CN110256970A - 一种抛光粉及其制备方法 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及一种抛光粉及其制备方法，该抛光粉中REO/M=85‑95%，按重量份包括以下组分：CeO2/REO=50‑92％、La2O3/REO=0‑50％、Pr6O11/REO=0‑5％、Nd2O3/REO=0‑5％、Y2O3/REO=0‑5%、金刚石微粉/M=0‑10%以及滑石粉/M=0‑5%；具体步骤包括：S1.将CeO2、La2O3、Pr6O11、Nd2O3、Y2O3以及去离子水投入球磨机中研磨，制得浆液；S2.向浆液中加入氟化物以对浆液进行氟化处理，制得氟化液；S3.对氟化液进行干燥处理，制得一级粗成品；S4.对一级粗成品进行焙烧处理，制得二级粗成品；S5.对二级粗成品进行二次研磨处理，在研磨过程中加入金刚石微粉以及滑石粉，制得三级粗成品；S6.对三级粗成品进行粒径筛分处理，得到成品粉体。本发明具有提升抛光粉粉体品质的效果。

Description

一种抛光粉及其制备方法
技术领域
本发明涉及有色金属的技术领域，尤其是涉及一种抛光粉及其制备方法。
背景技术
我国的稀土储量及产量均居世界第一，但是稀土生产过程中伴随着较多的污染，随着我国环境保护要求的不断提升和国内对稀土资源日益增强的保护意识，稀土的供求关系逐渐向供方转移。工业上常使用稀土材料制备抛光粉，抛光粉的抛光机理是利用抛光粉与玻璃等晶体材料表面接触产生的摩擦，使光学玻璃的表面达到工艺要求的平整度，从而降低光学玻璃表面的不规则对光的透射或反射造成的不良影响。现有的抛光粉主要为铈基氧化物抛光粉，按铈含量一般分为低铈抛光粉、中铈抛光粉以及高铈抛光粉。铈基氧化物抛光粉的主要抛光成分为CeO2，而辅助材料例如La2O3等没有抛光性能，但是La2O3的存在能够大大提高稀土抛光粉中CeO2的抛光性能，因此辅助材料也是制备抛光粉时必不可少的成分。
现有的抛光粉在对玻璃等晶体材料进行表面抛光时，由于抛光粉本身的品质良莠不齐，容易导致晶体等材料表面不平整、抛光效率低。
发明内容
本发明的目的是提供一种抛光粉及其制备方法，其具有提高抛光粉粉体品质的效果。
本发明的上述技术目的是通过以下技术方案得以实现的：一种抛光粉，该抛光粉中REO/M＝85-95％，按质量分数包括以下组分：CeO2/REO＝50-92％、La2O3/REO＝0-50％、Pr6O11/REO＝0-5％、Nd2O3/REO＝0-5％、Y2O3/REO＝0-5％、金刚石微粉/M＝0-10％以及滑石粉/M＝0-5％。
通过采用上述技术方案，La2O3以及Y2O3作为抛光粉的辅助成分，以合适的比例混合后，不仅提高了抛光粉颜色的鲜亮度，还大大提高了CeO2的抛光性能；Pr6O11对打磨材料的表面具有良好的清洁作用，在原料中添加Pr6O11，从而避免在打磨过程中抛光粉粘附在晶体材料的表面而影响晶体材料的打磨效果；CeO2、La2O3、Pr6O11、Nd2O3、Y2O3含量不同，制备出的抛光粉的切削效果不同；由于金刚石微粉硬度高、耐磨性强，在原料中添加金刚石微粉，使其与CeO2充分混合，以提高抛光粉粉体的硬度，从而提高抛光粉对晶体材料表面的切削效果，以此提高抛光粉的粉体品质；在打磨过程中，晶体材料表面的颗粒逐步细化，比表面积增大，粒子因电性改变而相互吸附出现团聚，滑石粉的添加通过改善物料的流动性，将物料分散，以此防止粒子团聚，从而提高抛光粉的抛光效率，以此提高抛光粉的粉体品质。
本发明进一步设置为：所述金刚石微粉为多晶金刚石微粉。
通过采用上述技术方案，多晶金刚石微粉通过不饱和键结合成多晶体结构，使其具有更多的晶棱和磨削面，每条晶棱都具有切削能力，因此多晶金刚石微粉具有优良的切削性能；多晶金刚石微粉还具有韧性和自锐性，在抛光过程中，粗颗粒破碎成细小的颗粒，可避免对工件表面造成划伤，从而对CeO2在切削过程中产生的晶体表面损伤起到弥补作用；因此，向原料中添加多晶金刚石微粉，有利于提高抛光粉的品质。
本发明进一步设置为：一种抛光粉的制备方法，具体包括以下步骤：
S1.研磨：将CeO2、La2O3、Pr6O11、Nd2O3、Y2O3以及去离子水投入球磨机中，使用钢球进行研磨，制得浆液；
S2.氟化：向浆液中加入占REO总量5-7％的氟化物以对浆液进行氟化处理，氟化温度为45-55℃，制得氟化液；
S3.干燥：对氟化液进行干燥处理，干燥温度为120-170℃，干燥时间为8-14h；再对干燥物进行粉碎处理，制得一级粗成品；
S4.焙烧：对一级粗成品进行焙烧处理，焙烧完成后，将一级粗成品在3-4h内降温至500-600℃，再冷却至室温，制得二级粗成品；
S5.二次研磨：对二级粗成品进行二次研磨处理，在研磨过程中加入金刚石微粉以及滑石粉，使其与二级粗成品充分混合，制得三级粗成品；
S6.筛分：对三级粗成品进行粒径筛分处理，得到成品粉体。
通过采用上述技术方案，在S2中，La、Nd等元素在抛光粉中必须通过氟化作用生成氟氧化物才能起到抛光作用，引入的氟在切削过程中与晶体表面产生化学反应，有利于提升抛光粉的抛光速率；金刚石微粉以及滑石粉在S5的二次研磨过程中添加，一方面有利于将金刚石微粉以及滑石粉研磨成粒径合适的粉体，另一方面有利于提高金刚石微粉以及滑石粉与原料之间混合的均匀度。
本发明进一步设置为：所述S1中钢球的粒径为0.8-1.2mm。
通过采用上述技术方案，将钢球的粒径控制在0.8-1.2mm，该范围内的钢球粒径与原料的粒径之间存在差距，但差距适中，有利于将原料集中，且粒径控制在该范围的钢球与原料的表面接触面积较大，从而提高了原料研磨的均匀度。
本发明进一步设置为：所述S2中的氟化物为氟硅酸、氢氟酸或氟化铵中的任意一种。
通过采用上述技术方案，氟硅酸、氢氟酸以及氟化铵的水溶液均为强酸性，与原料中的La2O3、Nd2O3以及Y2O3反应速度快、反应效率高；由于氟硅酸、氢氟酸以及氟化铵原料价廉易得，因此选用三者之一添加至二级粗成品中。
本发明进一步设置为：所述S5中的焙烧温度为950-1250℃，保温时间为2-3h。
通过采用上述技术方案，将焙烧温度控制在950-1250℃，焙烧完成后保温时间2-3h，焙烧温度过高或过低，抛光粉均发生一定程度的团聚，团聚程度过高，容易导致抛光粉的硬度降低，从而导致抛光粉的抛光品质下降，将焙烧温度与时间控制在合理的范围内，对于提高抛光粉的品质具有关键作用。
本发明进一步设置为：所述S6中成品粉体的中值粒径为0.5-2.5um。
通过采用上述技术方案，将成品粉体的中值粒径控制在0.5-2.5um，使得占抛光粉含量一半以上的粉体的粒径偏小，以此改善抛光粉的悬浮性，避免其产生沉淀，以此提高抛光粉的品质。
本发明进一步设置为：所述S6中成品粉体的最大粒径为2.5-12um。
通过采用上述技术方案，成品粉体的最大粒径决定了抛光的精度，理论上粒径越大，精度越高，但是，当成品粉体的粒径过大时，容易产生沉淀而对抛光精度产生反作用，因此，将成品粉体的最大粒径控制在合适范围内有利于提升抛光粉的品质。
综上所述，本发明的有益技术效果为：
1.金刚石微粉与CeO2充分混合，以提高抛光粉粉体的硬度，从而提高抛光粉对晶体材料表面的切削效果，以此提高抛光粉的粉体品质；
2.滑石粉的添加通过改善物料的流动性，将物料分散，以此防止粒子团聚，从而提高抛光粉的抛光效率，以此提高抛光粉的粉体品质；
3.多晶金刚石微粉通过不饱和键结合成多晶体结构，使其具有更多的晶棱和磨削面，每条晶棱都具有切削能力，因此多晶金刚石微粉具有优良的切削性能，有利于提高抛光粉的品质。
附图说明
图1是本实施例的生产工艺流程图。
具体实施方式
以下结合附图对本发明作进一步详细说明。
实施例1，为本发明公开的一种抛光粉及其制备方法，该抛光粉中REO/M＝88.5％，按质量分数包括以下组分：
具体制备步骤包括：
S1.研磨：将CeO2、La2O3、Pr6O11、Nd2O3、Y2O3以及去离子水投入球磨机中，使用粒径为1.0mm的钢球进行研磨，制得浆液；
S2.氟化：向浆液中加入占REO总量5％的氟硅酸以对浆液进行氟化处理，氟化温度为50℃，制得氟化液；
S3.干燥：对氟化液进行干燥处理，干燥温度为135℃，干燥时间为11.5h；再对干燥物进行粉碎处理，制得一级粗成品；
S4.焙烧：对一级粗成品进行焙烧处理，焙烧温度为1000℃，保温时间为2.5h，焙烧完成后，将一级粗成品在3.5h内降温至600℃，再冷却至室温，制得二级粗成品；
S5.二次研磨：使用粒径为1.1mm的钢球对二级粗成品进行二次研磨处理，在研磨过程中加入金刚石微粉以及滑石粉，使其与二级粗成品充分混合，制得三级粗成品；
S6.筛分：对三级粗成品进行粒径筛分处理，得到成品粉体，成品粉体的中值粒径为1.25um，最大粒径为11.5um。
实施例2，为本发明公开的一种抛光粉及其制备方法，该抛光粉中REO/M＝96％，按质量分数包括以下组分：
组分 质量分数(％) 组分 质量分数(％)
CeO<sub>2</sub>/REO 60.5 Y<sub>2</sub>O<sub>3</sub>/REO 2
La<sub>2</sub>O<sub>3</sub>/REO 32.5 多晶金刚石微粉/M 0
Pr<sub>6</sub>O<sub>11</sub>/REO 4.25 滑石粉/M 4
Nd<sub>2</sub>O<sub>3</sub>/REO 1.25
具体制备步骤同实施例1。
实施例3，为本发明公开的一种抛光粉及其制备方法，该抛光粉中REO/M＝92.5％，按质量分数包括以下组分：
组分 质量分数(％) 组分 质量分数(％)
CeO<sub>2</sub>/REO 60.5 Y<sub>2</sub>O<sub>3</sub>/REO 2
La<sub>2</sub>O<sub>3</sub>/REO 32.5 多晶金刚石微粉/M 7.5
Pr<sub>6</sub>O<sub>11</sub>/REO 4.25 滑石粉/M 0
Nd<sub>2</sub>O<sub>3</sub>/REO 1.25
具体制备步骤同实施例1。
实施例4，为本发明公开的一种抛光粉及其制备方法，该抛光粉中REO/M＝90.5％，按质量分数包括以下组分：
组分 质量分数(％) 组分 质量分数(％)
CeO<sub>2</sub>/REO 60.5 Y<sub>2</sub>O<sub>3</sub>/REO 2
La<sub>2</sub>O<sub>3</sub>/REO 32.5 多晶金刚石微粉/M 5.5
Pr<sub>6</sub>O<sub>11</sub>/REO 4.25 滑石粉/M 4
Nd<sub>2</sub>O<sub>3</sub>/REO 1.25
具体制备步骤同实施例1。
实施例5，为本发明公开的一种抛光粉及其制备方法，该抛光粉中REO/M＝92.5％，按质量分数包括以下组分：
组分 质量分数(％) 组分 质量分数(％)
CeO<sub>2</sub>/REO 60.5 Y<sub>2</sub>O<sub>3</sub>/REO 2
La<sub>2</sub>O<sub>3</sub>/REO 32.5 多晶金刚石微粉/M 3.5
Pr<sub>6</sub>O<sub>11</sub>/REO 4.25 滑石粉/M 4
Nd<sub>2</sub>O<sub>3</sub>/REO 1.25
具体制备步骤同实施例1。
实施例6，为本发明公开的一种抛光粉及其制备方法，该抛光粉中REO/M＝94.5％，按质量分数包括以下组分：
组分 质量分数(％) 组分 质量分数(％)
CeO<sub>2</sub>/REO 60.5 Y<sub>2</sub>O<sub>3</sub>/REO 2
La<sub>2</sub>O<sub>3</sub>/REO 32.5 多晶金刚石微粉/M 1.5
Pr<sub>6</sub>O<sub>11</sub>/REO 4.25 滑石粉/M 4
Nd<sub>2</sub>O<sub>3</sub>/REO 1.25
具体制备步骤同实施例1。
实施例7，为本发明公开的一种抛光粉及其制备方法，该抛光粉中REO/M＝86％，按质量分数包括以下组分：
组分 质量分数(％) 组分 质量分数(％)
CeO<sub>2</sub>/REO 60.5 Y<sub>2</sub>O<sub>3</sub>/REO 2
La<sub>2</sub>O<sub>3</sub>/REO 32.5 多晶金刚石微粉/M 10
Pr<sub>6</sub>O<sub>11</sub>/REO 4.25 滑石粉/M 4
Nd<sub>2</sub>O<sub>3</sub>/REO 1.25
具体制备步骤同实施例1。
实施例8，为本发明公开的一种抛光粉及其制备方法，该抛光粉中REO/M＝88.5％，按质量分数包括以下组分：
组分 质量分数(％) 组分 质量分数(％)
CeO<sub>2</sub>/REO 50 Y<sub>2</sub>O<sub>3</sub>/REO 0
La<sub>2</sub>O<sub>3</sub>/REO 50 多晶金刚石微粉/M 7.5
Pr<sub>6</sub>O<sub>11</sub>/REO 0 滑石粉/M 4
Nd<sub>2</sub>O<sub>3</sub>/REO 0
具体制备步骤同实施例1。
实施例9，为本发明公开的一种抛光粉及其制备方法，该抛光粉中REO/M＝88.5％，按质量分数包括以下组分：
组分 质量分数(％) 组分 质量分数(％)
CeO<sub>2</sub>/REO 50 Y<sub>2</sub>O<sub>3</sub>/REO 5
La<sub>2</sub>O<sub>3</sub>/REO 35 多晶金刚石微粉/M 7.5
Pr<sub>6</sub>O<sub>11</sub>/REO 5 滑石粉/M 4
Nd<sub>2</sub>O<sub>3</sub>/REO 5
具体制备步骤同实施例1。
实施例10，为本发明公开的一种抛光粉及其制备方法，该抛光粉中REO/M＝88.5％，按质量分数包括以下组分：
组分 质量分数(％) 组分 质量分数(％)
CeO<sub>2</sub>/REO 70 Y<sub>2</sub>O<sub>3</sub>/REO 5
La<sub>2</sub>O<sub>3</sub>/REO 15 多晶金刚石微粉/M 7.5
Pr<sub>6</sub>O<sub>11</sub>/REO 5 滑石粉/M 4
Nd<sub>2</sub>O<sub>3</sub>/REO 5
具体制备步骤同实施例1。
实施例11，为本发明公开的一种抛光粉及其制备方法，该抛光粉中REO/M＝88.5％，按质量分数包括以下组分：
组分 质量分数(％) 组分 质量分数(％)
CeO<sub>2</sub>/REO 70 Y<sub>2</sub>O<sub>3</sub>/REO 0
La<sub>2</sub>O<sub>3</sub>/REO 30 多晶金刚石微粉/M 7.5
Pr<sub>6</sub>O<sub>11</sub>/REO 0 滑石粉/M 4
Nd<sub>2</sub>O<sub>3</sub>/REO 0
具体制备步骤同实施例1。
实施例12，为本发明公开的一种抛光粉及其制备方法，该抛光粉中REO/M＝88.5％，按质量分数包括以下组分：
组分 质量分数(％) 组分 质量分数(％)
CeO<sub>2</sub>/REO 80 Y<sub>2</sub>O<sub>3</sub>/REO 2.5
La<sub>2</sub>O<sub>3</sub>/REO 12.5 多晶金刚石微粉/M 7.5
Pr<sub>6</sub>O<sub>11</sub>/REO 2.5 滑石粉/M 4
Nd<sub>2</sub>O<sub>3</sub>/REO 2.5
具体制备步骤同实施例1。
实施例13，为本发明公开的一种抛光粉及其制备方法，该抛光粉中REO/M＝88.5％，按质量分数包括以下组分：
具体制备步骤同实施例1。
实施例14，为本发明公开的一种抛光粉及其制备方法，该抛光粉中REO/M＝88.5％，按质量分数包括以下组分：
组分 质量分数(％) 组分 质量分数(％)
CeO<sub>2</sub>/REO 92 Y<sub>2</sub>O<sub>3</sub>/REO 1
La<sub>2</sub>O<sub>3</sub>/REO 4 多晶金刚石微粉/M 7.5
Pr<sub>6</sub>O<sub>11</sub>/REO 1.5 滑石粉/M 4
Nd<sub>2</sub>O<sub>3</sub>/REO 1.5
具体制备步骤同实施例1。
实施例15，为本发明公开的一种抛光粉及其制备方法，该抛光粉中REO/M＝88.5％，按质量分数所包含的组分同实施例1；
具体制备步骤包括：
S1.研磨：将CeO2、La2O3、Pr6O11、Nd2O3、Y2O3以及去离子水投入球磨机中，使用粒径为1.0mm的钢球进行研磨，制得浆液；
S2.氟化：向浆液中加入占REO总量5％的氟硅酸以对浆液进行氟化处理，氟化温度为50℃，制得氟化液；
S3.干燥：对氟化液进行干燥处理，干燥温度为135℃，干燥时间为11.5h；再对干燥物进行粉碎处理，制得一级粗成品；
S4.焙烧：对一级粗成品进行焙烧处理，焙烧温度为950℃，保温时间为2.5h，焙烧完成后，将一级粗成品在3.5h内降温至600℃，再冷却至室温，制得二级粗成品；
S5.二次研磨：使用粒径为1.1mm的钢球对二级粗成品进行二次研磨处理，在研磨过程中加入金刚石微粉以及滑石粉，使其与二级粗成品充分混合，制得三级粗成品；
S6.筛分：对三级粗成品进行粒径筛分处理，得到成品粉体，成品粉体的中值粒径为1.25um，最大粒径为11.5um。
实施例16，为本发明公开的一种抛光粉及其制备方法，该抛光粉中REO/M＝88.5％，按质量分数所包含的组分同实施例1；
具体制备步骤包括：
S1.研磨：将CeO2、La2O3、Pr6O11、Nd2O3、Y2O3以及去离子水投入球磨机中，使用粒径为1.0mm的钢球进行研磨，制得浆液；
S2.氟化：向浆液中加入占REO总量5％的氟硅酸以对浆液进行氟化处理，氟化温度为50℃，制得氟化液；
S3.干燥：对氟化液进行干燥处理，干燥温度为135℃，干燥时间为11.5h；再对干燥物进行粉碎处理，制得一级粗成品；
S4.焙烧：对一级粗成品进行焙烧处理，焙烧温度为1250℃，保温时间为2.5h，焙烧完成后，将一级粗成品在3.5h内降温至600℃，再冷却至室温，制得二级粗成品；
S5.二次研磨：使用粒径为1.1mm的钢球对二级粗成品进行二次研磨处理，在研磨过程中加入金刚石微粉以及滑石粉，使其与二级粗成品充分混合，制得三级粗成品；
S6.筛分：对三级粗成品进行粒径筛分处理，得到成品粉体，成品粉体的中值粒径为1.25um，最大粒径为11.5um。
对比例1，为本发明公开的一种抛光粉及其制备方法，该抛光粉中REO/M＝88.5％，按质量分数所包含的组分同实施例1；
具体制备步骤包括：
S1.研磨：将CeO2、La2O3、Pr6O11、Nd2O3、Y2O3以及去离子水投入球磨机中，使用粒径为1.0mm的钢球进行研磨，制得浆液；
S2.氟化：向浆液中加入占REO总量5％的氟硅酸以对浆液进行氟化处理，氟化温度为50℃，制得氟化液；
S3.干燥：对氟化液进行干燥处理，干燥温度为135℃，干燥时间为11.5h；再对干燥物进行粉碎处理，制得一级粗成品；
S4.焙烧：对一级粗成品进行焙烧处理，焙烧温度为900℃，保温时间为2.5h，焙烧完成后，将一级粗成品在3.5h内降温至600℃，再冷却至室温，制得二级粗成品；
S5.二次研磨：使用粒径为1.1mm的钢球对二级粗成品进行二次研磨处理，在研磨过程中加入金刚石微粉以及滑石粉，使其与二级粗成品充分混合，制得三级粗成品；
S6.筛分：对三级粗成品进行粒径筛分处理，得到成品粉体，成品粉体的中值粒径为1.25um，最大粒径为11.5um。
对比例2，为本发明公开的一种抛光粉及其制备方法，该抛光粉中REO/M＝88.5％，按质量分数所包含的组分同实施例1；
具体制备步骤包括：
S1.研磨：将CeO2、La2O3、Pr6O11、Nd2O3、Y2O3以及去离子水投入球磨机中，使用粒径为1.0mm的钢球进行研磨，制得浆液；
S2.氟化：向浆液中加入占REO总量5％的氟硅酸以对浆液进行氟化处理，氟化温度为50℃，制得氟化液；
S3.干燥：对氟化液进行干燥处理，干燥温度为135℃，干燥时间为11.5h；再对干燥物进行粉碎处理，制得一级粗成品；
S4.焙烧：对一级粗成品进行焙烧处理，焙烧温度为1300℃，保温时间为2.5h，焙烧完成后，将一级粗成品在3.5h内降温至600℃，再冷却至室温，制得二级粗成品；
S5.二次研磨：使用粒径为1.1mm的钢球对二级粗成品进行二次研磨处理，在研磨过程中加入金刚石微粉以及滑石粉，使其与二级粗成品充分混合，制得三级粗成品；
S6.筛分：对三级粗成品进行粒径筛分处理，得到成品粉体，成品粉体的中值粒径为1.25um，最大粒径为11.5um。
对实施例1-16以及对比例1-2所制备出的成品粉体进行取样，每组取样20份，并在相同条件下对样品的悬浮性能以及抛光性能进行测试，记录测试数据如表1所示；悬浮性能测试：每组选取10份样品，采用堆积比重法进行测试。堆积比重法测试原理：将10g抛光粉分散在90g去离子水中，充分搅拌后将浆料转移至100mL量筒中，静置24h，然后测定粉末沉淀物层的体积，用沉淀物体积通过公式计算出沉淀物堆积比重。抛光粉的沉淀物堆积比重应当为0.8-1.0g/mL，若小于0.8g/mL，抛光粉对加工性能较差的硬质玻璃时，抛光速度低；若大于1.0g/mL，在抛光过程中，抛光粉易使晶体材料表面产生划痕；
抛光性能测试：每组选取10份样品，使用样品对表面粗糙度相同的晶体进行抛光，通过观察抛光后的晶体表面情况衡量样品的抛光性能；
表1-实施例1-16以及对比例1-2中样品的悬浮性能以及抛光性能的测试数据
堆积比重(g/mL) 晶体表面情况
实施例1 0.87 光滑无划痕
实施例2 0.74 表面凹凸无划痕
实施例3 1.15 划痕较多
实施例4 0.92 光滑无划痕
实施例5 0.88 光滑无划痕
实施例6 0.81 较光滑无划痕
实施例7 0.98 较光滑有划痕
实施例8 0.77 表面凹凸有划痕
实施例9 0.80 较光滑无划痕
实施例10 0.84 光滑无划痕
实施例11 1.11 表面凹凸、划痕较多
实施例12 0.85 光滑无划痕
实施例13 1.06 较光滑有划痕
实施例14 0.93 光滑无划痕
实施例15 1.01 表面凹凸有划痕
实施例16 0.97 光滑有划痕
对比例1 1.23 表面凹凸、划痕多
对比例2 1.19 表面凹凸、划痕多
根据实施例1-7中样品的悬浮性能以及抛光性能的测试数据可知：金刚石微粉添加量为0时，样品的沉淀物堆积比重减少，导致样品的悬浮性能降低，且采用该样品抛光的晶体材料表面凹凸不平，抛光效果差；金刚石微粉的添加量由1.5％增加至10％的过程中，样品的沉淀物堆积比重在不断升高，且一直处于规定值的范围内，而采用添加不同含量的金刚石微粉进行晶体表面抛光时，晶体表面均符合抛光要求，说明金刚石微粉的添加对于提高抛光粉粉体的品质具有促进意义；当金刚石微粉的添加量为10％时，样品的沉淀物堆积比重接近1.0g/mL，因此，将金刚石微粉的含量控制在总重量的10％以下较为合理；当滑石粉的添加量为0时，样品的沉淀物堆积比重超过规定值上限，导致样品的悬浮性能降低，且采用该样品抛光的晶体材料表面存在较多的划痕，抛光效果差，说明滑石粉的添加对于减少抛光粉粉体团聚具有促进意义；
根据实施例8-14中样品的悬浮性能以及抛光性能的测试数据可知：当抛光粉中Pr6O11与Nd2O3的添加量为0时，抛光粉的堆积比重测量数据均不在规定值内，而添加了Pr6O11与Nd2O3的其他组样品均具有良好的悬浮性能，说明Pr6O11与Nd2O3的添加对于提升抛光粉粉体的品质具有促进作用；改变CeO2、La2O3、Pr6O11、Nd2O3、Y2O3的添加比例，对于抛光粉的悬浮性能以及抛光性能均产生一定程度的影响，随着CeO2含量的提高，抛光粉的抛光效果逐渐提高，这是由于随着CeO2含量的提高，抛光粉的硬度以及耐磨性能提高，故而其抛光效果提高；
根据实施例15-16以及对比例1-2中样品的悬浮性能以及抛光性能的测试数据可知：焙烧温度的改变对抛光粉的品质具有一定的影响，当焙烧温度低于950℃或高于1250℃时，抛光粉的沉淀物堆积比重均超过规定值的上限，说明焙烧温度过高或过低，抛光粉粉体均发生一定程度的团聚，导致抛光粉粉体沉淀过多，而影响抛光粉的品质，因此，将烘焙温度控制在950-1250℃之间有利于确保抛光粉的粉体品质。
本具体实施方式的实施例均为本发明的较佳实施例，并非依此限制本发明的保护范围，故：凡依本发明的结构、形状、原理所做的等效变化，均应涵盖于本发明的保护范围之内。

Claims (8)

1.一种抛光粉，该抛光粉中REO/M=85-95%，按质量分数包括以下组分：CeO2/REO=50-92％、La2O3/REO=0-50％、Pr6O11/REO=0-5％、Nd2O3/REO=0-5％、Y2O3/REO=0-5%、金刚石微粉/M=0-10%以及滑石粉/M=0-5%。
2.根据权利要求1所述的一种抛光粉，其特征在于：所述金刚石微粉为多晶金刚石微粉。
3.一种抛光粉的制备方法，具体包括以下步骤：
S1.研磨：将CeO2、La2O3、Pr6O11、Nd2O3、Y2O3以及去离子水投入球磨机中，使用钢球进行研磨，制得浆液；
S2.氟化：向浆液中加入占REO总量5-7%的氟化物以对浆液进行氟化处理，氟化温度为45-55℃，制得氟化液；
S3.干燥：对氟化液进行干燥处理，干燥温度为120-170℃，干燥时间为8-14h；再对干燥物进行粉碎处理，制得一级粗成品；
S4.焙烧：对一级粗成品进行焙烧处理，焙烧完成后，将一级粗成品在3-4h内降温至500-600℃，再冷却至室温，制得二级粗成品；
S5.二次研磨：对二级粗成品进行二次研磨处理，在研磨过程中加入金刚石微粉以及滑石粉，使其与二级粗成品充分混合，制得三级粗成品；
S6.筛分：对三级粗成品进行粒径筛分处理，得到成品粉体。
4.根据权利要求3所述的一种抛光粉的制备方法，其特征在于：所述S1中钢球的粒径为0.8-1.2mm。
5.根据权利要求3所述的一种抛光粉的制备方法，其特征在于：所述S2中的氟化物为氟硅酸、氢氟酸、氟化铵、氟化钠或氟化钾中的任意一种。
6.根据权利要求3所述的一种抛光粉的制备方法，其特征在于：所述S5中的焙烧温度为950-1250℃，保温时间为2-3h。
7.根据权利要求3所述的一种抛光粉的制备方法，其特征在于：所述S6中成品粉体的中值粒径为0.5-2.5um。
8.根据权利要求3所述的一种抛光粉的制备方法，其特征在于：所述S6中成品粉体的最大粒径为2.5-12um。
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