CN112259695A - 显示面板与显示装置 - Google Patents

Abstract

本公开提供一种显示面板与显示装置，该显示面板包括：衬底基板、第一电极层、像素界定层、发光层、第二电极层、封装层、黑矩阵、彩膜层、覆盖层、降反功能层与光学胶层，第一电极层与像素界定层设于衬底基板的一侧，发光层设于第一电极层背离衬底基板的一侧，第二电极层覆盖于像素界定层和发光层背离衬底基板的一侧，封装层设于第二电极层背离衬底基板的一侧，黑矩阵和彩膜层设于封装层背离衬底基板的一侧，覆盖层覆盖于黑矩阵和彩膜层背离衬底基板的一侧，降反功能层设于覆盖层背离衬底基板的一侧，被配置为降低外部入射光的反射率，光学胶层设于降反功能膜层背离衬底基板的一侧。本公开提供的显示面板，能够降低产品整体的反射率。

Description

显示面板与显示装置

技术领域

本公开涉及显示技术领域，具体而言，涉及一种显示面板及显示装置。

背景技术

随着终端技术的发展，电子设备的屏幕尺寸越来越大，高屏占比电子设备逐渐受到用户的青睐。全面屏电子设备作为高屏占比电子设备的发展极致，实现了电子设备屏幕比例的最大化，是当前最热门的技术之一，受到广大用户的喜爱和追捧。为了在电子设备的显示面保留指纹采集模块且避免影响电子设备的屏占比，现有技术中提出了通过屏下指纹识别的方式实现指纹识别功能。相比于传统指纹识别模块，屏下指纹识别可将指纹采集模块集成在显示面板中，无需占用显示面板的显示区域，因此屏下指纹识别已成为指纹识别的一种重要实现方式。

但是，将屏下指纹识别技术应用于基于COE(CFon EL，在薄膜封装的有机电致发光器件上形成彩膜层)的有机发光显示器(Organic Light-Emitting Diode，OLED)时，由于黑矩阵(Black Matrix，BM)、彩膜层(Color Filter，CF)以及电极层的遮挡，基于COE的OLED的透光率非常低，无法满足屏下指纹识别对透过率的要求。

需要说明的是，在上述背景技术部分公开的信息仅用于加强对本公开的背景的理解，因此可以包括不构成对本领域普通技术人员已知的现有技术的信息。

发明内容

本公开的目的在于提供一种显示面板及显示装置，能够降低产品整体的反射率。

根据本公开的一个方面，提供了一种显示面板，该显示面板包括：

衬底基板；

第一电极层与像素界定层，设于所述衬底基板的一侧；

发光层，设于所述第一电极层背离所述衬底基板的一侧；

第二电极层，覆盖于所述像素界定层和所述发光层背离所述衬底基板的一侧；

封装层，设于第二电极层背离所述衬底基板的一侧；

黑矩阵和彩膜层，设于所述封装层背离所述衬底基板的一侧；

覆盖层，覆盖于所述黑矩阵和所述彩膜层背离所述衬底基板的一侧；

降反功能层，设于所述覆盖层背离所述衬底基板的一侧，所述降反功能层被配置为降低外部入射光的反射率；

光学胶层，设于所述降反功能膜层背离所述衬底基板的一侧。

在本公开的一种示例性实施例中，所述降反功能层的光学厚度H为：

其中，λ为入射光在所述降反功能层中的波长，K为厚度系数。

在本公开的一种示例性实施例中，所述降反功能层的光学厚度为入射光在所述降反功能层中的波长的四分之一。

在本公开的一种示例性实施例中，所述光学胶的折射率为n₁，所述降反功能层的折射率为n₂，所述覆盖层的折射率为n₃，其中，n₂<n₃。

在本公开的一种示例性实施例中，

在本公开的一种示例性实施例中，在所述降反功能层背离所述覆盖层的方向上，所述降反功能层包括交替层叠设置的高折射率层与低折射率层，且靠近所述覆盖层的一侧及靠近所述光学胶层的一侧均为所述低折射率层。

在本公开的一种示例性实施例中，所述高折射率层光学厚度为:

所述低折射率层光学厚度为:

其中，λ₁为入射光在所述高折射率层中的波长，λ₂为入射光在所述低折射率层中的波长，κ为厚度系数。

在本公开的一种示例性实施例中，所述高折射率层的光学厚度均为入射光在所述高折射率层中的波长的四分之一，所述低折射率层的光学厚度均为入射光在所述低折射率层中的波长的四分之一。

在本公开的一种示例性实施例中，所述高折射率层的材料包括氧化钛、氧化锆与氧化锌中的至少一种，所述低折射率层的材料包括氮化硅。

根据本公开的另一个方面，提供了一种显示装置，该显示装置包括上述的显示面板。

本公开提供的显示面板，通过设置降反功能层，能够通过光学干涉相消原理将外部透过光学胶层辐射到降反功能层的反射光抵消从而减小反射率，实现产品整体反射率降低，进而避免电极层影响显示面板的透光率，进而避免影响指纹采集精度，提高了产品的使用体验。

应当理解的是，以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性和解释性的，并不能限制本公开。

附图说明

此处的附图被并入说明书中并构成本说明书的一部分，示出了符合本公开的实施例，并与说明书一起用于解释本公开的原理。显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本公开的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本公开的一种实施例提供的显示面板的截面示意图；

图2为本公开的一种实施例提供的光路示意图；

图3为本公开的一种实施例提供的降反功能层的示意图。

具体实施方式

现在将参考附图更全面地描述示例实施方式。然而，示例实施方式能够以多种形式实施，且不应被理解为限于在此阐述的实施方式；相反，提供这些实施方式使得本发明将全面和完整，并将示例实施方式的构思全面地传达给本领域的技术人员。图中相同的附图标记表示相同或类似的结构，因而将省略它们的详细描述。

虽然本说明书中使用相对性的用语，例如“上”“下”来描述图标的一个组件对于另一组件的相对关系，但是这些术语用于本说明书中仅出于方便，例如根据附图中所述的示例的方向。能理解的是，如果将图标的装置翻转使其上下颠倒，则所叙述在“上”的组件将会成为在“下”的组件。当某结构在其它结构“上”时，有可能是指某结构一体形成于其它结构上，或指某结构“直接”设置在其它结构上，或指某结构通过另一结构“间接”设置在其它结构上。用语“一个”、“一”、“该”、“所述”用以表示存在一个或多个组成部分等；用语“包括”和“具有”用以表示开放式的包括在内的意思并且是指除了列出的组成部分等之外还可存在另外的组成部分等。

显示面板结构的反射率来源有以下三种：(1)由于覆盖层表面反射导致；(2)黑矩阵表面反射导致；(3)黑矩阵开口区域反射，来自于彩膜下层结构反射。其中，Ra的反射率最大，造成模组产品反射率整体偏高。现有技术中，一般通过在黑矩阵上开孔，提升基于COE产品的OLED的透光率，然而，一方面OLED的电极层仍会影响OLED的透光率，进而影响指纹采集精度，另一方面，在黑矩阵上开孔会直接暴露出OLED的电极层，造成开孔处的反射光强度大幅提升，进而影响OLED的显示效果。

本公开实施方式提供了一种显示面板，如图1所示，该显示面板包括：衬底基板100、第一电极层230、像素界定层220、发光层210、第二电极层240、封装层300、黑矩阵510、彩膜层520、覆盖层600、降反功能层700与光学胶层800，第一电极层230与像素界定层220设于衬底基板100的一侧，发光层210设于第一电极层230背离衬底基板100的一侧，第二电极层240覆盖于像素界定层220和发光层210背离衬底基板100的一侧，封装层300设于第二电极层240背离衬底基板100的一侧，黑矩阵510和彩膜层520设于封装层300背离衬底基板100的一侧，覆盖层600覆盖于黑矩阵510和彩膜层520背离衬底基板100的一侧，降反功能层700设于覆盖层600背离衬底基板100的一侧，被配置为降低外部入射光的反射率，光学胶层800设于降反功能膜层背离衬底基板100的一侧。

本公开提供的显示面板，通过设置降反功能层700，能够通过光学干涉相消原理将外部透过光学胶层800辐射到降反功能层700的反射光抵消从而减小反射率，实现产品整体反射率降低，进而避免电极层影响显示面板的透光率，进而避免影响指纹采集精度，提高了产品的使用体验。

具体地，降反功能层700的光学厚度H为：

其中，λ为入射光在降反功能层700中的波长，K为厚度系数，K的值为自然数(K＝0，1，2，3...)。

如图2所示，反射光R1与R2满足波程差为λ/2且镀膜涂层光学厚度为λ/4时，两种反射相消，即实现反射率的降低。通过上述对降反功能层700的光学厚度的限制，能够保证反射光R1与R2满足波程差为λ/2，使两种反射光抵消，即提高光线的透过率，降低光线的反射率。

示例的，厚度系数K为0，即

降反功能层700的光学厚度为入射光在降反功能层700中的波长的四分之一，在能够保证反射光R1与R2满足波程差为λ/2使两种反射光抵消的同时，使降反功能层700得厚度相对较小。

如图2所示，光学胶层800(图中未示出)的折射率为n₁，降反功能层700的折射率为n₂，覆盖层600的折射率为n₃，降反功能层700的反射率为：

与不镀降反功能层700的产品反射率

相比，当

时，即n₂＜n₃时，R_a＜R₀，降反功能层700可实现降反功能。

其中，当

反射光R1与R2满足相位差为λ/2且镀膜涂层光学厚度为

(降反功能层的几何厚度

)时，两种反射相消，即实现R_a相对降至最低。在实际中为减小反射光，光学胶层800的折射率需与盖板900折射率一致，即一般情况下为n₁＝1.47，n₃＝2，R₀计算可得为2.33％。当增设材料为SiO₂的降反功能层700，n₂＝1.6，可知理想状态下R_a为0.47％，相对降低了光线的反射率。其中，可采用化学气相沉积法(chemical vapordeposition，CVD)，在一定的压力与功率下，通入一定量的SiH₄、N₂O与H₂，沉积一段时间后即可得到材料为SiO₂的降反功能层，膜层厚度与折射率可通过气体混合比、等离子体(plasma)密度、真空度进行调节。此外，降反功能层还可以采用其它材料，具有一定的透光率和折射率，同时保证与相邻层级黏粘性即可，本公开对此不做限制；凡是涉及降反功能层材料上的变化，并与本公开具有相同的技术效果，均属于本公开的保护范围。

具体地，如图3所示，在降反功能层700背离覆盖层600的方向上，降反功能层700包括交替层叠设置的高折射率层720与低折射率层710，且靠近覆盖层600的一侧及靠近光学胶层800的一侧均为低折射率层710。

如图3所示，覆盖层600为基底膜层，光学胶层800为光源膜层，低折射率层710与高折射率层720交替层叠设置。当覆盖层600的膜层达到2p+1层时(p为正整数)，等效折射率为：

等效反射率为：

记n₁/n_2p+1＝α，当p增大时，n_2p+1趋近0，则R_2p+1≈(1-α)⁴趋近0。

其中，低折射率层710为奇数，两外层均为低折射率层710，从而实现反射率的降低。

其中，高折射率层720光学厚度为：

低折射率层710光学厚度为：

其中，λ₁为入射光在高折射率层720中的波长，λ₂为入射光在低折射率层710中的波长，κ为厚度系数，κ的值为自然数(κ＝0，1，2，3...)，高折射率层720与低折射率层710的厚度系数κ相同。

其中，高折射率层720的光学厚度均为入射光在高折射率层720中的波长的四分之一，低折射率层710的光学厚度均为入射光在低折射率层710中的波长的四分之一，在能够保证反射光R1与R2满足波程差为λ/2使两种反射光抵消的同时，使由高、低折射率层组合形成的降反功能层700的厚度相对较小。

其中，如图3所示，降反功能层700包括三层低折射率层710与两层高折射率层720，能够降低成本，保证产品良率。当然，降反功能层700还可包括两层低折射率层710与一层高折射率层720、五层低折射率层710与四层高折射率层720，或更多层低折射率层710与高折射率层720，能够保证反射光R1与R2满足波程差为λ/2即可，本公开对此不做限制。

示例的，高折射率层720的材料包括氧化物，例如氧化钛、氧化锆、氧化锌中的至少一种；低折射率层710的材料包括氮氧化物，例如氮化硅。

示例的，衬底基板100的材料可以是无机材料，无机材料可以是钠钙玻璃(soda-lime glass)、石英玻璃、蓝宝石玻璃等玻璃材料，或是不锈钢、铝、镍等各种金属或其合金的金属材料；在另一些实施例中，衬底基板100的材料也可以是有机材料，有机材料可以是聚甲基丙烯酸甲酯(Polymethyl methacrylate，PMMA)、聚乙烯醇(Polyvinyl alcohol，PVA)、聚乙烯基苯酚(Polyvinyl phenol，PVP)、聚醚砜(Polyether sulfone，PES)、聚酰亚胺、聚酰胺、聚缩醛、聚碳酸酯(Poly carbonate，PC)、聚对苯二甲酸乙二酯(Polyethyleneterephthalate，PET)、聚萘二甲酸乙二酯(Polyethylene naphthalate，PEN)或其组合；在其他实施例中，衬底基板100的材料也可以是可挠曲材料，例如聚酰亚胺(polyimide，PI)。

示例的，第一电极层230可为阳极层，第二电极层240可为公共阴极层；当然，第一电极层230可为阴极层，第二电极层240可为阳极层。其中，电极层的材料可以包括金属、导电氧化物或其组合。例如，金属可以是钛(Ti)、铂(Pt)、钌(Ru)、金(Au)、银(Ag)、钼(Mo)、铝(Al)、钨(W)、铜(Cu)、钕(Nd)、铬(Cr)、钽(Ta)或其合金或上述材料的组合，导电氧化物可以是IZO、AZO、ITO、GZO、ZTO或其组合。

示例的，封装层(TFE)300可由依次层叠设置的第一封装层、第二封装层与第三封装层。第一封装层和第三封装层可为无机封装层，第二封装层可为有机封装层。第一封装层和第三封装层的材料可以为SiNx、SiCN、SiO₂等，第一封装层和第三封装层可采用化学气相沉积、物理气相沉积、原子力沉积等方式形成；第二封装层的材料可包括丙烯酸基聚合物、硅基聚合物等，第二封装层可采用喷墨打印、喷涂等方式形成于第三封装层上。

示例的，发光层(EL)210位于像素界定层(PDL)220上的像素孔中，且位于第一电极层230与第二电极层240之间。发光层210在厚度方向上可依次包括空穴注入层、空穴传输层、电子阻挡层、发光材料层、空穴阻挡层、电子传输层与电子注入层；当然，发光层210也可只包括上述功能层中的部分，或包括更多其他功能层，本公开对此不做限制。

示例的，如图1所示，显示面板还包括：内置触控电路(FMLOC)400，以实现显示面板的触控功能。

示例的，黑矩阵(BM)510分隔的彩膜层(color filter)520可包括红(R)、绿(G)、蓝(B)三原色膜层；当然，还可包括黄(Y)色膜层，本公开对此不做限制。

示例的，覆盖层(Over Coating，OC)600覆盖于黑矩阵510和彩膜层520上其材料例如可为负性光刻胶，能够起到绝缘作用。如图1所示，彩膜层520通过构图工艺形成在黑矩阵510上，而彩膜层520基色滤光图案与黑矩阵510接触的位置处都会产生凸起，形成角段差。在彩膜层520上增加一层覆盖层600能够抹平角段差。

示例的，光学胶层(Optically ClearAdhesive，OCA)800，是一种与光学零件的光学性能相近,并具有优良胶接性能的高分子物质，采用光学胶可以保证光透过率在90％以上，可以保证光线的有效出射。

示例的，如图1所示，显示面板还包括：盖板(Cover)900，盖板900可为玻璃盖板，光学胶的胶结强度良好，可以保证盖板900与降反功能层700的有效结合。

本公开的实施例还提供了一种显示装置，该显示装置包括上述的显示面板，该显示装置可为手机、电子纸、有机发光二极管(OLED)面板、有源矩阵有机发光二极管(AMOLED)面板、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框或导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。其具有的有益效果请参照上述关于显示面板中的论述，在此处不再赘述。

本领域技术人员在考虑说明书及实践这里公开的发明后，将容易想到本公开的其它实施方案。本申请旨在涵盖本公开的任何变型、用途或者适应性变化，这些变型、用途或者适应性变化遵循本公开的一般性原理并包括本公开未公开的本技术领域中的公知常识或惯用技术手段。说明书和实施例仅被视为示例性的，本公开的真正范围和精神由所附的权利要求指出。

Claims (10)

1.一种显示面板，其特征在于，包括：

衬底基板；

第一电极层与像素界定层，设于所述衬底基板的一侧；

发光层，设于所述第一电极层背离所述衬底基板的一侧；

第二电极层，覆盖于所述像素界定层和所述发光层背离所述衬底基板的一侧；

封装层，设于第二电极层背离所述衬底基板的一侧；

黑矩阵和彩膜层，设于所述封装层背离所述衬底基板的一侧；

覆盖层，覆盖于所述黑矩阵和所述彩膜层背离所述衬底基板的一侧；

降反功能层，设于所述覆盖层背离所述衬底基板的一侧，所述降反功能层被配置为降低外部入射光的反射率；

光学胶层，设于所述降反功能膜层背离所述衬底基板的一侧。

2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述降反功能层的光学厚度H为：

其中，λ为入射光在所述降反功能层中的波长，K为厚度系数。

3.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述降反功能层的光学厚度为入射光在所述降反功能层中的波长的四分之一。

4.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述光学胶的折射率为n₁，所述降反功能层的折射率为n₂，所述覆盖层的折射率为n₃，其中，n₂＜n₃。

5.根据权利要求4所述的显示面板，其特征在于，

6.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，在所述降反功能层背离所述覆盖层的方向上，所述降反功能层包括交替层叠设置的高折射率层与低折射率层，且靠近所述覆盖层的一侧及靠近所述光学胶层的一侧均为所述低折射率层。

7.根据权利要求6所述的显示面板，其特征在于，所述高折射率层光学厚度为：

所述低折射率层光学厚度为：

其中，λ₁为入射光在所述高折射率层中的波长，λ₂为入射光在所述低折射率层中的波长，κ为厚度系数。

8.根据权利要求6所述的显示面板，其特征在于，所述高折射率层的光学厚度均为入射光在所述高折射率层中的波长的四分之一，所述低折射率层的光学厚度均为入射光在所述低折射率层中的波长的四分之一。

9.根据权利要求6所述的显示面板，其特征在于，所述高折射率层的材料包括氧化钛、氧化锆与氧化锌中的至少一种，所述低折射率层的材料包括氮化硅。

10.一种显示装置，其特征在于，权利要求1-9任一项所述的显示面板。

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