)的适当的范围比较宽。
另一方面，如已经说明的那样，在实施方式中，多个喷嘴21的数量为3个以上。由此，能够得到大面积的涂敷膜85。在多个喷嘴21的数量为3个以上的情况下，难以使多个喷嘴21的每一个与涂敷杆10之间的相对的位置均匀。在这种状况下，通过适当的范围的算术平均粗糙度Ra，能够有效地减小厚度不均Dz。通过适当的范围的算术平均粗糙度Ra，例如通过毛细效应，能够在涂敷杆10的表面稳定地形成液体84的膜。由此，一般认为能够得到小的厚度不均Dz。
如图3(b)所示，当最大高度Rz在约10μm～约30μm的范围内时，能够得到小的厚度不均Dz。实际上，当最大高度Rz为5μm以上且50μm以下时，得到小的厚度不均Dz。若最大高度Rz小于5μm，则例如毛细效应容易变小。若最大高度Rz大于50μm，则例如涂敷杆10容易被污染。若最大高度Rz大于50μm，则例如被涂敷构件80容易受到损伤。
涂敷杆10的凹凸例如也可以通过喷砂形成。通过喷砂，在涂敷杆10的曲面上能够形成均匀的凹凸。例如促进了涂敷杆10的表面10F的氧化。例如，容易提高润湿性。例如，容易得到高的亲水性。
在实施方式中，涂敷杆10例如含有金属。涂敷杆10例如含有从由不锈钢、钛和铝组成的组中选择的至少一种。在涂敷杆10含有不锈钢的情况下，容易得到高的耐久性。在涂敷杆10含有不锈钢的情况下，容易降低成本。
涂敷杆10的表面10F也可以含有氧化物。表面10F例如也可以含有氧化铝等。例如，容易得到良好的润湿性。
涂敷杆10的表面10F与水的接触角例如小于90度。利用亲水性高的表面10F，容易得到更均匀的涂敷膜85。接触角也可以是50度以下。接触角也可以是10度以下。
在实施方式中，多个喷嘴21也可以与涂敷杆10相接。
如图2所示，多个喷嘴21的至少一部分的位置比涂敷杆10的位置高。由于重力的影响，容易得到更稳定的弯液面84M。例如，多个喷嘴21也可以从涂敷杆10的上部与涂敷杆10接触。例如，液体84容易稳定且均匀地供给。
如图1(a)所示，涂敷杆10的表面10F包含第一区域10a、第二区域10b以及第三区域10c。在多个喷嘴21排列的第一方向(例如Y轴方向)上，第一区域10a位于第二区域10b与第三区域10c之间。第一区域10a是与多个喷嘴21相向的区域。第二区域10b以及第三区域10c是不与多个喷嘴21相向的区域。第二区域10b和第三区域10c例如也可以包含涂敷杆10的Y轴方向上的端部。
第一区域10a的算术平均粗糙度Ra为0.5μm以上且10μm以下。第二区域10b和第三区域10c的算术平均粗糙度Ra小于0.5μm或超过10μm。通过适当地设定用于涂敷的第一区域10a的算术平均粗糙度Ra，能够得到小的厚度不均Dz。例如，在对应于端部的第二区域10b和第三区域10c中，应用与第一区域10a的算术平均粗糙度Ra不同的表面特性。由此，能够抑制液体84向不需要的部分附着。提高液体84的使用效率。
如图2所示，在该例子中，多个喷嘴21与基部22连接。在基部22上连接有供给管25。液体84经由供给管25供给到基部22。从多个喷嘴21喷出液体84。
如图2所示，在该例子中，喷嘴21被第一构件31以及第三构件33保持。喷嘴21位于第一构件31与第三构件33之间。第三构件33通过第二构件32固定于第一构件31。在该例子中，在第三构件33与第二构件32之间设置有弹性构件35。通过弹性构件35，多个喷嘴21的位置容易稳定。喷嘴部20、第一构件31、第二构件32、第三构件33以及弹性构件35也可以包含于头部30。在实施方式中，与多个喷嘴21的保持相关的结构也可以进行各种变形。
