CN112831076B - 一种高阻水透明聚酰亚胺薄膜的制备方法 - Google Patents

一种高阻水透明聚酰亚胺薄膜的制备方法 Download PDF

Info

Publication number
CN112831076B
CN112831076B CN202110166510.6A CN202110166510A CN112831076B CN 112831076 B CN112831076 B CN 112831076B CN 202110166510 A CN202110166510 A CN 202110166510A CN 112831076 B CN112831076 B CN 112831076B
Authority
CN
China
Prior art keywords
sol
titanium
transparent polyimide
water
polyimide film
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN202110166510.6A
Other languages
English (en)
Other versions
CN112831076A (zh
Inventor
金文斌
阙新红
祝春才
张群
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Zhejiang Zhongke Jiuyuan New Material Co Ltd
Original Assignee
Zhejiang Zhongke Jiuyuan New Material Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Zhejiang Zhongke Jiuyuan New Material Co Ltd filed Critical Zhejiang Zhongke Jiuyuan New Material Co Ltd
Priority to CN202110166510.6A priority Critical patent/CN112831076B/zh
Publication of CN112831076A publication Critical patent/CN112831076A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN112831076B publication Critical patent/CN112831076B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J7/00Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
    • C08J7/04Coating
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J2379/00Characterised by the use of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing nitrogen with or without oxygen, or carbon only, not provided for in groups C08J2361/00 - C08J2377/00
    • C08J2379/04Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain; Polyhydrazides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • C08J2379/08Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)

Abstract

本发明公开了一种高阻水透明聚酰亚胺薄膜的制备方法,包括如下步骤:采用溶胶‑凝胶法,以正硅酸乙酯作为二氧化硅的前驱体,以钛酸四丁酯作为二氧化钛的前驱体,在透明聚酰亚胺表面制备二氧化硅/二氧化钛复合涂层;所述二氧化硅/二氧化钛复合涂层中,二氧化硅与二氧化钛的质量比为1‑10:1。本发明所述方法,通过二氧化钛和二氧化硅的协同改性,显著提高了透明聚酰亚胺薄膜的阻水性能。

