CN111668388A - 一种有机发光显示器及其制造方法 - Google Patents

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Abstract

本发明实施例提供一种有机发光显示器及其制造方法，涉及显示技术领域，用于在提升基于COE的OLED的透光率的同时避免影响显示效果。该有机发光显示器包括：衬底基板、设置于衬底基板的第一侧的第一电极层和像素界定层、设置于第一电极层上的电激发光层、覆盖于像素界定层和电激发光层上的第二电极层、覆盖于第二电极层上的封装层、设置于封装层上的黑矩阵和彩膜层以及设置于衬底基板的第二侧的多个指纹感光传感器；黑矩阵上开设有多个透光孔，第二电极层具有镂空区域，多个透光孔在第二电极层上的正投影均位于第二电极层的镂空区域内；多个指纹感光器件分别位于多个透光孔的正投影内。本发明实施例用于有机发光显示器的制造。

Description

一种有机发光显示器及其制造方法
技术领域
本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种有机发光显示器及其制造方法。
背景技术
随着终端技术的发展，电子设备的屏幕尺寸越来越大，高屏占比电子设备逐渐受到用户的青睐。全面屏电子设备作为高屏占比电子设备的发展极致，实现了电子设备屏幕比例的最大化，是当前最热门的技术之一，受到广大用户的喜爱和追捧。
为了在电子设备的显示面保留指纹采集模块且避免影响电子设备的屏占比，现有技术中提出了通过屏下指纹识别的方式实现指纹识别功能。相比于传统指纹识别模块，屏下指纹识别可将指纹采集模块集成在显示面板中，无需占用显示面板的显示区域，因此屏下指纹识别已成为指纹识别的一种重要实现方式。将屏下指纹识别技术应用于基于COE(CFon EL，在薄膜封装的有机电致发光器件上形成彩膜层)的有机发光显示器(OrganicLight-Emitting Diode，OLED)时，由于黑矩阵(Black Matrix，BM)、彩膜层(Color Filter，CF)以及电极层的遮挡，基于COE的OLED的透光率非常低，无法满足屏下指纹识别对透过率的要求。现有技术中一般通过在BM上开孔，提升基于COE的OLED的透光率，然而，一方面OLED的电极层仍会影响OLED的透光率，进而影响指纹采集精度，另一方面，在BM上开孔会直接暴露出OLED的电极层，造成开孔处的反射光强度大幅提升，进而影响OLED的显示效果。
发明内容
有鉴于此，本发明提供了一种有机发光显示器及其制造方法，用于在提升基于COE的OLED的透光率的同时避免影响显示效果。
为了实现上述目的，本发明实施例提供技术方案如下：
第一方面，本发明实施例提供一种有机发光显示器，包括：
衬底基板、设置于所述衬底基板的第一侧的第一电极层和像素界定层、设置于所述第一电极层上的电激发光层、覆盖于所述像素界定层和电激发光层上的第二电极层、覆盖于第二电极层上的封装层、设置于所述封装层上的黑矩阵和彩膜层以及设置于所述衬底基板的第二侧的多个指纹感光传感器；
所述黑矩阵上开设有多个透光孔，所述第二电极层具有镂空区域，所述多个透光孔在所述第二电极层上的正投影均位于所述第二电极的镂空区域内；所述多个指纹感光器件分别位于所述多个透光孔的正投影内。
作为本发明实施例一种可选的实施方式，制作所述第二电极层的材料为改性复合材料；
所述有机发光显示器还包括：弱键合层，所述弱键合层的图案与所述第二电极层的镂空区域互补，且位于所述像素界定层上。
作为本发明实施例一种可选的实施方式，所述第一电极层具有镂空区域，所述多个透光孔在所述第一电极层上的正投影均位于所述第一电极层的镂空区域内。
作为本发明实施例一种可选的实施方式，所述有机发光显示器还包括：
覆盖层，所述覆盖层覆盖于所述黑矩阵和彩膜层上。
作为本发明实施例一种可选的实施方式，所述第一电极层由遮光且导电材料制作。
作为本发明实施例一种可选的实施方式，所述彩膜层包括：以所述黑矩阵为间隔，阵列排布的红色滤光片、绿色滤光片、蓝色滤光片。
