CN112512980A - 光纤用多孔玻璃基材的制造方法及制造装置 - Google Patents

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Abstract

根据本发明，抑制了供给到气化器的有机硅氧烷液体原料的流量变动，并且使二氧化硅微粒的沉积密度均匀。在根据本发明的制造多孔玻璃基材的方法中，内压为P1的原料罐中储存的有机硅氧烷液体原料被质量流量控制器控制为预定的流量，经过内压为P2的配管并被供给到气化器。液体原料在气化器中气化，并作为气体原料供给到燃烧器。气体原料被燃烧器燃烧以沉积由此生成的二氧化硅微粒并形成多孔玻璃基材。本发明的特征在于在上述制造方法中P1≤P2。

Description

光纤用多孔玻璃基材的制造方法及制造装置
技术领域
本发明涉及使用有机硅氧烷原料的光纤用多孔玻璃基材的制造方法和制造装置。
背景技术
光纤用玻璃基材是通过烧结多孔玻璃基材而制造的。待烧结的多孔玻璃基材是通过将二氧化硅微粒沉积在起始材料上来制作的，并且是通过VAD或OVD方法制造的。
通过在燃烧器中燃烧有机硅氧烷原料来形成沉积在起始材料上的二氧化硅微粒(例如，参见专利文献1至4)。
用于形成二氧化硅微粒的一种方法是使用诸如八甲基环四硅氧烷(OMCTS)(例如，参见专利文献1)的液态有机硅氧烷原料(以下称为液体原料)的方法。在专利文献1的方法中，二氧化硅微粒经由以下步骤形成：将液体原料供给到气化器的步骤，在气化器中气化液体原料以形成原料气体的步骤，以及在燃烧器中燃烧气化的液体原料的步骤。在专利文献1的方法中，通过质量流量控制器控制供给到气化器的液体原料。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2013-177297号公报
专利文献2：日本特表2015-505291号公报
专利文献3：日本特开2017-036172号公报
专利文献4：日本特开2017-197402号公报
发明内容
发明要解决的问题
然而，在专利文献1的方法中，例如，当气体溶解在液体原料中并且溶解的气体的气泡混入时，液体原料的流量可能会变动。随着供给的液体原料的流量变动，液体原料在气化器中的气化量也相应地变动，并且供给到燃烧器的原料气体的量变动。当供给到燃烧器的原料气体的量变动时，燃烧器中的燃烧反应变得不稳定，并且二氧化硅微粒的形成量也变动。结果，二氧化硅微粒的密度变得不均匀，这导致制造效率降低以及诸如在将所得的光纤用多孔玻璃基材烧结成透明玻璃期间的脱水不良和玻璃中产生气泡的缺陷。
鉴于上述问题做出了本发明，并且本发明的目的是抑制供给到气化器的有机硅氧烷的液体原料的流量变动，并使二氧化硅微粒的沉积密度均匀。
用于解决问题的方案
为了解决上述问题，在根据本发明的多孔玻璃基材的制造方法中，通过质量流量控制器以预定流量控制内压为P1的原料罐中储存的液体有机硅氧烷原料，并且液体有机硅氧烷原料通过内压为P2的配管被输送到气化器，液体原料在气化器中气化，然后作为气体原料供给到燃烧器，通过在燃烧器中燃烧气体原料形成的二氧化硅微粒沉积以形成多孔玻璃基材。本发明的特征在于，上述制造方法中满足P1≤P2。
优选的是上述制造方法包括使用送液泵将原料罐内的液体原料输送到质量流量控制器的步骤。并且，当供给到质量流量控制器的液体原料的压力为P3时，优选的是满足P1≤P2＜P3。此外，在输送步骤中，更优选的是，一旦送液泵将液体原料的压力升压到P4并且在经由压力损失部将该压力减小到P3时，将液体原料供给到质量流量控制器，使得满足P1≤P2<P3<P4。在这种情况下，优选的是满足P3≤0.6P4。
还优选的是，被送液泵升压到P4的液体原料的一部分或全部返回到原料罐，并且其余部分被供给到质量流量控制器。
在本发明中，P1≤0.1MPa是优选的，并且P1≤0.05MPa是更优选的。
在本发明中，优选地，供液体原料流过的配管被加热并保持为温度维持在高于液体原料的凝固点。在本发明中，液体原料可以是八甲基环四硅氧烷(OMCTS)。