Description

一种高阻水透明聚酰亚胺薄膜的制备方法
技术领域
本发明属于高分子材料技术领域,尤其涉及一种高阻水透明聚酰亚胺薄膜的制备方法。
背景技术
近年来,随着光电器件的柔性化、卷曲化、可穿戴化,在光电器结构中以柔性透明聚合物基板代替传统玻璃基板是实现器件卷曲柔性化的关键。透明聚酰亚胺薄膜(CPI)在光学和耐热性能方面有望满足光电器件对基板材料的要求。然而,纯的透明聚酰亚胺薄膜表现出高的水蒸气透过率,缩短了将其作为柔性基底的光电器件的使用寿命,限制了其在光电器件中的应用,因此,需要对透明聚酰亚胺薄膜进行阻水改性。
目前针对透明聚酰亚胺薄膜的阻水改性常常采用单一的无机材料进行改性,但是制备得到的透明聚酰亚胺薄膜复合薄膜的阻水性能改善具有局限性,限制了阻水改性效果。
发明内容
基于上述技术问题,本发明提供了一种高阻水透明聚酰亚胺薄膜的制备方法,通过二氧化钛和二氧化硅的协同改性,显著提高了透明聚酰亚胺薄膜的阻水性能。
本发明技术方案具体如下:
一种高阻水透明聚酰亚胺薄膜的制备方法,包括如下步骤:采用溶胶-凝胶法,以正硅酸乙酯作为二氧化硅的前驱体,以钛酸四丁酯作为二氧化钛的前驱体,在透明聚酰亚胺表面制备二氧化硅/二氧化钛复合涂层;所述二氧化硅/二氧化钛复合涂层中,二氧化硅与二氧化钛的质量比为1-10:1。
优选地,所述二氧化硅/二氧化钛复合涂层中,二氧化硅与二氧化钛的质量比为1-3:1。
优选地,所述高阻水透明聚酰亚胺薄膜的制备方法,具体包括如下步骤:
S1、制备硅溶胶:将正硅酸乙酯加入乙醇和水中,搅拌混匀,加入硝酸调节pH至2-4,搅拌,静置15-25h,得到硅溶胶;
S2、制备钛溶胶:将钛酸四丁酯加入乙醇和水中,搅拌均匀,加入硝酸调节pH至2-4,搅拌,静置15-25h,得到钛溶胶;
S3、制备硅/钛混合溶胶:将硅溶胶与钛溶胶混合,搅拌均匀,于45-55℃下交联反应,得到硅/钛混合溶胶;
S4、采用浸渍提拉法将透明聚酰亚胺在硅/钛混合溶胶中镀膜,晾干、静置18-22h、烧结固化,即得高阻水透明聚酰亚胺薄膜。
优选地,在S1中,正硅酸乙酯、乙醇、水的摩尔比为1:1-2:5-8。
优选地,在S2中,钛酸四丁酯、乙醇、水的摩尔比为1:1-2:5-8。
优选地,在S1和S2中,所述硝酸为浓度为65-68wt%的浓硝酸。
优选地,在S4中,所述浸渍提拉法中浸渍时间为1-10min,提拉速度为0.5-3mm/s。
优选地,在S4中,烧结固化温度为270-320℃,时间为3-5h。
有益效果:
本发明以正硅酸乙酯作为二氧化硅前驱体、以钛酸四丁酯作为二氧化钛前驱体,采用溶胶-凝胶法,制备得到含有有二氧化硅/二氧化钛复合涂层的透明聚酰亚胺。在复合涂层中,二氧化硅和二氧化钛以特定配比交联在一起,两者协同配合,在保证聚酰亚胺透明性的同时,大大提高了其阻水性能。
具体实施方式
下面,通过具体实施例对本发明的技术方案进行详细说明,但是应该明确提出这些实施例用于举例说明,但是不解释为限制本发明的范围。
实施例1
(1)制备硅溶胶:将正硅酸乙酯加入乙醇和水中,搅拌均匀,加入浓度为65wt%的浓硝酸调节pH为2,室温下搅拌反应0.5h,静置15h,得到硅溶胶;其中,正硅酸乙酯、乙醇、水的摩尔比为1:1:5;
(2)制备钛溶胶:将钛酸四丁酯加入乙醇和水中,搅拌均匀,加入浓度为65wt%的浓硝酸调节pH至2,室温下搅拌反应0.5h,静置15h,得到钛溶胶;其中,钛酸四丁酯、乙醇、水的摩尔比为1:1:5;
(3)制备硅/钛混合溶胶:取上述硅溶胶与钛溶胶混合,搅拌均匀,于45℃下交联反应,得到硅/钛混合溶胶;其中,硅/钛混合溶剂中,硅溶胶与钛溶胶质量比为3:1;
(4)采用浸渍提拉法制备高阻水透明聚酰亚胺薄膜:将透明聚酰亚胺在丙酮中超声清洗,蒸馏水冲洗后,烘干备用;采用浸渍提拉法,处理后的透明聚酰亚胺薄膜在所述硅/钛混合溶胶中浸渍3min,然后以1mm/s速度提拉将薄膜从硅/钛混合溶胶中提出,晾干,静置20h,在270℃条件下烧结3h,得到表面含有二氧化硅/二氧化钛复合涂层的高阻水透明聚酰亚胺薄膜,所述涂层厚度为8μm。