第二方面，本发明实施例提供一种有机发光显示器的制造方法，包括：
依次在衬底基板的第一侧制作第一电极层、像素界定层以及电激发光层；
制作覆盖所述像素界定层和所述电激发光层的第二电极层，所述第二电极层具有镂空区域；
对所述衬底基板的第一侧进行封装，形成封装层；
在所述封装层上涂覆开设有多个透光孔的黑矩阵，且设置所述多个透光孔在所述第二电极层上的正投影均位于所述第二电极层的镂空区域内；
在所述封装层上制作彩膜层；
在所述衬底基板的第二侧制作多个指纹感光传感器，且使所述多个指纹感光器件分别位于所述多个透光孔的正投影内。
作为本发明实施例一种可选的实施方式，所述制作覆盖所述像素界定层和所述电激发光层的第二电极层，包括：
通过蒸镀弱键合材料，在所述像素界定层上形成与所述第二电极层的镂空区域互补的弱键合层；
通过蒸镀改性复合材料，在所述弱键合层以外的其它区域内形成所述第二电极层。
作为本发明实施例一种可选的实施方式，在所述封装层上制作彩膜层之后，所述方法还包括：
制作覆盖所述彩膜层和所述黑矩阵的覆盖层。
作为本发明实施例一种可选的实施方式，所述依次在衬底基板的第一侧制作第一电极层、像素界定层以及电激发光层，包括：
通过蒸镀遮光且导电材料在有效显示区域内形成所述第一电极层；
在所述衬底基板的第一侧的像素界定区域内形成所述像素界定层；
在所述第一电极层上形成所述电激发光层。
本发明实施例提供的有机发光显示器包括：衬底基板、设置于所述衬底基板的第一侧的第一电极层和像素界定层、设置于所述第一电极层上的电激发光层、覆盖于所述像素界定层和电激发光层上的第二电极层、覆盖于第二电极层上的封装层、设置于所述封装层上的黑矩阵和彩膜层以及设置于所述衬底基板的第二侧的多个指纹感光传感器。其中，所述黑矩阵上开设有多个透光孔，所述第二电极层具有镂空区域，所述多个透光孔在所述第二电极层上的正投影均位于所述第二电极的镂空区域内；所述多个指纹感光器件分别位于所述多个透光孔的正投影内。一方面，由于第二电极层具有镂空区域，且黑矩阵上开设的多个透光孔在所述第二电极层上的正投影均位于所述第二电极层的镂空区域内，指纹反射的光线不会受到黑矩阵和第二电极层的的遮挡，因此本发明实施例可以提升基于COE的OLED的透光率。另一方面，由于黑矩阵上开设的多个透光孔在所述第二电极层上的正投影均位于所述第二电极层的镂空区域内，第二电极层不会反射透光孔透射的光线，因此本发明实施例还可以避免透光孔处的反射光强度大幅提升。综上分析，本发明实施例可以在提升基于COE的OLED的透光率的同时避免影响显示效果。
附图说明
通过阅读下文优选实施方式的详细描述，各种其他的优点和益处对于本领域普通技术人员将变得清楚明了。附图仅用于示出优选实施方式的目的，而并不认为是对本发明的限制。而且在整个附图中，用相同的参考符号表示相同的部件。
图1为本发明实施例提供的有机发光显示器的剖视图之一；
图2为本发明实施例提供的有机发光显示器的工作原理图；
图3为本发明实施例提供的有机发光显示器的剖视图之二；
图4为本发明实施例提供的第二电极层的俯视图；
图5为本发明实施例提供的弱键合层的俯视图；
图6为本发明实施例提供的第一电极层的俯视图；
图7为本发明实施例提供的有机发光显示器的剖视图之三；
图8为本发明实施例提供的黑矩阵和彩膜层的俯视图；
图9为本发明实施例提供的有机发光显示器的制造方法的步骤流程图；
图10为本发明实施例提供的层结构示意图之一；
图11为本发明实施例提供的层结构示意图之二；
图12为本发明实施例提供的层结构示意图之三；
图13为本发明实施例提供的层结构示意图之四；
图14为本发明实施例提供的层结构示意图之五；
图15为本发明实施例提供的层结构示意图之六；
图16为本发明实施例提供的层结构示意图之七；
图17为本发明实施例提供的有机发光显示器的制造设备的硬件结构示意图。
附图标记：
11-衬底基板；12-第一电极层；13-像素界定层；14-电激发光层；
15-第二电极层；16-封装层；17-黑矩阵；18-彩膜层；
19-指纹感光传感器；31-弱键合层；71-覆盖层；170-透光孔；
150-第二电极层15的镂空区域；120-第一电极层12的镂空区域；
181-红色滤光片；182-绿色滤光片；183-蓝色滤光片。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明实施例中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
在本发明实施例中，“示例性的”或者“例如”等词用于表示作例子、例证或说明。本发明实施例中被描述为“示例性的”或者“例如”的任何实施例或设计方案不应被解释为比其它实施例或设计方案更优选或更具优势。确切而言，使用“示例性的”或者“例如”等词旨在以具体方式呈现相关概念。此外，在本发明实施例的描述中，除非另有说明，“多个”的含义是指两个或两个以上。
本发明实施例提供了一种有机发光显示器，参照图1所示，本发明实施例提供的有机发光显示器包括：
衬底基板(Basilar Plate，BP)11、设置于所述衬底基板11的第一侧的第一电极层12和像素界定层(Pixel Definition Layer，PDL)13，设置于所述第一电极层12上的电激发光层(Electro Luminescent，EL)14、覆盖于所述像素界定层13和电激发光层14上的第二电极层15、覆盖于第二电极层15上的封装层(Encapsulation Layer，EN)16、设置于所述封装层16上的黑矩阵(Black Matrix，BM)17和彩膜层(Color Filter，CF)18以及设置于所述衬底基板11的第二侧的多个指纹感光传感器19；
所述黑矩阵17上开设有多个透光孔170，所述第二电极层15具有镂空区域150，所述多个透光孔170在所述第二电极层15上的正投影均位于所述镂空区域150内；所述多个指纹感光器件19分别位于所述多个透光孔170的正投影内。
本发明实施例中的第一电极层12可以为OLED的阳极或OLED的阴极，当第一电极层12为OLED的阳极时，第二电极层为OLED的阴极，当第一电极层12为OLED的阴极时，第二电极层为OLED的阳极。
进一步，本发明实施例提供的有机发光显示器还可以包括与所述多个指纹感光器件均电连接的指纹处理模块，用于在指纹感光器件19将手指的反射光线转换为电信号后，根据指纹器件19输出的电信号确定采集到的指纹，并与预存储的指纹进行匹配。
如图2所示，手指反射的光线从黑矩阵17上开设的透光孔170进入有机发光显示器后，首先穿过封装层16，然后从第二电极层15的镂空区域进入像素界定层13，并穿过像素界定层13到达指纹感光器件19。由于手指反射的光线传播至指纹感光器件19的过程中，手指反射的光线可以从第二电极层15的镂空区域穿射过第二电极层15，因此第二电极层15不会吸收和反射手指反射的光线，因此本发明实施例可以避免第二电极层影响OLED的透光率以及黑矩阵的透光孔处的反射光强度大幅提升。
本发明实施例提供的有机发光显示器包括：衬底基板、设置于所述衬底基板的第一侧的第一电极层和像素界定层、设置于所述第一电极层上的电激发光层、覆盖于所述像素界定层和电激发光层上的第二电极层、覆盖于第二电极层上的封装层、设置于所述封装层上的黑矩阵和彩膜层以及设置于所述衬底基板的第二侧的多个指纹感光传感器。其中，所述黑矩阵上开设有多个透光孔，所述第二电极层具有镂空区域，所述多个透光孔在所述第二电极层上的正投影均位于所述第二电极的镂空区域内；所述多个指纹感光器件分别位于所述多个透光孔的正投影内。一方面，由于第二电极层具有镂空区域，且黑矩阵上开设的多个透光孔在所述第二电极层上的正投影均位于所述第二电极层的镂空区域内，指纹反射的光线不会受到黑矩阵和第二电极层的的遮挡，因此本发明实施例可以提升基于COE的OLED的透光率。另一方面，由于黑矩阵上开设的多个透光孔在所述第二电极层上的正投影均位于所述第二电极层的镂空区域内，第二电极层不会反射透光孔透射的光线，因此本发明实施例还可以避免透光孔处的反射光强度大幅提升。综上分析，本发明实施例可以在提升基于COE的OLED的透光率的同时避免影响显示效果。
