TW201939733A - 陣列基板、顯示面板和顯示裝置 - Google Patents

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Abstract

本發明提供一種陣列基板、顯示面板和顯示裝置。陣列基板，包括：襯底；第一電極層，所述第一電極層形成於所述襯底上；發光層，所述發光層形成於所述第一電極層上，包括第一發光區和第二發光區，所述第一發光區包括多個第一發光塊，所述第二發光區包括多個第二發光塊，所述多個第一發光塊和所述多個第二發光塊在同一個工藝中形成；和第二電極層，所述第二電極層形成於所述發光層上；其中，所述第一電極層包括對應所述第一發光區設置的多個第一電極，每一所述第一電極上對應多個所述第一發光塊，且同一所述第一電極上的第一發光塊的顏色相同，所述第一發光區為透明區，所述第二發光區為非透明區。

Description

陣列基板、顯示面板和顯示裝置
本發明涉及顯示技術領域，尤其涉及一種陣列基板、顯示面板和顯示裝置。
隨著電子設備的快速發展，使用者對屏占比的要求越來越高，使得電子設備的全面屏顯示受到越來越多的關注。而由於需要集成如前置攝像頭、聽筒以及紅外感應元件等，電子設備並不能在整個螢幕的各個區域均進行顯示，無法實現真正意義上的全面屏。
有鑑於此，本發明提供一種陣列基板、顯示面板和顯示裝置。
根據本發明的實施例，提供一種陣列基板，其特徵在於，包括：襯底；第一電極層，所述第一電極層形成於所述襯底上；發光層，所述發光層形成於所述第一電極層上，包括第一發光區和第二發光區，所述第一發光區包括多個第一發光塊，所述第二發光區包括多個第二發光塊，所述多個第一發光塊和所述多個第二發光塊在同一個工藝中形成；和第二電極層，所述第二電極層形成於所述發光層上；其中，所述第一電極層包括對應所述第一發光區設置的多個第一電極，每一所述第一電極上對應多個所述第一發光塊，且同一所述第一電極上的第一發光塊的顏色相同，所述第一發光區為透明區，所述第二發光區 為非透明區。同一第一電極對應的第一發光塊顏色一致能夠降低蒸鍍難度，降低混色風險；第一發光區為透明區能夠允許光線透過，從而使得配置有該陣列基板電子設備所包括的感光器件可以放置於該第一發光區下方，從而在能夠採集或者發射光線的同時避免佔用電子設備的顯示區域，有利於提高屏占比。
可選的，至少部分所述第一發光區被所述第二發光區包圍。
可選的，所述第一電極為條狀電極，多個所述第一電極排列成一行多列、一列多行、兩列多行、兩行多列或多行多列。第一電極層上的第一電極採用規律性排布，能夠降低加工難度，並且第二電極層採用面電極結構，進一步能夠簡化工藝步驟，降低生產成本。
可選的，所述第一電極的列方向與所述第一發光塊的列方向平行或者垂直。
可選的所述第一電極層還包括對應所述第二發光區設置的多個第二電極，每一所述第二電極上對應多個所述第二發光塊；其中，所述第一電極的列方向與所述第二發光塊的列方向相同，且在所述列方向上，所述第一電極的寬度大於或等於所述第二電極的寬度。有利於增加第一發光塊在列方向上的寬度，增加第一發光塊的面積，有利於增加第一發光塊的開口率，從而加大發光強度，以彌補由於第一發光區為透明區而雙向透光導致暗度降低的弊端。
可選的，每一所述第一電極上沿第一方向對應多列所述第一發光塊，對應同一所述第一電極上沿第二方向相鄰的兩個所述第一發光塊對齊設置或者錯位設置，所述第二方向與所述第一方向垂直。基於此，可以在第一發光區的像素密度不變的情況下，可以在降低掩膜形變量的同時，減少第一電極的數量，降低加工難度。其中對齊設置可以降低對掩膜的加工要求；錯位設置能夠提高第一發光塊排布的均勻性，提升顯示效果。
可選的，對應同一所述第一電極上相鄰的兩個所述第一發光塊的中軸線在所述第二方向上的間距為所述第一發光塊在所述第二方向上尺寸的0.5-2倍。
