CN117062489B - 显示面板和显示装置 - Google Patents

显示面板和显示装置 Download PDF

Info

Publication number
CN117062489B
CN117062489B CN202311317611.4A CN202311317611A CN117062489B CN 117062489 B CN117062489 B CN 117062489B CN 202311317611 A CN202311317611 A CN 202311317611A CN 117062489 B CN117062489 B CN 117062489B
Authority
CN
China
Prior art keywords
openings
opening
type
isolation
light
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN202311317611.4A
Other languages
English (en)
Other versions
CN117062489A (zh
Inventor
曾文宇
张秀玉
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kunshan Govisionox Optoelectronics Co Ltd
Hefei Visionox Technology Co Ltd
Original Assignee
Kunshan Govisionox Optoelectronics Co Ltd
Hefei Visionox Technology Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kunshan Govisionox Optoelectronics Co Ltd, Hefei Visionox Technology Co Ltd filed Critical Kunshan Govisionox Optoelectronics Co Ltd
Priority to CN202311317611.4A priority Critical patent/CN117062489B/zh
Publication of CN117062489A publication Critical patent/CN117062489A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN117062489B publication Critical patent/CN117062489B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/80Constructional details
    • H10K59/805Electrodes
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/10OLED displays
    • H10K59/12Active-matrix OLED [AMOLED] displays
    • H10K59/122Pixel-defining structures or layers, e.g. banks
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/40OLEDs integrated with touch screens
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/60OLEDs integrated with inorganic light-sensitive elements, e.g. with inorganic solar cells or inorganic photodiodes
    • H10K59/65OLEDs integrated with inorganic image sensors
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/80Constructional details

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Sustainable Development (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)

Abstract

本发明提供了一种显示面板和显示装置。该显示面板包括基底以及位于基底上的隔离结构、多个发光单元和触控电极层。隔离结构围合形成隔离开口和透光开口,隔离开口用于容纳发光单元,隔离开口与透光开口间隔设置。触控电极层位于隔离结构背离基底的一侧,触控电极层包括触控电极块,相邻触控电极块依次连接构成具有网孔的网格图案,且隔离开口和透光开口分别在基底上的正投影均与网格图案中的网孔在基底上的正投影至少部分重叠。该结构可以提高显示面板布置有透光开口的区域的透光率。