作为本发明实施例一种可选的实施方式，制作所述第二电极层的材料为改性复合材料；所述有机发光显示器还包括：弱键合层(Weak Bonding Layer，WBL)，所述弱键合层的图案与所述第二电极层的镂空区域互补，且位于所述像素界定层上。
具体的，参照图3所示的有机发光显示器的截面图，图4所示的第二电极层的俯视图，图5所示的弱键合层的俯视图。所述弱键合层31的图案与所述第二电极层15的镂空区域150互补，且所述弱键合层31位于所述像素界定层13上。
一方面，由于相比于第二电极层15，弱键合层31透光率较大且光反射率交小，因此弱键合层31对OLED的透光率以及黑矩阵17的透光孔170处的反射光强度影响较小，因此当有机发光显示器还包括弱键合层31时，OLED的指纹采集精度以及显示效果均在可接受范围内。
另一方面，有机发光显示器的制程工艺中，一般通过蒸镀工艺形成第二电极层15，然而蒸镀形成的第二电极层15为整层结构，蒸镀过程中难以形成需要的镂空区域，因此在蒸镀形成第二电极层15后，还需要进一步在第二电极层15上制作镂空区域，工艺比较复杂，生产成本较高。而若先在第二电极层15的镂空区域150制作弱键合层31，然后再进行第二电极层15的蒸镀，由于第二电极层15蒸镀材料无法附着在弱键合层31上，可以直接形成需要的第二电极图案，因此上述实施例可以节省制作第二电极层的复杂度，进而降低OLED的生产成本。
进一步的，参照图6所示，所述第一电极层12具有镂空区域120，所述多个透光孔170在所述第一电极层120上的正投影均位于所述第一电极层12的镂空区域120内。
由于透光孔170在所述第一电极层120上的正投影均位于所述第一电极层12的镂空区域120内，因此手指反射的光线可以从第一电极层12的镂空区域120穿射过第一电极层12，因此第一电极层12也不会吸收和反射手指反射的光线，因此本发明实施例可以避免第一电极层影响OLED的透光率。
进一步的，参照图7所示，所述有机发光显示器还包括：
覆盖层71，所述覆盖层(Over Coating，OC)71覆盖于所述黑矩阵17和彩膜层18上。
作为本发明实施例一种可选的实施方式，所述第一电极层12由遮光且导电材料制作。
示例性的，第一电极层12可以由铜、银、铝等金属材料制作。
设置第一电极层12由遮光且导电材料制作，可以避免电激发光层13发出的光线直接被指纹感光传感器19接收，进而进一步提升指纹识别的精度。
作为本发明实施例一种可选的实施方式，参照图8所示，所述彩膜层18，包括：以所述黑矩阵17为间隔，阵列排布的红色滤光片181、绿色滤光片182、蓝色滤光片183。
当然，在上述实施例的基础上，本发明实施例提供的有机发光显示器还可以包括偏光片、触摸功能层等，本发明实施例对此不做限定。
基于同一发明构思，本发明实施例还提供了一种有机发光显示器的制造方法，该有机发光显示器的制造方法用于制造上述任一实施例提供的有机发光显示器。具体的，参照图9所示，本发明实施例提供的有机发光显示器的制造方法包括如下步骤：
S91、依次在衬底基板的第一侧制作第一电极层、像素界定层以及电激发光层。
具体的，上述步骤S91(依次在衬底基板的第一侧制作第一电极层、像素界定层以及电激发光层)的实现过程，具体可以包括如下步骤a至步骤c：
步骤a、通过蒸镀遮光且导电材料在有效显示区域内形成所述第一电极层。
步骤b、在所述衬底基板的第一侧的像素界定区域内形成所述像素界定层。
需要说明的是，本发明实施例中将有机发光显示器的显示面板划分为有效显示区域和像素界定区域两个区域。其中，有效显示区域对应各个子像素所在的区域，像素界定区域对应像素界定层所在区域。像素界定层将显示面板分割为多个阵列排布的子像素区域，全部子像素区域的合集即为有效显示区域。
步骤c、在所述第一电极层上形成所述电激发光层。
具体的，可以通过沉积工艺在第一电极层上形成所述电激发光层。
依次在衬底基板的第一侧制作第一电极层、像素界定层以及电激发光层后，形成的层结构可以如图10所示，包括：衬底基板11、设置于所述衬底基板11的第一侧的第一电极层12和像素界定层13、设置于所述第一电极层12上的电激发光层14。
S92、制作覆盖所述像素界定层和所述电激发光层的第二电极层，所述第二电极层具有镂空区域。
制作覆盖所述像素界定层和所述电激发光层的第二电极层后，形成的层结构可以如图11所示，包括：衬底基板11、设置于所述衬底基板11的第一侧的第一电极层12和像素界定层13、设置于所述第一电极层12上的电激发光层14，以及覆盖于所述像素界定层13和电激发光层14上的第二电极层15。
具体的，步骤S92(制作覆盖所述像素界定层和所述电激发光层的第二电极层)的实现过程可以包括如下步骤1和步骤2：
步骤1、通过蒸镀弱键合材料，在所述像素界定层上形成与所述第二电极层的镂空区域互补的弱键合层。
步骤2、通过蒸镀改性复合材料，在所述弱键合层以外的其它区域内形成所述第二电极层。
由于改性复合材料不会附着在弱键合材料上，因此在形成与所述第二电极层的镂空区域互补的弱键合层后，直接蒸镀改性复合材料即可以形成具有镂空区域的第二电极层。
当通过上述步骤1和步骤2制作覆盖所述像素界定层和所述电激发光层的第二电极层时，形成的层结构可以如图12所示，包括：衬底基板11、设置于所述衬底基板11的第一侧的第一电极层12和像素界定层13、设置于所述第一电极层12上的电激发光层14，以及覆盖于所述像素界定层13和电激发光层14上的第二电极层15，所述第二电极层具有镂空区域150；弱键合层31，所述弱键合层31的图案与所述第二电极层15的镂空区域150互补，且位于所述像素界定层13上。
S93、对所述衬底基板的第一侧进行封装，形成封装层。
对所述衬底基板的第一侧进行封装形成封装层形成的层结构可以如图13所示，包括：衬底基板11、设置于所述衬底基板11的第一侧的第一电极层12和像素界定层13、设置于所述第一电极层11上的电激发光层14、覆盖于所述像素界定层13和电激发光层14上的第二电极层15、覆盖于第二电极层15上的封装层16。
S94、在所述封装层上涂覆开设有多个透光孔的黑矩阵，且设置所述多个透光孔在所述第二电极层上的正投影均位于所述第二电极层的镂空区域内。
在所述封装层上涂覆开设有多个透光孔的黑矩阵，且设置所述多个透光孔在所述第二电极层上的正投影均位于所述第二电极层的镂空区域内后，形成的层结构可以如图14所示，包括：衬底基板11、设置于所述衬底基板11的第一侧的第一电极层12和像素界定层13、设置于所述第一电极层11上的电激发光层14、覆盖于所述像素界定层13和电激发光层14上的第二电极层15、覆盖于第二电极层15上的封装层16设置于所述封装层16上的黑矩阵17。所述黑矩阵17上开设有多个透光孔170，所述多个透光孔170在所述第二电极层15上的正投影均位于所述镂空区域150内。
S95、在所述封装层上制作彩膜层。
具体的，本发明实施例中的彩膜层可以包括以所述黑矩阵为间隔，阵列排布的红色滤光片、绿色滤光片、蓝色滤光片。
当彩膜层包括以所述黑矩阵为间隔，阵列排布的红色滤光片、绿色滤光片、蓝色滤光片时，在所述封装层上制作彩膜层包括：
逐一形成红色滤光片、绿色滤光片、蓝色滤光片。
在封装层上制作彩膜层后形成的层结构可以如图15所示，包括：衬底基板11、设置于所述衬底基板11的第一侧的第一电极层12和像素界定层13、设置于所述第一电极层12上的电激发光层14、覆盖于所述像素界定层13和电激发光层14上的第二电极层15、覆盖于第二电极层15上的封装层16、设置于所述封装层16上的黑矩阵17和彩膜层18；
所述黑矩阵17上开设有多个透光孔170，所述第二电极层15具有镂空区域150，所述多个透光孔170在所述第二电极层15上的正投影均位于所述镂空区域150内。
S96、在所述衬底基板的第二侧制作多个指纹感光传感器，且使所述多个指纹感光器件分别位于所述多个透光孔的正投影内。
在所述衬底基板的第二侧制作多个指纹感光传感器后，形成的层结构可以如图16所示，包括：衬底基板11、设置于所述衬底基板11的第一侧的第一电极层12和像素界定层13、设置于所述第一电极层12上的电激发光层14、覆盖于所述像素界定层13和电激发光层14上的第二电极层15、覆盖于第二电极层15上的封装层16、设置于所述封装层16上的黑矩阵17和彩膜层18以及设置于所述衬底基板11的第二侧的多个指纹感光传感器19。
所述黑矩阵17上开设有多个透光孔170，所述第二电极层15具有镂空区域150，所述多个透光孔170在所述第二电极层15上的正投影均位于所述镂空区域150内，所述多个指纹感光器件19分别位于所述多个透光孔170的正投影内。
需要说明的是，本发明实施例中不限定制作位于衬底基板的第一侧的结构和制作位于衬底基板的第二侧的结构的先后关系，可以先通过上述步骤S91至S95制作位于所述衬底基板的第一侧的结构，再通过上述步骤S96制作位于所述衬底基板的第二侧的结构，也可以先通过上述步骤S96制作位于所述衬底基板的第二侧的结构，再通过上述步骤S91至S95制作位于所述衬底基板的第一侧的结构，还可以将通过上述步骤S96穿插于步骤S91至S95任意相邻步骤之间。
可选的，在步骤S95(在所述封装层上制作彩膜层)之后，本发明实施例提供的有机发光显示器的制造方法还包括：
制作覆盖所述彩膜层和所述黑矩阵的覆盖层。
本发明实施例提供的有机发光显示器的制造方法可以制造得到上述任一实施例提供的有机发光显示器，因此本发明实施例提供的有机发光显示器的制造方法可以达到与上述实施例提供的有机发光显示器相同的技术效果，在此不再赘述。
基于同一发明构思，本发明实施例还提供了一种电子设备。该电子设备包括上述任一实施例提供的有机发光显示器，或者通过上述实施例提供的有机发光显示器制造方法制造的有机发光显示器。
示例性的，本发明实施例中的电子设备可以为手机、平板电脑(portable androiddevice，PAD)、智能手表、车载设备等。
基于同一发明构思，参照图17所示，本发明实施例还提供了一种有机发光显示器的制造设备，所述电子设备包括存储器171和处理器172，存储器171用于存储计算机程序；处理器172用于在调用计算机程序时执行上述方法实施例提供的有机发光显示器的制造方法。
基于同一发明构思，本发明实施例还提供一种计算机可读存储介质，该计算机可读存储介质上存储有计算机程序，计算机程序被处理器执行上述方法实施例提供的有机发光显示器的制造方法。
其中，处理器可以是中央处理单元(CentralProcessingUnit，CPU)，还可以是其他通用处理器、数字信号处理器(DigitalSignalProcessor，DSP)、专用集成电路(ApplicationSpecificIntegratedCircuit，ASIC)、现成可编程门阵列(Field-ProgrammableGateArray，FPGA)或者其他可编程逻辑器件、分立门或者晶体管逻辑器件、分立硬件组件等。通用处理器可以是微处理器或者该处理器也可以是任何常规的处理器等。
存储器可能包括计算机可读介质中的非永久性存储器，随机存取存储器(RAM)和/或非易失性内存等形式，如只读存储器(ROM)或闪存(flashRAM)。存储器是计算机可读介质的示例。
计算机可读介质包括永久性和非永久性、可移动和非可移动存储介质。存储介质可以由任何方法或技术来实现信息存储，信息可以是计算机可读指令、数据结构、程序的模块或其他数据。计算机的存储介质的例子包括，但不限于相变内存(PRAM)、静态随机存取存储器(SRAM)、动态随机存取存储器(DRAM)、其他类型的随机存取存储器(RAM)、只读存储器(ROM)、电可擦除可编程只读存储器(EEPROM)、快闪记忆体或其他内存技术、只读光盘只读存储器(CD-ROM)、数字多功能光盘(DVD)或其他光学存储、磁盒式磁带，磁盘存储或其他磁性存储设备或任何其他非传输介质，可用于存储可以被计算设备访问的信息。根据本文中的界定，计算机可读介质不包括暂存电脑可读媒体(transitorymedia)，如调制的数据信号和载波。
最后应说明的是：以上各实施例仅用以说明本发明的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述各实施例对本发明进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分或者全部技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例技术方案的范围。

Claims (10)

1.一种有机发光显示器，其特征在于，包括：
衬底基板、设置于所述衬底基板的第一侧的第一电极层和像素界定层、设置于所述第一电极层上的电激发光层、覆盖于所述像素界定层和电激发光层上的第二电极层、覆盖于第二电极层上的封装层、设置于所述封装层上的黑矩阵和彩膜层以及设置于所述衬底基板的第二侧的多个指纹感光传感器；
所述黑矩阵上开设有多个透光孔，所述第二电极层具有镂空区域，所述多个透光孔在所述第二电极层上的正投影均位于所述第二电极的镂空区域内；所述多个指纹感光器件分别位于所述多个透光孔的正投影内。
2.根据权利要求1所述的有机发光显示器，其特征在于，
制作所述第二电极层的材料为改性复合材料；
所述有机发光显示器还包括：弱键合层，所述弱键合层的图案与所述第二电极层的镂空区域互补，且位于所述像素界定层上。
3.根据权利要求1所述的有机发光显示器，其特征在于，所述第一电极层具有镂空区域，所述多个透光孔在所述第一电极层上的正投影均位于所述第一电极层的镂空区域内。
4.根据权利要求1-3任一项所述的有机发光显示器，其特征在于，所述有机发光显示器还包括：
覆盖层，所述覆盖层覆盖于所述黑矩阵和彩膜层上。
5.根据权利要求1-3任一项所述的有机发光显示器，其特征在于，所述第一电极层由遮光且导电材料制作。
6.根据权利要求1-3任一项所述的有机发光显示器，其特征在于，所述彩膜层包括：以所述黑矩阵为间隔，阵列排布的红色滤光片、绿色滤光片、蓝色滤光片。
7.一种有机发光显示器的制造方法，其特征在于，包括：
依次在衬底基板的第一侧制作第一电极层、像素界定层以及电激发光层；
制作覆盖所述像素界定层和所述电激发光层的第二电极层，所述第二电极层具有镂空区域；
对所述衬底基板的第一侧进行封装，形成封装层；
在所述封装层上涂覆开设有多个透光孔的黑矩阵，且设置所述多个透光孔在所述第二电极层上的正投影均位于所述第二电极层的镂空区域内；
在所述封装层上制作彩膜层；
在所述衬底基板的第二侧制作多个指纹感光传感器，且使所述多个指纹感光器件分别位于所述多个透光孔的正投影内。
8.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，所述制作覆盖所述像素界定层和所述电激发光层的第二电极层，包括：
通过蒸镀弱键合材料，在所述像素界定层上形成与所述第二电极层的镂空区域互补的弱键合层；
通过蒸镀改性复合材料，在所述弱键合层以外的其它区域内形成所述第二电极层。
9.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，在所述封装层上制作彩膜层之后，所述方法还包括：
制作覆盖所述彩膜层和所述黑矩阵的覆盖层。
10.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，所述依次在衬底基板的第一侧制作第一电极层、像素界定层以及电激发光层，包括：
通过蒸镀遮光且导电材料在有效显示区域内形成所述第一电极层；
在所述衬底基板的第一侧的像素界定区域内形成所述像素界定层；
在所述第一电极层上形成所述电激发光层。
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