可選的，每一所述第一電極包括：多個第一子電極，在所述第二方向上相鄰的所述第一子電極錯位排列，每一所述第一子電極對應一列沿第一方向設置的所述第一發光塊，每一所述第一子電極包括多個條狀電極或塊狀電極，所述第二方向與所述第一方向垂直；和連接部，所述連接部電性連接相鄰的兩個條狀電極或塊狀電極。
可選的，相鄰兩個所述第一電極對應的所述第一發光塊對齊設置或錯位設置。對齊設置可以降低對掩膜的加工要求；錯位設置能夠提高第一發光塊排布的均勻性，提升顯示效果。
可選的，第一電極層為陽極、第二電極層為陰極，所述第二電極層為面電極。能夠有效簡化加工難度。
優選的，所述第二電極層包括對應於所述第一發光區設置的第五電極，所述第五電極為面電極。
可選的，所述第一電極在列方向上的兩條邊均為波浪形，且兩條波浪形的邊的波峰相對設置，波谷相對設置；和/或所述第一發光塊在所述第一電極的列方向上的兩條邊均為波浪形，且兩條波浪形的邊的波峰相對設置、波谷相對設置。因此在第一電極的不同寬度位置以及相鄰第一電極的不同間距之間，產生的衍射條紋的位置不同，不同位置處的衍生效應相互抵消，從而可以有效減弱衍射效應。
可選的，每一所述第一電極在所述襯底上的投影的形狀包括至少一個第一圖形單元；每一所述第一發光塊在所述襯底上的投影的形狀包括至少一個第二圖形單元；所述第一圖形單元和/或所述第二圖形單元包括圓形、橢圓形、啞鈴形、葫蘆形或矩形。
可選的，還包括： 像素限定層，所述像素限定層形成於所述第一電極層上，且包括對應於所述第一發光區設置的多個第一像素限定孔，每一所述第一像素限定孔對應至少一個所述第一發光塊。通過像素限定層限定出第一像素限定孔，以隔離相鄰的兩個第一像素限定孔對應的第一發光塊，降低混色風險。
可選的，所述像素限定層還包括對應於所述第二發光區的多個第二像素限定孔，所述第二像素限定孔的尺寸等於或小於所述第一像素限定孔的尺寸。第一像素限定孔和第二像素限定孔的尺寸相等，可以降低對掩膜的加工難度；第一像素限定孔的尺寸可以大於第二像素限定孔的尺寸，從而在相鄰第一像素限定孔之間間距等於相鄰第二像素限定孔之間間距時，減小第一像素限定孔的分佈密度，減少第一像素限定孔之間的間隙數量，降低光線的衍射概率。
可選的，多個所述第一發光塊和多個所述第二發光塊均排布成多列，且一一對應；同一列中所述第一發光塊顏色與第二發光塊中靠近所述第一發光區設置的第一個第二發光塊顏色一致。。以降低對第一發光區的工藝要求，使得第一發光區在同一列方向的混色風險較小。
可選的，多個所述第一發光塊和多個所述第二發光塊均排布成多列，同一列的至少一個所述第一發光塊與該列所述第二發光塊中靠近所述第一發光區設置的至少一個所述第二發光塊組成一個像素重複單元。基於此，可以在第一發光區和第二發光區的交界處進行顯示過渡，提升顯示效果。
可選的，所述第一電極層和/或所述第二電極層為透明材料製成；所述透明材質的透光率大於或等於90%。
根據本發明實施例的第二方面，提供一種顯示面板，包括：如上述任一項實施例所述的陣列基板；封裝層，所述封裝層封裝於所述陣列基板上遠離所述襯底的一側；所述封裝層包括偏光片，所述偏光片覆蓋所述第二發光區，未覆蓋所述第一發光區；和 晶片組件，控制所述第一發光塊和所述第二發光塊的顯示狀態。通過晶片組件調節第一發光區和第二發光區交界處的顯示顏色，可以提升交界處的顯示效果，降低視覺差異。
根據本發明實施例的協力廠商面，提供一種顯示裝置，包括：設備本體，具有器件區；和如上述任一項實施例所述的顯示面板，所述顯示面板覆蓋在所述設備本體上；其中，所述器件區位於所述第一發光區的下方，且所述器件區包括透過所述第一發光區發射或者採集光線的感光器件。感光器件設置於該第一發光區的下方，以保證感光器件能夠正常工作，並且不佔用顯示區域，從而提升屏占比。
由上述實施例可知，本發明中多個第一發光塊和第二發光塊採用一張掩膜進行蒸鍍，從而減少掩膜的數量，降低生產成本。由於可以在同一第一電極上形成多個第一發光塊，在掩膜上對應於第一發光區上同一電極的區域可以形成多個孔，從而相較於在掩膜上開設一個大孔，能夠提高掩膜的強度，緩衝應力，減少掩膜的形變，有效降低相鄰第一發光塊之間混色的風險。
100‧‧‧陣列基板
3‧‧‧發光層
31‧‧‧第一發光區
32‧‧‧第二發光區
1‧‧‧襯底
2‧‧‧第一電極層
4‧‧‧第二電極層
21,22,23‧‧‧第一電極
X,Y‧‧‧方向
24‧‧‧第二電極
D1,D2,D5,D6‧‧‧寬度
D3‧‧‧間距
D4‧‧‧長度
231‧‧‧第一子電極
232‧‧‧第二子電極
2311,2321‧‧‧塊狀電極
233‧‧‧連接部
41‧‧‧透明材料層
42‧‧‧金屬層
43‧‧‧第三電極
44‧‧‧第四電極
45‧‧‧第五電極
T‧‧‧波峰
B‧‧‧波谷
W1‧‧‧最小間距
W2‧‧‧最大間距
5‧‧‧像素限定層
51‧‧‧第一像素限定孔
52‧‧‧第二像素限定孔
200‧‧‧顯示面板
201‧‧‧封裝層
202‧‧‧晶片組件
300‧‧‧顯示裝置
301‧‧‧裝置本體
3011‧‧‧器件區
400‧‧‧攝像頭
311,311A,311B,311C,311D‧‧‧第一發光塊
321,321A,321B‧‧‧第二發光塊
此處的圖式被併入說明書中並構成本說明書的一部，示出了符合本發明的實施例，並與說明書一起用於解釋本發明的原理。
第1圖是本發明根據一示例性實施例示出的陣列基板的結構示意圖。
第2圖是第1圖的A-A截面圖。
第3-6圖是本發明根據一示例性實施例示出的陣列基板的結構示意圖。
第7-10A圖是本發明根據一示例性實施例示出的陣列基板上第一發光區的結構示意圖。
第10B圖是本發明根據一示例性實施例示出的陣列基板的局部結構示意圖。
第11-13B圖是本發明根據一示例性實施例示出的陣列基板的截面示意圖。
第14-20圖是本發明根據一示例性實施例示出的陣列基板上第一發光區的結構示意圖。
第21圖是本發明根據一示例性實施例示出的陣列基板的截面示意圖。
第22-26圖是本發明根據一示例性實施例示出的陣列基板上的結構示意圖。
第27圖是本發明根據一示例性實施例示出的顯示面板的截面示意圖。
第28圖是本發明根據一示例性實施例示出的顯示裝置的截面示意圖。
第29圖是本發明根據一示例性實施例示出的顯示裝置的結構示意圖。
這裡將詳細地對示例性實施例進行說明，其示例表示在圖式中。以下示例性實施例中所描述的實施方式並不代表與本發明相一致的所有實施方式。
應當理解，儘管在本發明可能採用術語第一、第二、第三等來描述各種資訊，但這些資訊不應限於這些術語。這些術語僅用來將同一類型的資訊彼此區分開。例如，在不脫離本發明範圍的情況下，第一資訊也可以被稱為第二資訊，類似地，第二資訊也可以被稱為第一資訊。
電子設備如手機、平板電腦等，由於需要集成諸如前置攝像頭、聽筒以及紅外感應元件等，故而可通過在顯示面板上開槽(Notch)，在開槽區域設置攝像頭、聽筒以及紅外感應元件等，但開槽區域並不用來顯示畫面，如採用劉海屏等，或者採用在螢幕上開孔的方 式。對於實現攝像功能的電子設備來說，外界光線可通過螢幕上的開孔處進入位於螢幕下方的感光器件。但是這些電子設備並不能在整個螢幕的各個區域均進行顯示，如在攝像頭區域不能顯示畫面，因而均不是真正意義上的全面屏。
基於當前電子設備的發展趨勢，如何在保證電子設備前置拍攝功能的同時，將電子設備所配置的顯示面板屏占比提高至接近100%，已經成為本領域內需要解決的問題。
第1圖是本發明根據一示例性實施例示出的一種陣列基板100的結構示意圖，第2圖是第1圖的A-A截面圖。
在一實施例中，發光層3可以包括第一發光區31和第二發光區32。如第1圖所示，至少部分第一發光區31可以被第二發光區32包圍。例如，第一發光區31可以全部被第二發光區32包圍，或者第一發光區31的一側邊緣可以與第二發光區32的相對側邊緣接觸。在一實施例中，如第1圖所示，第一發光區31可以為弧形；或者，第一發光區31可以為圓形、矩形、橢圓形或不規則形狀等。
在一實施例中，如第2圖所示，該陣列基板100可以包括襯底1、第一電極層2、發光層3和第二電極層4。其中，襯底1可以包括基板、無機層和有機層等層結構。該基板可以包括柔性基板或者剛性基板，其中柔性基板可以採用柔性材料製成，該柔性材料可以為聚醯亞胺(Polyimide，簡稱PI)、聚碳酸酯(Polycarbonate，簡稱PC，也稱PC塑膠)、聚對苯二甲酸類(Polyethylene terephthalate，簡稱PET)等；剛性基板可以採用有機玻璃製成。第一電極層2形成在襯底1上，發光層3形成於第一電極層2上，第二電極層4形成於發光層3上。第一發光區31為透明區，第二發光區32為非透明區。配置有該陣列基板100的電子設備所包括的感光器件可以對應於第一發光區31設置。外部光線可以透過第一發光區31後被感光器件採集，內部光線可以透過第一發光區31而射出。基於此，可以在保證感光器件正常工作的同時，與感光器件對應的螢幕能夠正常顯示，從而不影響電子設備的屏占比。其中，當感光器件處於關閉 狀態時，感光器件對應的第一發光區31區域可以用於顯示圖像，並且第一發光區31示出的圖像與第二發光區32示出的圖像之間可以吻合，以保證圖像顯示的完整性，提升顯示效果。在一實施例中，感光器件對應的第一發光區31也可以是靜態顯示。
在一實施例中，第一發光區31可以包括多個第一發光塊311，第二發光區32可以包括多個第二發光塊321。其中，第一發光塊311和第二發光塊321可以在同一個工藝中形成，以減少掩膜的數量，降低生產成本。
在一實施例中，第一電極層2還可以包括多個對應第一發光區31設置的第一電極，第一電極上可以對應多個第一發光塊311，並且，同一第一電極對應的第一發光塊311的顏色相同。
第3圖至第6圖是本發明根據不同示例性實施例示出的陣列基板的結構示意圖。在一實施例中，如第3圖所示，第一電極層2可以包括第一電極21、22和23，第一電極21、第一電極22和第一電極23上分別對應兩個第一發光塊311。第一電極21上對應的第一發光塊311均為紅色色塊，第一電極22上對應的第一發光塊311均為綠色色塊，第一電極23上對應的第一發光塊311均為藍色色塊。在一些實施例中，每個第一電極上還可以包括三個或者三個以上的第一發光塊311，且不同第一電極所包括的第一發光塊311的數量可以相同也可以不同，本發明並不限制。
其中，多個第一發光塊311可以採用一張掩膜進行蒸鍍，由於可以在同一第一電極上形成多個第一發光塊311，相應的可以在一張掩膜上對應第一發光區31的區域形成多個孔，相較於在掩膜上開設一個大孔，能夠提高掩膜的強度，減少掩膜的形變，有效降低相鄰第一發光塊311之間混色的概率。
在一實施例中，該第一電極可以為條狀電極，如第3圖所示，多個第一電極可以排列成多行多列結構；或者，如第4圖所示，多個第一電極可以排列成一行多列結構。其中，第一電極的列方向即為條狀 電極的縱向延伸方向，即第3圖、第4圖中所示的Y方向；第一電極的行方向即為條狀電極的橫向並排方向，即第3圖、第4圖中所示的X方向。在一些實施例中，列方向可以為條狀電極的橫向並排方向，即如第5圖所示的X方向，行方向為條狀電極的縱向延伸方向，即如第5圖所示的Y方向。
在一些實施例中，第一電極的列方向可以與第一發光塊311的行方向相同或者垂直。如第4圖所示，第一發光塊311的行方向為X方向，第一電極的列方向為Y方向，則第一發光塊311的行方向與第一電極的列方向垂直。如第5圖所示，第一發光塊311的行方向為X方向，第一電極的列方向也為X方向，則第一發光塊311的行方向與第一電極的列方向平行。
在一實施例中，如第4圖至第6圖所示，第一電極層2還可以包括多個對應第二發光區32設置的第二電極24，第二電極24上可以對應多個第二發光塊321。在一實施例中，第二發光塊321的列方向可以與第一電極21的列方向垂直，如第5圖所示，第二發光塊321的列方向為Y方向，而第一電極21的列方向為X方向。在另一實施例中，第二發光塊321的列方向可以與第一電極21的列方向相同，且在該列方向上，第一電極21的寬度大於或等於第二電極24的寬度。如第4圖和第6圖所示，第一電極21、22和23的列方向均為Y方向，且第二發光塊321的列方向也為Y方向，則在Y方向上，第一電極21的寬度的D1大於或等於第二電極24的寬度D2，即D1D2。其中，D1可以等於D2，如第4圖所示；或者，D1可以大於D2，如第6圖所示。
由於第一電極21的寬度相對第二電極24的寬度較大，因此第一發光塊311的面積相對較大，有利於增加第一發光塊311的開口率，從而加大發光強度，以有效彌補由於第一發光區31為透明區而雙向透光導致亮度降低的弊端。當然，在此僅以Y向為第一電極和第二發光塊321的列方向為例進行說明，在其他實施例中，也可以是整體旋轉90°，以X方向為第一電極和第二發光塊321的列方向。
第7圖至第10A圖是本發明根據不同示例性實施例示出的陣列基板上第一發光區的結構示意圖。在一實施例中，如第7圖所示，第一電極可以沿第一方向對應多列第一發光塊311，該第一方向可以為第一電極的縱向延伸方向，即第7圖所示的Y方向。基於此，在第一發光區31的像素密度不變的情況下，可以在降低掩膜形變量的同時，有效減少第一電極的數量，從而降低加工難度。
在一實施例中，在與第一方向垂直的第二方向上，即在第7圖所示的X方向上，同一第一電極上相鄰的兩個第一發光塊311對齊設置；或者，如第8圖所示，同一第一電極上沿X方向相鄰的兩個第一發光塊311錯位設置。相對於第7圖所示的對齊設置的方式，第8圖所示的錯位設置的方式能夠提高第一發光塊311排布的均勻性，有效提升顯示效果。
在一實施例中，如第8圖所示，相鄰的兩個第一電極上對應的第一發光塊311可以對齊設置。在一實施例中，如第9圖所示，相鄰的兩個第一電極上對應的第一發光塊311也可以錯位設置。
在一實施例中，同一第一電極上相鄰的兩個第一發光塊311的中軸線在第二方向上的間距為第一發光塊311在該第二方向上尺寸的0.5-2倍。如第8圖所示，在X方向上相鄰的第一發光塊311A與第一發光塊311B錯位設置，且第一發光塊311A與第一發光塊311B中軸線在Y方向上的間距為D3，D3等於第一發光塊311B在Y方向上的長度D4。在一實施例中，如第9圖所示，D3=1.5*D4。在一實施例中D3還可以是D4的0.5倍、0.8倍、1.2或者2倍。
在一實施例中，如第9圖和第10A圖所示，第一電極23可以包括多個第一子電極231，該多個第一子電極231在Y方向上錯位排列。每一第一子電極231可以包括多個塊狀電極或者條狀電極。在一實施例中，如第9圖所示，第一電極23可以包括第一子電極231和第二子電極232。其中，第一子電極231可以包括多個塊狀電極2311。在一實施例中，塊狀電極2311與有機發光結構之間一一對應；或者，單個塊狀電極 2311可以對應多個第一發光塊311。第二子電極232可以包括多個塊狀電極2321。
在一實施例中，如第9圖和第10A圖所示，第一電極23還可以包括連接部233，該連接部233連接相鄰的兩個子電極。在一實施例中，如第10A圖所示，通過連接部23電性連接相鄰的兩個子電極231、232，可以得到沿X方向延伸且呈波浪形的第一電極23。在一些實施例中，X方向和Y方向可以進行適應性調整，如方向互換或整體旋轉90°等。
