CN114539928A - 一种用于光学玻璃抛光处理的稀土抛光粉及其制备方法 - Google Patents
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- 238000005498 polishing Methods 0.000 title claims abstract description 262
- 239000000843 powder Substances 0.000 title claims abstract description 171
- 229910052761 rare earth metal Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 171
- 150000002910 rare earth metals Chemical class 0.000 title claims abstract description 163
- 239000005304 optical glass Substances 0.000 title claims abstract description 66
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title claims abstract description 9
- 229910001404 rare earth metal oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 26
- 239000012025 fluorinating agent Substances 0.000 claims abstract description 17
- VYLVYHXQOHJDJL-UHFFFAOYSA-K cerium trichloride Chemical compound Cl[Ce](Cl)Cl VYLVYHXQOHJDJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 claims abstract description 13
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 claims abstract description 13
- 239000012716 precipitator Substances 0.000 claims abstract description 8
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims abstract description 6
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 claims description 35
- 239000002002 slurry Substances 0.000 claims description 35
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 28
- 230000032683 aging Effects 0.000 claims description 25
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 25
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 20
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims description 20
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 claims description 19
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 claims description 19
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 19
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 19
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 15
- 238000000227 grinding Methods 0.000 claims description 15
- 238000000498 ball milling Methods 0.000 claims description 12
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 12
- 238000001354 calcination Methods 0.000 claims description 8
- NROKBHXJSPEDAR-UHFFFAOYSA-M potassium fluoride Chemical compound [F-].[K+] NROKBHXJSPEDAR-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 8
- 238000001914 filtration Methods 0.000 claims description 7
- 238000005406 washing Methods 0.000 claims description 7
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 235000011114 ammonium hydroxide Nutrition 0.000 claims description 6
- ATRRKUHOCOJYRX-UHFFFAOYSA-N Ammonium bicarbonate Chemical compound [NH4+].OC([O-])=O ATRRKUHOCOJYRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910000013 Ammonium bicarbonate Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 claims description 5
- 235000012538 ammonium bicarbonate Nutrition 0.000 claims description 5
- 239000001099 ammonium carbonate Substances 0.000 claims description 5
- VBIXEXWLHSRNKB-UHFFFAOYSA-N ammonium oxalate Chemical compound [NH4+].[NH4+].[O-]C(=O)C([O-])=O VBIXEXWLHSRNKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229920001495 poly(sodium acrylate) polymer Polymers 0.000 claims description 5
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 claims description 5
- NNMHYFLPFNGQFZ-UHFFFAOYSA-M sodium polyacrylate Chemical compound [Na+].[O-]C(=O)C=C NNMHYFLPFNGQFZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 5
- 229910000403 monosodium phosphate Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 235000019799 monosodium phosphate Nutrition 0.000 claims description 4
- 235000003270 potassium fluoride Nutrition 0.000 claims description 4
- 239000011698 potassium fluoride Substances 0.000 claims description 4
- AJPJDKMHJJGVTQ-UHFFFAOYSA-M sodium dihydrogen phosphate Chemical compound [Na+].OP(O)([O-])=O AJPJDKMHJJGVTQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 4
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 3
- 230000001376 precipitating effect Effects 0.000 claims description 3
- 239000003002 pH adjusting agent Substances 0.000 claims description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 claims description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 abstract description 48
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 21
- 239000011521 glass Substances 0.000 abstract description 19
- -1 rare earth ions Chemical class 0.000 abstract description 13
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 abstract description 11
- 238000005054 agglomeration Methods 0.000 abstract description 9
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 abstract description 3
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 23
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 11
- 229910000420 cerium oxide Inorganic materials 0.000 description 7
- BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoceriooxy)cerium Chemical compound [Ce]=O.O=[Ce]=O BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 5
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 5
- 238000007517 polishing process Methods 0.000 description 5
- 238000012216 screening Methods 0.000 description 5
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 4
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 3
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 3
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 3
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 3
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 3
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 3
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 3
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 2
- 230000003628 erosive effect Effects 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 230000006911 nucleation Effects 0.000 description 2
- 238000010899 nucleation Methods 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 238000011056 performance test Methods 0.000 description 2
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 2
- 239000006104 solid solution Substances 0.000 description 2
- 229920002125 Sokalan® Polymers 0.000 description 1
- YDONNITUKPKTIG-UHFFFAOYSA-N [Nitrilotris(methylene)]trisphosphonic acid Chemical compound OP(O)(=O)CN(CP(O)(O)=O)CP(O)(O)=O YDONNITUKPKTIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002679 ablation Methods 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N ammonia Natural products N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HKVFISRIUUGTIB-UHFFFAOYSA-O azanium;cerium;nitrate Chemical compound [NH4+].[Ce].[O-][N+]([O-])=O HKVFISRIUUGTIB-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- GWXLDORMOJMVQZ-UHFFFAOYSA-N cerium Chemical compound [Ce] GWXLDORMOJMVQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GHLITDDQOMIBFS-UHFFFAOYSA-H cerium(3+);tricarbonate Chemical compound [Ce+3].[Ce+3].[O-]C([O-])=O.[O-]C([O-])=O.[O-]C([O-])=O GHLITDDQOMIBFS-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000011362 coarse particle Substances 0.000 description 1
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- GUMMFVCZAXYKRW-UHFFFAOYSA-N diazanium 2-hydroxy-2-oxoacetate fluoride Chemical compound [F-].[NH4+].C(C(=O)O)(=O)[O-].[NH4+] GUMMFVCZAXYKRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005337 ground glass Substances 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 229920002401 polyacrylamide Polymers 0.000 description 1
- 239000004584 polyacrylic acid Substances 0.000 description 1
- 238000004321 preservation Methods 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 230000000452 restraining effect Effects 0.000 description 1
- 238000006748 scratching Methods 0.000 description 1
- 230000002393 scratching effect Effects 0.000 description 1
- 159000000000 sodium salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09G—POLISHING COMPOSITIONS; SKI WAXES
- C09G1/00—Polishing compositions
- C09G1/02—Polishing compositions containing abrasives or grinding agents
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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Abstract
本申请涉及抛光粉的技术领域，具体公开了一种用于光学玻璃抛光处理的稀土抛光粉及其制备方法，由包括如下重量份数的原料制成：稀土氧化物80‑100份、氟化剂5‑10份、分散剂10‑15份；其中，所述稀土氧化物包括氯化铈30‑35份、沉淀剂35‑45份、PH调节剂15‑20份。氟化剂增加了稀土抛光粉的硬度并且细化了晶粒，降低玻璃抛光后的玻璃的面粗糙度；沉淀剂能提高稀土抛光粉中的稀土离子的含量；通过PH调节剂调节稀土抛光粉的PH，使稀土抛光粉的颗粒均匀细小，提高了稀土抛光粉的抛光精度；分散剂可保证稀土抛光粉的均匀性，减少稀土抛光粉产生颗粒团聚现象，进一步提高稀土抛光粉对光学玻璃的抛光效果。
Description
技术领域
本申请涉及抛光粉的技术领域，更具体地说，它涉及一种用于光学玻璃抛光处理的稀土抛光粉及其制备方法。
背景技术
稀土抛光粉是指一种以氧化铈为主体成分用于提高制品或零件表面光洁度的混合轻稀土氧化物的粉末。通常以氟碳铈精矿为原料，经化学法处理、灼烧、粉碎、筛分等过程制成。一般玻璃抛光使用的是微米级抛光粉，粒度在1-10μm之间，综合抛光速率和抛光效果，4-6μm抛光效果最佳；粒度大于10u m的抛光粉常用于玻璃粗磨阶段，小于1μm的亚微米抛光粉，在精密光学镜头和电子器件抛光等领域得到越来越广泛的应用。
相关技术中，稀土抛光粉的制备是将氧化稀土与氟化稀土混合，经研磨、干燥、焙烧、分级制备抛光粉。
由于相关技术中的稀土抛光粉部分颗粒经过烧结产生异常的生长，形成局部的粗大颗粒，从而在光学玻璃抛光过程中造成损伤，影响了稀土抛光粉的抛光效果。
发明内容
为了提高稀土抛光粉对光学玻璃的抛光效果，本申请提供一种用于光学玻璃抛光处理的稀土抛光粉及其制备方法。
第一方面，本申请提供一种用于光学玻璃抛光处理的稀土抛光粉，采用如下的技术方案：
一种用于光学玻璃抛光处理的稀土抛光粉，由包括如下重量份数的原料制成：
稀土氧化物80-100份、氟化剂5-10份、分散剂10-15份；
其中，所述稀土氧化物包括氯化铈30-35份、沉淀剂35-45份、PH调节剂15-20份；
所述稀土氧化物的制备方法如下：
S11、将氯化铈与去离子水混合均匀，得到第一浆料；
S12、向所述第一浆料中加入沉淀剂以及PH调节剂，混合均匀，得到第二浆料；
S13、将第二浆料进行搅拌陈化，过滤并用去离子水充分洗涤得到沉淀物；
S14、将沉淀物进行焙烧，得到稀土氧化物。
我国生产的稀土抛光粉主要是以低稀土大颗粒的氧化物为主，导致稀土抛光粉的抛光精度较差，本申请的稀土氧化物粒度分布均匀，提高了稀土抛光粉的抛光精度与抛光效率。
具体的，氟化剂增加了稀土抛光粉的硬度并且细化了晶粒，有助于稀土抛光粉抛光，降低玻璃抛光后的玻璃的面粗糙度；沉淀剂能提高稀土抛光粉中的稀土离子的含量；通过PH调节剂调节稀土抛光粉的PH，对稀土抛光粉的力度大小和分布有着很大的影响，使稀土抛光粉的颗粒均匀细小，提高了稀土抛光粉的抛光精度；分散剂可保证稀土抛光粉的均匀性，减少稀土抛光粉产生颗粒团聚现象，进一步提高稀土抛光粉对光学玻璃的抛光效果。
使用氯化铈制备稀土氧化物，氯化铈溶于去离子水后，加入沉淀剂使体系中的铈离子沉淀，同时加入PH调节剂调节沉淀物的粒度分布，提高稀土抛光分的抛光精度，然后再将第二浆料进行陈化，使铈离子充分沉淀，过滤并充分洗涤，去除杂质得到沉淀物，然后对沉淀物进行焙烧，得到稀土氧化物(氧化铈)，通过此方法制备的稀土氧化物的粒度分布均匀，铈元素含量高，提高了稀土抛光粉的抛光效果。
优选的，所述第二浆料的陈化温度为15-50℃；所述第二浆料的陈化时间为1-8h。
通过采用上述技术方案，陈化是指在沉淀的过程中，待沉淀完全后，使溶液在一定条件下静止存放一段时间，使得氯化铈、沉淀剂以及PH调节剂之间的到充分反应，让沉淀晶体生长增大晶体粒径，使其粒径分布比较均匀，并使体系生成的悬浮物充分沉降。
当陈化温度较低时，稀土抛光粉的前驱体在温度较低时晶化不完全，颗粒表面具有强的分子间力，使稀土抛光粉粉体具有很强的团聚性，得到的稀土抛光粉的团聚粒径较大，形成大的团聚体，随着陈化温度的升高，沉淀反应的速率加快，当陈化温度过高时，颗粒晶化的程度过大，比表面积减小，颗粒过小难以过滤和洗涤，影响稀土抛光粉的抛光性能。
当陈化时间较短时，稀土抛光粉颗粒具有较大的团聚粒径，形成了较大的团聚体，随着陈化时间的增长，团聚体出现空洞，大的团聚体被打开，形成小的团聚体，颗粒的比表面积减小，当陈化时间过长时，比表面积过小，颗粒容易团聚成更大的颗粒，影响稀土抛光粉的抛光性能。
优选的，所述沉淀物的焙烧温度为300-1000℃，所述沉淀物的焙烧时间为1-8h。
通过采用上述技术方案，在沉淀物焙烧的过程中，沉淀物会逐渐脱水、分解、相转变、烧结致密化和晶粒长大等一系列的变化，随着温度的升高，颗粒晶体化程度增大，硬度增大，比表面积减小，抛光能力也随之增强，当焙烧温度过高时，稀土抛光粉的粒径会变大，颗粒硬度过大，抛光光学玻璃后玻璃表面容易出现划痕和凸点，影响光学玻璃的表面光洁度。
随着焙烧时间的增加，稀土抛光粉的晶粒晶化更加完全，粒径增大，粉体之间的团聚效果减弱，因而粒径变小，随着保温时间的增加，晶体之间发生团聚，稀土抛光粉的粒径逐渐增大，抛光光学玻璃后玻璃表面容易出现划痕和凸点，影响光学玻璃的表面光洁度，并且导致稀土抛光粉在配置成浆料使用时，不能在浆料中均匀分布，发生沉积，稀土抛光粉浆料实际用来抛光的颗粒减少，与玻璃的接触面积减少，稀土抛光粉的抛光效果降低。
优选的，所述沉淀剂为碳酸氢铵或草酸铵中的一种。
通过采用上述技术方案，沉淀剂能够提高稀土抛光粉中的稀土离子的含量，并且能够降低稀土抛光粉的平均粒度，提高稀土抛光粉对光学镜头的抛光性能，碳酸氢铵和草酸铵可以与体系反应生成碳酸铈，将铈离子沉淀。
优选的，所述PH调节剂为氨水或磷酸二氢钠中的一种。
通过采用上述技术方案，PH调节剂可能调节体系的酸碱度，有利于提高体系中铈离子沉淀的效率，使沉淀均匀密度增大，提高稀土抛光粉的稀土离子含量，进一步提高稀土抛光粉的抛蚀量。
优选的，所述氟化剂选用氟化钾或氢氟酸中的一种，所述氟化剂的添加量为3％-10％。
通过采用上述技术方案，向体系中加入氟化剂后，氟元素进入氧化铈经各种形成固溶体，增加了稀土抛光粉的硬度，细化了晶粒，提高了稀土抛光粉的抛蚀量，向第一混合物中加入氟化钾可以提高稀土抛光粉的抛光性能，加入氢氟酸后在提高稀土抛光粉的抛光性能的同时还提高了稀土抛光粉的悬浮性，当氟化剂的添加量过少时，稀土抛光粉的硬度过小，当氟化剂的添加量过大时，稀土抛光粉的悬浮性能变差，使稀土抛光粉的抛蚀量减小，并且容易在光学玻璃表面产生划痕。
优选的，所述分散剂为聚丙烯酸钠或聚乙二醇中的一种。
通过采用上述技术方案，分散剂吸附在稀土抛光粉晶核的周围防止溶质继续溶入晶核，从而起到抑制晶核生长的作用，因此降低了晶体的生长速率，生成粒径较小的晶体，最终影响晶体的形貌。
聚丙烯酸与聚乙二醇溶解度大、化学稳定性好，与稀土抛光粉晶体分子相似，可以进入到晶体的内部，从而改变晶体原来的热力学性质，提高晶体的成核速度，减少颗粒之间的团聚，当分散剂过多时，成核速率过大，得到的稀土抛光粉比较碎，粒度分布较宽，稀土抛光粉的质量也会随之下将，影响稀土抛光粉对光学玻璃的抛光性能。
第二方面，本申请提供一种用于光学玻璃抛光处理的稀土抛光粉的制备方法，采用如下的技术方案：
一种用于光学玻璃抛光处理的稀土抛光粉的制备方法，包括以下步骤：
S1、将稀土氧化物进行研磨，得到粉状物料；
S2、将所述粉状物料与去离子水混合均匀，得到第一混合物；
S3、依次向所述第一混合物中加入氟化剂以及分散剂，混合均匀，得到第二混合物；
S4、将所述第二混合物进行干燥处理，得到第一干燥物；
S5、将所述第一干燥物进行粉碎处理后在200-1000℃下干燥1-8h，得到第二干燥物；
S6、将所述第二干燥物放入球磨机中球磨1-6h，得到稀土抛光粉。
通过采用上述技术方案，向稀土氧化物中加入氟化剂，增加了稀土抛光粉的硬度，细化了晶粒，提高稀土抛光粉的抛光性能；加入分散剂能提高稀土抛光粉的均匀性，减少稀土抛光粉在使用过程中出现粉体颗粒团聚的现象，稀土抛光粉在使用过程中不容易发生沉淀，以使在抛光过程中，稀土抛光粉的有效抛光含量较大，提高了稀土抛光粉对光学玻璃的抛光效果。
优选的，所述第一干燥物的焙烧温度为500-800℃，所述第二干燥物的焙烧时间为2-6h。
通过采用上述技术方案，在第一干燥物焙烧的过程中，进一步提高了稀土抛光粉的晶化程度，当焙烧温度过高时，稀土抛光粉的粒径与硬度过大，容易在抛光时在光学玻璃表面产生划痕，降低稀土抛光粉的抛光效果。
随着焙烧时间的增加，稀土抛光粉粉体之间的团聚效果减弱，分散性变好，焙烧时间过长时，稀土抛光粉粉体之间容易发生板结，降低稀土抛光粉粉体的分散性，降低稀土抛光粉的抛光效果。
优选的，所述第二干燥物的球磨时间为2-5h。
通过采用上述技术方案，随着球磨时间的增大，球磨罐中的稀土抛光粉在高速碰撞下逐渐被剪切破碎，稀土抛光粉的粒径逐渐减小，当球磨时间过大时，稀土抛光粉的粒径过小，稀土抛光粉的表面能增加，一部分稀土抛光粉会发生团聚，使稀土抛光粉的粒径再次增加，稀土抛光粉的粒径越大，稀土抛光粉颗粒的有效棱角越多，对光学玻璃的抛蚀量就越大，并且容易在光学玻璃表面产生划痕。
综上所述，本申请具有以下有益效果：
1、氟化剂增加了稀土抛光粉的硬度并且细化了晶粒，降低玻璃抛光后的玻璃的面粗糙度；沉淀剂能提高稀土抛光粉中的稀土离子的含量；通过PH调节剂调节稀土抛光粉的PH，使稀土抛光粉的颗粒均匀细小，提高了稀土抛光粉的抛光精度；分散剂可保证稀土抛光粉的均匀性，减少稀土抛光粉产生颗粒团聚现象，进一步提高稀土抛光粉对光学玻璃的抛光效果；2、当陈化温度较低时，稀土抛光粉的前驱体在温度较低时晶化不完全，颗粒表面具有强的分子间力，使稀土抛光粉粉体具有很强的团聚性，得到的稀土抛光粉的团聚粒径较大，形成大的团聚体，随着陈化时间的增长，团聚体出现空洞，大的团聚体被打开，形成小的团聚体，颗粒的比表面积减小，提高稀土抛光粉对光学玻璃的抛光效果；
3、，向体系中加入氟化剂后，氟元素进入氧化铈经各种形成固溶体，增加了稀土抛光粉的硬度，细化了晶粒，提高了稀土抛光粉的抛蚀量，向第一混合物中加入氟化钾可以提高稀土抛光粉的抛光性能，加入氢氟酸后在提高稀土抛光粉的抛光性能的同时还提高了稀土抛光粉的悬浮性。
具体实施方式
以下结合实施例对本申请作进一步详细说明。
本申请所涉及到的原料信息见表1。
| 原料 | 来源 |
| 氯化铈 | 江苏润丰合成科技有限公司 |
| 氟化钾 | 山东多聚化学有限公司 |
| 氢氟酸 | - |
| 草酸铵 | 江苏科伦多食品配料有限公司 |
| 硝酸铈铵 | 山东昌耀新材料有限公司 |
| 氨水 | 山东顾诚化工科技有限公司 |
| 磷酸二氢钠 | 青州市鑫胜化工有限公司 |
| ATMP | 南通润丰石油化工有限公司 |
| 聚丙烯酸钠 | 广东恒添生物科技有限公司 |
| 聚乙二醇 | 山东海瑞新材料有限公司 |
| 玻璃 | 东莞市铭和祥玻璃科技有限公司 |
| 市售氧化铈 | 淄博瑞溪能源有限公司 |
实施例
实施例1
一种用于光学玻璃抛光处理的稀土抛光粉，通过如下方法制备：
向30g氯化铈中加入去离子水至容量为100ml，混合均匀得到第一浆料；向第一浆料中加入35g草酸铵以及15g氨水，混合均匀后得到第二浆料；将第二浆料15℃下陈化1h后过滤得到沉淀物；用去离子水洗涤沉淀物，将沉淀物干燥后，在300℃下焙烧1h，得到稀土氧化物；将稀土氧化物进行研磨得到粉状物料，向粉状物料中加入去离子水至容量为100ml，得到第一混合物；依次向第一混合物中加入5g氢氟酸以及10g聚丙烯酸钠后混合均匀，得到第二混合物；将第二混合物进行干燥处理，得到第一干燥物，将第一干燥物粉碎后在300℃下焙烧1h，得到第二干燥物；将第二干燥物放入球磨机中进行研磨2h并进行筛分处理，得到稀土抛光粉。
实施例2
一种用于光学玻璃抛光处理的稀土抛光粉，通过如下方法制备：
向35g氯化铈中加入去离子水至容量为100ml，混合均匀得到第一浆料；向第一浆料中加入45g碳酸氢铵以及20g磷酸二氢钠，混合均匀后得到第二浆料；将第二浆料50℃下陈化8h后过滤得到沉淀物；用去离子水洗涤沉淀物，将沉淀物干燥后，在1000℃下焙烧8h，得到稀土氧化物；将稀土氧化物进行研磨得到粉状物料，向粉状物料中加入去离子水至容量为100ml，得到第一混合物；依次向第一混合物中加入10g氢氟酸以及15g聚乙二醇后混合均匀，得到第二混合物；将第二混合物进行干燥处理，得到第一干燥物，将第一干燥物粉碎后在1000℃下焙烧8h，得到第二干燥物；将第二干燥物放入球磨机中进行研磨5h并进行筛分处理，得到稀土抛光粉。
实施例3
一种用于光学玻璃抛光处理的稀土抛光粉，通过如下方法制备：
向32g氯化铈中加入去离子水至容量为100ml，混合均匀得到第一浆料；向第一浆料中加入40g草酸铵以及17g氨水，混合均匀后得到第二浆料；将第二浆料25℃下陈化4h后过滤得到沉淀物；用去离子水洗涤沉淀物，将沉淀物干燥后，在500℃下焙烧2h，得到稀土氧化物；将稀土氧化物进行研磨得到粉状物料，向粉状物料中加入去离子水至容量为100ml，得到第一混合物；依次向第一混合物中加入7g氢氟酸以及12g聚丙烯酸钠后混合均匀，得到第二混合物；将第二混合物进行干燥处理，得到第一干燥物，将第一干燥物粉碎后在500℃下焙烧3h，得到第二干燥物；将第二干燥物放入球磨机中进行研磨3h并进行筛分处理，得到稀土抛光粉。
实施例4
一种用于光学玻璃抛光处理的稀土抛光粉，通过如下方法制备：
向35g氯化铈中加入去离子水至容量为100ml，混合均匀得到第一浆料；向第一浆料中加入43g碳酸氢铵以及18g氨水，混合均匀后得到第二浆料；将第二浆料40℃下陈化2h后过滤得到沉淀物；用去离子水洗涤沉淀物，将沉淀物干燥后，在600℃下焙烧4h，得到稀土氧化物；将稀土氧化物进行研磨得到粉状物料，向粉状物料中加入去离子水至容量为100ml，得到第一混合物；依次向第一混合物中加入7g氢氟酸以及13g聚丙烯酸钠后混合均匀，得到第二混合物；将第二混合物进行干燥处理，得到第一干燥物，将第一干燥物粉碎后在900℃下焙烧4h，得到第二干燥物；将第二干燥物放入球磨机中进行研磨3.5h并进行筛分处理，得到稀土抛光粉。
实施例5
一种用于光学玻璃抛光处理的稀土抛光粉，与实施例4的不同之处在于，陈化温度为20℃。
实施例6
一种用于光学玻璃抛光处理的稀土抛光粉，与实施例4的不同之处在于，陈化温度为55℃。
实施例7
一种用于光学玻璃抛光处理的稀土抛光粉，与实施例4的不同之处在于，陈化时间为1h。
实施例8
一种用于光学玻璃抛光处理的稀土抛光粉，与实施例4的不同之处在于，陈化时间为8h。
实施例9
一种用于光学玻璃抛光处理的稀土抛光粉，与实施例4的不同之处在于，沉淀物的焙烧温度为400℃。
实施例10
一种用于光学玻璃抛光处理的稀土抛光粉，与实施例4的不同之处在于，沉淀物的焙烧温度为800℃。
实施例11
一种用于光学玻璃抛光处理的稀土抛光粉，与实施例4的不同之处在于，沉淀物的焙烧时间为2h。
实施例12
一种用于光学玻璃抛光处理的稀土抛光粉，与实施例4的不同之处在于，沉淀物的焙烧时间为8h。
实施例13
一种用于光学玻璃抛光处理的稀土抛光粉，与实施例4的不同之处在于，氢氟酸的质量为6g。
实施例14
一种用于光学玻璃抛光处理的稀土抛光粉，与实施例4的不同之处在于，氢氟酸的质量为9g。
实施例15
一种用于光学玻璃抛光处理的稀土抛光粉，与实施例4的不同之处在于，球磨时间为3h。
实施例16
一种用于光学玻璃抛光处理的稀土抛光粉，与实施例4的不同之处在于，球磨时间为4h。
对比例
对比例1
一种用于光学玻璃抛光处理的稀土抛光粉，与实施例1的不同之处在于，没有对第二浆料进行陈化。
对比例2
一种用于光学玻璃抛光处理的稀土抛光粉，与实施例1的不同之处在于，没有对沉淀物进行焙烧。
对比例3
一种用于光学玻璃抛光处理的稀土抛光粉，与实施例1的不同之处在于，没有加入氟化剂。
对比例4
一种用于光学玻璃抛光处理的稀土抛光粉，与实施例1的不同之处在于，球磨时间为10h。
对比例5
稀土抛光粉为市售氧化铈。
性能检测试验
针对本申请实施例1-16和对比例1-5提供的稀土抛光粉，进行如下的性能检测：
抛蚀量与划伤率测试：根据GB/T 20167-2012《稀土抛光粉物理性能测试方法抛蚀量和划痕的测定重量法》取250g实施例与对比例制备的稀土抛光粉，将稀土抛光粉加入盛有1L去离子水的并带有泥浆泵的容器中，再加入1L的去离子水，取20片清洁干燥并已称重的厚0.50cm直径4.00cm的玻璃片放入双面研磨机的游轮内，放好上定盘，开启起降泵，打浆10s后开启双向研磨机，研磨机转速17r/min，研磨45min后取下玻璃片清洗，然后在超声波清洗机内清洗5min，干燥后称重并在高能卤素灯下观察。
按式(1)计算抛蚀量F:
式中:
F——抛蚀量,单位为毫克每平方厘米每分钟[mg/(cm2·min)]；
m0——研磨前玻璃片的总重量,单位为毫克(mg)；
m1——一研磨后玻璃片的总重量,单位为毫克(mg)；
s——玻璃片的总表面积，单位为平方厘米(cm2)；
t——研磨时间；单位为分钟(min)。
按式(2)计算划伤率K：
式中：
K——划伤率，％
nk——研磨后存在划痕的玻璃片数；
n——被研磨玻璃片的总数。
其中，抛蚀量的检测结果取平均值，划伤率不大于15％为合格。
具体测试结果见表2。
表2性能测试结果
根据表2中实施例1与对比例1-2的实验数据对比可知，对第二浆料进行陈化能提高稀土抛光粉中稀土离子的含量，提高稀土抛光粉对玻璃的抛光效果，对沉淀物进行焙烧时可以提高稀土抛光粉粉体的硬度、抛光能力以及悬浮分散性，降低稀土抛光粉的粒径，减少抛光时光学玻璃表面发生划痕的现象发生，从而提高稀土抛光粉对光学玻璃的抛光效果。
根据表2中实施例1与对比例3的实验数据对比可知，氟化剂能增加稀土抛光粉的硬度并细化颗粒，从而提高稀土抛光粉对光学玻璃的抛蚀量。
根据表2中实施例1与对比例4的实验数据对比可知，通过控制球磨时间来控制稀土抛光粉的粒径，可以在保证稀土抛光粉对光学玻璃的抛蚀量的同时减少抛光过程中光学玻璃表面产生划痕的现象，提高了稀土抛光粉对光学玻璃的抛光效果。
根据表2中实施例1与对比例5的实验数据对比可知，市售稀土氧化铈颗粒粗大，做抛光粉对光学玻璃的抛蚀量过大，容易产生划痕。
根据表2中实施例4与实施例5-12的实验数据对比可知，通过控制本申请对第二浆料的陈化温度和陈化时间并且控制对沉淀物的焙烧温度以及被烧时间，可有效提高稀土抛光粉对光学玻璃的抛蚀量同时，减少玻璃表面出现划痕的情况发生。
根据表2中实施例4与实施例13-14的实验数据对比可知，通过控制本申请稀土抛光粉中氢氟酸的比例，可有效提升稀土抛光粉的硬度，细化晶粒提高稀土抛光粉对光学玻璃的抛蚀量，减少在抛光过程中光学玻璃表面出现划痕的现象，并且氟离子可以进入稀土抛光粉晶粒的晶格中，提高稀土高光粉的悬浮分散性，进一步提高稀土抛光粉在抛光时的有效成分的含量。
根据表2中实施例4与实施例15-16的实验数据对比可知，通过控制本申请对第干燥物的球磨时间来调整稀土抛光粉的粒径，可以有效提升稀土抛光粉对玻璃的抛蚀量，稀土抛光粉的粒径过小，对光学玻璃的抛蚀量越小，降低稀土抛光粉的抛光效果，稀土抛光粉的粒径越大，稀土抛光粉颗粒的有效棱角越多，对光学玻璃的抛蚀量就越大，并且容易在光学玻璃表面产生划痕降低稀土抛光粉的抛光效果。
本具体实施例仅仅是对本申请的解释，其并不是对本申请的限制，本领域技术人员在阅读完本说明书后可以根据需要对本实施例做出没有创造性贡献的修改，但只要在本申请的权利要求范围内都受到专利法的保护。
Claims (9)
1.一种用于光学玻璃抛光处理的稀土抛光粉，其特征在于，由包括如下重量份数的原料制成：
稀土氧化物80-100份、氟化剂5-10份、分散剂10-15份；
其中，所述稀土氧化物包括氯化铈30-35份、沉淀剂35-45份、PH调节剂15-20份；
所述稀土氧化物的制备方法如下：
S11、将氯化铈与去离子水混合均匀，得到第一浆料；
S12、向所述第一浆料中加入沉淀剂以及PH调节剂，混合均匀，得到第二浆料；
S13、将第二浆料进行搅拌陈化，过滤并用去离子水充分洗涤得到沉淀物；
S14、将沉淀物进行焙烧，得到稀土氧化物。
2.根据权利要求1所述的一种用于光学玻璃抛光处理的稀土抛光粉，其特征在于，所述第二浆料的陈化温度为15-50℃；所述第二浆料的陈化时间为1-8h。
3.根据权利要求1所述的一种用于光学玻璃抛光处理的稀土抛光粉，其特征在于，所述沉淀物的焙烧温度为300-1000℃，所述沉淀物的焙烧时间为1-8h。
4.根据权利要求1所述的一种用于光学玻璃抛光处理的稀土抛光粉，其特征在于，所述沉淀剂为碳酸氢铵或草酸铵中的一种。
5.根据权利要求1所述的一种用于光学玻璃抛光处理的稀土抛光粉，其特征在于，所述PH调节剂为氨水或磷酸二氢钠中的一种。
6.根据权利要求1所述的一种用于光学玻璃抛光处理的稀土抛光粉，其特征在于，所述氟化剂选用氟化钾或氢氟酸中的一种；所述氟化剂的添加量为3%-10%
根据权利要求1所述的一种用于光学玻璃抛光处理的稀土抛光粉，其特征在于，所述分散剂为聚丙烯酸钠或聚乙二醇中的一种。
7.一种用于光学玻璃抛光处理的稀土抛光粉的制备方法，用于制备权利要求1-7任一项稀土抛光粉，其特征在于，包括以下步骤：
S1、将稀土氧化物进行研磨，得到粉状物料；
S2、将所述粉状物料与去离子水混合均匀，得到第一混合物；
S3、依次向所述第一混合物中加入氟化剂以及分散剂，混合均匀，得到第二混合物；
S4、将所述第二混合物进行干燥处理，得到第一干燥物；
S5、将所述第一干燥物进行粉碎处理后在200-1000℃下干燥1-8h，得到第二干燥物；
S6、将所述第二干燥物放入球磨机中球磨1-6h，得到稀土抛光粉。
8.根据权利要求8所述的一种用于光学玻璃抛光处理的稀土抛光粉的制备方法，其特征在于，所述第一干燥物的焙烧温度为500-800℃，所述第二干燥物的焙烧时间为2-6h。
9.根据权利要求8所述的用于光学玻璃抛光处理的稀土抛光粉的制备方法，其特征在于，所述第二干燥物的球磨时间为2-5h。
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