Description

显示面板和显示装置
技术领域
本公开涉及显示技术领域,具体地,涉及一种显示面板和显示装置。
背景技术
有机发光二极管(OLED,Organic Light-Emitting Diode)是一种有机薄膜电致发光单元,其因具有制备工艺简单、成本低、功耗小、亮度高、视角宽、对比度高及可实现柔性显示等优点,而受到人们极大的关注并在电子显示产品中得到广泛应用。
然而,当前的电子显示产品限于自身结构的设计,难以在进一步减小像素间隙,进一步应用于屏下识别领域和触控领域。
发明内容
本公开第一方面提供一种显示面板,该显示面板包括基底以及位于基底上的隔离结构、多个发光单元和触控电极层。隔离结构围合形成隔离开口和透光开口,隔离开口用于容纳发光单元,隔离开口与透光开口间隔设置。触控电极层位于隔离结构背离基底的一侧,触控电极层包括触控电极块,相邻触控电极块依次连接形成具有网孔的网格图案,且隔离开口和透光开口分别在基底上的正投影均与网格图案中的网孔在基底上的正投影至少部分重叠。
在上述方案中,通过在隔离结构中设置透光开口,可以使得该位置透光以便于进行屏下识别(例如指纹识别、摄像等)或者透明显示等,此外,将触控电极层的网格图案的网孔与透光开口对应,从而使得网格图案的触控电极块规避透光开口,以避免触控电极层对射向透光开口的光线进行阻挡,从而提高透光开口所在区域的透光率。
在本公开第一方面的一个具体实施方式中,发光单元包括在基底上依次叠置的阳极、发光功能层和阴极,发光功能层位于隔离开口中,隔离结构包括支撑部和冠部,冠部位于支撑部远离基底的一侧,支撑部在基底上的正投影位于冠部在基底上的正投影之内。
在上述方案中,隔离结构设置为了上宽下窄的形状,从而使得隔离结构可以阻断相邻发光单元的发光功能层,以降低相邻发光单元的电流串扰问题。
在本公开第一方面的一个具体实施方式中,支撑部为导电结构,阴极位于隔离开口中,且与支撑部连接。
在上述方案中,隔离结构的支撑部将阴极串联起来,从而使得支撑部和阴极构成公共电极以便于驱动。
在本公开第一方面的一个具体实施方式中,支撑部包括至少两个子支撑部,至基底远的子支撑部在基底上的正投影,位于至基底近的子支撑部在基底上的正投影之内。
在本公开第一方面的一个具体实施方式中,显示面板还可以包括像素界定层,像素界定层位于隔离结构和基底之间,像素界定层限定有分别与隔离开口对应的多个像素开口,像素开口与对应的隔离开口连通,像素开口在基底上的正投影位于对应的隔离开口在基底上的正投影之内,且像素界定层覆盖相邻的阳极之间的间隙以及阳极的边缘,以使得像素开口暴露阳极。
在本公开第一方面的一个具体实施方式中,触控电极层包括多行第一触控电极和多列第二触控电极,其中,第一触控电极由多个触控电极块沿着行的方向彼此连接构成,第二触控电极由多个触控电极块沿着列的方向彼此连接构成,第一触控电极和第二触控电极彼此间隔且彼此交叉,且第一触控电极和第二触控电极设置为网格图案。
在本公开第一方面的一个具体实施方式中,第一触控电极位于第二触控电极和隔离结构之间。
在本公开第一方面的另一个具体实施方式中,第一触控电极包括多个彼此间隔的第一子触控电极和多个第一连接部,同一条第一触控电极的多个第一子触控电极通过第一连接部连接,第二触控电极包括多个彼此间隔的第二子触控电极和多个第二连接部,同一条第二触控电极的多个第二子触控电极通过第二连接部连接,第一触控电极和第二触控电极分别通过第一连接部和第二连接部彼此交叉,其中,第一子触控电极、第一连接部和第二触控电极同层,第一连接部和第二连接部彼此间隔,且第二连接部位于第一连接部和隔离结构之间,或者,第二连接部位于第一连接部背离隔离结构的一侧。
在本公开第一方面的一个具体实施方式中,网格图案的触控电极块在基底上的正投影,位于隔离结构在基底上的正投影之内,以使得隔离开口和透光开口在基底上的正投影,位于对应的网孔在基底上的正投影之内。该设计可使得显示面板出射的光线具有较大的射角,从而使得显示面板具备较大的视角。
在本公开第一方面的一个具体实施方式中,对于相邻的两个隔离开口以及位于相邻两个隔离开口之间的网格图案的触控电极块,触控电极块上的任一点在基底上的正投影分别至隔离开口在基底上的正投影的最小距离相等;和/或,对于相邻的两个隔离开口和透光开口以及位于相邻两个隔离开口和透光开口之间的网格图案的触控电极块,触控电极块上的任一点在基底上的正投影分别至隔离开口和透光开口在基底上的正投影的最小距离相等。该设计可以使得发光单元在不同方向的最大视角大致相等,从而可以缓解色偏现象。
例如,可选地,网格图案的触控电极块围设的网孔与对应的隔离开口和/或透光开口共形,以使得围设同一个网孔的触控电极块的不同点在基底上的正投影,与隔离开口或者透光开口在基底上的正投影的最小距离相等。
在本公开第一方面的一个具体实施方式中,隔离开口的至少两个相对的端部为弧形。该设计可以使得隔离开口的设计面积不变(发光单元的发光面积不变)以及显示面板的像素密度不变的情况下,使得相邻隔离开口之间存在较大的尺寸,以便于设计更大面积的透光开口,以进一步提高透光开口所在区域的透光率。
在本公开第一方面的一个具体实施方式中,隔离开口分类为第一类开口、第二类开口和第三类开口,第一类开口、第二类开口和第三类开口分别界定出出射光颜色不同的发光单元,且第一类开口、第二类开口和第三类开口所界定的发光单元的出射光线的波长依次减小,隔离开口排布为多行和多列,第一类开口和第三类开口同行且同列设置,在设置有第一类开口的行和列中,第一类开口和第三类开口交替排布,设置有第一类开口的行和设置有第二类开口的行交替排布,设置有第一类开口的列和设置有第二类开口的列交替排布。
在本公开第一方面的一个具体实施方式中,第一类开口的轮廓为圆形,第二类开口和第三类开口的轮廓都包括两条平行边和两条半圆弧边,第二类开口具有经过两条半圆弧边的第一对称轴,第三类开口具有经过两条半圆弧边的第二对称轴,第二对称轴与第三类开口所在列的延伸方向平行,第一对称轴与行和列的延伸方向交叉,第二类开口的第一对称轴经过位于相邻列且相邻的两个第一类开口的形心,对于同一列中的第二类开口,相邻的第二类开口之间呈轴对称,且对称轴的方向与行的方向平行。
在本公开第一方面的一个具体实施方式中,透光开口的形状为圆形;或者,透光开口的形状为矩形;或者,透光开口的边缘与相邻的隔离开口的边缘共形。
在本公开第一方面的一个具体实施方式中,透光开口可以排布在显示面板的整个显示区中,例如,透光开口在该显示区中大致均匀分布。在该设计下,显示面板可以用于透明显示等场景中。
在本公开第一方面的另一个具体实施方式中,显示面板的显示区包括第一区域和第二区域,第二区域位于第一区域的至少一侧,透光开口只设置在第一区域中。在该设计下,显示面板可以用于指纹识别或者屏下摄像等场景中,相应地,第一区域可以为识别区或者摄像区等。
本公开第二方面提供一种显示面板,该显示面板包括隔离结构,隔离结构围合形成隔离开口和透光开口,隔离开口用于容纳发光单元,隔离开口与透光开口间隔设置,隔离开口分类为第一类开口、第二类开口和第三类开口,第一类开口、第二类开口和第三类开口所界定的发光单元的出射光线的波长依次减小,隔离开口排布为多行和多列,第一类开口和第三类开口同行且同列设置,在设置有第一类开口的行和列中,第一类开口和第三类开口交替排布,设置有第一类开口的行和设置有第二类开口的行交替排布,设置有第一类开口的列和设置有第二类开口的列交替排布,第一类开口、第二类开口和第三类开口中至少一个的相对两端的边缘为弧形。
在本公开第二方面的一个具体实施方式中,第一类开口的轮廓为圆形,第二类开口和第三类开口的轮廓都包括两条平行边和两条半圆弧边,第二类开口具有经过两个半圆弧边的第一对称轴,第三类开口具有经过两个半圆弧边的第二对称轴,第二对称轴与第三类开口所在列的延伸方向平行,第一对称轴与行和列的延伸方向交叉,第二类开口的第一对称轴经过位于相邻列且相邻的两个第一类开口的形心,对于同一列中的第二类开口,相邻的第二类开口之间呈轴对称,且对称轴的方向与行的方向平行。
本公开第三方面提供一种显示装置,该显示装置包括上述第一方面或者第二方面中的显示面板。