一种光纤用多孔玻璃基材的制造装置包括：原料罐，其储存液体原料并利用非活性气体填充剩余空间，该液体原料是液态的有机硅氧烷；送液泵，其从原料罐输送液体原料；循环配管，其使送液泵输送的液体原料的一部分或全部返回到原料罐；第一供给配管，其从循环配管分支；压力损失部，其设置在第一供给配管的下游；第二供给配管，其设置在压力损失部的下游；质量流量控制器，其经由第二供给配管设置在压力损失部的下游，以将液体原料的流量控制到预定的流量值；第三供给配管，其设置在质量流量控制器的下游；气化器，其经由第三供给配管设置在质量流量控制器的下游，以气化液体原料；和燃烧器，其使由气化器气化的原料气体燃烧以沉积二氧化硅微粒。当原料罐的内压为P1、循环配管的内压为P4、第二供给配管的内压为P3并且第三供给配管的内压为P2时，满足P1≤P2<P3<P4。
在本发明中，优选地设置加热/保温单元，用于加热并将循环配管、第一供给配管、第二供给配管和第三供给配管保持为维持在高于液体原料的凝固点的温度。
发明的效果
根据本发明，对于以八甲基环四硅氧烷(OMCTS)为代表的有机硅氧烷原料，可以抑制供给到气化器的液体原料中的流量变动，并实现稳定的供给。
附图说明
图1示出了本实施方式的光纤用多孔玻璃基材制造装置的构造。
图2示出了实施例中使用的光纤用多孔玻璃基材制造装置的构造。
图3示出了实施例中的光纤用多孔玻璃基材制造装置的气化器周围的原料供给流。
图4示出了比较例中的光纤用多孔玻璃基材制造装置的原料供给流。
具体实施方式
在下文中，基于实施方式，将更详细地说明本发明。在下面的说明中，相同的部分由相同的附图标记表示，并且相应地省略已经说明的部分的说明。
图1示出了光纤用多孔玻璃基材制造装置的原料供给流。图1所示的光纤用多孔玻璃基材制造装置具有：原料罐1；送液泵3；蓄能器15；压力损失部5、11、17；质量流量控制器7；气化器9；燃烧器12和中间容器18，它们通过配管连接。
液态的有机硅氧烷原料(以下简称为“液体原料”)101从原料注入配管2供给并储存在原料罐1中。此时，原料罐的内压被设定为P1。储存在原料罐1中的液体原料101被送液泵3升压并通过配管4输送到压力损失部5。这里，令P4为将液体原料101供给到压力损失部5的配管4中的内压。
压力损失部5对供给的液体原料减压，并且经由配管6将液体原料供给到质量流量控制器7。这里，令P3为将液体原料101供给到质量流量控制器7的配管6的内压。
质量流量控制器7将供给的液体原料101控制为预定的流量，并通过配管8将液体原料101供给到气化器9。这里，令P2为配管8的内压。
气化器9使供给的液体原料101气化以制成原料气体102。气化的原料气体102在经过配管10和压力损失部11的过程中被减压并供给到燃烧器12。燃烧器12使原料气体102燃烧以产生二氧化硅微粒103，二氧化硅微粒103通过燃烧反应沉积在起始材料(未示出)上。如上所述，可以制造光纤用多孔玻璃基材。
在使用如上所述的光纤用多孔玻璃基材制造装置的制造方法中，如果气泡混入流过配管8的液体原料101，则供给到气化器9的液体原料101的实际流量将会变动。结果，在气化器9中气化的液体原料101的量(即，生成的原料气体102的量)变动并且变得不稳定，并且流过配管10的原料气体102的流量也变得不稳定。如果流过配管10的原料气体102的流量变动，则燃烧器12中的二氧化硅微粒103的产生速度变得不稳定，因此沉积在起始材料上的二氧化硅微粒103的密度变动并且变得不均匀。结果，产生的多孔玻璃基材的密度和形状变得不均匀。
因此，优选地从原料罐1的充分远离储存在原料罐1中的液体原料101的液面的底部取出并且输送液体原料101，以尽可能防止气泡与从原料罐1输送的液体原料101混合。
然而，不可避免的是，与储存在原料罐1中的液体原料101的液面接触的气体104的一部分将溶解在液体原料101中。该溶解的气体104会在通向气化器9的途中的配管中发泡并且导致气化器9中产生的原料气体的量不稳定。
因此，在根据本发明的光纤用多孔玻璃基材制造装置中，从原料罐1取出的液体原料101被送液泵3升压。这里，位于质量流量控制器7下游并将液体原料101供给到气化器9的配管8的内压P2应不小于原料罐1的内压P1(即，P1≤P2)。具体地，如果原料罐1的内压P1被设定为高于大气压，则通过从非活性气体供给配管13供给由压力调节器调节的非活性气体来调节P1。送液泵3的排出压力根据从送液泵3到配管8的流路中的压力损失来调节，并且在从配管8到燃烧器12的流路的途中设置诸如针阀的压力损失部11以调节压力。通过这些方法，将P2调节为充分高于燃烧器12的出口处的大气压并且不小于原料罐1的内压P1。这样，能够有效地抑制溶解在液体原料101中的气体104在配管8中发泡。
另外，如果包含气泡的液体流过质量流量控制器7，则准确的流量测量变得困难，并且质量流量控制器7的流量调节操作可能变得不稳定。因此，除了设定P1≤P2以外，位于质量流量控制器7上游的配管6的内压P3不应小于原料罐1的内压P1(即，P1≤P3)。具体地，通过从非活性气体供给配管13供给由压力调节器调节的非活性气体来调节原料罐1的内压P1。而且，通过根据从送液泵3到质量流量控制7的流路中的压力损失来调节送液泵3的排出压力，将配管6的内压P3调节为使得内压P3不小于原料罐1的内压P1。此外，诸如针阀的压力损失部11设置在从质量流量控制器7到燃烧器12的流路的途中以调节压力。通过这些方法，将P2调节为充分高于燃烧器12的出口处的大气压，并且不小于原料罐1的内压P1。这样，可以阻碍气泡进入通过质量流量控制器7的液体原料101。
在此，优选地使质量流量控制器7的上游(配管6侧)的内压P3高于下游(配管8侧)的内压P2(即，P1≤P2＜P3)。这样，进一步稳定了质量流量控制器7的流量调节操作。特别地，因为质量流量控制器7的流量调节操作是稳定的，所以优选地将P3设定成比P2高0.05MPa以上的压力。为了实现P3和P2之间的这种关系，可以根据从送液泵3到质量流量控制器7的流路中的压力损失调节送液泵3的功率，使得送液泵3的排出压力充分高。
此外，在使用如上所述的光纤用多孔玻璃基材制造装置的制造方法中，液体原料101的流量可能根据送液泵103的操作而变动。也就是，如果当送液泵3对液体原料101升压时，由于泵的内部运动引起泵的排出压力变动导致质量流量控制器7的上游压力在短时间周期内变动，则通过质量流量调节控制器7的流量调节可能不能够跟上压力变动。因此，压力损失部5(例如减压阀、节流孔等)应设置在供液体原料101从送液泵3排出的配管4和将液体原料101供给到质量流量控制器7的配管6之间，使得配管4的内压P4高于配管6的内压P3(即，P3＜P4)。这样，配管6的内压P3不易受到送液泵3的排出压力的变动的影响，能够使通过质量流量控制器7的流量调节操作稳定。特别地，优选的是将压力损失部5设定为使得压力P3为P4的大约0.6倍以下，因为可以有效地抑制P3的变动。综上所述，优选的是P1≤P2＜P3＜P4。
将液体原料101注入原料罐1中的原料注入配管2的端部被安装成使得原料注入配管2的端部在储存于原料罐1中的液体原料101的液面下方。这样，可以防止存在于液体原料101的液面上方的空间中的气体104被卷入，并且可以防止气体104的气泡混入液体原料101。
当使用诸如八甲基环四硅氧烷(OMCTS)的高度易燃的液体原料时，原料罐1中的液体原料101的液面上方的空间中的气体104可以是非活性气体，例如氮、氩、氦等。这样，可以防止原料罐1中的意外的氧化反应。为了将这些非活性气体供给到原料罐1的上部空间，如图1所示，可以设置非活性气体供给配管13。
原料罐1的内压P1可以保持为比大气压更高的正压。这样，即使原料罐1具有意外的针孔等，也可以防止带有氧气的外部空气流入原料罐1中。
另一方面，优选的是减小原料罐1的内压P1以及P1的压力变动，以防止气体104过度溶解到储存在原料罐1中的液体原料101中。特别地，优选的是将原料罐1的内压P1的表压保持在0.1MPa以下，甚至更优选的是将该表压保持在0.05MPa以下。优选的是将P1的压力变动保持在±0.01MPa以内，甚至更优选的是将P1的压力变动保持在±0.005MPa以内。