实施例2
(1)制备硅溶胶:将正硅酸乙酯加入乙醇和水中,搅拌均匀,加入浓度为68wt%的浓硝酸调节pH为4,室温下搅拌反应1h,静置20h,得到硅溶胶;其中,正硅酸乙酯、乙醇、水的摩尔比为1:2:6;
(2)制备钛溶胶:将钛酸四丁酯加入乙醇和水中,搅拌均匀,加入浓度为68wt%的浓硝酸调节pH至4,室温下搅拌反应1h,静置20h,得到钛溶胶;其中,钛酸四丁酯、乙醇、水的摩尔比为1:2:6;
(3)制备硅/钛混合溶胶:取上述硅溶胶与钛溶胶混合,搅拌均匀,于55℃下交联反应,得到硅/钛混合溶胶;其中,硅/钛混合溶剂中,硅溶胶与钛溶胶质量比为10:1;
(4)采用浸渍提拉法制备高阻水透明聚酰亚胺薄膜:将透明聚酰亚胺在丙酮中超声清洗,蒸馏水冲洗后,烘干备用;采用浸渍提拉法,处理后的透明聚酰亚胺薄膜在所述硅/钛混合溶胶中浸渍10min,然后以3mm/s速度提拉将薄膜从硅/钛混合溶胶中提出,晾干,静置22h,在320℃条件下烧结3.5h,得到表面含有有二氧化硅/二氧化钛复合涂层的高阻水透明聚酰亚胺薄膜,所述涂层厚度为10μm。
实施例3
(1)制备硅溶胶:将正硅酸乙酯加入乙醇和水中,搅拌均匀,加入浓度为68wt%的浓硝酸调节pH为3,室温下搅拌反应1.5h,静置25h,得到硅溶胶;其中,正硅酸乙酯、乙醇、水的摩尔比为1:2:8;
(2)制备钛溶胶:将钛酸四丁酯加入乙醇和水中,搅拌均匀,加入浓度为68wt%的浓硝酸调节pH至4,室温下搅拌反应1h,静置22h,得到钛溶胶;其中,钛酸四丁酯、乙醇、水的摩尔比为1:1:6;
(3)制备硅/钛混合溶胶:取将上述硅溶胶与钛溶胶混合,搅拌均匀,于50℃下交联反应,得到硅/钛混合溶胶;其中硅/钛混合溶剂中,硅溶胶与钛溶胶质量比为1:1;
(4)采用浸渍提拉法制备高阻水透明聚酰亚胺薄膜:将透明聚酰亚胺在丙酮中超声清洗,蒸馏水冲洗后,烘干备用;采用浸渍提拉法,处理后的透明聚酰亚胺薄膜在所述硅/钛混合溶胶中浸渍1min,然后以2.5mm/s速度提拉将薄膜从硅/钛混合溶胶中提出,晾干,静置18h,在300℃条件下烧结5h,得到表面含有有二氧化硅/二氧化钛复合涂层的高阻水透明聚酰亚胺薄膜,所述涂层厚度为7μm。
对比例1
相对于实施例1,省去钛溶胶的制备,仅以所述硅溶胶作为溶胶液,采用所述浸渍提拉法进行改性,得到表面含有有二氧化硅涂层的透明聚酰亚胺薄膜,所述涂层厚度为8μm。
对比例2
相对于实施例1,省去硅溶胶的制备,仅以所述钛溶胶作为溶胶液,采用所述浸渍提拉法进行改性,得到表面含有有二氧化钛涂层的透明聚酰亚胺薄膜,所述涂层厚度为8μm。
实验例1
水蒸气透过率:按照GB/T21529-2008测定方法,测定样品在40℃,90%RH条件下的水蒸气透过率;
光学透过率:采用Shimadu Uv-2550紫外可见光谱测试仪测定;
对上述实施例1-3及对比例1-2制备得到的透明聚酰亚胺薄膜进行水蒸气透过率和光学透过率的测定,结果见下表1。
表1、透明聚酰亚胺薄膜水蒸气透过率和光学透过率的测定结果
水蒸气透过率(g m<sup>-2</sup>day<sup>-1</sup>) 光学透过率(500nm,%)
实施例1 0.05 93
实施例2 0.07 92
实施例3 0.05 92
对比例1 0.10 93
对比例2 0.12 91
以上数据表明,本发明制备得到的二氧化硅/二氧化钛复合涂层具有相较于二氧化硅或二氧化钛单独涂层,在不影响聚酰亚胺透明性的同时,大大提高了其阻水性能。
以上所述,仅为本发明较佳的具体实施方式,但本发明的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内,根据本发明的技术方案及其发明构思加以等同替换或改变,都应涵盖在本发明的保护范围之内。

