CN215588829U - 真空吸附平台 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开一种真空吸附平台。所述真空吸附平台包括平台本体，所述平台本体设置有吸附面，所述吸附面设有多个吸附孔；多个所述吸附孔包括设置在所述吸附面的周边的第一吸附孔，以及设置于所述吸附面的中部的第二吸附孔。本实用新型的真空吸附平台，能够降低导光板被刮花的概率。

Description

真空吸附平台

技术领域

本实用新型涉及吸附平台技术领域，特别涉及一种真空吸附平台。

背景技术

导光板经裁切成型后，导光板的侧边通常不够光滑，需要对导光板的侧边进行抛光。抛光时，需要通过真空吸附平台来吸附导光板，以将导光板固定，从而便于对导光板的侧边进行抛光。然而，真空吸附平台上的吸附孔容易刮花导光板。而传统的真空吸附平台上的吸附孔通常布满整个吸附面(例如若干吸附孔呈阵列排布布满吸附面)，这导致导光板被刮花的概率较高。

实用新型内容

本实用新型的主要目的是提出一种真空吸附平台，旨在降低导光板被刮花的概率。

为实现上述目的，本实用新型提出的真空吸附平台，所述真空吸附平台包括平台本体，所述平台本体设置有吸附面，所述吸附面设有多个吸附孔；多个所述吸附孔包括设置在所述吸附面的周边的第一吸附孔，以及设置于所述吸附面的中部的第二吸附孔。

可选的，所述吸附面具有沿其长度方向相对的两个第一侧边；其中部分所述第一吸附孔分设在两个所述第一侧边。

可选的，所述吸附面还具有连接两个所述第一侧边的两个第二侧边；其中部分所述第一吸附孔设置在其中一个所述第二侧边；或者，其中部分所述第一吸附孔分设在两个所述第二侧边。

可选的，所述吸附面的其中一个所述第二侧边朝另外一个所述第二侧边的方向凹陷形成异形凹槽。

可选的，多个所述第二吸附孔沿所述吸附面的宽度方向间隔排布；或者，多个所述第二吸附孔沿所述吸附面的长度方向间隔排布。

可选的，所述平台本体还设有进气通道；所述吸附孔与所述进气通道连通，以通过所述进气通道与所述真空发生装置连接。

可选的，所述进气通道包括沿所述平台本体长度方向延伸的第一进气通道，以及沿所述平台本体宽度方向延伸的第二进气通道；其中，所述第一进气通道用于与沿所述吸附面长度方向排布的吸附孔连通；所述第二进气通道用于与沿所述吸附面宽度方向排布的吸附孔连通。

可选的，所述吸附孔的孔径为1.5mm-2.5mm。

可选的，在同一方向上间隔排布的所述吸附孔，相邻的所述吸附孔之间的间距为8mm-10mm。

可选的，所述平台本体包括基板、以及凸设于所述基板上的吸附凸台，所述吸附面设置于所述吸附凸台的顶面。

可选的，所述平台本体还包括凸设于所述平台主体上表面的挡块，所述挡块与所述吸附凸台间隔设置。

本实用新型的技术方案，只在吸附面的周边设置第一吸附孔以及在吸附面的中部设置第二吸附孔，相较于吸附孔遍布整个吸附面的真空吸附平台，减少了吸附孔的数量，进而降低导光板被吸附孔刮花的概率。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图示出的结构获得其他的附图。

图1为本实用新型真空吸附平台一实施例的结构示意图；

图2为图1中的真空吸附平台的正视图；

图3为图2中沿剖面线A-A的剖视图；

图4为图2中沿剖面线B-B的剖视图；

图5为图2的仰视图；

图6为图5中沿剖面线C-C的剖视图；

图7为图2的后视图。

附图标号说明：

标号	名称	标号	名称
				100	真空吸附平台	16	第一安装孔
10	平台本体	17	第二安装孔
				11	吸附面	18	定位孔
111	第一侧边	20	吸附孔
				112	第二侧边	21	第一吸附孔
113	异形凹槽	22	第二吸附孔
				12	挡块	30	进气通道
13	基板	31	第一进气通道
				14	吸附凸台	32	第二进气通道
15	连接孔

本实用新型目的的实现、功能特点及优点将结合实施例，参照附图做进一步说明。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

需要说明，若本实用新型实施例中有涉及方向性指示(诸如上、下、左、右、前、后……)，则该方向性指示仅用于解释在某一特定姿态(如附图所示)下各部件之间的相对位置关系、运动情况等，如果该特定姿态发生改变时，则该方向性指示也相应地随之改变。

另外，若本实用新型实施例中有涉及“第一”、“第二”等的描述，则该“第一”、“第二”等的描述仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示其相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。另外，各个实施例之间的技术方案可以相互结合，但是必须是以本领域普通技术人员能够实现为基础，当技术方案的结合出现相互矛盾或无法实现时应当认为这种技术方案的结合不存在，也不在本实用新型要求的保护范围之内。

本实用新型提出一种真空吸附平台100，用于吸附导光板，以将导光板固定，从而便于抛光装置对导光板的侧边进行抛光。

在本实用新型实施例中，如图1和图3及图4所示，所述真空吸附平台100包括平台本体10，所述平台本体10设置有吸附面11，所述吸附面11设有多个吸附孔20；多个所述吸附孔20包括设置在所述吸附面11的周边的第一吸附孔21，以及设置于所述吸附面11的中部的第二吸附孔22。

具体地，平台本体10可以呈板状，也可以呈平板上凸设有凸台的形状，平台本体10用于将真空吸附平台100安装在抛光装置的安装座上。吸附面11的面积可以与平台本体10的上表面的面积相等，也可以小于平台本体10的上表面面积。吸附面11的形状与导光板的形状相同，吸附面11用于吸附以及承载导光板。吸附孔20沿上下方向延伸设置；吸附孔20与真空发生装置相连，为吸附导光板提供吸附力。

真空吸附平台100在吸附导光板时，真空发生装置工作时通过吸附孔20进行抽真空，第一吸附孔21吸附导光板的周边，第二吸附孔22吸附孔20导光板的中部，以平整地吸附导光板，防止导光板局部拱起。

在本实施例中，以吸附孔20设置的位置为标准，将吸附面11上的多个吸附孔20分为第一吸附孔21和第二吸附孔22，并不意味第一吸附孔21与第二吸附孔22在结构上不同，仅仅是为了方便表述。当然，第一吸附孔21与第二吸附孔22的结构也可以不同。

本实用新型的技术方案，只在吸附面11的周边设置第一吸附孔21以及在吸附面11的中部设置第二吸附孔22，相较于吸附孔20遍布整个吸附面11的真空吸附平台100，减少了吸附孔20的数量，进而降低导光板被吸附孔20刮花的概率。

如图1-图2所示，在一实施例中，所述吸附面11具有沿其长度方向(如图1中的y轴所示方向)相对的两个第一侧边111；其中部分所述第一吸附孔21分设在两个所述第一侧边111。

具体地，吸附面11呈长方形，第一侧边111为吸附面11的长边。导光板为长方形，放置导光板在吸附面11上的时候，将导光板的长边与第一侧边111对应。

进一步的，所述吸附面11还具有连接两个所述第一侧边111的两个第二侧边112；其中部分所述第一吸附孔21设置在其中一个所述第二侧边112。

具体地，第二侧边112沿吸附面11的宽度方向(如图1中的x轴所示方向)延伸，第二侧边112为吸附面11的短边，放置导光板在吸附面11上的时候，将导光板的短边与第二侧边112对应。在本实施例中，因为导光板的其中一条短边不需要进行抛光，仅在其中的一个第二侧边112上设置有部分的第一吸附孔21，可以进一步减少吸附孔20的数量，以降低导光板被吸附孔20刮花的概率。

在其他实施例中，其中部分所述第一吸附孔21分设在两个所述第二侧边112。即两个第二侧边112上均设有第一吸附孔21，对导光板的四条侧边都进行吸附，使在吸附面11上的导光板更加平整。

进一步的，所述吸附面11的其中一个所述第二侧边112朝另外一个所述第二侧边112的方向凹陷形成异形凹槽113。

具体地，当导光板为异形导光板(导光板的一个短边上向内凹陷有异形槽，用于提升电子装置的屏障比和美观度，例如俗称的“刘海屏”或“水滴屏”等)时，吸附面11的其中一个第二侧边112上相应设有异形凹槽113，以与异形导光板的异形槽相适配。

为了更好地对导光板的中部进行吸附，在一实施例中，如图2和图4所示，多个所述第二吸附孔22沿所述吸附面11的宽度方向间隔排布。在另一实施例中，多个所述第二吸附孔22沿所述吸附面11的长度方向间隔排布。在又一实施例中，多个所述第二吸附孔22呈环形间隔排布。在再一实施例中，多个所述第二吸附孔22呈十字形排布。

如图2所示，在一实施例中，所述吸附孔20的孔径为1.5mm-2.5mm。

具体地，吸附孔20为圆孔，便于制孔。吸附孔20的孔径若小于1.5mm，吸附力可能会不足，不能很好的吸附导光板。吸附孔20的孔径若大于2.5mm，在吸附导光板时，有可能会造成导光板在吸附处形成凸起。因此，吸附孔20的孔径宜设置为1.5mm-2.5mm。例如但不局限于1.8mm、2mm或2.3mm等。

如图2所示，在一实施例中，在同一方向上间隔排布的所述吸附孔20，相邻的所述吸附孔20之间的间距为8mm-10mm。

具体地，吸附孔20之间的间距为相邻的吸附孔20的圆心之间的距离(如图2中a所示)。相邻的所述吸附孔20之间的间距若小于8mm，则吸附孔20的数量为增多，会增大导光板被吸附孔20刮花的概率。相邻的所述吸附孔20之间的间距若大于10mm，则可能会使真空吸附平台100的吸附力下降。因此，相邻的所述吸附孔20之间的间距宜设置为8mm-10mm。例如但不局限于8.5mm、9mm或9.5mm。

如图1和图5及图6所示，在一实施例中，所述平台本体10还设有进气通道30；所述吸附孔20与所述进气通道30连通，以通过所述进气通道30与所述真空发生装置连接。

具体地，进气通道30用于与真空发生装置连接，以连通吸附孔20和真空发生装置。进气通道30可以是多条管道相交形成的网络状的，也可以是腔体形状的。

进一步的，所述进气通道30包括沿所述平台本体10长度方向延伸的第一进气通道31，以及沿所述平台本体10宽度方向延伸的第二进气通道32；其中，所述第一进气通道31用于与沿所述吸附面11长度方向排布的吸附孔20连通；所述第二进气通道32用于与沿所述吸附面11宽度方向排布的吸附孔20连通。

具体地，第一进气通道31呈圆柱状，第二进气通道32呈圆柱状。若第二吸附孔22沿所述吸附面11的宽度方向间隔排布，则第一进气通道31的数量为2条，第二进气通道32的数量为3条，2条第一进气通道31分别连通两个第一侧边111上的多个第一吸附孔21，3条第二进气通道32连通分别多个第二吸附孔22以及两个第二侧边112上的多个第一吸附孔21。若第二吸附孔22沿所述吸附面11的长度方向间隔排布，则第一进气通道31的数量为3条，第二进气通道32的数量为2条，3条第一进气通道31分别连通多个第二吸附孔22以及两个第一侧边111上的多个第一吸附孔21，2条第二进气通道32分别连通两个第二侧边112上的多个第一吸附孔21。

如图4和图7所示，在一实施例中，所述平台本体10的底部设有与所述进气通道30连通的连接孔15。

具体地，连接孔15沿上下方向延伸。连接孔15的上端连通至进气通道30，下端贯通至平台本体10的下表面，与真空发生装置连接。真空吸附平台100在使用时，将第一进气通道31的两端与第二进气通道32的两端都密封，防止抽真空时，空气从第一进气通道31的两端与第二进气通道32的两端进入到平台本体10内，而不从吸附孔20进入平台本体10内，导致吸附孔20处无法产生吸附力。

如图1所示，在一实施例中，所述平台本体10包括基板13、以及凸设于所述基板13上的吸附凸台14，所述吸附面11设置于所述吸附凸台14的顶面。

具体地，基板13呈长方体状，基板13用于将真空吸附平台100安装在抛光装置的安装座上。吸附凸台14设置于基板13的上表面，吸附凸台14的上表面为吸附面11，吸附凸台14用于吸附和承载导光板。吸附面11的面积小于基板13的上表面，吸附凸台14的侧边均位于基板13的侧边的内侧。

如图1和图2所示，在一实施例中，所述平台本体10还包括凸设于所述平台主体上表面的挡块12，所述挡块12与所述吸附凸台14间隔设置。

具体地，挡块12设置于吸附凸台14的周围，导光板在抛光时会产生粉尘，挡块12用于防止粉尘飞出真空吸附平台100，便于清理。

进一步的，如图5所示，所述挡块12的上表面与所述吸附面11齐平。

具体地，导光板的取料和放料是通过机械手完成的，机械手通常为吸盘式，吸盘的面积大于吸附面11的面积，挡块12的上表面与吸附面11齐平能够避免挡块12与机械手干涉，方便机械手进行取料和放料。

如图1和图6及图7所示，在一实施例中，所述平台本体10的顶面设有第一安装孔16。

具体地，第一安装孔16包括设置于吸附面11且沿上下方向延伸的沉孔，以及设置于所述沉孔底面且沿上下方向延伸的通孔，通孔贯通至平台本体10底面，用于从平台本体10的上方固定真空吸附平台100。沉孔用于容纳螺栓头，使螺栓头的顶面与吸附面11齐平或位于吸附面11之下。

在另一实施例中，如图6和图7所示，所述平台本体10的底面设有第二安装孔17。

具体地，第二安装孔17为沿上下方向延伸的盲孔，用于从平台本体10的下方固定真空吸附平台100。当然，可以同时在平台本体10的顶面设置第一安装孔16和在平台本体10的底面设置第二安装孔17，以增强真空吸附平台100的适用性。

如图7所示，在一实施例中，所述平台本体10的底面设有定位孔18。

具体地，定位孔18为盲孔，定位孔18的数量至少为两个，用于与抛光装置的安装座上的定位柱配合，以便于真空吸附平台100在安装时进行定位。

以上所述仅为本实用新型的优选实施例，并非因此限制本实用新型的专利范围，凡是在本实用新型的发明构思下，利用本实用新型说明书及附图内容所作的等效结构变换，或直接/间接运用在其他相关的技术领域均包括在本实用新型的专利保护范围内。

Claims (10)

1.一种真空吸附平台，其特征在于，包括平台本体，所述平台本体设置有吸附面，所述吸附面设有多个吸附孔；多个所述吸附孔包括设置在所述吸附面的周边的第一吸附孔，以及设置于所述吸附面的中部的第二吸附孔。

2.如权利要求1所述的真空吸附平台，其特征在于，所述吸附面具有沿其长度方向相对的两个第一侧边；其中部分所述第一吸附孔分设在两个所述第一侧边。

3.如权利要求2所述的真空吸附平台，其特征在于，所述吸附面还具有连接两个所述第一侧边的两个第二侧边；其中部分所述第一吸附孔设置在其中一个所述第二侧边；或者，其中部分所述第一吸附孔分设在两个所述第二侧边。

4.如权利要求3所述的真空吸附平台，其特征在于，所述吸附面的其中一个所述第二侧边朝另外一个所述第二侧边的方向凹陷形成异形凹槽。

5.如权利要求1所述的真空吸附平台，其特征在于，多个所述第二吸附孔沿所述吸附面的宽度方向间隔排布；或者，多个所述第二吸附孔沿所述吸附面的长度方向间隔排布。

6.如权利要求1-5任意一项所述的真空吸附平台，其特征在于，所述平台本体还设有进气通道；所述吸附孔与所述进气通道连通，以通过所述进气通道与所述真空发生装置连接。

7.如权利要求6所述的真空吸附平台，其特征在于，所述进气通道包括沿所述平台本体长度方向延伸的第一进气通道，以及沿所述平台本体宽度方向延伸的第二进气通道；其中，所述第一进气通道用于与沿所述吸附面长度方向排布的吸附孔连通；所述第二进气通道用于与沿所述吸附面宽度方向排布的吸附孔连通。

8.如权利要求1-5任一项所述的真空吸附平台，其特征在于，所述吸附孔的孔径为1.5mm-2.5mm；和/或，在同一方向上间隔排布的所述吸附孔，相邻的所述吸附孔之间的间距为8mm-10mm。

9.如权利要求1-5任一项所述的真空吸附平台，其特征在于，所述平台本体包括基板、以及凸设于所述基板上的吸附凸台，所述吸附面设置于所述吸附凸台的顶面。

10.如权利要求9所述的真空吸附平台，其特征在于，所述平台本体还包括凸设于所述平台主体上表面的挡块，所述挡块与所述吸附凸台间隔设置。

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