当液体原料101在气化器9中气化时，溶解在液体原料101中的气体104也被释放。原料罐1的上部空间中的气体104应当具有恒定的气体种类(在气体混合的情况下，各气体种类及其混合比)，并且原料罐1的内压P1的变动范围应当很小。这样，溶解在液体原料101中的气体104的量是稳定的。由于溶解在液体原料101中的气体104的量稳定，所以在气化器9中释放的气体104的分压也是稳定的。结果，可以使供给到燃烧器12的原料气体102的流量稳定。
为了调节原料罐1中的内压P1的压力变动，可以利用减压阀(未示出)来调节从非活性气体供给配管13供给的非活性气体的压力以维持恒定的压力。还可以设置安全阀14和背压阀(未示出)以通过对原料罐1降压来维持内压P1，从而在内压P1意外地超过预定压力时使内压P1降到低于预定压力。
作为送液泵3，可以将隔膜泵用作计量泵。另外，可以使用柱塞泵或齿轮泵。如果泵3对配管4中的压力P4的脉动大，则配管6中的压力P3也可能随之脉动。为了抑制P3的脉动，优选地将P4的变动限制在±0.1MPa以内，甚至更优选地将其限制在±0.05MPa以内。
为了抑制P3的脉动，可以使用无脉动的泵，或者可以在泵3的排出侧和配管4之间安装蓄能器15，并且可以安装节流孔或其它压力损失部。储能器15是一种缓冲装置，其通过在脉动液体通过时使隔膜(橡胶膜)反复膨胀和收缩来抑制液体的脉动。
如图1所示，可以从配管4的途中分支出配管16，并且可以在配管16中安装诸如节流孔、安全阀、背压阀、针阀等的压力损失部17以排出从送液泵3输送到配管4的液体原料101的一部分。这样，原料罐1的内压P1的变动范围可以保持为很小。
此外，排出的液体原料101可以被保持在中间容器18中并且例如静置以去除无意地混合的气泡，然后液体原料101可以返回到原料罐1用于再利用。
图2示出了图1所示的光纤用多孔玻璃基材制造装置的变型例。图2所示的光纤用多孔玻璃基材制造装置采用了通过压力损失部17排出的液体原料101通过配管19返回到原料罐1的构造。从原料罐1输送的液体原料101循环通过送液泵3、配管4、配管16、压力损失部17和配管19，并且返回到原料罐1。这样，可以容易地再利用排出的液体原料101。
与原料注入配管2的情况相同，使排出的液体原料101返回原料罐1的配管19的端部优选地安装在原料罐1中的液体原料101的液面下方。利用这种构造，从配管19返回到原料罐1的液体原料101能够防止由于存在于液面上方的空间中的气体104的卷入而有气泡进入液体原料101中。
实施例
下面将通过实施例详细说明本发明。在实施例中，使用具有图2所示的构造的光纤用多孔玻璃基材制造装置。作为液体原料，使用液体八甲基环四硅氧烷(OMCTS)。
首先，通过原料注入配管2将液体原料101供给到原料罐1并储存。然后，通过送液泵3将储存在原料罐1中的液体原料101泵入配管4。从配管4的途中分支出配管16，以使液体原料101的通过配管16和作为压力损失部17的节流孔的部分通过配管19返回到原料罐1。
另一方面，泵入配管4中的液体原料101的其余部分被作为压力损失部5的减压阀减压、被泵入配管6并通过利用质量流量控制器7控制流量而通过配管8被供给到气化器9。原料罐1以及从原料罐1到气化器9的流路被加热并保温以根据需要维持30℃至40℃的温度。优选的是，待保温的温度范围在液体原料101的凝固点以上且在闪点以下。当使用OMCTS作为液体原料101时，优选地加热并将温度保持在17℃至52℃之间，这是因为OMCTS的凝固点为17℃，闪点为52℃。
原料罐1中的液体原料101的液面上方的空间填充有从非活性气体供给配管13供给的氮。原料罐1的内压P1维持在平均0.045MPa的表压，并且制造期间P1的变动范围(P1的最大值-P1的最小值)保持在±0.005MPa以内。
送液泵3的排出率被设定为100cc/分钟，并且蓄能器15安装在送液泵3的正下方。配管4的内压P4被保持为0.5±0.005MPa的表压。如后述的表1中的实施例1至实施例10所示，配管6的内压P3被保持在0.19MPa至0.40MPa的表压的范围内。然后，如实施例1至实施例10所示，通过质量流量控制器7以15g/分钟至70g/分钟的范围内的流量朝向气化器9供给液体原料101。
在装置启动时，通过在安装在压力损失部5(减压阀)上游的阀20关闭的情况下操作送液泵3，液体原料101循环通过送液泵3、配管4、配管16和压力损失部17(节流孔)，并从配管19返回到原料罐1。通过以此方式循环液体原料101，可以将配管中的残留气体推出，并且可以利用无气泡的液体原料填充配管。
图3示出了实施例中的气化器周围的原料供给流。通过质量流量控制器7将泵入到配管6中的液体原料101的流量调节到预定值(g/分钟)，泵入到配管6中的液体原料101通过配管8被供给到气化器9。
气化器9的温度被设定为200℃。从有效地使原料OMCTS气化和防止聚合反应的观点出发，优选地将气化器9的温度设定为150℃至250℃。
从连接到气化器9的配管21供给作为载气105的在热交换器中被加热到200℃的恒定流量(0℃，1大气压标准当量，L/分钟)的氮气。这样，液体原料101和载气105在气化器9中混合以促进液体原料101的气化。
作为载气105，除了氮以外，还可以使用诸如氩或氦的非活性气体、氧或者氧与非活性气体的混合气体。载气105的流量由质量流量控制器(未示出)控制。通过利用热交换器(未示出)加热来供给载气105。
作为通过使液体原料101气化而得到的气体OMCTS与作为载气105的氮的混合物的原料气体102通过配管10和作为压力损失部11的针阀被供给到燃烧器12。将配管10、压力损失部11(针阀)以及配管22被加热到190℃以防止原料气体102凝结。
通过压力损失部11(针阀)的原料气体102进一步通过配管23与加热到200℃的恒定流量的氧气106混合。混合有附加的氧气106的该原料气体102(气体OMCTS和载气的混合气体)然后被供给到燃烧器12。
从防止液体原料101的再凝结的观点出发，此处混合的氧气106可以在如下状态下被供给：通过使用热交换器(未示出)等被预先加热到高于从混合气体中的原料气体102的分压所预期的液化温度的温度。通过在供给燃烧器12之前预先将氧与原料气体102混合，可以促进原料气体102在燃烧器12中的燃烧反应。
除了气体混合气体之外，如果需要，向燃烧器12供给用于燃烧的可燃性气体、用于燃烧的氧气以及密封气体。氢、甲烷、乙烷和丙烷可以用作用于燃烧的可燃性气体。作为密封气体，优选地使用诸如氮、氩、氦等的非活性气体，或者氧或氧与非活性气体的混合气体。
在燃烧器12的火焰中，使原料气体102、用于燃烧的可燃性气体、用于燃烧的氧气等混合并燃烧，从而形成二氧化硅微粒103。形成的二氧化硅微粒103沉积在起始材料上从而形成光纤用多孔玻璃基材。
另外，多孔玻璃基材在含氦气氛中在1500℃下被加热，以制造光纤用透明玻璃基材。
在以上光纤用玻璃基材的制造方法中，利用压力计测量原料罐1的内压P1、配管4的内压P4、配管6的内压P3和配管8的内压P2作为表压。(P3-P2)对应于质量流量控制器7前后的压差。通过质量流量计来测量通过配管10的原料气体102和载气105的混合气体的流量。测量进行10分钟，并测量质量流量计读数的变动率(＝(最大-最小)/平均值×100％)。所使用的质量流量计是热式的，并且通过将原料气体102和载气105的混合气体按N2热容量换算求和来进行测量。未进行利用换算因子和其它因子的实际流量换算。
比较例1是使用与实施例中相同的装置在不同条件下制造多孔玻璃基材的示例。在比较例1中，在释放压力损失部11(针阀)的情况下制造多孔玻璃基材，并且将配管8的内压P2设定为0.020MPa的表压。在比较例1中，原料罐1的内压P1为0.045MPa，因此P1和P2之间的关系为P1＞P2。结果，流量的变动率超过5％。
比较例2是利用图4所示的不具有送液泵3的装置制造多孔玻璃基材的示例。在具有这种构造的装置中，在从非活性气体供给配管13供给的氮的供给压力被设定为0.3MPa的情况下供给液体原料101。结果，流量的变动率超过10％。
表1示出了实施例1至实施例10以及比较例1和比较例2的条件和流量变动。