Claims (8)

1.一种高阻水透明聚酰亚胺薄膜的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:采用溶胶-凝胶法,以正硅酸乙酯作为二氧化硅的前驱体,以钛酸四丁酯作为二氧化钛的前驱体,分别得到硅溶胶与钛溶胶;将硅溶胶与钛溶胶混合,搅拌均匀,于45-55℃下交联反应,得到硅/钛混合溶胶;然后采用浸渍提拉法将透明聚酰亚胺在硅/钛混合溶胶中镀膜,晾干、静置18-22h、烧结固化,在透明聚酰亚胺表面制备得到二氧化硅/二氧化钛复合涂层;所述二氧化硅/二氧化钛复合涂层中,二氧化硅与二氧化钛的质量比为1-10:1。
2.根据权利要求1所述的高阻水透明聚酰亚胺薄膜的制备方法,其特征在于,所述二氧化硅/二氧化钛复合涂层中,二氧化硅与二氧化钛的质量比为1-3:1。
3.根据权利要求1或2所述的高阻水透明聚酰亚胺薄膜的制备方法,其特征在于,具体包括如下步骤:
S1、制备硅溶胶:将正硅酸乙酯加入乙醇和水中,搅拌混匀,加入硝酸调节pH至2-4,搅拌,静置15-25h,得到硅溶胶;
S2、制备钛溶胶:将钛酸四丁酯加入乙醇和水中,搅拌均匀,加入硝酸调节pH至2-4,搅拌,静置15-25h,得到钛溶胶;
S3、制备硅/钛混合溶胶:将硅溶胶与钛溶胶混合,搅拌均匀,于45-55℃下交联反应,得到硅/钛混合溶胶;
S4、采用浸渍提拉法将透明聚酰亚胺在硅/钛混合溶胶中镀膜,晾干、静置18-22h、烧结固化,即得高阻水透明聚酰亚胺薄膜。
4.根据权利要求3所述的高阻水透明聚酰亚胺薄膜的制备方法,其特征在于,在S1中,正硅酸乙酯、乙醇、水的摩尔比为1:1-2:5-8。
5.根据权利要求3所述的高阻水透明聚酰亚胺薄膜的制备方法,其特征在于,在S2中,钛酸四丁酯、乙醇、水的摩尔比为1:1-2:5-8。
6.根据权利要求3所述的高阻水透明聚酰亚胺薄膜的制备方法,其特征在于,在S1和S2中,所述硝酸为浓度为65-68wt%的浓硝酸。
7.根据权利要求3所述的高阻水透明聚酰亚胺薄膜的制备方法,其特征在于,在S4中,所述浸渍提拉法中浸渍时间为1-10min,提拉速度为0.5-3mm/s。
8.根据权利要求3所述的高阻水透明聚酰亚胺薄膜的制备方法,其特征在于,在S4中,烧结固化温度为270-320℃,时间为3-5h。
CN202110166510.6A 2021-02-04 2021-02-04 一种高阻水透明聚酰亚胺薄膜的制备方法 Active CN112831076B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202110166510.6A CN112831076B (zh) 2021-02-04 2021-02-04 一种高阻水透明聚酰亚胺薄膜的制备方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202110166510.6A CN112831076B (zh) 2021-02-04 2021-02-04 一种高阻水透明聚酰亚胺薄膜的制备方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN112831076A CN112831076A (zh) 2021-05-25
CN112831076B true CN112831076B (zh) 2022-12-02

Family

ID=75932473

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202110166510.6A Active CN112831076B (zh) 2021-02-04 2021-02-04 一种高阻水透明聚酰亚胺薄膜的制备方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN112831076B (zh)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113861481B (zh) * 2021-09-24 2022-11-11 中国科学院光电技术研究所 一种高透疏水光学聚酰亚胺复合薄膜材料及制备方法

Citations (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60262833A (ja) * 1984-06-11 1985-12-26 Tokuyama Soda Co Ltd 被覆合成樹脂材
JP2000063119A (ja) * 1998-08-10 2000-02-29 Nissan Chem Ind Ltd 変性された酸化チタン−酸化ジルコニウム−酸化第二スズ複合ゾル及びその製造方法
JP2005288851A (ja) * 2004-03-31 2005-10-20 Dainippon Printing Co Ltd 透明ガス遮断性フィルム、並びにそれを用いるディスプレイ基板及びディスプレイ。
WO2007076525A2 (en) * 2005-12-28 2007-07-05 Ralph Sacks Epoxy based primer coating
CN101205121A (zh) * 2007-12-18 2008-06-25 中国科学院上海硅酸盐研究所 以有机硅为衬底层的透明氧化钛超亲水涂层及制备方法
CN101276014A (zh) * 2007-03-29 2008-10-01 富士胶片株式会社 偏振片保护膜、偏振片、以及液晶显示装置
CN102015934A (zh) * 2008-03-03 2011-04-13 佛罗里达大学研究基金公司 纳米颗粒溶胶-凝胶复合杂化透明涂层材料
CN103214846A (zh) * 2013-03-21 2013-07-24 北京航空航天大学 一种耐空间环境原子氧剥蚀的杂化材料及制备方法
KR101482491B1 (ko) * 2014-01-15 2015-01-16 한국과학기술원 산화마그네슘 나노입자들이 내장된 무색 투명 폴리이미드 필름 제조 및 이를 이용한 적층형 보호막 필름
CN104349897A (zh) * 2012-05-31 2015-02-11 Lg化学株式会社 气体阻隔膜及其制备方法
CN104851844A (zh) * 2015-03-25 2015-08-19 中山大学 一种防水氧阻隔层及其制备方法和应用
CN104987136A (zh) * 2015-07-03 2015-10-21 常州明尔瑞陶瓷有限公司 在氧化铝透明陶瓷基底上制备氧化钛/氧化硅增透膜的方法
CN106601382A (zh) * 2016-12-15 2017-04-26 华南理工大学 一种柔性透明导电膜的制备方法
JP2017081143A (ja) * 2015-10-22 2017-05-18 富士フイルム株式会社 ガスバリアフィルムおよびガスバリアフィルムの製造方法
CN109962150A (zh) * 2017-12-14 2019-07-02 Tcl集团股份有限公司 一种封装薄膜及其制备方法、光电器件
CN110776660A (zh) * 2018-07-13 2020-02-11 北京铂阳顶荣光伏科技有限公司 薄膜、薄膜太阳能电池及其制备方法
CN111766727A (zh) * 2020-06-16 2020-10-13 浙江中科玖源新材料有限公司 一种用于柔性液晶显示器的聚酰亚胺基底及其制备方法
CN112011074A (zh) * 2020-07-29 2020-12-01 浙江中科玖源新材料有限公司 一种有机硅改性聚酰亚胺薄膜及其制备方法

Patent Citations (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60262833A (ja) * 1984-06-11 1985-12-26 Tokuyama Soda Co Ltd 被覆合成樹脂材
JP2000063119A (ja) * 1998-08-10 2000-02-29 Nissan Chem Ind Ltd 変性された酸化チタン−酸化ジルコニウム−酸化第二スズ複合ゾル及びその製造方法
JP2005288851A (ja) * 2004-03-31 2005-10-20 Dainippon Printing Co Ltd 透明ガス遮断性フィルム、並びにそれを用いるディスプレイ基板及びディスプレイ。
WO2007076525A2 (en) * 2005-12-28 2007-07-05 Ralph Sacks Epoxy based primer coating
CN101276014A (zh) * 2007-03-29 2008-10-01 富士胶片株式会社 偏振片保护膜、偏振片、以及液晶显示装置
CN101205121A (zh) * 2007-12-18 2008-06-25 中国科学院上海硅酸盐研究所 以有机硅为衬底层的透明氧化钛超亲水涂层及制备方法
CN102015934A (zh) * 2008-03-03 2011-04-13 佛罗里达大学研究基金公司 纳米颗粒溶胶-凝胶复合杂化透明涂层材料
CN104349897A (zh) * 2012-05-31 2015-02-11 Lg化学株式会社 气体阻隔膜及其制备方法
CN103214846A (zh) * 2013-03-21 2013-07-24 北京航空航天大学 一种耐空间环境原子氧剥蚀的杂化材料及制备方法
KR101482491B1 (ko) * 2014-01-15 2015-01-16 한국과학기술원 산화마그네슘 나노입자들이 내장된 무색 투명 폴리이미드 필름 제조 및 이를 이용한 적층형 보호막 필름
CN104851844A (zh) * 2015-03-25 2015-08-19 中山大学 一种防水氧阻隔层及其制备方法和应用
CN104987136A (zh) * 2015-07-03 2015-10-21 常州明尔瑞陶瓷有限公司 在氧化铝透明陶瓷基底上制备氧化钛/氧化硅增透膜的方法
JP2017081143A (ja) * 2015-10-22 2017-05-18 富士フイルム株式会社 ガスバリアフィルムおよびガスバリアフィルムの製造方法
CN106601382A (zh) * 2016-12-15 2017-04-26 华南理工大学 一种柔性透明导电膜的制备方法
CN109962150A (zh) * 2017-12-14 2019-07-02 Tcl集团股份有限公司 一种封装薄膜及其制备方法、光电器件
CN110776660A (zh) * 2018-07-13 2020-02-11 北京铂阳顶荣光伏科技有限公司 薄膜、薄膜太阳能电池及其制备方法
CN111766727A (zh) * 2020-06-16 2020-10-13 浙江中科玖源新材料有限公司 一种用于柔性液晶显示器的聚酰亚胺基底及其制备方法
CN112011074A (zh) * 2020-07-29 2020-12-01 浙江中科玖源新材料有限公司 一种有机硅改性聚酰亚胺薄膜及其制备方法

Non-Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
"Porous SiO2/TiO2 Bilayer Antireflection Coatings with Self-cleaning Capacity";Ruoyu Chen,等;《Advanced Materials Research》;20110512;第2970-2974页 *
"聚酰亚胺/二氧化硅/二氧化钛纳米杂化膜的制备与性能分析";董铁权,等;《绝缘材料》;20151231;第6卷;第7-10页 *

Also Published As

Publication number Publication date
CN112831076A (zh) 2021-05-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN101407646B (zh) 一种透明疏水膜溶胶及其配制方法和镀制疏水膜方法
CN103524049B (zh) 一种单层SiO2增透膜的制备方法
JPS63258959A (ja) 金属酸化膜形成用塗布液
US20010024685A1 (en) Method for forming a protective coating and substrates coated with the same
CN102849962A (zh) 一种二氧化硅超疏水薄膜的制备方法及一种超疏水材料
KR100333570B1 (ko) 액정 수직배향 필름의 형성방법
CN112831076B (zh) 一种高阻水透明聚酰亚胺薄膜的制备方法
KR20040030591A (ko) 실리카계 후막의 형성방법
JP2008273783A (ja) ガラス用コーティング組成物
CN103757706B (zh) 一种非线性光学晶体表面增透保护膜的制备方法
US20030047111A1 (en) Coating solution for forming transparent silica coating film and method for producing transparent silica coating film
KR20050086414A (ko) 기판 상에 필름을 부착하는 방법
JP4996832B2 (ja) シリカ系コーティング剤、それを用いたシリカ系薄膜および構造体
CN112961391B (zh) 一种含改性二氧化硅涂层透明聚酰亚胺薄膜的制备方法
PT818561E (pt) Revestimentos protectores produzidos por sol-gel sobre reflectores de prata
CN103553361B (zh) 一种Al2O3-SiO2-TiO2无机增透膜的制备方法
JP2637793B2 (ja) コーティング用組成物
JPS623046A (ja) 酸化珪素被膜の形成方法
JPH054839A (ja) ゾルゲル法による薄膜の作製方法
JPH08283661A (ja) 被覆用組成物
KR100793594B1 (ko) 열경화형 막 형성용 코팅 조성물 및 이로부터 제조된 막
JPS59198606A (ja) 透明導電膜形成用組成物
KR100432647B1 (ko) 투명 도전막의 보호막 형성용 조성물 및 이로부터 보호막을 제조하는 방법
CN107942414B (zh) 一种底层为有机-无机杂化薄膜的双层宽频增透膜
KR100420049B1 (ko) 투명 도전막의 보호막 형성용 조성물 및 이를 이용하여 제조되는 보호막의 제조방법

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant