CN113574020A - 六氟化钨的制造方法、其纯化方法和六氟化钨 - Google Patents
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Abstract
本发明的六氟化钨的制造方法包括如下工序:反应工序,使包含砷或砷化合物的钨与含氟元素的化合物气体反应,得到包含六氟化钨和三价砷化合物的混合物;和,蒸馏工序,将该混合物蒸馏纯化,将包含三价砷化合物的馏分分离去除,得到六氟化钨。
Description
技术领域
本发明涉及六氟化钨的制造方法、其纯化方法和六氟化钨。
背景技术
钨为高熔点且电阻小的金属,作为各种电子材料用原材料以金属单质或者其硅化物的形式被广泛使用。电子材料领域、特别是半导体领域中使用的钨必须为高纯度,作为得到该高纯度的钨的方法,使用了将六氟化钨(WF6)作为原料气体的CVD法。
六氟化钨通常由钨金属(W)与氟气体(F2)的反应而制造,但使用包含砷作为杂质的钨金属的情况下,所制造的六氟化钨中会包含砷杂质。
作为去除六氟化钨中的砷杂质的技术,例如已知有专利文献1中记载的技术。专利文献1中记载了如下方案:将砷杂质变为五氟化砷后,将该五氟化砷通过冷却脱气操作去除(专利文献1的实施例)。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2003-238161号公报
发明内容
发明要解决的问题
然而,本发明人进行了研究,结果判定:上述专利文献1中记载的五氟化砷的去除方法中,在减少六氟化钨中的砷化合物的方面存在改善的余地。
本发明人进行了研究,结果获得了以下的见解。
作为使钨与含氟元素的化合物气体反应来制造六氟化钨的方法,通常利用以下的(1)或(2)的工序。
W+3F2→WF6……(1)
W+2NF3→WF6+N2……(2)
通常,在包含(1)或(2)中制造的六氟化钨的混合物中,含有三氟化砷、五氟化砷等砷化合物。该砷化合物为源自原料的钨金属中所含的砷(As)的杂质。
此处,六氟化钨的沸点为17.1℃,三氟化砷的沸点为63℃,五氟化砷的沸点为-53℃。因此,通常认为,与六氟化钨的沸点差较大的五氟化砷比三氟化砷更容易蒸馏分离。即,认为在将包含三氟化砷和五氟化砷的六氟化钨蒸馏的情况下,沸点高的三氟化砷残留于蒸馏釜,初馏时沸点低的五氟化砷被浓缩。在基于这种理想溶液体系的行为考虑的上述专利文献1中,研究了将全部砷化合物变为五氟化砷并去除该五氟化砷的方法。
本发明的目的在于,提供一种六氟化钨的制造方法和六氟化钨的纯化方法,以得到砷化合物的含量减少了的六氟化钨。
用于解决问题的方案
然而,本发明人详细地进行了研究,结果判定:六氟化钨的砷化合物的实际行为不同于理想溶液体系的行为。
即,发现:将包含多种砷化合物的六氟化钨蒸馏时,三氟化砷等三价砷化合物在初馏时被浓缩。
判定一方的五氟化砷等五价砷化合物不易以蒸馏操作分离,会残留于蒸馏釜。
本发明人基于这种见解进一步深入研究,结果发现:在将包含六氟化钨和三价砷化合物的混合物蒸馏纯化的情况下,在其初馏时三价砷化合物被浓缩,因此,将初馏分离去除,从而可以高度地去除三价砷化合物,因此,可以实现砷化合物减少的高纯度的六氟化钨,至此完成了本发明。
根据本发明,提供一种六氟化钨的制造方法,其包括如下工序:
反应工序,使包含砷或砷化合物的钨与含氟元素的化合物气体反应,得到包含六氟化钨和三价砷化合物的混合物;和,
蒸馏工序,将前述混合物蒸馏纯化,将包含前述三价砷化合物的馏分分离去除,得到六氟化钨。
蒸馏工序中,六氟化钨例如作为釜底液得到。
而且,根据本发明,提供一种六氟化钨的纯化方法,其包括如下蒸馏工序:
将包含六氟化钨和三价砷化合物的混合物蒸馏纯化,将包含前述三价砷化合物的馏分分离去除。
而且,根据本发明,提供一种六氟化钨,
其包含三价砷化合物,
前述三价砷化合物的含量在该六氟化钨整体中为100质量ppb以下。
发明的效果
根据本发明,提供:用于得到砷化合物的含量减少的六氟化钨的六氟化钨的制造方法和六氟化钨的纯化方法、使用这些得到的六氟化钨。
附图说明
图1为示出本实施方式的六氟化钨的制造工序的流程的一例的图。
具体实施方式
对本实施方式的六氟化钨的制造方法的概要进行说明。
本实施方式的六氟化钨的制造方法包括如下工序:反应工序,使包含砷或砷化合物的钨与含氟元素的化合物气体反应,得到包含六氟化钨和三价砷化合物的混合物;和,蒸馏工序,将该混合物蒸馏纯化,将包含三价砷化合物的馏分分离去除,得到六氟化钨。
根据本发明人的见解,判定:在将六氟化钨蒸馏纯化时的初馏时三价砷化合物被浓缩,包含该三价砷化合物作为主成分。因此,通过将蒸馏纯化时的初馏分离去除,从而可以高度地去除六氟化钨中所含的三价砷化合物。由此,可以纯化/制造高纯度的六氟化钨。
另外,本实施方式的制造方法中,上述反应工序可以包括如下工序:使包含砷或砷化合物的钨与含氟元素的化合物气体反应,得到包含五价砷化合物和六氟化钨的中间产物的工序;和,使该中间产物与还原性物质接触,从而将五价砷化合物的至少一部分变为三价砷化合物,得到上述混合物的工序。
根据本发明人的见解,判定:对于六氟化钨中作为杂质包含的砷或砷化合物,如果与还原性物质接触而变为三价砷化合物,则在蒸馏纯化的初馏时三价砷化合物被浓缩,因此,通过将初馏分离去除,从而可以将三价砷化合物去除。在蒸馏工序前进行变为三价砷化合物的工序,从而可以高度地去除砷或砷化合物。因此,可以纯化/制造更高纯度的六氟化钨。
另外,由于初馏时被浓缩的三价砷化合物不仅包含从一开始就包含的三价砷化合物,而且还包含砷或砷化合物发生变动的三价砷化合物,因此,可以有效地去除杂质。因此,可以以高收率制造六氟化钨。
本实施方式的六氟化钨的纯化方法包括如下蒸馏工序:将包含六氟化钨和三价砷化合物的混合物蒸馏纯化,将包含三价砷化合物的馏分分离去除。由此,可以减少六氟化钨中的三价砷化合物的含量。另外,本实施方式的蒸馏方法中,在上述蒸馏工序前,可以包括如下工序:使包含五价砷化合物和六氟化钨的中间产物与还原性物质接触,从而可以将五价砷化合物变为三价砷化合物,得到上述混合物。由此,可以以更高纯度纯化六氟化钨。
根据本实施方式的六氟化钨的纯化方法,可以提供:用作制造对溅射靶材或者导电性糊剂材料等有用的高纯度钨粉末时的CVD原料气体、半导体制造用的CVD原料气体的六氟化钨。
如果将高纯度的六氟化钨用于半导体制造用的CVD原料气体等,则可以抑制通过CVD形成的覆膜中包含砷。砷为半导体的掺杂物质。因此,通过从覆膜中去除砷,从而可以抑制源自砷的扩散等的器件的不良影响发生。
因此,通过使用以本实施方式的制造方法得到的六氟化钨,从而可以实现可靠性优异的器件。
以下,对本实施方式的六氟化钨的制造方法的各工序进行详述。
本实施方式的六氟化钨的制造方法可以包括如下步骤:反应步骤(S100)、还原步骤(S110)、纯化步骤(S120)、根据需要的填充步骤(S130)。图1示出各步骤(S100~S130)的流程的一例。
本实施方式的六氟化钨的制造方法不限定于上述的步骤,根据需要也可以组合1种或2种以上的纯化、捕集、脱气、移液等公知的操作。可以实施这些操作中的任1种以上多次。各操作的实施顺序可以适宜选择。
上述反应步骤(S100)中,使包含砷或砷化合物的钨与含氟元素的化合物气体反应,得到包含五价砷化合物和六氟化钨的中间产物。上述反应工序中,可以采用上述反应式(1)或(2)。其中,从制造稳定性的观点出发,使钨金属与氟气体反应,可以使用反应式(1)。
在上述反应步骤中得到的中间产物(包含六氟化钨的混合物气体)中,除六氟化钨化合物之外,包含源自原料的钨金属的杂质、源自氟气体的杂质或制造工艺中混入的杂质。作为这些杂质,例如可以举出AsF3等三价砷化合物、AsF5等五价砷化合物。原料的钨金属中的砷浓度以砷原子换算计例如可以为0.3质量ppm~3质量ppm。
接下来的还原步骤(S110)中,使包含步骤100中得到的六氟化钨的混合物气体(中间产物)与还原性物质接触。通过使中间产物与还原性物质接触,从而可以将中间产物中所含的五价砷化合物的至少一部分变为三价砷化合物。即,可以将中间产物中所含的五氟化砷等五价砷化合物还原为三价砷化合物。另外,上述还原步骤中,可以将五价砷化合物还原且可以抑制六氟化钨本身的还原。
上述还原步骤中,可以将中间产物中所含的五价砷化合物的至少一部分、优选总量的一半以上、更优选几乎总量还原为三价砷化合物。通过将五价砷化合物还原,从而可以将它们在接下来的纯化步骤(蒸馏工序)分离,因此,可以有效地去除中间产物中所含的五价砷化合物。
作为上述还原性物质,可以考虑与六氟化钨的反应难易度、与五氟化砷等五价砷化合物的反应容易性而适宜选择,例如优选包含选自由钨、钼、铜、镍、铁、钴、锌、钛、铝、钙、镁、磷、氢组成的组中的一种以上。它们可以单独使用,也可以组合2种以上而使用。其中,从操作性的观点出发,优选钨、钼、铜、镍、铁、钴、锌、钛、铝、钙、镁等还原性金属。还原性金属可以为包含上述金属作为主成分的金属化合物。从抑制杂质的混入、且抑制六氟化钨的收率的降低的观点出发,优选金属的钨。
上述还原性物质与六氟化钨的反应温度可以考虑上述反应性而适宜选择,例如可以设为100℃~500℃左右。通过设为100℃以上,从而可以充分进行五氟化砷等五价砷化合物的还原反应。通过设为500℃以下,从而可以抑制六氟化钨的一部分被还原,可以实现高的收率性。
作为上述还原性金属的形状,没有特别限定,例如可以举出块状、板状、棒状、粒状、粉状、筛状等。从表面积大的观点出发,优选粉状,从用于填充塔的观点出发,优选粒状、块状或棒状。
作为上述还原性金属与六氟化钨的接触方法,可以举出:在填充有单一或多个还原性金属的填充塔的内部使六氟化钨(气体)流通的方法。优选使用不产生短传的结构的填充塔。填充的还原性金属的形状可以考虑压损而适宜选择,与粒径细的粉状相比,优选使用粒状、块状或棒状。
在填充塔中流通的气体(六氟化钨)的线速度例如优选10cm/分钟~100cm/分钟(25℃换算)。通过使线速度为下限值以上,从而可以增加每单位时间的处理量,提高经济效率。通过使线速度为上限值以下,从而可以抑制未反应物残留。另外,可以抑制未反应物残留的同时,可以抑制填充塔中的填充长度变长,因此,可以提高经济效率。
对在填充塔中流通的气体的空塔停滞时间没有限定,优选1分钟以上且5分钟以下。如果短于1分钟,则砷无法被充分还原,如果长于5分钟,则有六氟化钨被还原的担心。
此处,使用了钨金属和氟气体的六氟化钨的制造设备中,根据反应形式而未反应的氟包含于反应器出口气体中。反应器出口气体中包含五氟化砷多于三氟化砷。例如,使用在上方具有空间部分的卧式反应器的情况下,未反应的氟发生短传,在反应器出口气体中包含氟气体。对于包含大量五氟化砷的六氟化钨,本实施方式的还原工序是有效的。
另一方面,使用立式填充塔型的反应器的情况下,由于反应生成气体在到达反应器出口前通过经加热的金属钨层,因此,未反应的氟减少,进而可以将五氟化砷还原为三氟化砷。另外,即使在使用立式反应器的情况下,通过与氟的反应的进行而金属钨的填充层也变短,因此,优选在后段另行设置还原用的填充塔。
作为上述填充塔、配管等的材质,使用镍、蒙乃尔合金等。
通过以上的反应步骤或者反应步骤和还原步骤,可以得到包含六氟化钨和三价砷化合物的混合物(六氟化钨混合物)。
接着,可以将六氟化钨混合物(气体)捕集至捕集容器中并将该捕集容器脱气。在这种捕集工序中,也可以将气体状的六氟化钨捕集到冷却至-50℃左右的捕集容器内而进行固化。然而,将捕集容器的上部的气体层在真空泵中去除。此时,可以将氦气等非活性气体在捕集容器内进行置换、脱气。
另外,可以将六氟化钨混合物升温至室温(例如25℃)左右后进行液化而捕集。
接下来的纯化步骤(S120)中,将六氟化钨混合物蒸馏纯化,将包含该混合物中的三价砷化合物的馏分分离去除(吹扫)(蒸馏工序)。
作为上述馏分,包含三价砷化合物被浓缩的初馏。该初馏中还包含回流后的六氟化钨的初馏。
另外,上述纯化步骤可以将上述捕集工序和/或移液工序中得到的六氟化钨混合物蒸馏纯化。
作为上述蒸馏方法,可以使用公知的蒸馏手段,但例如可以使用分批式蒸馏和连续式蒸馏中的任一蒸馏手段。该蒸馏手段可以与常压蒸馏、减压蒸馏(真空蒸馏)和加压蒸馏中的一者组合使用。
对于本实施方式的蒸馏工序的实施方式的一例进行说明。
蒸馏装置具备:蒸馏釜、蒸馏塔、冷凝器和接收器(接收罐)。将蒸馏釜、蒸馏塔和冷凝器彼此连接。
六氟化钨混合物(液体)从捕集容器移液至蒸馏釜。可以将捕集到的六氟化钨混合物进一步捕集至其他容器后移液至蒸馏釜。
蒸馏釜将导入的六氟化钨混合物(液体)加热。作为蒸馏釜的加热温度,例如可以调整为约20℃~50℃。加热后的六氟化钨(气体)移动至蒸馏塔。
蒸馏塔可以为在内部放有填充物的填充式,也可以为设有多个搁板的搁板式。
作为上述蒸馏塔,只要可以截止初馏分就没有限定,优选用于截止工业工艺中通常使用的低沸点化合物的蒸馏塔。蒸馏形式可以为减压、大气压、加压,均可,可以适宜选择。从节约能源的观点出发,优选加压蒸馏。蒸馏塔的级数可以根据六氟化钨的砷浓度、要求的制品的品质以5级~50级左右进行选择。
作为蒸馏塔的塔内所含的填充物,只要为规则填充物或不规则填充物的公知的物质就没有特别限定。填充物可以为金属制、陶瓷制、塑料制,均可,优选耐腐蚀性金属制,从廉价且容易操作的观点出发,更优选镍制或SUS制。由此,可以抑制蒸馏过程中的金属杂质的混入。例如可以使用密封件型、环型、球型等的不规则制填充物。
包含填充物的蒸馏塔使从蒸馏釜移动的六氟化钨(气体)向冷凝器移动,且与从冷凝器回流的六氟化钨(液体)在填充物的表面上进行气液接触。
冷凝器连接于蒸馏塔的塔顶。冷凝器将蒸馏塔中通过的六氟化钨(气体)冷却,使冷却后的六氟化钨(液体)从冷凝器的下部返回至蒸馏塔内(回流)。
上述回流条件例如通过调整冷凝器的制冷剂流量、入口、出口的制冷剂温度、塔顶内温、蒸馏釜的热介质流量等从而可以适当控制。
冷凝器的内部温度可以根据冷凝器的内压而设定为适当的温度,例如为5℃~100℃、优选10℃~70℃、更优选20~50℃。
从冷凝器的上部,用流量计边控制流量边提取初馏分。在该馏分中包含三氟化砷等三价砷化合物。通过将初馏分截止(废弃),从而可以得到高纯度的六氟化钨。
截止后的初馏分借助排气体泵排除至蒸馏装置外。
详细的机制不确定,但认为:包含六氟化钨的混合溶液不是理想液体,作为非理想液体发挥作用,因此,在初馏分中三氟化砷等三价砷化合物被浓缩。
初馏分的分离量可以根据成为蒸馏对象的混合物中的砷浓度而适当确定,相对于在蒸馏工序中的六氟化钨的投入量100质量%,初馏分的分离量例如为0.1质量%以上~5质量%以下、优选0.3质量%以上~3质量%以下、更优选0.5质量%以上~1.0质量%以下。通过使初馏分的分离量为上限值以下,从而可以提高六氟化钨的收率。步骤S110的还原步骤中,将五价砷化合物变为三价砷化合物,使该三价砷化合物浓缩于初馏分中,从而可以通过分离去除初馏分而提高三价砷化合物的去除效率。即,即使为少量的初馏分截止,也可以充分去除砷化合物,回收高纯度的六氟化钨。另一方面,通过使初馏分的分离量为下限值以上,从而可以回收高纯度的六氟化钨。
本实施方式的蒸馏工序可以进行的是,用于得到满足下述条件的六氟化钨的馏分的分离去除。
条件:馏分的分离去除后的六氟化钨中的三价砷化合物的含量的上限值相对于六氟化钨整体,为100质量ppb以下、优选80质量ppb以下、更优选50质量ppb以下、进一步优选10质量ppb以下、进而优选低于1质量ppb。该三价砷化合物的含量的下限值没有特别限定,例如可以设为0.1质量ppb以上。如此三价砷化合物的含量减少,可以实现制品的制造稳定性优异的高纯度的六氟化钨。
需要说明的是,本说明书中,“三价砷化合物的含量”是指砷原子换算的值。本说明书的其他部位也同样,“砷浓度”也是指砷原子换算的值。
将初馏分分离去除后,停止回流。将蒸馏窑的六氟化钨以液体提取到接收器(接收罐)中、或以气体状流出并利用具有冷凝器的接收器(接收罐)捕集而回收。
对于初馏分、回收后的六氟化钨,通过ICP-MS,可以测定砷浓度。
步骤S160中,在蒸馏工序(步骤S150)后,使回收后的六氟化钨气化,填充至保管容器。需要说明的是,回收后的六氟化钨可以通过移液而填充至保管容器。
本实施方式的保管容器是将上述的纯化方法中得到的六氟化钨填充至内部而成的。保管容器中六氟化钨可以以液体被保管。由此,可以提高保管性、输送性。
上述保管容器具备:具有内部空间的金属制容器、设置于金属制容器的六氟化钨的出入口、和设于出入口的阀。从出入口导入的六氟化钨被保管于金属制容器内的内部空间。由此,可以提高六氟化钨的操作性。
上述保管容器的金属制容器优选其至少内部(与六氟化钨接触的内壁)为耐腐蚀性金属制。作为耐腐蚀性金属,可以举出镍、镍基合金、不锈钢(SUS)、锰钢、铝、铝基合金、钛、钛基合金、或铂等。其中,从廉价且容易操作的观点出发,金属制容器更优选镍、镍基合金等镍制或SUS制。由此,可以维持高纯度不变地保管/输送六氟化钨。
以上,本发明的实施方式进行了说明,但这些是本发明的示例,也可以采用上述以外各种构成。
实施例
以下,参照实施例对本发明详细地进行说明,但本发明不受这些实施例的记载的任何限定。
[实施例1]
在具备外热式加热器的φ25mm×700mm的镍制填充柱中,填充作为还原性物质的钨(直径5mm、长度1cm的线材)650mm,加热至350℃。
接着,使氟气体与“包含砷成分作为杂质的钨金属”反应得到“包含三价砷化合物和五价砷化合物作为杂质的六氟化钨”,使得到的“包含三价砷化合物和五价砷化合物作为杂质的六氟化钨”在前述填充柱中流通,然后,捕集到冷却至-50℃的不锈钢制捕集器。对约10kg的六氟化钨进行流通处理后,对于捕集器内在-50℃的温度下进行真空脱气处理。
接着,将捕集器内恢复至室温,使包含六氟化钨的混合物(气体)形成液体后,向具备塔径40A、长度1200mm的蒸馏塔的蒸馏设备进行移液。蒸馏塔的填充物用φ6mm×6mm的不锈钢制拉西环,在塔底设置蒸馏釜、在塔顶设置冷凝器,从塔顶的冷凝器以气体状提取投入量(100质量%)的1.5质量%的初馏分,从而进行砷化合物的去除。蒸馏条件以如下方式进行控制:将蒸馏釜在35℃的温水中加热、将冷凝器在15℃的冷却水中冷却、使回流量成为200g/分钟。
其结果,蒸馏前的捕集器内的砷浓度为32质量ppb,而蒸馏后的蒸馏釜内的砷浓度变得低于1质量ppb。初馏分中包含1700质量ppb的砷,砷的主成分为三氟化砷。
[实施例2]
不使包含使氟气体与钨金属反应得到的砷化合物和六氟化钨的混合物在填充柱中流通,除此之外,以与实施例1同样的方法将混合物蒸馏。
其结果,蒸馏前的捕集器内的砷浓度为6.5质量ppb,而蒸馏后的蒸馏釜内的砷浓度为3.4质量ppb,初馏分中包含1.7质量ppb的砷,成为釜底液、初馏这两者包含砷的结果。需要说明的是,参考例1的蒸馏前的捕集器内的砷浓度示出低于实施例1的值的理由推测是由于,AsF5通过捕集器内-50℃的脱气操作而被一定程度地去除。
[比较例1]
使包含使氟气体与钨金属反应得到的砷化合物和六氟化钨的混合物、和氟气体在以外热加热器加热至350℃的φ80mm×700mm的镍制反应器中以1.5NL/分钟流通。流通后的气体捕集到冷却至-50℃的不锈钢制凝气阀。对约1.3kg的六氟化钨进行流通处理后,对凝气阀内的气体在-50℃的温度下进行真空脱气处理。之后,在凝气阀中封入氦气直至大气压,进行真空脱气10分钟,重复该操作5次。将凝气阀内恢复至室温,使包含六氟化钨、和三价砷化合物以外的砷化合物的混合物(气体)形成液体后,以与实施例1同样的方法,将混合物蒸馏。
其结果表明,釜底液中包含砷,初馏分中不含砷。
实施例1和实施例2的六氟化钨的制造方法与比较例1的制造方法相比,可知,釜底液中的砷的含量减少,得到了高纯度的六氟化钨。
本申请要求基于2019年3月25日申请的日本申请特愿2019-056044号的优先权,将其公开的全部内容引入至此。
Claims (16)
1.一种六氟化钨的制造方法,其包括如下工序:
反应工序,使包含砷或砷化合物的钨与含氟元素的化合物气体反应,得到包含六氟化钨和三价砷化合物的混合物;和,
蒸馏工序,将所述混合物蒸馏纯化,将包含所述三价砷化合物的馏分分离去除,得到六氟化钨。
2.根据权利要求1所述的六氟化钨的制造方法,其中,
所述反应工序包括如下工序:
使包含砷或砷化合物的钨与含氟元素的化合物气体反应,得到包含五价砷化合物和六氟化钨的中间产物的工序;和,
使所述中间产物与还原性物质接触,从而将所述五价砷化合物的至少一部分变为三价砷化合物,得到所述混合物的工序。
3.根据权利要求2所述的六氟化钨的制造方法,其中,
所述还原性物质包含选自由钨、钼、铜、镍、铁、钴、锌、钛、铝、钙、镁、磷、氢组成的组中的一种以上。
4.根据权利要求2或3所述的六氟化钨的制造方法,其中,
使所述中间产物与所述还原性物质在100℃以上且500℃以下的温度条件下进行接触。
5.根据权利要求1~4中任一项所述的六氟化钨的制造方法,其中,
相对于在所述蒸馏工序中的六氟化钨的投入量100质量%,所述馏分的分离量为0.1质量%以上且5质量%以下。
6.根据权利要求1~5中任一项所述的六氟化钨的制造方法,其中,包括如下填充工序:
在所述蒸馏工序后,使六氟化钨气化,填充至保管容器。
7.根据权利要求1~6中任一项所述的六氟化钨的制造方法,其中,
所述三价砷化合物包含三氟化砷。
8.根据权利要求1~7中任一项所述的六氟化钨的制造方法,其中,
所述蒸馏工序进行的是,得到满足下述的条件的六氟化钨的所述馏分的分离去除,
(条件)
所述蒸馏工序后的六氟化钨中的三价砷化合物的含量以砷原子换算计为100质量ppb以下。
9.根据权利要求1~8中任一项所述的六氟化钨的制造方法,其中,
所述蒸馏工序中,所述馏分包含所述三价砷化合物的初馏。
10.根据权利要求1~9中任一项所述的六氟化钨的制造方法,其中,
所述蒸馏工序使用具备蒸馏塔的蒸馏装置而进行。
11.根据权利要求10所述的六氟化钨的制造方法,其中,
在所述蒸馏塔内,使六氟化钨回流。
12.根据权利要求1~11中任一项所述的六氟化钨的制造方法,其中,
所述蒸馏工序后的六氟化钨作为CVD原料气体使用。
13.一种六氟化钨的纯化方法,其包括如下蒸馏工序:将包含六氟化钨和三价砷化合物的混合物蒸馏纯化,将包含所述三价砷化合物的馏分分离去除。
14.根据权利要求13所述的六氟化钨的纯化方法,其中,在所述蒸馏工序前,包括如下工序:
使包含五价砷化合物和六氟化钨的中间产物与还原性物质接触,从而将所述五价砷化合物的至少一部分变为三价砷化合物,得到所述混合物。
15.根据权利要求13或14所述的六氟化钨的纯化方法,其中,
所述三价砷化合物包含三氟化砷。
16.一种六氟化钨,其包含三价砷化合物,
所述三价砷化合物的含量在该六氟化钨整体中以砷原子换算计为100质量ppb以下。
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