[表1]
Figure BDA0002915793320000111
如表1中的实施例1至实施例10所示，可以看出，通过设定P1≤P2，可以抑制供给到燃烧器的原料气体的流量变动。另外，从各实施例与比较例2之间的比较可以看出优选的是P1≤P2＜P3。
如上所述，根据本发明，可以抑制供给到气化器的液体原料的流量的变动，并且可以使被气化并供给到燃烧器的原料气体的供给稳定。
附图标记说明
1 原料罐
2 原料注入配管
3 送液泵
4、6、8、16、19 液体原料配管
5、11、17 压力损失部
7 质量流量控制器
9 气化器
10、22 气体原料配管
12 燃烧器
13 非活性气体供给配管
14 安全阀
15 蓄能器
18 中间容器
20 阀
21 载气供给配管
23 氧供给配管
101 液体原料
102 原料气体
103 二氧化硅微粒
104 原料罐1中的气体
105 载气
106 氧气

Claims (11)

1.一种光纤用多孔玻璃基材的制造方法，其包括：
由质量流量控制器控制成预定的流量，通过内压为P2的配管将储存在内压为P1的原料罐中的有机硅氧烷的液体原料输送到气化器中；
在所述气化器中气化所述液体原料，并将气化的原料作为气体原料供给到燃烧器；以及
通过沉积二氧化硅微粒形成多孔玻璃基材，所述二氧化硅微粒通过在所述燃烧器中燃烧所述气体原料而形成，
其中，满足P1≤P2。
2.根据权利要求1所述的光纤用多孔玻璃基材的制造方法，包括使用送液泵将所述原料罐内的所述液体原料输送到所述质量流量控制器的步骤，其中，当供给到所述质量流量控制器的液体原料的压力为P3时，满足P1≤P2＜P3。
3.根据权利要求2所述的制造方法，其特征在于，在输送所述液体原料的步骤中，一旦所述送液泵将所述液体原料的压力升压到P4并且在经由压力损失部将该压力减小到P3时，将所述液体原料供给到所述质量流量控制器，使得满足P1≤P2＜P3＜P4。
4.根据权利要求3所述的制造方法，其特征在于，满足P3≤0.6P4。
5.根据权利要求3或4所述的制造方法，其特征在于，被所述送液泵升压到P4的液体原料的一部分或全部返回到所述原料罐，并且其余部分被供给到所述质量流量控制器。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的制造方法，其特征在于，满足P1≤0.1MPa。
7.根据权利要求6所述的制造方法，其特征在于，满足P1≤0.05MPa。
8.根据权利要求1至7中任一项所述的制造方法，其特征在于，供所述液体原料流过的配管被加热并保持为温度维持在高于所述液体原料的凝固点。
9.根据权利要求1至8中任一项所述的制造方法，其特征在于，所述液体原料是八甲基环四硅氧烷(OMCTS)。
10.一种光纤用多孔玻璃基材的制造装置，其包括：
原料罐，其储存液体原料并利用非活性气体填充剩余空间，所述液体原料是液态的有机硅氧烷；
送液泵，其从所述原料罐输送所述液体原料；
循环配管，其使所述送液泵输送的所述液体原料的一部分或全部返回到所述原料罐；
第一供给配管，其从所述循环配管分支；
压力损失部，其设置在所述第一供给配管的下游；
第二供给配管，其设置在所述压力损失部的下游；
质量流量控制器，其经由所述第二供给配管设置在所述压力损失部的下游，以将所述液体原料的流量控制为预定的流量值；
第三供给配管，其设置在所述质量流量控制器的下游；
气化器，其经由所述第三供给配管设置在所述质量流量控制器的下游，以气化所述液体原料；和
燃烧器，其使由所述气化器气化的原料气体燃烧以沉积二氧化硅微粒，
其中，当所述原料罐的内压为P1、所述循环配管的内压为P4、所述第二供给配管的内压为P3并且所述第三供给配管的内压为P2时，满足P1≤P2<P3<P4。
11.根据权利要求10所述的制造装置，还包括加热/保温单元，其用于加热并将所述循环配管、所述第一供给配管、所述第二供给配管和所述第三供给配管保持为维持在高于所述液体原料的凝固点的温度。
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