本公开第四方面提供一种像素排布结构,该像素排布结构包括多个第一子像素、多个第二子像素和多个第三子像素,其中,第一子像素、第二子像素和第三子像素的出射光线的波长依次减小,第一子像素、第二子像素和第三子像素排布为多行和多列,第一子像素和第三子像素同行且同列设置,在设置有第一子像素的行和列中,第一子像素和第三子像素交替排布,排布有第一子像素和第三子像素的行和排布有第二子像素的行交替排布,排布有第一子像素和第三子像素的列和排布有第二子像素的列交替排布,第一子像素、第二子像素和第三子像素中至少一个的相对两端的边缘为弧形。
在本公开第四方面的一个具体实施方式中,第一子像素的轮廓为圆形,第二子像素和第三子像素的轮廓都包括两条平行边和两条半圆弧边,第二子像素具有经过两条半圆弧边的第一对称轴,第三子像素具有经过两条半圆弧边的第二对称轴,第二对称轴与第三子像素所在列的延伸方向平行,第一对称轴与行和列的延伸方向交叉,第二子像素的第一对称轴经过位于相邻列且相邻的两个第一子像素的形心,对于同一列中的第二子像素,相邻的第二子像素之间呈轴对称,且对称轴的方向与行的方向平行。
附图说明
图1为本公开一实施例提供的一种显示面板的平面结构示意图。
图2为图1所示显示面板在一种设计下的S1区域的放大图。
图3为图2所示显示面板沿着M1-N1的截面图。
图4为图2所示显示面板中的触控电极层的一种网格图案的触控电极块的平面结构示意图。
图5为本公开一实施例提供的一种显示面板中的触控电极层的平面结构示意图,其中图5中的S2区域对应于图1中的S1区域。
图6为图5所示触控电极层沿着M2-N2的截面图。
图7为本公开一实施例提供的另一种显示面板中的触控电极层的平面结构示意图,其中图7中的S3区域对应于图1中的S1区域。
图8为图7所示触控电极层沿着M2-N2的截面图。
图9为图1所示显示面板在另一种设计下的S1区域的放大图。
图10为图9所示显示面板中的触控电极层的网格图案的触控电极块的平面结构示意图。
图11为本公开一实施例提供的一种显示面板中的一种像素排布结构的平面结构示意图。
图12为作为对比例的另一种显示面板中的一种像素排布结构的平面结构示意图。
图13为本公开一实施例提供的一种显示面板的部分区域的截面图。
图14A至图14F为本公开一实施例提供的一种显示面板的制备方法的过程图。
具体实施方式
下面将结合本说明书实施例中的附图,对本说明书实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅是本说明书一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本说明书中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本说明书保护的范围。
在显示产品中,发光单元(可以称为发光器件)中的一些功能膜层会通过蒸镀的方式形成,而每个发光单元中的功能膜层有多种,且出射不同光线的发光单元中的一些功能膜层(例如发光层)的材料不同,因此,在通过掩膜板(例如精细掩膜板)进行蒸镀该些功能膜层时,需要进行多次对位,为了保证对位精度,不同发光单元之间需要预留足够的空间,这使得发光单元(可称为子像素)的排布密度有限,从而难以进一步提升显示面板的PPI(像素密度)。
在本公开中,通过在发光单元的间隙处设置隔离结构,以对相邻发光单元的功能膜层进行隔断,如此,在功能膜层的蒸镀工艺中,只需要在显示面板上进行整面蒸镀,而不用借助掩膜板对每个发光单元的功能膜层进行单独制备,该工艺不需要考虑蒸镀时的对位精度问题,从而可以使得发光单元的间隙设计为更小的尺寸,以增加PPI(其原理可以参见如图14A至图14F相关的实施例中的相关说明)。
然而,隔离结构的设置会对发光单元的间隙进行遮挡而不能透光,从而难以应用至屏下指纹识别、屏下摄像等场景中;此外,显示产品在应用时会兼顾触控功能,而用于实现触控的结构的透光率低,会对显示产品的透光设计造成遮挡。
本公开至少一个实施例提供一种显示面板,以至少解决上述技术问题。该显示面板包括基底以及位于基底上的隔离结构、多个发光单元和触控电极层。隔离结构围合形成隔离开口和透光开口,隔离开口用于容纳发光单元,隔离开口与透光开口间隔设置。触控电极层位于隔离结构背离基底的一侧,触控电极层包括触控电极块,相邻触控电极块依次连接形成具有网孔的网格图案,且隔离开口和透光开口分别在基底上的正投影均与网格图案中的网孔在基底上的正投影至少部分重叠。如此,通过在隔离结构中设置透光开口,可以使得透光开口所在的区域透光以便于进行屏下识别(例如指纹识别、摄像等)或者透明显示等,此外,将触控电极层的网格图案的网孔与透光开口对应,从而使得网格图案的触控电极块规避透光开口,以避免触控电极层对射向透光开口的光线进行阻挡,从而提高透光开口所在区域的透光率。
下面,结合附图对根据本公开至少一个实施例中的显示面板和显示装置的结构进行详细地说明。此外,在该些附图中,以显示面板中的基底为基准建立空间直角坐标系,以直观地呈现显示面板中各个元件的位置关系。在该空间直角坐标系中,X轴和Y轴与基底所在面平行,Z轴与基底所在面垂直。
如图1至图4所示,显示面板10的显示区11和环绕显示区11的边框区12,显示区11包括第一区域13,显示区11中排布有子像素(实体为发光单元220)例如R、G、B。第一区域13设置为具有一定的透光率以用于屏下识别、摄像或者透明显示。需要说明的是,在本公开一些实施例中,边框区12中的部分走线可以排布至显示区11中,从而使得边框区12可以设计为单侧边框。
显示面板10的实体结构可以包括基底100以及设置在基底100上的显示功能层200、隔离结构210和触控电极层400。
显示功能层200位于基底100上且位于显示区11中且包括多个发光单元220,隔离结构210围合形成多个隔离开口201和多个透光开口202,隔离开口201和透光开口202彼此间隔,透光开口202位于第一区域13中,且隔离开口201限位并容纳发光单元220。需要说明的是,“隔离开口201容纳发光单元220”可以理解为隔离开口201容纳发光单元220的全部,也可以理解为隔离开口201容纳发光单元220的主要部分,该主要部分(例如下述实施例提及的发光功能层)决定了发光单元220的主要发光区域的位置。
触控电极层400包括多个触控电极块401,触控电极块401彼此连接以构成具有网孔的网格图案,相应地,该网格图案的网孔由多个彼此连接的触控电极块401围设而成,网格图案的网孔与隔离开口201和透光开口202分别对应,且隔离开口201和透光开口202分别在基底100上的正投影都与对应的网孔在基底100上的正投影至少部分重叠。
需要说明的是,触控电极块401相当于用于围设网格图案中的网孔的网格线,每个网孔可以由至少三个彼此连接的触控电极块围设形成。例如,如图2所示,用于围设与子像素R对应的隔离开口201的网孔的触控电极块401有8条,用于围设与透光开口202对应的网孔的触控电极块401有4条。此外,该网格图案可以由一整层导电膜层经过构图形成,因此彼此连接的触控电极块401之间可以不存在物理界面。
例如,触控电极层400的导电材料可以为金属类导电材料,金属的导电率高,从而使得触控电极层400在驱动过程中产生的压降较小,此外,金属材料的透光率低,在本公开的实施例中,需要设计为网格图案以使得触控电极层400具备较高的透光率。
例如,发光单元220可以包括在基底100上依次叠置的阳极221、发光功能层223和阴极222,发光功能层223位于隔离开口201中。发光功能层223可以包括第一共通层2231、发光层2232和第二共通层2233,第一共通层2231、发光层2232和第二共通层2233依次叠置在阳极221上。第一共通层2231可以包括空穴注入层、空穴传输层、电子阻挡层等。第二共通层2232可以包括电子注入层、电子传输层、空穴阻挡层等。隔离结构210的设置需要使得各个发光单元220的第一共通层2231(导致电流串扰的主要膜层)在电性上彼此断开。
例如,隔离结构210可以包括支撑部211和冠部212,冠部212位于支撑部211远离基底100的一侧,支撑部211面向冠部212的一端(顶端)在基底100上的正投影位于冠部212在基底100上的正投影之内。如此,隔离结构210的至少远离基底100的部分设置为了上宽下窄的形状,从而使得隔离结构210可以阻断相邻发光单元的发光功能层223(其包括的第一共通层2231,第一共通层2231为导致电流串扰的主要膜层),以降低相邻发光单元220的电流串扰问题。
需要说明的是,在本公开一些设计中,支撑部211和冠部212可以为如图3所示设计为多层叠置的结构,其便于分别采用不同的材料构成,例如下述实施例中支撑部211设计为导电,但冠部212不限于设计为导电;或者,在本公开另一些设计中,支撑部211和冠部212可以设置为一体化结构,以增加隔离结构210的牢固性。
在本公开至少一个实施例中,如图3所示,支撑部211可以为导电结构,阴极222位于隔离开口201中,且与支撑部211连接。如此,隔离结构210的支撑部211将阴极222串联起来,从而使得支撑部211和阴极222构成公共电极以便于驱动。
需要说明的是,阴极222的材料可以为金属材料,阴极222的厚度越小,其透光率越高,但是其电阻率也越高,如果阴极222的厚度过小,在未设置隔离结构的情况下,会使得阴极222(此时为公共电极)的压降过大,在本公开的实施例中,阴极222连通至导电的支撑部211上,可以解除阴极222的厚度限制,从而使得阴极222具备更小的厚度以具备更高的透光率。
在本公开至少一个实施例中,支撑部211可以为金属导电结构,金属材料的导电率高,可以降低驱动阴极时的压降。相应地,金属材料只有才厚度极薄(例如几十纳米级别)的情况下才可能透光,而隔离结构210需要一定的厚度以用于隔断发光功能层223(其包括的第一共通层2231),因此隔离结构210中的支撑部211几乎为不透光的,因此,只有通过设置透光开口202才可以使得隔离结构210透光。
需要说明的是,在本公开的实施例中,对隔离结构210的形成方式以及构成隔离结构210的膜层的数量不做限制,可以根据实际工艺的需求进行设计。
例如,在一些设计中,隔离结构210可以设计为如图3所示的上宽下窄的结构,即,整个支撑部211在基底100上的正投影位于冠部212在基底100上的正投影之内。例如,在一种情况下,支撑部211可以设计为独立膜层,即,支撑部211的内部不存在物理界面,且各部分由相同的材料构成。例如,在另一种情况下,支撑部211可以设计为由至少两个膜层构成,例如,支撑部211由两个导电膜层叠置形成,例如,进一步地,该两个导电膜层的材料可以分别为钼和铝,且由钼构成的导电膜层位于基底和由铝构成的导电膜层之间。例如,在该设计中,冠部212可以选择设计为非导电材料膜层(例如无机膜层);或者,冠部212可以选择设计为导电膜层,例如其材料包括钛。
例如,在另一些设计中,隔离结构210可以设计为上下宽且中间窄的形状(类似与“工”形),即,支撑部211背离基底100的一端(其顶端)在基底100上的正投影位于冠部212在基底100上的正投影之内,且支撑部211面向基底100的一端(其底端)在基底100上的正投影位于支撑部211背离基底100的一端在基底100上的正投影之内。例如,进一步地,整个支撑部211在基底100上的正投影位于冠部212在基底100上的正投影之内。例如,支撑部211可以设计为由至少两个膜层构成,例如,支撑部211由两个导电膜层叠置形成,例如,进一步地,该两个导电膜层的材料可以分别为钼和铝,且由钼构成的导电膜层位于基底和由铝构成的导电膜层之间,由铝构成的导电膜层在基底100上的正投影位于由钼构成的导电膜层在基底100上的正投影之内。例如,由钼构成的导电膜层在基底100上的正投影位于冠部212在基底100上的正投影之内。例如,在该设计中,冠部212可以选择设计为非导电材料膜层(例如无机膜层);或者,冠部212可以选择设计为导电膜层,例如其材料包括钛。
在本公开一些实施例中,如图3所示,显示面板还可以包括像素界定层213,像素界定层213位于隔离结构210和基底100之间,像素界定层213限定有分别与隔离开口201对应的多个像素开口203以暴露阳极221,像素开口203在基底100上的正投影位于对应的隔离开口201在基底100上的正投影之内,且像素界定层213位于隔离结构210和阳极221之间,像素界定层213覆盖相邻的阳极221之间的间隙以及阳极221的边缘,以使得像素开口203暴露阳极221,从而使得阳极221在不与支撑部211接触的情况下,可以具备较大的设计面积,以使得发光单元220具备较大的有效发光面积。
在本公开的实施例中,对触控电极层的具体结构不做限制,可以根据实际工艺的需求进行设计,下面,通过不同的实施例,对触控电极层的不同设计进行说明,具体如下。
在本公开至少一个实施例中,如图2至图6所示,触控电极层400包括多条并列的第一触控电极410和多条并列的第二触控电极420,第一触控电极410由多个触控电极块401沿着行的方向(图5中X轴的方向)彼此连接构成,第二触控电极420由多个触控电极块401沿着列的方向(图5中Y轴的方向)彼此连接构成,第一触控电极410和第二触控电极420彼此间隔且彼此交叉以在交叉处构成触控单元,且第一触控电极410和第二触控电极420设置为网格图案。
例如,在本公开一些实施例中,如图5和图6所示,第一触控电极410位于第二触控电极420和隔离结构210之间。例如,可以先沉积第一导电材料层,对其进行构图以形成多条第一触控电极410,其中,将第一导电材料层形成为多个网孔,以使得第一触控电极410形成为网格图案;在第一触控电极410上沉积绝缘层430以覆盖第一触控电极410;在绝缘层430上沉积第二导电材料层,对其进行构图以形成多条第二触控电极420,其中,将第二导电材料层形成为多个网孔,以使得第二触控电极420形成为网格图案。在宏观上,第一触控电极410和第二触控电极420交叉重叠的区域为触控单元所在的区域,而在该重叠区域,第一触控电极410和第二触控电极420都呈现透明。
例如,在如图5和图6所示的结构中,第一触控电极410中的网孔在基底100上的正投影和第二触控电极420中的网孔在基底100上的正投影重合,以提高触控电极层400的透光率。
例如,在本公开另一些实施例中,如图7和图8所示,第一触控电极410包括多个彼此间隔的第一子触控电极411和多个第一连接部412,同一条第一触控电极410的多个第一子触控电极411通过第一连接部412连接,第二触控电极420包括多个彼此间隔的第二子触控电极421和多个第二连接部422,同一条第二触控电极420的多个第二子触控电极421通过第二连接部422连接,第一连接部412和第二连接部422交叉且彼此间隔,其中,第一子触控电极411、第一连接部412和第二触控电极420同层,且第二连接部422位于第一连接部412和隔离结构210之间,或者,第二连接部422位于第一连接部412背离隔离结构210的一侧。该设计下的触控电极层400的透光率高,且网孔与隔离开口201和透光开口202的对位精度高,从而可以提高第一区域13的透光率。例如,可以先沉积第一导电材料层,对其进行构图以形成多条第一触控电极410和多条第二触控电极420中的第二子触控电极421,其中,将第一导电材料层形成为多个网孔,以使得第一触控电极410和多条第二触控电极420中的第二子触控电极421都形成为网格图案;沉积绝缘层430以覆盖第一触控电极410和多条第二触控电极420中的第二子触控电极421;对绝缘层430进行构图以形成暴露第二子触控电极421的通孔;在绝缘层430上沉积第二导电材料层,对其进行构图以形成第二触控电极420中的第二连接部422,第二连接部422通过通孔与第二子触控电极421连接。在该设计中,第一触控电极410和第二触控电极420的主体部分同层设计,从而不需要考虑两者的网孔对位问题,有利于提高,触控电极层400的透光率。
在本公开至少一个实施例中,可重新参见图2至图4,网格图案的触控电极块401的宽度需要设计为小于发光单元220的间距,即,网格图案的触控电极块401在基底100上的正投影,位于隔离结构210在基底100上的正投影之内,以使得隔离开口201和透光开口202在基底100上的正投影,位于对应的网孔在基底100上的正投影之内。该设计可使得显示面板出射的光线具有较大的射角,从而使得显示面板具备较大的视角。
在本公开至少一个实施例中,可重新参见图2至图4,位于相邻两个隔离开口201之间的网格图案的触控电极块至隔离开口201的距离相等对于相邻的两个隔离开口201以及位于相邻两个隔离开口201之间的网格图案的触控电极块,触控电极块上的任一点在基底上的正投影分别至隔离开口201在基底上的正投影的最小距离相等;和/或,位于相邻隔离开口201和透光开口202之间的网格图案的触控电极块至隔离开口201和透光开口202的距离相等对于相邻的两个隔离开口201和透光开口202以及位于相邻两个隔离开口201和透光开口202之间的网格图案的触控电极块,触控电极块上的任一点在基底上的正投影分别至隔离开口201和透光开口202在基底上的正投影的最小距离相等。该设计可以使得发光单元在不同方向的最大视角大致相等,从而可以缓解色偏现象。
例如,在本公开一些实施例中,网格图案的触控电极块401可以设计为如图2和图4所示的线性结构,该线性结构由直线段和曲线段连接构成,直线段和曲线段的各个部分的宽度基本相等。例如,“触控电极块至隔离开口201的距离相等”,可以理解为:触控电极块上的任一点至相邻隔离开口201的最短距离相等,即,触控电极块位于相邻隔离开口201的中心分界线上。
例如,在本公开另一些实施例中,如图9和图10所示,网格图案的触控电极块401围设的网孔与对应的隔离开口和/或透光开口共形,以使得围设同一个网孔的触控电极块401的不同点在基底上的正投影,与隔离开口或者透光开口在基底上的正投影的最小距离相等。在此情况下,触控电极块401的形状如图10所示。在此情况下,为了保证显示面板的视角,可以将网孔的边缘与对应的隔离开口的边缘具有第一间距,该第一间距可以为预设值,以使得发光单元在各个方向上的最大视角大致相等。
在本公开的实施例中,可以对隔离开口的形状(相当于像素的形状)进行设计,以在不降低像素的发光面积(发光单元的有效发光面积)和像素密度PPI的情况下,增加隔离开口之间的间隙,以便于设置较大面积的透光开口,具体如下。
在本公开至少一个实施例中,可重新参见图2至图3、图9和图11,隔离开口201的至少两个相对的端部为弧形。该设计可以使得隔离开口201的设计面积不变(发光单元的发光面积不变)以及显示面板的像素密度不变的情况下,使得相邻隔离开口201之间存在较大的尺寸,以便于设计更大面积的透光开口202,以进一步提高第一区域13的透光率。关于该设计可以增加透光开口的尺寸的原理,可以参见下述关于图11和图12所示的实施例中的相关说明,在此不作赘述。
在本公开至少一个实施例中,如图2和图9所示,隔离开口201分类为第一类开口220a、第二类开口220b和第三类开口220c,第一类开口220a、第二类开口220b和第三类开口220c分别界定出出射光颜色不同的发光单元R、G、B,且第一类开口220a、第二类开口220b和第三类开口220c所界定的发光单元的出射光线的波长依次减小,例如发光单元R、G、B分别出射红光、绿光和蓝光。隔离开口201排布为多行和多列,第一类开口220a和第三类开口220c同行且同列设置,在设置有第一类开口220a的行和列中,第一类开口220a和第三类开口220c交替排布,设置有第一类开口220a的行和设置有第二类开口220b的行交替排布,设置有第一类开口220a的列和设置有第二类开口220b的列交替排布。
在本公开至少一个实施例中,第一类开口220a的轮廓为圆形,第二类开口220b和第三类开口220c的轮廓都包括两条平行边和两条半圆弧边,第二类开口220b具有经过两条半圆弧边的第一对称轴,第三类开口220c具有经过两条半圆弧边的第二对称轴,第二对称轴与第三类开口220c所在列的延伸方向平行,第一对称轴与行和列的延伸方向交叉,第二类开口220b的第一对称轴经过位于相邻列且相邻的两个第一类开口220a的形心,对于同一列中的第二类开口220b,相邻的第二类开口220b之间呈轴对称,且对称轴的方向与行的方向平行。
在本公开的实施例中,对透光开口的形状不做限制,可以根据实际工艺的需求进行设计,下面,对透光开口的几种设计形状进行说明。
例如,在本公开一些实施例中,透光开口的形状为圆形。在该设计下,可以降低透光开口处的衍射,以提高第一区域的光学效果。
例如,在本公开另一些实施例中,透光开口202的形状可以设计为如图2和图9所示的矩形。
例如,在本公开再一些实施例中,透光开口202的边缘与相邻的隔离开口201的边缘共形。该设计可以增加透光开口的设计面积,以进一步增加第一区域的透光率。
下面,通过如图11和图12所示的两个对比例,以对上述隔离开口的形状设计使得透光开口的设计面积增加的原理进行说明,其中,两个附图中所示的像素排布方式相同、像素密度PPI相等、出射同一颜色光线的像素面积(发光单元的有效发光面积)相等,只是像素的形状(隔离开口的形状)不同,具体如下。
如图11所示,发光单元R为圆形,其直径为26.6微米,发光单元G为两条平行边和两条半圆弧边构成的跑道型,其中两条平行边所确定的矩形尺寸为8.6微米(宽)*17.8微米(长),发光单元G的总面积为375.7平方微米,发光单元B为两条平行边和两条半圆弧边构成的跑道型,其中两条平行边所确定的矩形尺寸为14.2微米(宽)*33.5微米(长),发光单元B的总面积为1008平方微米,像素的pitch为55.2微米,以使得像素的PPI为460,发光单元R、G、B的有效发光面积的比值为1:1.3:1.9,隔离结构的最小宽度为12微米。在此情况下,L1的宽度大致为20微米,L2的宽度大致为25.2微米。
如图12所示,发光单元R为正方形,其边长为26.4微米,发光单元G为矩形,其宽为17.76微米,其长为25.67微米,发光单元B为正方形,其边长为36.3微米,像素的pitch为55.2微米,以使得像素的PPI为460,发光单元R、G、B的有效发光面积的比值为1:1.3:1.9,隔离结构的最小宽度为12微米。在此情况下,L1的宽度大致为9.6微米,L2的宽度大致为13.5微米。
需要说明的是,在本公开的实施例中,对第一区域的设计面积不作限制,可以根据实际工艺的需求以及显示面板的应用场景进行设计。
例如,在本公开一些实施例中,显示区的全部可以设计为第一区域13,即,透光开口可以排布在显示面板的整个显示区中。在该设计下,显示面板可以用于透明显示等场景中。
例如,在本公开另一些实施例中,可重新参见图1,显示区还包括第二区域(显示区11内且第一区域13之外的区域),第二区域位于第一区域13的至少一侧,用于透光的透光开口只设置在第第一区域13中。在该设计下,显示面板可以用于指纹识别或者屏下摄像等场景中。
在本公开至少一个实施例中,可重新参见图3,显示面板还可以包括第一封装层310,该第一封装层310至少覆盖发光单元220以在显示面板的制备工艺过程中对发光单元220的膜层进行保护。需要说明的是,出射光颜色不同的发光单元220是独立制作的,但是每个发光单元220中的膜层(蒸镀膜层例如发光功能层223等)在蒸镀时是在显示面板上整面蒸镀的。例如,发光单元220分类为分别出射红光(R)、绿光(G)和蓝光(B)的发光单元,在制备过程中,发光单元R、G、B依次制备,在制备发光单元R时,每个第一开孔中都形成发光单元R,在显示面板上制备第一封装层310以覆盖发光单元G,然后将部分第一开孔(最终产品中用于形成发光单元G、B)中的第一封装层310以及发光单元R的阴极和发光功能层223去除,在此过程中,第一封装层310用于保护其它第一开孔中的发光单元R,基于该方式再依次制备发光单元G、B,最终形成如图3所示的第一封装层310。需要说明的是,在上述制备过程中,可以去除透光开口202中的第一封装层310,以进一步增加第一区域的透光率。
