CN114939852A - 高精度可移动真空吸附平台及高精度检测设备 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种高精度可移动真空吸附平台及高精度检测设备。高精度可移动真空吸附平台包括真空吸附台、真空腔体和移动支撑件，真空吸附台位于真空腔体上方，真空吸附台与真空腔体之间形成真空腔，真空腔体设置有限位孔，移动支撑件包括支撑柱，支撑柱穿过限位孔与真空吸附台连接。高精度检测设备包括前述的高精度可移动真空吸附平台及导轨，该高精度可移动真空吸附平台连接在导轨上。本发明提供的高精度可移动真空吸附平台通过支撑柱穿过限位孔直接与移动支撑件连接，仅移动支撑件和真空吸附台这两个部件需要很高的精确度，真空腔体的精度要求降低，从而降低了加工成本，更容易实现高精度。

Description

高精度可移动真空吸附平台及高精度检测设备

技术领域

本发明涉及检测设备领域，特别涉及一种高精度可移动真空吸附平台及高精度检测设备。

背景技术

现有设计中，在高精度检测场合，真空吸附平台装配后的台面的平面度以及相对于底座的平行度要求很高，为保证装配后的精确度，对影响精确度的零件都有很高的加工要求，组装的难度及零件加工成本都直线上升。

传统真空吸附平台由真空吸附台、真空腔体及移动支撑件三者叠加而成，组装精度由这三个部件决定，其中由于真空腔体为腔体结构，容易变形，在精确度方面更难以保证。

发明内容

本发明提供一种高精度可移动真空吸附平台，能够降低零件加工成本、且更容易实现高精度。

本发明的技术方案为：

一方面，本发明提供了高精度可移动真空吸附平台，包括真空吸附台、真空腔体和移动支撑件；

所述真空吸附台位于所述真空腔体上方，所述真空吸附台与所述真空腔体之间形成真空腔；

所述真空腔体设置有限位孔；

所述移动支撑件包括支撑柱，所述支撑柱穿过所述限位孔与所述真空吸附台连接。

其中，所述支撑柱与所述限位孔之间密封连接。

其中，所述支撑柱的周面设置有台阶，所述限位孔的边缘位于所述台阶上；

其中，所述台阶为环绕所述支撑柱的环状，所述台阶上设置有密封圈，所述密封圈压紧在所述台阶与所述限位孔的边缘之间。

其中，所述真空腔体包括底板和挡条，所述挡条沿所述底板的边缘围成环形，所述底板、所述挡条及所述真空吸附台围合形成所述真空腔，所述限位孔设置在所述底板上。

其中，所述真空腔体的表面设置凹槽，所述真空吸附台位于所述凹槽开口处，并在所述凹槽内形成所述真空腔。

其中，所述真空吸附台设置有吸附孔；所述吸附孔连通所述真空吸附台的上下表面，所述支撑柱上位于所述真空腔内的部分设置有连通孔，所述连通孔连通所述吸附孔与所述真空腔。

其中，所述连通孔包括竖向连通孔及横向连通孔，所述支撑柱上与所述真空吸附台接触的顶面设置有所述竖向连通孔，所述支撑柱位于真空腔内的部分的侧壁设置有所述横向连通孔，所述竖向连通孔与所述横向连通孔连通。

其中，所述高精度可移动真空吸附平台还包括真空接口，所述真空接口位于所述真空腔外，并通过真空通道连通至所述真空腔，所述真空接口用于排出所述真空腔内气体；

所述真空接口设置于所述真空腔体的外壁，所述真空通道设置于所述真空腔体；或者，所述真空接口设置于所述支撑柱，所述真空通道设置于所述支撑柱。

另一方面，本发明提供了一种高精度检测设备，包括导轨和前述的高精度可移动真空吸附平台，所述高精度可移动真空吸附平台连接在导轨上。

本发明相较于现有技术，其有益效果为：本发明提供的高精度可移动真空吸附平台及高精度检测设备，移动支撑件通过支撑柱穿过设置在真空腔体上的限位孔，直接与真空吸附台连接，原本移动支撑件、真空吸附台和真空腔体这三个部件需要很高的精确度，现变成了移动支撑件和真空吸附台这两个部件需要很高的精确度，真空腔体的精度要求降低，从而降低了加工成本，更容易实现高精度。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面对实施例中所需要使用的附图作简单的介绍，下面描述中的附图仅为本发明的部分实施例相应的附图。

图1为本发明第一实施例提供的高精度可移动真空吸附平台的结构示意图。

图2为图1中高精度可移动真空吸附平台的分解示意图。

图3为图1中高精度可移动真空吸附平台的结构剖视图。

图4为图3中的A处放大图；

图5为本发明第二实施例提供的高精度可移动真空吸附平台的结构剖视图。

图6为本发明优选实施例提供的高精度检测设备的结构示意图。

其中，1、真空吸附台，11、吸附孔，111、第一吸附孔，112、第二吸附孔；

2、真空腔体，20、真空腔，21、限位孔，22、挡条，23、底板；

3、移动支撑件，31、支撑柱，32、底座，310、连通孔， 311、横向连通孔，312、竖向连通孔，313、台阶，314、密封圈；

4、真空接口，40、真空通道；

5、导轨；

6、滑块。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

本发明中所提到的方向用语，例如「上」、「下」、「前」、「后」、「左」、「右」、「内」、「外」、「侧面」、「顶部」以及「底部」等词，仅是参考附图的方位，使用的方向用语是用以说明及理解本发明，而非用以限制本发明。

本发明术语中的“第一”“第二”等词仅作为描述目的，而不能理解为指示或暗示相对的重要性，以及不作为对先后顺序的限制。

在本发明中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。

请参照图1、图2及图3，本发明第一实施例提供的一种高精度可移动真空吸附平台，包括真空吸附台1、真空腔体2和移动支撑件3；真空吸附台1位于真空腔体2上方，真空吸附台1与真空腔体2之间形成真空腔20，移动支撑件3位于真空腔体2下方。

请参照图2及图3， 真空腔体2设置有限位孔21；移动支撑件3包括支撑柱31，支撑柱31穿过限位孔21与真空吸附台1连接。限位孔21的设置用于确定支撑柱31穿过真空腔体2的位置。支撑柱31的设置将真空吸附台1直接与移动支撑件3连接，原本移动支撑件3、真空吸附台1和真空腔体2这三个部件需要很高的精确度，现变成了仅移动支撑件3和真空吸附台1这两个部件需要很高的精确度，真空腔体2的精度要求降低，从而降低了对零件的加工精度要求，节省了成本，同时也降低了组装难度。

进一步的，移动支撑件3还包括底座32，支撑柱31的底端与底座32固定连接。作为优选，底座32可以与支撑柱31一体成型，以便于加工制备。

本实施例中，底座32可以为长方体，支撑柱31可以为长方体，以进一步方便加工制备。当然，在其它实施例中，支撑柱31也可以为圆柱等其它形状。

支撑柱31可以为两个，本实施例中，对应的，限位孔21也为两个，支撑柱31对称的竖立在底座32的两端，这样的设置可以使移动支撑件3的支撑效果更好。

优选的，支撑柱31与限位孔21之间密封连接，以保证支撑柱31与限位孔21之间的密封性，用于防止气体从限位孔21流入，进一步保证真空腔20内的真空环境。

支撑柱31的周面设置有台阶313，限位孔21的边缘位于台阶313上。台阶313的设置用于限定限位孔21与支撑柱31连接的位置，进而限定支撑柱31穿过真空腔体2的位置，便于真空腔体2与支撑柱之31之间的装配。

台阶313上设置有密封圈314，密封圈314压紧在台阶313与限位孔21的边缘之间。密封圈314的设置实现了支撑柱31与限位孔21之间的气密性，还可以利用真空吸附台1的重力，将密封圈314压紧，提高密封效果。

台阶313为环绕支撑柱31的环状，以便于在支撑柱31和限位孔21之间设置密封圈314。作为其它的实施例，密封圈314也可直接套紧在支撑柱31与限位孔21连接的部分上，以实现支撑柱31与限位孔21之间的气密性，此时，台阶313也可只位于支撑住31的一侧壁上，而不必为环形。

真空腔体2包括底板23和挡条22，挡条22沿底板23的边缘围成环形，底板23、挡条22及真空吸附台1围合形成真空腔20。挡条22用于对真空吸附台1限位，底板23、挡条22和真空吸附台1围合形成了封闭盒体，该封闭盒体内部为真空腔20，盒形的真空腔20有利于保证真空环境。限位孔21设置在底板23上。

挡条22沿底板23的边缘围成环形，挡条22固定于底板23的顶面，以便于挡条22与底板23之间的装配。在其它的实施例中，挡板22也可围于底板23的四周侧面处。

底板23与挡条22围合成上方开口的盒体，真空吸附台1的边缘盖在挡板22的顶部外处，以便于二者之间的装配连接。

真空吸附台1与支撑柱31的顶面之间通过螺钉固定连接，以提高二者之间的连接强度。真空吸附台1的上表面设置有沉孔，螺钉设置于沉孔中，利用沉孔可以避免螺钉对待检测产品造成干涉。

请参照图2、图3及图4，真空吸附台1设置有吸附孔11；吸附孔11连通所述真空吸附台1的上下表面，吸附孔11用于将待检测产品吸附在真空吸附台1的上表面上。支撑柱31上位于真空腔内的部分设置有连通孔310，连通孔310将吸附孔11与真空腔20连通。

在本实施例中，真空吸附台1上设置了较为密集的吸附孔11，多个吸附孔11呈矩阵排布，以提高吸附力及吸附均匀性。为了增大真空吸附台1与支撑柱31之间的接触面，支撑柱31会对吸附孔11造成遮挡。为了避免真空吸附台1上与支撑柱31连接处的吸附孔11被支撑柱31遮挡住，使得这处的吸附孔11无法与真空腔20连通，失去吸附力，设置连通孔310将真空吸附台1与支撑柱31连接的部分与真空腔20连通，使得真空吸附台1上与支撑柱31连接处的吸附孔11具有吸附力。

本实施例中，如图4所示，连通孔310包括竖向连通孔312及横向连通孔311，支撑柱31上与真空吸附台1接触的顶面设置有竖向连通孔312，支撑柱31位于真空腔20内的部分的侧壁设置有横向连通孔311，竖向连通孔312与横向连通孔311连通。横向连通孔311与竖向连通孔312的组合用于将真空吸附台1与支撑柱31连接的部分与真空腔20连通，使得真空吸附台1上与支撑柱31连接处的吸附孔11具有吸附力。

横向连通孔311贯穿支撑柱31侧壁，一个横向连通孔311可以与多个竖向连通孔312连通。横向连通孔311与竖向连通孔312的配合设置利于连通孔310加工成型。本实施例中，竖向连通孔312与吸附孔11一一对应配合连通，当然，作为其他的实施例，一个竖向连通孔312也可连通多个吸附孔11。

此处，作为另外的实施方式，连通孔的一端开口位于支撑柱31与真空吸附台1接触的面，另一端开口位于支撑柱31位于真空腔20内的部分的侧壁，连通孔斜置于支撑柱31内部。该斜置的连通孔将吸附孔11与真空腔20连通，使得真空吸附台1上与支撑柱31连接处的吸附孔11具有吸附力。

在其它的实施例中，若吸附孔11数量较少，且支撑柱31与吸附孔11错位设置，则无需设置连通孔。没有支撑柱31的遮挡，吸附孔11直接与真空腔20连通，保证了吸附孔11的吸附力。这样无需再设置连通孔，利于加工。

本实施例中，吸附孔11包括同轴设置并连通的第一吸附孔111与第二吸附孔112，第一吸附孔111连通至真空吸附台1的上表面，第二吸附孔112连通至真空吸附台的下表面，第一吸附孔111的孔径小于第二吸附孔112的孔径，可以提高第一吸附孔111内的气流速度，提高吸附力。第一吸附孔111与第二吸附孔112二者的孔壁之间通过斜面过渡，以保证气流稳定性。

真空吸附台1与支撑柱31之间连接的螺钉上设置有贯穿孔（图中未示出），贯穿孔沿螺钉的中心轴线设置，贯穿孔连通至连通孔，使得螺钉所在位置也具有吸附力，进一步保证吸附力的均匀性。

高精度可移动真空吸附平台还包括真空接口4，真空接口4位于真空腔20外，并通过真空通道40连通至真空腔20，真空接口4用于排出真空腔20内气体；通过真空接口4排出真空腔20内的气体后，由于大气压的作用，将待检测物品吸附在真空吸附台1上。本实施例中，真空接口4设置于真空腔体2的外壁，真空通道40设置于真空腔体2，更具体地，真空接口4设置于底板23的底面，真空通道设置于底板23，贯穿底板23的上下表面，以便于真空接口4的安装，缩短真空通道，提高吸附力。

真空接口4可以设置有两个，真空腔体2可以为长方体，其底面为方形，这两个真空接口4分别位于方形的两个对角处，以保证真空腔体2的平衡，使真空腔体2不易变形。为了更进一步的达到更好的排出真空腔20内气体的效果，也可以设置三个、四个真空接口4。

如图5所示，在本发明第二实施例提供的高精度可移动真空吸附平台中，真空吸附台1与真空腔体2的上方开口大小形状一致，真空吸附台1的边缘与挡条22的内壁连接，真空吸附台1的边缘与挡条22的内壁之间可以设置密封，也可以具有间隙，利用间隙可以形成由上至下的气流，利于将待检测产品吸附在真空吸附台1上。

在本实施例中，真空接口4设置于所述支撑柱31，真空通道40设置于所支撑柱31，可以降低真空腔体2的负重，避免真空腔体2形变影响吸附力。

在上述实施例中，真空腔20由底板23、挡板22及真空吸附台1围合形成，作为另一种实施方式，还可以是，所述真空腔体2的表面设置凹槽，所述真空吸附台1位于所述凹槽开口处，真空吸附台1盖在凹槽的顶部外处，凹槽与真空吸附台1形成真空腔20。另外的实施例，真空吸附台1位于凹槽开口内，与凹槽的内壁连接。凹槽用于限定真空吸附平台1的位置，凹槽与真空吸附平台1组成了封闭盒体，该封闭盒体为真空腔20，盒形的真空腔20有利于保证真空环境。

请参照图4，本发明还提供一种高精度检测设备，包括导轨和上述任一实施例的高精度可移动真空吸附平台，高精度可移动真空吸附平台的移动支撑件3连接在导轨5上。该高精度可移动真空吸附平台在导轨5上移动，以实现该高精度检测设备不同位置的检测需求。

优选的，所述移动支撑件3的底部设置滑块6，所述高精度可移动真空吸附平台通过滑块6与导轨5滑动连接。滑块的设置便于将该高精度可移动真空吸附平台滑动至导轨5的不同位置。本实施例中，导轨5为两条，滑块6为四个，分为两组分别与两条导轨5配合，以保证移动高精度可移动真空吸附平台移动的稳定性。

综上，虽然本发明已以优选实施例揭露如上，但上述优选实施例并非用以限制本发明，本领域的普通技术人员，在不脱离本发明的精神和范围内，均可作各种更动与润饰，因此本发明的保护范围以权利要求界定的范围为准。

Claims (10)

1.一种高精度可移动真空吸附平台，其特征在于：包括真空吸附台、真空腔体和移动支撑件；

所述真空吸附台位于所述真空腔体上方，所述真空吸附台与所述真空腔体之间形成真空腔；

所述真空腔体设置有限位孔；

所述移动支撑件包括支撑柱，所述支撑柱穿过所述限位孔与所述真空吸附台连接。

2.根据权利要求1所述的高精度可移动真空吸附平台，其特征在于：所述支撑柱与所述限位孔之间密封连接。

3.根据权利要求1所述的高精度可移动真空吸附平台，其特征在于：所述支撑柱的周面设置有台阶，所述限位孔的边缘位于所述台阶上。

4.根据权利要求3所述的高精度可移动真空吸附平台，其特征在于：所述台阶为环绕所述支撑柱的环状，所述台阶上设置有密封圈，所述密封圈压紧在所述台阶与所述限位孔的边缘之间。

5.根据权利要求1所述的高精度可移动真空吸附平台，其特征在于：所述真空腔体包括底板和挡条，所述挡条沿所述底板的边缘围成环形，所述底板、所述挡条及所述真空吸附台围合形成所述真空腔，所述限位孔设置在所述底板上。

6.根据权利要求1所述的高精度可移动真空吸附平台，其特征在于：所述真空腔体的表面设置凹槽，所述真空吸附台位于所述凹槽开口处，并在所述凹槽内形成所述真空腔。

7.根据权利要求1所述的高精度可移动真空吸附平台，其特征在于：所述真空吸附台设置有吸附孔；所述吸附孔连通所述真空吸附台的上下表面，所述支撑柱上位于所述真空腔内的部分设置有连通孔，所述连通孔连通所述吸附孔与所述真空腔。

8.根据权利要求7所述的高精度可移动真空吸附平台，其特征在于：所述连通孔包括竖向连通孔及横向连通孔，所述支撑柱上与所述真空吸附台接触的顶面设置有所述竖向连通孔，所述支撑柱位于真空腔内的部分的侧壁设置有所述横向连通孔，所述竖向连通孔与所述横向连通孔连通。

9.根据权利要求1所述的高精度可移动真空吸附平台，其特征在于：所述高精度可移动真空吸附平台还包括真空接口，所述真空接口位于所述真空腔外，并通过真空通道连通至所述真空腔，所述真空接口用于排出所述真空腔内气体；

所述真空接口设置于所述真空腔体的外壁，所述真空通道设置于所述真空腔体；或者，所述真空接口设置于所述支撑柱，所述真空通道设置于所述支撑柱。

10.一种高精度检测设备，其特征在于：包括导轨和权利要求1至权利要求9任一项所述的高精度可移动真空吸附平台，所述高精度可移动真空吸附平台连接在导轨上。

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