如图1(a)所示，涂敷装置110也可以包含位置控制部40。位置控制部40能够控制多个喷嘴21与涂敷杆10之间的相对的位置。
如图1(a)和图1(b)所示，例如，位置控制部40也可以包含第一保持部41和第二保持部42。第一保持部41保持涂敷杆10。第二保持部42保持多个喷嘴21。例如，通过第二保持部42保持第一构件31。由此，被第一构件31保持的多个喷嘴21被第二保持部42保持。
也可以是，第一保持部41及第二保持部42中的至少任一个能够对涂敷杆10及多个喷嘴21中的至少任一个施加具有从涂敷杆10向多个喷嘴21的朝向及从多个喷嘴21向涂敷杆10的朝向中的至少任一个的应力。
在实施方式中，多个喷嘴21的间隔也可以是可变的。间隔与图1(a)例示的沿Y轴方向的距离相对应。
如图1(a)所示，涂敷装置110也可以包含第一传感器51a及51b。第一传感器51a及51b例如检测涂敷杆10与被涂敷构件80之间的距离。
如图1(a)所示，涂敷装置110也可以包含控制部70。控制部70例如得到第一传感器51a及51b的检测结果，基于检测结果，控制位置控制部40(例如第一保持部41)。通过控制部70，能够适当地控制涂敷杆10与被涂敷构件80之间的距离。第一传感器51a及51b例如包含光学元件。第一传感器51a及51b例如也可以包含照相机。
如图1(b)所示，涂敷装置110也可以包含被涂敷构件保持部66。被涂敷构件保持部66保持被涂敷构件80。被涂敷构件保持部66能够使被涂敷构件80相对于涂敷杆10相对移动。被涂敷构件保持部66例如是搬送部。被涂敷构件保持部66例如是辊。在该例子中，被涂敷构件保持部66能够沿着与重力GD的朝向交叉的方向搬送被涂敷构件80。重力GD的朝向例如沿着Z轴方向。交叉的方向例如是X轴方向。
例如，搬送方向(移动方向88)沿着水平方向。在该情况下，多个喷嘴21延伸的方向例如接近水平方向。容易进行对位。例如，能够抑制液体84的下垂。
图4是例示第一实施方式的涂敷装置的示意图。
如图4所示，涂敷装置110包含被涂敷构件保持部66。被涂敷构件保持部66保持被涂敷构件80。被涂敷构件保持部66使被涂敷构件80相对于涂敷杆10相对移动。在该例子中，被涂敷构件保持部66能够将被涂敷构件80向包含与重力GD的朝向相反的成分的朝向88a搬送。例如，重力施加于弯液面84M。即使在高速的涂敷中，也容易得到均匀的涂敷膜85。
在实施方式中，被涂敷构件80的移动方向能够进行各种变形。移动方向与重力的朝向(方向)之间的角度例如可以是±30°以下。
如图4所示，涂敷装置110也可以包含供给部61。供给部61能够向多个喷嘴21供给液体84。供给部61例如包含泵61p。在该例子中，设置有储存液体84的罐65。供给部61与罐65连接。供给部61通过供给管25与多个喷嘴21连接。液体84从供给部61被供给到多个喷嘴21。液体84从多个喷嘴21朝向涂敷杆10供给。
供给部61也可以包含多个泵61p。多个喷嘴21的数量例如为多个泵61p的数量的整数倍。
在实施方式中，多个喷嘴21的数量也可以为12个以上。多个喷嘴21的数量例如为12、16或20等。连接泵61p和多个喷嘴21的供给管25也可以具有分支构造。供给管25的数量例如为2、4或8等。例如，在供给管25的数量为4的情况下，能够利用少的泵61p稳定且均匀地供给液体84。
在实施方式中，泵61p例如也可以包含隔膜泵。隔膜泵能够应用于包含各种溶剂的液体84。
图5是例示第一实施方式的涂敷装置的示意图。
如图5所示，在涂敷装置111中，被涂敷构件保持部66包含第一保持机构66a和第二保持机构66b。在该例子中，被涂敷构件80包含卷状膜。第一保持机构66a保持卷状膜(被涂敷构件80)的第一部分80a。第二保持机构66b保持卷状膜(被涂敷构件80)的第二部分80b。第一保持机构66a和第二保持机构66b例如是辊。能够向卷状膜进行连续的涂敷。
与多个喷嘴21排列的第一方向(Y轴方向)交叉的平面(例如X-Z平面)上的涂敷杆10的至少一部分的截面可以是圆形。截面可以是圆形、椭圆形、梯形等。截面为圆形时，涂敷头的制造变得简单。在截面为圆形的情况下，容易均匀地维持被涂敷构件80与涂敷杆10之间的距离。也可以是截面的一部分是曲线状且截面的其它的部分是直线状。
在实施方式中，多个喷嘴21可以是针状。在针状中，长度比直径长。多个喷嘴21的开口部可以相对于多个喷嘴21延伸的方向实质上为90度。在该情况下，即使在多个喷嘴21旋转的情况下，多个喷嘴21的开口部(末端)与涂敷杆10的相对的位置关系也难以变化。例如，容易抑制由多个喷嘴21中的至少任一个引起的涂敷杆10的损伤。
多个喷嘴21的长度例如可以为2cm以上且10cm以下。多个喷嘴21的内径例如为0.2以上且2mm以下。
在实施方式中，也可以设置回收液体84的回收部。在实施方式中，也可以设置能够使涂敷膜85固体化的干燥部。干燥部例如也可以包含加热器、鼓风机或红外线的照射部等。
在实施方式中，也可以设置能够清洗涂敷杆10的清洗部。清洗部也可以包含对溶剂进行喷雾或放射的机构。溶剂例如可以含有水。清洗部也可以包含施加超声波的机构。
通过实施方式的涂敷装置，例如也可以形成太阳能电池所包含的膜。例如，被涂敷构件80可以是卷状的膜。
以下，对实验结果的例子进行说明。在实验中，被涂敷构件80是卷状的PET膜。PET膜的宽度(Y轴方向的长度)为300mm。通过卷对卷对应的溅射装置，在卷状的膜上形成透光性的导电膜。导电膜是ITO/Ag合金/ITO的层叠膜。导电膜被图案化为所希望的形状。
多个喷嘴21中的一个的长度为约50mm。多个喷嘴21包含不锈钢。多个喷嘴21的各自的内径为0.8mm。多个喷嘴21使用第三构件33以及弹性构件35，通过第二构件32固定于第一构件31。在多个喷嘴21的基部22连接有供给管25。
在实验中，PEDOT/PSS水分散液用作液体84。由该液体84例如能够制作太阳能电池的空穴输送层。
涂敷杆10的截面形状是实质上的梯形。涂敷杆10的截面形状的底部是具有80mm的曲率的圆弧状。涂敷杆10的Y轴方向的长度为300mm。涂敷杆10的材料是SUS303。
在实验中，对涂敷杆10的底面和与底面相邻的面进行喷砂处理。由此，在涂敷杆10的表面10F形成凹凸。根据处理条件，在涂敷杆10的表面10F能够得到各种特性。或者，通过各种表面处理，能够在表面10F形成各种凹凸。
利用各种条件的涂敷杆10进行液体84的涂敷。由此，得到涂敷膜85。干燥涂敷膜85，得到作为目的的膜。根据膜的吸光度的分布来评价厚度不均Dz。
在第一试样中，涂敷杆10的表面10F的算术平均粗糙度Ra为3.2μm。凹凸的最大高度Rz为20μm。表面10F在目视观察时是均匀的。在表面10F，与水的接触角为约5度。在第一试样中，厚度不均Dz为10％以下。
在第二试样中，不对涂敷杆10的表面进行喷砂处理。在第二试样中，算术平均粗糙度Ra为0.4μm。凹凸的最大高度Rz为10μm。在第二试样中，厚度不均Dz为20％以上。
在第三试样中，算术平均粗糙度Ra为12μm。凹凸的最大高度Rz为70μm。在第三试样中，厚度不均Dz为15％以上。在第三试样中，涂敷杆10容易被污染，清洗困难。
在第四试样中，算术平均粗糙度Ra为0.006μm。凹凸的最大高度Rz为10μm。在第四试样中，厚度不均Dz为30％以上。
在第五试样中，算术平均粗糙度Ra为4.3μm。凹凸的最大高度Rz为25μm。在第五试样中，厚度不均Dz为10％以下。在第一试样～第五试样中，涂敷杆10的材料是不锈钢。
在第六试样中，涂敷杆10的材料是铝。在第五试样中，算术平均粗糙度Ra为8μm。凹凸的最大高度Rz为30μm。在第五试样中，厚度不均Dz为12％以下。
(第二实施方式)
第二实施方式涉及涂敷方法。在涂敷方法中，利用第一实施方式所涉及的任意的涂敷装置，将液体84涂敷于被涂敷构件80。能够形成均匀的涂敷膜85。
例如，有使用了有机半导体的有机薄膜太阳能电池、或有机/无机混合太阳能电池。例如，通过涂敷来形成太阳能电池所含的层，从而能够得到低成本的太阳能电池。根据实施方式，例如通过卷对卷的涂敷，能够得到均匀的涂敷膜。在实施方式中，例如在涂敷杆10与被涂敷构件80之间形成弯液面84M。通过适当的表面状态的涂敷杆10能够得到均匀的涂敷膜85。
实施方式也可以包含以下的结构(例如，技术方案)。
(结构1)
一种涂敷装置，其特征在于，
该涂敷装置具备：
涂敷杆，能够与被涂敷构件相向；以及
多个喷嘴，能够朝向所述涂敷杆供给液体，
所述多个喷嘴的数量为3个以上，
所述涂敷杆的表面的至少一部分的算术平均粗糙度Ra为0.5μm以上且10μm以下。
(结构2)
根据结构1所述的涂敷装置，其特征在于，
所述表面的所述至少一部分包含凹凸，
所述凹凸的最大高度Rz为5μm以上且50μm以下。
(结构3)
根据结构1或2所述的涂敷装置，其特征在于，
所述涂敷杆包含从由不锈钢、钛和铝组成的组中选择的至少一种。
(结构4)
根据结构1～3中任一项所述的涂敷装置，其特征在于，
所述表面包含氧化物。
(结构5)
根据结构1～4中任一项所述的涂敷装置，其特征在于，
所述表面相对于水的接触角小于90度。
(结构6)
根据结构1～5中任一项所述的涂敷装置，其特征在于，
在所述被涂敷构件与所述涂敷杆之间能够形成所述液体的弯液面。
(结构7)
根据结构1～6中任一项所述的涂敷装置，其特征在于，
所述多个喷嘴与所述涂敷杆相接。
(结构8)
根据结构1～7中任一项所述的涂敷装置，其特征在于，
所述多个喷嘴的至少一部分的位置比所述涂敷杆高。
(结构9)
根据结构1～8中任一项所述的涂敷装置，其特征在于，
该涂敷装置还具备被涂敷构件保持部，该被涂敷构件保持部保持所述被涂敷构件，并能够使所述被涂敷构件相对于所述涂敷杆相对地移动，
被涂敷构件保持部能够将所述被涂敷构件向包含与重力的朝向相反的成分的朝向搬送。
(结构10)
根据结构1～8中任一项所述的涂敷装置，其特征在于，
该涂敷装置还具备被涂敷构件保持部，该被涂敷构件保持部保持所述被涂敷构件，并能够使所述被涂敷构件相对于所述涂敷杆相对地移动，
被涂敷构件保持部能够将所述被涂敷构件沿着与重力的朝向交叉的第一方向搬送。
(结构11)
根据结构9或10所述的涂敷装置，其特征在于，
所述被涂敷构件包含卷状膜，
所述被涂敷构件保持部包含：
第一保持机构，保持所述卷状膜的第一部分；以及
第二保持机构，保持所述卷状膜的第二部分。
(结构12)
根据结构9～11中任一项所述的涂敷装置，其特征在于，
该涂敷装置还具备向所述多个喷嘴供给所述液体的供给部。
(结构13)
根据结构12所述的涂敷装置，其特征在于，
所述供给部包含多个泵，
所述多个喷嘴的数量是所述多个泵的数量的整数倍。
(结构14)
根据结构1～13中任一项所述的涂敷装置，其特征在于，
所述数量为12以上。
(结构15)
根据结构1～14中任一项所述的涂敷装置，其特征在于，
与所述多个喷嘴排列的第一方向交叉的平面上的所述涂敷杆的至少一部分的截面为圆形。
(结构16)
根据结构1～15中任一项所述的涂敷装置，其特征在于，
所述表面包含第一区域、第二区域以及第三区域，
在所述多个喷嘴排列的第一方向上，所述第一区域位于所述第二区域与所述第三区域之间，
所述第一区域的算术平均粗糙度Ra为0.5μm以上且10μm以下，
所述第二区域和所述第三区域的算术平均粗糙度Ra小于0.5μm或超过10μm。
(结构17)
根据结构1～16中任一项所述的涂敷装置，其特征在于，
该涂敷装置还具备位置控制部，该位置控制部能够控制所述多个喷嘴与所述涂敷杆之间的相对的位置。
(结构18)
根据结构17所述的涂敷装置，其特征在于，
所述位置控制部包含：
第一保持部，保持所述涂敷杆；以及
第二保持部，保持所述多个喷嘴，
所述第一保持部以及所述第二保持部中的至少任一个能够对所述涂敷杆以及所述多个喷嘴中的至少任一个施加应力，该应力具有从所述涂敷杆向所述多个喷嘴的朝向以及从所述多个喷嘴向所述涂敷杆的朝向中的至少任一个。
(结构19)
根据结构1～18中任一项所述的涂敷装置，其特征在于，
所述多个喷嘴的间隔是可变的。
(结构20)
20.一种涂敷方法，其特征在于，
利用结构1～19中任一项所述的涂敷装置对所述被涂敷构件涂敷所述液体。
根据实施方式，提供能够形成均匀的涂敷膜的涂敷装置及涂敷方法。
以上，参照具体例对本发明的实施方式进行了说明。但是，本发明并不限于这些具体例。例如，关于涂敷装置所包含的涂敷杆和喷嘴等各要素的具体结构，只要本领域技术人员能够通过从公知的范围中适当选择来同样地实施本发明并得到同样的效果，就包含在本发明的范围内。
此外，只要包含本发明的主旨，在技术可能的范围内各具体例的任意两个以上的要素的组合也被包含在本发明的范围内。
此外，作为本发明的实施方式，基于上述的涂敷装置和涂敷方法，本领域技术人员适当进行设计变更而能够实施的所有的涂敷装置和涂敷方法只要包含本发明的主旨，也都属于本发明的范围。
此外，在本发明的思想范畴内，本领域技术人员能够想到各种变更例以及修正例，这些变更例以及修正例也属于本发明的范围。
虽然说明了本发明的几个实施方式，但这些实施方式是作为例子而说明的，并不意图限定发明的范围。这些新的实施方式能够以其它的各种方式实施，在不脱离发明的主旨的范围内，能够进行各种省略、置换、变更。这些实施方式及其变形包含在发明的范围及主旨中，并且包含在权利要求书所记载的发明及其等同的范围内。
附图标记的说明
10…涂敷杆、10F…表面、10a～10c…第一～第三区域、20…喷嘴部、21…喷嘴、22…基部、25…供给管、30…头部、31～33…第一～第三构件、35…弹性构件、40…位置控制部、41、42…第一、第二保持部、51a、51b…第一传感器、52a、52b…第二传感器、61…供给部、61p…泵、65…罐、66…被涂敷构件保持部、66a、66b…第一、第二保持机构、70…控制部、80…被涂敷构件、80a、80b…第一、第二部分、84…液体、84M…弯液面、85…涂敷膜、88…移动方向、88a…朝向、110、111…涂敷装置、Dz…厚度不均、GD…重力、Ra…算术平均粗糙度、Rz…最大高度。

Claims (20)

1.一种涂敷装置，其特征在于，
该涂敷装置具备：
涂敷杆，能够与被涂敷构件相向；以及
多个喷嘴，能够朝向所述涂敷杆供给液体，
所述多个喷嘴的数量为3个以上，
所述涂敷杆的表面的至少一部分的算术平均粗糙度Ra为0.5μm以上且10μm以下。
2.根据权利要求1所述的涂敷装置，其特征在于，
所述表面的所述至少一部分包含凹凸，
所述凹凸的最大高度Rz为5μm以上且50μm以下。
3.根据权利要求1所述的涂敷装置，其特征在于，
所述涂敷杆包含从由不锈钢、钛和铝组成的组中选择的至少一种。
4.根据权利要求1所述的涂敷装置，其特征在于，
所述表面包含氧化物。
5.根据权利要求1所述的涂敷装置，其特征在于，
所述表面相对于水的接触角小于90度。
6.根据权利要求1所述的涂敷装置，其特征在于，
在所述被涂敷构件与所述涂敷杆之间能够形成所述液体的弯液面。
7.根据权利要求1所述的涂敷装置，其特征在于，
所述多个喷嘴与所述涂敷杆相接。
8.根据权利要求1所述的涂敷装置，其特征在于，
所述多个喷嘴的至少一部分的位置比所述涂敷杆高。
9.根据权利要求1所述的涂敷装置，其特征在于，
该涂敷装置还具备被涂敷构件保持部，该被涂敷构件保持部能够保持所述被涂敷构件，并能够使所述被涂敷构件相对于所述涂敷杆相对地移动，
被涂敷构件保持部能够将所述被涂敷构件向包含与重力的朝向相反的成分的朝向搬送。
10.根据权利要求1所述的涂敷装置，其特征在于，
该涂敷装置还具备被涂敷构件保持部，该被涂敷构件保持部能够保持所述被涂敷构件，并能够使所述被涂敷构件相对于所述涂敷杆相对地移动，
被涂敷构件保持部能够将所述被涂敷构件沿着与重力的朝向交叉的第一方向搬送。
11.根据权利要求9所述的涂敷装置，其特征在于，
所述被涂敷构件包含卷状膜，
所述被涂敷构件保持部包含：
第一保持机构，保持所述卷状膜的第一部分；以及
第二保持机构，保持所述卷状膜的第二部分。
12.根据权利要求9所述的涂敷装置，其特征在于，
该涂敷装置还具备向所述多个喷嘴供给所述液体的供给部。
13.根据权利要求12所述的涂敷装置，其特征在于，
所述供给部包含多个泵，
所述多个喷嘴的数量是所述多个泵的数量的整数倍。
14.根据权利要求1所述的涂敷装置，其特征在于，
所述数量为12以上。
15.根据权利要求1所述的涂敷装置，其特征在于，
与所述多个喷嘴排列的第一方向交叉的平面上的所述涂敷杆的至少一部分的截面为圆形。
16.根据权利要求1所述的涂敷装置，其特征在于，
所述表面包含第一区域、第二区域以及第三区域，
在所述多个喷嘴排列的第一方向上，所述第一区域位于所述第二区域与所述第三区域之间，
所述第一区域的算术平均粗糙度Ra为0.5μm以上且10μm以下，
所述第二区域和所述第三区域的算术平均粗糙度Ra小于0.5μm或超过10μm。
17.根据权利要求1所述的涂敷装置，其特征在于，
该涂敷装置还具备位置控制部，该位置控制部能够控制所述多个喷嘴与所述涂敷杆之间的相对的位置。
18.根据权利要求17所述的涂敷装置，其特征在于，
所述位置控制部包含：
第一保持部，保持所述涂敷杆；以及
第二保持部，保持所述多个喷嘴，
所述第一保持部以及所述第二保持部中的至少任一个能够对所述涂敷杆以及所述多个喷嘴中的至少任一个施加应力，该应力具有从所述涂敷杆向所述多个喷嘴的朝向以及从所述多个喷嘴向所述涂敷杆的朝向中的至少任一个。
19.根据权利要求1所述的涂敷装置，其特征在于，
所述多个喷嘴的间隔是可变的。
20.一种涂敷方法，其特征在于，
利用权利要求1所述的涂敷装置对所述被涂敷构件涂敷所述液体。
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