在本公开至少一个实施例中,可重新参见图3,显示面板还可以包括覆盖第一封装层310的第二封装层320和第三封装层330,第二封装层320位于第一封装层310和第三封装层330之间,第一封装层310和第三封装层330为无机层,无机层的致密性高以隔绝水氧,第二封装层320为有机层,从而具有较大的厚度以平坦化显示面板的表面。
在本公开至少一个实施例中,可重新参见图3,基底100可以包括衬底以及位于衬底上的驱动电路层,驱动电路层包括位于显示区中的多个像素驱动电路,显示功能层位于该驱动电路层上。例如,像素驱动电路可以包括多个晶体管TFT、电容等,例如形成为2T1C(即2个晶体管(TFT)和1个电容(C))、3T1C或者7T1C等多种形式。像素驱动电路与发光单元200连接,以控制发光单元220的开关状态以及发光亮度。
例如,如图13所示,显示面板还可以包括诸如光学膜片500、盖板600等结构。
下面,结合图14A至图14F对图3所示的显示面板的制备过程进行描述,以直观展示隔离结构可以增加像素排布密度PPI的原理。
如图14A所示,提供基底100并在基底100上形成阵列排布的阳极221;在形成有阳极的基底100上沉积绝缘材料膜层(例如无机材料膜层);在显示面板上形成支撑部211和冠部212,其中形成隔离开口201和透光开口202;对绝缘材料膜层进行构图工艺以形成像素界定层213(平面形状为网格状),像素界定层213包括像素开口203且覆盖相邻阳极的间隙,如此,像素界定层213的平面形状为网格状。
在本公开的实施例中,构图工艺可以为光刻构图工艺,例如可以包括:在需要被构图的结构层上涂覆光刻胶,使用掩模板对光刻胶进行曝光,对曝光的光刻胶进行显影以得到光刻胶图案,使用光刻胶图案对结构层进行蚀刻(可选湿刻或者干刻),然后可选地去除光刻胶图案。需要说明的是,在结构层(例如下述的光刻胶图案700)的材料包括光刻胶的情况下,可以通过掩模板对该结构层直接曝光以形成所需要的图案。
需要说明的是,可以在形成具有隔离开口201和透光开口202的隔离结构210之后,再对绝缘材料膜层进行构图工艺,以形成具备像素开口203的像素界定层213,如此,在形成隔离结构210的工艺中,可以避免对阳极造成损坏(例如腐蚀),此时的绝缘材料膜层可以对阳极进行保护。
如图14B所示,在基底100上蒸镀发光功能层和阴极,以在隔离结构210的每个隔离开口201中都形成发光单元220,该过程中的蒸镀未采用掩膜板,因此蒸镀的材料也会在冠部212上沉积,且也会在透光开口202中沉积。例如,蒸镀的发光单元220中的发光层功能层可以为出射蓝光(B),即,在该阶段,隔离结构210的每个第一开孔201和第二开孔202中都形成有出射蓝光的发光单元220。
如图14C所示,沉积形成第一封装层310以覆盖发光单元200,第一封装层310在该阶段会覆盖整个显示区;在第一封装层310上形成(例如涂覆等)光刻胶,然后对其进行构图工艺以形成光刻胶图案700,光刻胶图案700仅覆盖隔离结构210的一部分隔离开口201(成品显示面板的发光单元B所在的隔离开口201)。
如图14D所示,以光刻胶图案700为掩膜对显示面板的表面进行刻蚀,去除为被光刻胶图案700覆盖的第一封装层310、阴极和发光功能层;然后去除残留的光刻胶图案700。
如图14E所示,重复上述图14A至图14D所示的步骤,以在其它隔离开口201中分别形成出射红光和绿光的发光单元220。
如图14F所示,在第一封装层310分别形成第二封装层320和第三封装层330。
可重新参见图3,在第三封装层330上制备触控电极层400,其制备过程可以参见前述实施例中的相关说明,在此不作赘述。
需要说明的是,在本公开的一些实施例中,发光功能层中的部分膜层例如发光层,可以使用非蒸镀的方式例如喷墨打印来制备,具体可以根据该些膜层的材料来选择,例如,在该些膜层为高分子材料而不适用蒸镀的情况下,可以使用喷墨打印来制备。
本公开至少一个实施例还提供一种像素排布结构,该像素排布结构包括多个第一子像素、多个第二子像素和多个第三子像素,其中,第一子像素、第二子像素和第三子像素的出射光线的波长依次减小,第一子像素、第二子像素和第三子像素排布为多行和多列,第一子像素和第三子像素同行且同列设置,在设置有第一子像素的行和列中,第一子像素和第三子像素交替排布,排布有第一子像素和第三子像素的行和排布有第二子像素的行交替排布,排布有第一子像素和第三子像素的列和排布有第二子像素的列交替排布,第一子像素、第二子像素和第三子像素中至少一个的相对两端的边缘为弧形。该设计下的像素排布结构中的子像素的排布方式可以参见图2、图9和图11所示实施例中的相关说明,其中,第一子像素、第二子像素和第三子像素可以分别对应于限位在第一类开口、第二类开口和第三类开口中的发光单元R、G、B,例如,发光单元R为第一子像素的实体发光结构,发光单元G为第二子像素的实体发光结构,发光单元B为第三子像素的实体发光结构。
在本公开至少一个实施例中,第一子像素的轮廓为圆形,第二子像素和第三子像素的轮廓都包括两条平行边和两条半圆弧边,第一子像素具有经过两条半圆弧边的第一对称轴,第二子像素具有经过两条半圆弧边的第二对称轴,第一对称轴与第一子像素所在列的延伸方向平行,第二对称轴与行和列的延伸方向交叉,第二子像素的第二对称轴经过位于相邻列且相邻的两个第三子像素的形心,对于同一列中的第二子像素,相邻的第二子像素之间呈轴对称,且对称轴的方向与行的方向平行。该设计下的第一子像素、第二子像素和第三子像素的设计方式可以参见9和图11所示实施例中对第一类开口、第二类开口和第三类开口的相关说明,在此不作赘述。
本公开至少一个实施例提供一种显示面板,该显示面板包括隔离结构,隔离结构围合形成隔离开口和透光开口,隔离开口用于容纳发光单元,隔离开口与透光开口间隔设置,隔离开口分类为第一类开口、第二类开口和第三类开口,第一类开口、第二类开口和第三类开口所界定的发光单元的出射光线的波长依次减小,隔离开口排布为多行和多列,第一类开口和第三类开口同行且同列设置,在设置有第一类开口的行和列中,第一类开口和第三类开口交替排布,设置有第一类开口的行和设置有第二类开口的行交替排布,设置有第一类开口的列和设置有第二类开口的列交替排布,第一类开口、第二类开口和第三类开口中至少一个的相对两端的边缘为弧形。该第一类开口、第二类开口和第三类开口中限定的发光单元对应于前述实施例提及的第一子像素、第二子像素和第三子像素。在该设计下,在不改变每个发光单元的发光面积、显示面板的像素密度(PPI)的情况下,可以增加透光开口的设计面积,其具体原理可以参见前述实施例中的相关说明,在此不作赘述。
在本公开至少一个实施例提供的显示面板中,第一类开口的轮廓为圆形,第二类开口和第三类开口的轮廓都包括两条平行边和两条半圆弧边,第二类开口具有经过两个半圆弧边的第一对称轴,第三类开口具有经过两个半圆弧边的第二对称轴,第二对称轴与第三类开口所在列的延伸方向平行,第一对称轴与行和列的延伸方向交叉,第二类开口的第一对称轴经过位于相邻列且相邻的两个第一类开口的形心,对于同一列中的第二类开口,相邻的第二类开口之间呈轴对称,且对称轴的方向与行的方向平行。
本公开至少一个实施例提供一种显示装置,可以包括上述实施例中的显示面板。此外,在第一区域为识别区的情况下,显示装置可以包括识别器件,识别器件在基底上的正投影与第一区域至少部分重叠。
例如,在本公开一些实施例中,识别器件包括至少一个指纹识别传感器。例如,指纹识别传感器可以设置在基底背离显示功能层的一侧,或者,指纹识别传感器也可以设置在基底之内。
例如,在本公开另一些实施例中,识别器件可以为摄像头,摄像头位于基底背离显示功能层的一侧。
例如,在本公开的实施例中,显示装置可以为电视、数码相机、手机、手表、平板电脑、笔记本电脑、导航仪等任何具有显示功能的产品或者部件。
以上所述仅为本说明书的较佳实施例而已,并不用以限制本说明书,凡在本说明书的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换等,均应包含在本说明书的保护范围之内。

Claims (18)

1.一种显示面板,其特征在于,包括:
基底;
隔离结构,位于所述基底上,所述隔离结构围合形成隔离开口和透光开口,所述隔离开口用于容纳发光单元,所述隔离开口与所述透光开口间隔设置,其中,所述发光单元包括在所述基底上依次叠置的阳极、发光功能层和阴极,所述发光功能层和所述阴极位于所述隔离开口中;以及
触控电极层,位于所述隔离结构背离所述基底的一侧,其中,所述触控电极层包括触控电极块,所述触控电极块避位所述透光开口,相邻所述触控电极块依次连接构成具有网孔的网格图案,且所述隔离开口和所述透光开口分别在所述基底上的正投影均与所述网格图案中对应的网孔在所述基底上的正投影至少部分重叠。
2.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述隔离结构包括支撑部和冠部,所述冠部位于所述支撑部远离所述基底的一侧,所述支撑部面向所述冠部的一端在所述基底上的正投影位于所述冠部在所述基底上的正投影之内,所述支撑部为导电结构,所述阴极与所述支撑部连接。
3.根据权利要求2所述的显示面板,其特征在于,所述支撑部包括至少两个子支撑部,至所述基底远的所述子支撑部在所述基底上的正投影,位于至所述基底近的所述子支撑部在所述基底上的正投影之内。
4.根据权利要求2所述的显示面板,其特征在于,所述显示面板还包括像素界定层,所述像素界定层位于所述隔离结构和所述基底之间,所述像素界定层限定有分别与所述隔离开口对应的多个像素开口,所述像素开口与对应的所述隔离开口连通,所述像素开口在所述基底上的正投影位于对应的所述隔离开口在所述基底上的正投影之内,且所述像素界定层覆盖相邻的所述阳极之间的间隙以及所述阳极的边缘,以使得所述像素开口暴露所述阳极。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的显示面板,其特征在于,所述触控电极层包括多行第一触控电极和多列第二触控电极,其中,所述第一触控电极由多个所述触控电极块沿着行的方向彼此连接构成,所述第二触控电极由多个所述触控电极块沿着列的方向彼此连接构成,以及
所述第一触控电极和所述第二触控电极彼此间隔且彼此交叉,且所述第一触控电极和所述第二触控电极设置为所述网格图案。
6.根据权利要求5所述的显示面板,其特征在于,所述第一触控电极位于所述第二触控电极和所述隔离结构之间。
7.根据权利要求6所述的显示面板,其特征在于,所述第一触控电极包括多个彼此间隔的第一子触控电极和多个第一连接部,同一条所述第一触控电极的所述多个所述第一子触控电极通过所述第一连接部连接,所述第二触控电极包括多个彼此间隔的第二子触控电极和多个第二连接部,同一条所述第二触控电极的所述多个所述第二子触控电极通过所述第二连接部连接,所述第一触控电极和所述第二触控电极分别通过所述第一连接部和所述第二连接部彼此交叉,其中,所述第一子触控电极、所述第一连接部和所述第二触控电极同层,所述第一连接部和所述第二连接部彼此间隔,且所述第二连接部位于所述第一连接部和所述隔离结构之间,或者,所述第二连接部位于所述第一连接部背离所述隔离结构的一侧。
8.根据权利要求1至4中任一项所述的显示面板,其特征在于,
所述网格图案的触控电极块在所述基底上的正投影,位于所述隔离结构在所述基底上的正投影之内,以使得所述隔离开口和所述透光开口在所述基底上的正投影,位于对应的所述网孔在所述基底上的正投影之内。
9.根据权利要求8所述的显示面板,其特征在于,对于相邻的两个所述隔离开口以及位于相邻两个所述隔离开口之间的所述网格图案的触控电极块,所述触控电极块上的任一点在所述基底上的正投影分别至所述隔离开口在所述基底上的正投影的最小距离相等;和/或,对于相邻的两个所述隔离开口和所述透光开口以及位于相邻两个所述隔离开口和所述透光开口之间的所述网格图案的触控电极块,所述触控电极块上的任一点在所述基底上的正投影分别至所述隔离开口和所述透光开口在所述基底上的正投影的最小距离相等。
10.根据权利要求9所述的显示面板,其特征在于,所述网格图案的触控电极块围设的网孔与对应的所述隔离开口和/或所述透光开口共形,以使得围设同一个网孔的触控电极块的不同点在所述基底上的正投影,与所述隔离开口或者所述透光开口在所述基底上的正投影的最小距离相等。
11.根据权利要求1至4中任一项所述的显示面板,其特征在于,所述隔离开口的至少两个相对的端部为弧形。
12.根据权利要求11所述的显示面板,其特征在于,所述隔离开口分类为第一类开口、第二类开口和第三类开口,所述第一类开口、所述第二类开口和所述第三类开口分别界定出出射光颜色不同的所述发光单元,且所述第一类开口、所述第二类开口和所述第三类开口所界定的发光单元的出射光线的波长依次减小,所述隔离开口排布为多行和多列,所述第一类开口和所述第三类开口同行且同列设置,在设置有所述第一类开口的行和列中,所述第一类开口和所述第三类开口交替排布,设置有所述第一类开口的行和设置有所述第二类开口的行交替排布,设置有所述第一类开口的列和设置有所述第二类开口的列交替排布。
13.根据权利要求12所述的显示面板,其特征在于,所述第一类开口的轮廓为圆形,所述第二类开口和所述第三类开口的轮廓都包括两条平行边和两条半圆弧边,所述第二类开口具有经过两个所述半圆弧边的第一对称轴,所述第三类开口具有经过两个所述半圆弧边的第二对称轴,所述第二对称轴与所述第三类开口所在列的延伸方向平行,所述第一对称轴与行和列的延伸方向交叉,所述第二类开口的所述第一对称轴经过位于相邻列且相邻的两个所述第一类开口的形心,对于同一列中的所述第二类开口,相邻的所述第二类开口之间呈轴对称,且对称轴的方向与行的方向平行。
14.根据权利要求1至4中任一项所述的显示面板,其特征在于,
所述透光开口的形状为圆形;或者
所述透光开口的形状为矩形;或者
所述透光开口的边缘与相邻的所述隔离开口的边缘共形。
15.根据权利要求1至4中任一项所述的显示面板,其特征在于,所述显示面板包括显示区,所述显示区包括第一区域和第二区域,所述第二区域位于所述第一区域的至少一侧,且所述透光开口位于所述第一区域中。
16.一种显示面板,其特征在于,包括隔离结构,其中,所述隔离结构围合形成隔离开口和透光开口,所述隔离开口用于容纳发光单元,所述隔离开口与所述透光开口间隔设置,所述发光单元包括依次叠置的阳极、发光功能层和阴极,所述发光功能层和所述阴极位于所述隔离开口中,
所述隔离开口分类为第一类开口、第二类开口和第三类开口,所述第一类开口、所述第二类开口和所述第三类开口所界定的发光单元的出射光线的波长依次减小,
所述隔离开口排布为多行和多列,所述第一类开口和所述第三类开口同行且同列设置,在设置有所述第一类开口的行和列中,所述第一类开口和所述第三类开口交替排布,设置有所述第一类开口的行和设置有所述第二类开口的行交替排布,设置有所述第一类开口的列和设置有所述第二类开口的列交替排布,以及
所述第一类开口、所述第二类开口和所述第三类开口中至少一个的相对两端的边缘为弧形。
17.根据权利要求16所述的显示面板,其特征在于,所述第一类开口的轮廓为圆形,所述第二类开口和所述第三类开口的轮廓都包括两条平行边和两条半圆弧边,
所述第二类开口具有经过两个所述半圆弧边的第一对称轴,所述第三类开口具有经过两个所述半圆弧边的第二对称轴,所述第二对称轴与所述第三类开口所在列的延伸方向平行,所述第一对称轴与行和列的延伸方向交叉,以及
所述第二类开口的所述第一对称轴经过位于相邻列且相邻的两个所述第一类开口的形心,对于同一列中的所述第二类开口,相邻的所述第二类开口之间呈轴对称,且对称轴的方向与行的方向平行。
18.一种显示装置,其特征在于,包括如权利要求1至17中任一项所述的显示面板。
CN202311317611.4A 2023-10-12 2023-10-12 显示面板和显示装置 Active CN117062489B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202311317611.4A CN117062489B (zh) 2023-10-12 2023-10-12 显示面板和显示装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202311317611.4A CN117062489B (zh) 2023-10-12 2023-10-12 显示面板和显示装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN117062489A CN117062489A (zh) 2023-11-14
CN117062489B true CN117062489B (zh) 2024-01-30

Family

ID=88666711

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202311317611.4A Active CN117062489B (zh) 2023-10-12 2023-10-12 显示面板和显示装置

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN117062489B (zh)

Citations (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN206179868U (zh) * 2016-09-30 2017-05-17 京东方科技集团股份有限公司 触控面板及显示装置
CN109728048A (zh) * 2018-12-29 2019-05-07 武汉天马微电子有限公司 显示面板以及显示装置
CN112054048A (zh) * 2020-09-17 2020-12-08 合肥维信诺科技有限公司 透光显示模组、显示面板及其制备方法
CN113471384A (zh) * 2021-06-29 2021-10-01 京东方科技集团股份有限公司 一种显示面板及其制备方法、显示装置
CN113485576A (zh) * 2021-06-30 2021-10-08 合肥维信诺科技有限公司 触控面板和触控显示装置
WO2021259308A1 (zh) * 2020-06-23 2021-12-30 京东方科技集团股份有限公司 Oled显示面板及其制造方法
CN115061593A (zh) * 2022-06-10 2022-09-16 京东方科技集团股份有限公司 显示面板及其制作方法、显示装置
CN115942837A (zh) * 2021-09-30 2023-04-07 乐金显示有限公司 显示面板及包括该显示面板的显示装置
CN115996615A (zh) * 2023-03-09 2023-04-21 上海天马微电子有限公司 显示面板和显示装置
CN116018018A (zh) * 2022-12-13 2023-04-25 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 显示面板和电子装置
WO2023071097A1 (zh) * 2021-10-27 2023-05-04 京东方科技集团股份有限公司 一种触控结构、显示基板及显示面板
WO2023142358A1 (zh) * 2022-01-26 2023-08-03 京东方科技集团股份有限公司 触控结构、触控显示面板及显示装置
CN116685174A (zh) * 2023-07-24 2023-09-01 昆山国显光电有限公司 显示面板

Patent Citations (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN206179868U (zh) * 2016-09-30 2017-05-17 京东方科技集团股份有限公司 触控面板及显示装置
CN109728048A (zh) * 2018-12-29 2019-05-07 武汉天马微电子有限公司 显示面板以及显示装置
WO2021259308A1 (zh) * 2020-06-23 2021-12-30 京东方科技集团股份有限公司 Oled显示面板及其制造方法
CN112054048A (zh) * 2020-09-17 2020-12-08 合肥维信诺科技有限公司 透光显示模组、显示面板及其制备方法
CN113471384A (zh) * 2021-06-29 2021-10-01 京东方科技集团股份有限公司 一种显示面板及其制备方法、显示装置
CN113485576A (zh) * 2021-06-30 2021-10-08 合肥维信诺科技有限公司 触控面板和触控显示装置
CN115942837A (zh) * 2021-09-30 2023-04-07 乐金显示有限公司 显示面板及包括该显示面板的显示装置
WO2023071097A1 (zh) * 2021-10-27 2023-05-04 京东方科技集团股份有限公司 一种触控结构、显示基板及显示面板
WO2023142358A1 (zh) * 2022-01-26 2023-08-03 京东方科技集团股份有限公司 触控结构、触控显示面板及显示装置
CN115061593A (zh) * 2022-06-10 2022-09-16 京东方科技集团股份有限公司 显示面板及其制作方法、显示装置
CN116018018A (zh) * 2022-12-13 2023-04-25 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 显示面板和电子装置
CN115996615A (zh) * 2023-03-09 2023-04-21 上海天马微电子有限公司 显示面板和显示装置
CN116685174A (zh) * 2023-07-24 2023-09-01 昆山国显光电有限公司 显示面板

Also Published As

Publication number Publication date
CN117062489A (zh) 2023-11-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN110543050B (zh) 一种显示面板、显示装置及显示装置的补偿方法
CN110289298B (zh) 显示装置及其显示面板、透明显示面板
CN111223904B (zh) 显示面板及其制备方法、显示装置及其控制方法
CN110767835B (zh) 透明显示面板、显示屏、显示装置及掩膜板
CN112103318B (zh) 显示面板、显示面板的制备方法及显示装置
CN110838505B (zh) 显示结构和显示装置
CN110767662A (zh) 显示基板、显示面板及显示装置
CN210516181U (zh) 透明显示基板及显示装置
EP4131453A1 (en) Display substrate, fabrication method therefor, and display device
US20220020827A1 (en) Display substrate, method for manufacturing the same, and display device
CN110767141A (zh) 显示基板、显示面板及显示装置
US11502135B2 (en) Display substrate, display panel and display device
CN110890477A (zh) 透光显示面板及其制作方法、显示面板
CN110164952B (zh) 显示基板及其制备方法、显示装置
US20210358963A1 (en) Display panel and display device
CN112616321B (zh) 显示基板及其制作方法、显示装置
CN113594213B (zh) 显示面板及显示装置
TW201939733A (zh) 陣列基板、顯示面板和顯示裝置
CN111799311B (zh) 显示基板及其制备方法、显示装置
CN116685174B (zh) 显示面板
WO2020233485A1 (zh) 发光器件及其制造方法、掩膜板、显示装置
CN117062489B (zh) 显示面板和显示装置
CN114497415B (zh) 显示面板及其制造方法、显示装置
WO2022222111A1 (zh) 显示基板、显示装置及制作方法
CN117998900A (zh) 显示面板、显示装置和显示面板的制备方法

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant