CN215036512U - 真空吸附平台 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开一种真空吸附平台。所述真空吸附平台包括平台本体，所述平台本体设有吸附面，所述吸附面设置有吸附孔和通气孔；其中，所述吸附孔用于与真空发生装置连接；所述平台本体在其异于所述吸附面的表面还设置有泄气孔，所述泄气孔用于将所述通气孔与大气环境连通。本实用新型的真空吸附平台，能够便于转移导光板。

Description

真空吸附平台

技术领域

本实用新型涉及真空吸附技术领域，特别涉及一种真空吸附平台。

背景技术

导光板经裁切成型后，导光板的侧边通常不够光滑，需要对导光板的侧边进行抛光。抛光时，需要通过真空吸附平台来吸附导光板，以将导光板固定，从而便于对导光板的侧边进行抛光。抛光完成后，关闭真空吸附平台，通过机械手将导光板从真空吸附平台上转移出去，但此时导光板的侧面与真空吸附平台的吸附面之间为负压，大气压将导光板压在真空吸附平台上，导致导光板难以被转移。

实用新型内容

本实用新型的主要目的是提出一种真空吸附平台，旨在便于转移吸附面上的导光板。

为实现上述目的，本实用新型提出的真空吸附平台。所述真空吸附平台包括平台本体，所述平台本体设有吸附面，所述吸附面设置有吸附孔和通气孔；其中，所述吸附孔用于与真空发生装置连接；所述平台本体在其异于所述吸附面的表面还设置有泄气孔，所述泄气孔用于将所述通气孔与大气环境连通。

可选的，所述泄气孔设置在所述平台本体的底面；所述平台本体内部还设有连通通道，所述连通通道沿上下方向延伸，以将所述通气孔与所述泄气孔连通。

可选的，所述平台本体的底面设有沉槽，所述泄气孔设置在所述沉槽内。

可选的，所述通气孔的数量为多个；多个所述通气孔沿所述吸附面的宽度方向间隔排布；或者，多个所述通气孔沿所述吸附面的长度方向间隔排布。

可选的，所述通气孔的孔径为2.5mm-3.5mm。

可选的，在同一方向上间隔排布的所述通气孔，相邻的所述通气孔之间的间距为8mm-10mm。

可选的，所述吸附孔的数量为多个，多个所述吸附孔包括设置在所述吸附面的周边的第一吸附孔，以及设置于所述吸附面的中部的第二吸附孔。

可选的，多个所述通气孔分设在所述第二吸附孔的两侧。

可选的，多个所述第二吸附孔沿所述吸附面的宽度方向间隔排布；或者，多个所述第二吸附孔沿所述吸附面的长度方向间隔排布。

可选的，所述平台本体还设有进气通道；所述吸附孔与所述进气通道连通，以通过所述进气通道与所述真空发生装置连接。

可选的，所述平台本体包括基板、以及凸设于所述基板上的吸附凸台，所述吸附面设置于所述吸附凸台的顶面。

本实用新型技术方案，通过在吸附面上设置通气孔，还在平台本体异于吸附面的表面设置泄气孔，并通过泄气孔将通气孔与大气环境连通，以在真空发生装置停止时，空气能够从泄气孔、通气孔进入至导光板的侧面与吸附面之间，从而消除导光板的侧面与吸附面之间的负压，以便于将导光板从吸附面上转移。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图示出的结构获得其他的附图。

图1为本实用新型真空吸附平台一实施例的结构示意图；

图2为图1中的真空吸附平台的正视图；

图3为图2中沿剖面线A-A的剖视图；

图4为图2中沿剖面线B-B的剖视图；

图5为图2中沿剖面线C-C的剖视图；

图6为图2的仰视图；

图7为图6中沿剖面线D-D的剖视图；

图8为图2的后视图。

附图标号说明：

标号	名称	标号	名称
				100	真空吸附平台	20	吸附孔
10	平台本体	21	第一吸附孔
				11	吸附面	22	第二吸附孔
12	沉槽	30	通气孔
				13	基板	31	泄气孔
14	吸附凸台	32	连通通道
				15	连接孔	40	进气通道
16	第一安装孔	41	第一进气通道
				17	第二安装孔	42	第二进气通道
18	定位孔

本实用新型目的的实现、功能特点及优点将结合实施例，参照附图做进一步说明。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

需要说明，若本实用新型实施例中有涉及方向性指示(诸如上、下、左、右、前、后……)，则该方向性指示仅用于解释在某一特定姿态(如附图所示)下各部件之间的相对位置关系、运动情况等，如果该特定姿态发生改变时，则该方向性指示也相应地随之改变。

另外，若本实用新型实施例中有涉及“第一”、“第二”等的描述，则该“第一”、“第二”等的描述仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示其相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。另外，各个实施例之间的技术方案可以相互结合，但是必须是以本领域普通技术人员能够实现为基础，当技术方案的结合出现相互矛盾或无法实现时应当认为这种技术方案的结合不存在，也不在本实用新型要求的保护范围之内。

本实用新型提出一种真空吸附平台100，用于吸附导光板，以将导光板固定，从而便于抛光装置对导光板的侧边进行抛光。

在本实用新型实施例中，如图1-图3所示，所述真空吸附平台100包括平台本体10，所述平台本体10设有吸附面11，所述吸附面11设置有吸附孔20和通气孔30；其中，所述吸附孔20用于与真空发生装置连接；所述平台本体10在其异于所述吸附面11的表面还设置有泄气孔31，所述泄气孔31用于将所述通气孔30与大气环境连通。

具体地，平台本体10可以呈板状，也可以呈平板上凸设有凸台的形状，平台本体10用于将真空吸附平台100安装在抛光装置的安装座上。吸附面11的面积可以与平台本体10的上表面的面积相等，也可以小于平台本体10的上表面面积。吸附面11的形状与导光板的形状相同，吸附面11用于吸附以及承载导光板。吸附孔20沿上下方向延伸设置；吸附孔20与真空发生装置相连，为吸附导光板提供吸附力。

所述泄气孔31设置在所述平台本体10的异于所述吸附面11的表面上；其中，所述平台本体10的异于所述吸附面11的表面，应当指的是平台本体10上的不同且不属于吸附面11的表面，例如平台本体10的侧面或底面或低于吸附面11的其他表面。

本实用新型的技术方案，通过在吸附面11上设置通气孔，还在平台本体10异于吸附面11的表面设置泄气孔31，并通过泄气孔31将通气孔30与大气环境连通，以在真空发生装置停止时，大气环境中的空气能够从泄气孔、通气孔30进入至导光板的侧面与吸附面11之间，从而消除导光板的侧面与吸附面11之间的负压，以便于将导光板从吸附面11上转移。

如图3所示，在一实施例中，所述泄气孔31设置在所述平台本体10的底面；所述平台本体10内部还设有连通通道32，所述连通通道32沿上下方向延伸，以将所述通气孔30与所述泄气孔31连通。

具体地，泄气孔31、通气孔30及连通通道32一体设置，形成一个通气通道。在本实施例中，通气通道沿上下方向延伸呈一字形，便于加工制造。在其他实施例中，还可以是，泄气孔31设置在平台本体10的侧面，通气通道呈L形或弧形；或者，泄气孔31设置在平台本体10异于吸附面11的上表面，通气通道呈U形或V形或C形。

如图3和图8所示，在一实施例中，所述平台本体10的底面设有沉槽12，所述泄气孔31设置在所述沉槽12内。具体地，平台本体10的底面向上凹设有沉槽12，沉槽12的槽底面高于平台本体10的底面，泄气孔31设置在沉槽12的槽底面上。真空吸附平台100安装在抛光装置的安装座上时，由于安装面积的关系，部分泄气孔31可能会被安装座遮蔽，导致该部分泄气孔31失去作用，沉槽12与多个泄气孔31连通，只要安装座没有完全将沉槽12封盖，任意一个与沉槽12连通的泄气孔31都可以通过沉槽12与安装座之间的缺口与大气环境连通。

如图1-图2所示，在一实施例中，所述通气孔30的数量为多个；多个所述通气孔30沿所述吸附面11的长度方向(如图1中的y轴所示方向)间隔排布。具体地，设置多个通气孔30可以增快空气进入到导光板的侧面与吸附面11之间的速度。在本实施例中，通气孔30的数量为6个，沿吸附面11的长度方向呈一字形间隔排布。在另一实施例中，多个所述通气孔30沿所述吸附面11的宽度方向(如图1中的x轴所示方向)间隔排布。在又一实施例中，多个通气孔30呈环形排布。在再一实施例中，多个通气孔30呈十字状排布。

进一步的，所述通气孔30的孔径为2.5mm-3.5mm。具体地，通气孔30为圆孔，便于制孔。吸附孔20的孔径若小于2.5mm，空气进入导光板的侧面与吸附面11之间的速度可能会降低。吸附孔20的孔径若大于2.5mm，在吸附导光板时，有可能会造成导光板表面刮花。因此，吸附孔20的孔径宜设置为2.5mm-3.5mm。例如但不局限于2.8mm、3mm或3.3mm等。

进一步的，在同一方向上间隔排布的所述通气孔30，相邻的所述通气孔30之间的间距为8mm-10mm。具体地，通气孔30之间的间距为相邻的通气孔30的圆心之间的距离。相邻的通气孔30之间的间距例如但不局限于8.5mm、9mm或9.5mm。

如图1和图4及图5所示，在一实施例中，所述吸附孔20的数量为多个，多个所述吸附孔20包括设置在所述吸附面11的周边的第一吸附孔21，以及设置于所述吸附面11的中部的第二吸附孔22。具体地，第一吸附孔21和第二吸附孔22均为圆孔，便于制孔。真空吸附平台100在吸附导光板时，真空发生装置工作时通过吸附孔20进行抽真空，第一吸附孔21吸附导光板的周边，第二吸附孔22吸附孔20导光板的中部，以平整地吸附导光板，防止导光板局部拱起。并且相较于吸附孔20遍布满整个吸附面11的真空吸附平台100，减少了吸附孔20的数量，进而降低导光板被吸附孔20刮花的概率。

为了更好地对导光板的中部进行吸附，进一步的，多个所述第二吸附孔22沿所述吸附面11的宽度方向间隔排布。或者，多个所述第二吸附孔22沿所述吸附面11的长度方向间隔排布。或者，多个所述第二吸附孔22呈环形间隔排布。或者，多个所述第二吸附孔22呈十字形排布。

如图1-图2所示，在一实施例中，多个所述通气孔30分设在所述第二吸附孔22的两侧。具体地，吸附面11被多个第二吸附孔22划分为两个吸附区，多个通气孔30分设在两个吸附区，两个吸附区内的通气孔30的数量可以相等也可以不等。例如：通气孔30的数量为6个，将6个通气孔30分为2份，每份3个，分设在两个吸附区；或者一份2个，另一份4个，分设在两个吸附区。

如图2所示，在一实施例中，所述吸附孔20的孔径为1.5mm-2.5mm。具体地，吸附孔20为圆孔，便于制孔。吸附孔20的孔径若小于1.5mm，吸附力可能会不足，不能很好的吸附导光板。吸附孔20的孔径若大于2.5mm，在吸附导光板时，有可能会造成导光板在吸附处形成凸起。因此，吸附孔20的孔径宜设置为1.5mm-2.5mm。例如但不局限于1.8mm、2mm或2.3mm等。

如图2所示，在一实施例中，在同一方向上间隔排布的所述吸附孔20，相邻的所述吸附孔20之间的间距为8mm-10mm。具体地，吸附孔20之间的间距为相邻的吸附孔20的圆心之间的距离。相邻的所述吸附孔20之间的间距若小于8mm，则吸附孔20的数量为增多，会增大导光板被吸附孔20刮花的概率。相邻的所述吸附孔20之间的间距若大于10mm，则可能会使真空吸附平台100的吸附力下降。因此，相邻的所述吸附孔20之间的间距宜设置为8mm-10mm。例如但不局限于8.5mm、9mm或9.5mm。

如图1和图6及图7所示，在一实施例中，所述平台本体10还设有进气通道40；所述吸附孔20与所述进气通道40连通，以通过所述进气通道40与所述真空发生装置连接。具体地，进气通道40用于与真空发生装置连接，以连通吸附孔20和真空发生装置。进气通道40呈网络状。

进一步的，所述进气通道40包括沿所述平台本体10长度方向延伸的第一进气通道41，以及沿所述平台本体10宽度方向延伸的第二进气通道42；其中，所述第一进气通道41用于与沿所述吸附面11长度方向排布的吸附孔20连通；所述第二进气通道42用于与沿所述吸附面11宽度方向排布的吸附孔20连通。

具体地，第一进气通道41呈圆柱状，第二进气通道42呈圆柱状。若第二吸附孔22沿所述吸附面11的宽度方向间隔排布，则第一进气通道41的数量为2条，第二进气通道42的数量为3条，2条第一进气通道41分别连通两个第一侧边上的多个第一吸附孔21，3条第二进气通道42连通分别多个第二吸附孔22以及两个第二侧边上的多个第一吸附孔21。若第二吸附孔22沿所述吸附面11的长度方向间隔排布，则第一进气通道41的数量为3条，第二进气通道42的数量为2条，3条第一进气通道41分别连通多个第二吸附孔22以及两个第一侧边上的多个第一吸附孔21，2条第二进气通道42分别连通两个第二侧边上的多个第一吸附孔21。

进一步的，如图5和图8所示，所述平台本体10的底部设有与所述进气通道40连通的连接孔15。具体地，连接孔15沿上下方向延伸。连接孔15的上端连通至进气通道40，下端贯通至平台本体10的下表面，与真空发生装置连接。真空吸附平台100在使用时，将第一进气通道41的两端与第二进气通道42的两端都密封，防止抽真空时，空气从第一进气通道41的两端与第二进气通道42的两端进入到平台本体10内，而不从吸附孔20进入平台本体10内，导致吸附孔20处无法产生吸附力。

如图1所示，在一实施例中，所述平台本体10包括基板13、以及凸设于所述基板13上的吸附凸台14，所述吸附面11设置于所述吸附凸台14的顶面。具体地，基板13呈长方体状，基板13用于将真空吸附平台100安装在抛光装置的安装座上。吸附凸台14设置于基板13的上表面，吸附凸台14的上表面为吸附面11，吸附凸台14用于吸附和承载导光板。吸附面11的面积小于基板13的上表面，吸附凸台14的侧边均位于基板13的侧边的内侧。

如图1所示，在一实施例中，所述平台本体10的顶面设有第一安装孔16。具体地，第一安装孔16包括设置于吸附面11且沿上下方向延伸的沉孔，以及设置于所述沉孔底面且沿上下方向延伸的通孔，通孔贯通至平台本体10底面，用于从平台本体10的上方固定真空吸附平台100。沉孔用于容纳螺栓头，使螺栓头的顶面与吸附面11齐平或位于吸附面11之下。

在另一实施例中，如图8所示，所述平台本体10的底面设有第二安装孔17。具体地，第二安装孔17为沿上下方向延伸的盲孔，用于从平台本体10的下方固定真空吸附平台100。当然，可以同时在平台本体10的顶面设置第一安装孔16和在平台本体10的底面设置第二安装孔17，以增强真空吸附平台100的适用性。

如图8所示，在一实施例中，所述平台本体10的底面设有定位孔18。具体地，定位孔18为盲孔，定位孔18的数量至少为两个，用于与抛光装置的安装座上的定位柱配合，以便于真空吸附平台100在安装时进行定位。

以上所述仅为本实用新型的优选实施例，并非因此限制本实用新型的专利范围，凡是在本实用新型的发明构思下，利用本实用新型说明书及附图内容所作的等效结构变换，或直接/间接运用在其他相关的技术领域均包括在本实用新型的专利保护范围内。

Claims (10)

1.一种真空吸附平台，其特征在于，包括平台本体，所述平台本体设有吸附面，所述吸附面设置有吸附孔和通气孔；其中，所述吸附孔用于与真空发生装置连接；所述平台本体在其异于所述吸附面的表面还设置有泄气孔，所述泄气孔用于将所述通气孔与大气环境连通。

2.如权利要求1所述的真空吸附平台，其特征在于，所述泄气孔设置在所述平台本体的底面；所述平台本体内部还设有连通通道，所述连通通道沿上下方向延伸，以将所述通气孔与所述泄气孔连通。

3.如权利要求2所述的真空吸附平台，其特征在于，所述平台本体的底面设有沉槽，所述泄气孔设置在所述沉槽内。

4.如权利要求1-3任一项所述的真空吸附平台，其特征在于，所述通气孔的数量为多个；多个所述通气孔沿所述吸附面的宽度方向间隔排布；或者，多个所述通气孔沿所述吸附面的长度方向间隔排布。

5.如权利要求4所述的真空吸附平台，其特征在于，所述通气孔的孔径为2.5mm-3.5mm；和/或，在同一方向上间隔排布的所述通气孔，相邻的所述通气孔之间的间距为8mm-10mm。

6.如权利要求4所述的真空吸附平台，其特征在于，所述吸附孔的数量为多个，多个所述吸附孔包括设置在所述吸附面的周边的第一吸附孔，以及设置于所述吸附面的中部的第二吸附孔。

7.如权利要求6所述的真空吸附平台，其特征在于，多个所述通气孔分设在所述第二吸附孔的两侧。

8.如权利要求6所述的真空吸附平台，其特征在于，多个所述第二吸附孔沿所述吸附面的宽度方向间隔排布；或者，多个所述第二吸附孔沿所述吸附面的长度方向间隔排布。

9.如权利要求1-3任一项所述的真空吸附平台，其特征在于，所述平台本体还设有进气通道；所述吸附孔与所述进气通道连通，以通过所述进气通道与所述真空发生装置连接。

10.如权利要求1-3任一项所述的真空吸附平台，其特征在于，所述平台本体包括基板、以及凸设于所述基板上的吸附凸台，所述吸附面设置于所述吸附凸台的顶面。

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