第10B圖是本發明根據一示例性實施例示出的陣列基板的局部結構示意圖。第一電極21、22、23在第一發光區31內可以排布成如第10B圖所示的三行兩列的結構。在一些實施例中，第一電極在第一發光區內也可以排布成兩行兩列、三行三列的結構等。在一實施例中，在同一行的所有第一電極上可以對應顏色相同的第一發光塊311。在一些實施例中，也可以在同一列的所有第一電極上對應顏色相同的第一發光塊311。
在一實施例中，第一電極層2可以為陽極、第二電極層4可以為陰極。在一些實施例中，該第二電極層4可以為面電極，能夠有效簡化加工難度。
第11圖至第13B圖是本發明根據一示例性實施例示出的陣列基板的截面示意圖。在一實施例中，如第11圖所示，第二電極層4可以包括透明材料層41和金屬層42。其中，透明材料層4可以覆蓋第一發光區31和第二發光區32，而金屬層42可以覆蓋第二發光區32。其中整個透明材料層41是在同一工藝中形成。其中，在第二發光區32設置金屬層42可以降低第二電極層4的電阻，從而有效降低壓降。
在一實施例中，如第12圖所示，第二電極層4可以包括第三電極43和第四電極44。其中，第三電極43可以對應第一發光區31設置，第四電極44可以對應第二發光區31設置。其中，該第三電極43可以為透明材料層，第四電極可以為金屬層。在一實施例中，如第13A圖所 示，第三電極43和第四電極44均可以為金屬層，且第一發光區31對應的第三電極43的金屬層厚度小於第二發光區32對應的第四電極44的金屬層厚度。
上述實施例中，透明材料層可以採用氧化銦錫、氧化銦鋅、摻雜銀的氧化銦錫和摻雜銀的氧化銦鋅中一種或者多種製成；金屬層可以採用Mg、Ag和AL中的一種或者多種製成，如可以採用純金屬製成或者合金製成，例如MgAg系合金。能夠有效提高第一發光區31的透光率，進而有利於提升位於第一發光區31下方的攝像頭的拍照效果。在一實施例中，如第13B圖所示，所述第二電極層還可以包括對應所述第一發光區31設置的第五電極45。在一實施例中第五電極45可以為面電極；在一實施例中，第五電極45可以為單層結構或疊層結構。第五電極45為單層結構時，第五電極45可以為單層金屬層、單層金屬混合物層或單層透明金屬氧化物層；第五電極45為疊層結構時，第五電極45可以為透明金屬氧化物層與金屬層的疊層或透明金屬氧化物層與金屬混合物層的疊層。
在一實施例中，第五電極45的材料中摻雜有金屬，第五電極45的厚度大於或等於100埃且小於或等於500埃，進一步地，第五電極45的厚度大於或等於100埃且小於或等於200埃，第五電極45的厚度整體連續，第五電極45的透明度大於40%，使得第一發光區31的透光率能夠有效提升。
在一實施例中，第五電極45的材料中摻雜有金屬，第五電極45的厚度大於或等於50埃，小於或等於200埃時，所述第五電極45的厚度整體連續，且所述第五電極45的透明度大於50%，進一步地，第五電極45的透明度大於60%。
在一實施例中，第五電極45可以為單層結構，其中，單層金屬層材料可以為Al或Ag；單層金屬混合物層材料可以為MgAg或摻雜Al的金屬混合材料；透明金屬氧化物可以為ITO或IZO。
在一實施例中，如第13A圖所示，第三電極43為金屬層，其厚度可以大於10埃，並形成一整體連續的面電極，且金屬層的透明度>40%；進一步地，金屬層的厚度可以大於50埃，並形成一整體連續的面電極，且金屬層的透明度>50%。
在一實施例中，第一電極層2和第二電極層4均可以採用透明材料製成。在一實施例中，透明材料的透光率可以大於等於90%。其中，透明材料可以包括氧化銦錫、氧化銦鋅、摻雜銀的氧化銦錫和摻雜銀的氧化銦鋅中至少一種。如此使得第一發光區31的透光率能夠有效提升，例如可以使得透光率為80%以上。
在一實施例中，發光層3可以包括有機發光材料層和公共層。其中，有機發光材料層可以包括多個獨立的個體，以形成第一發光塊。公共層可以包括空穴注入層、空穴傳輸層、電子傳輸層及電子注入層，該空穴注入層、空穴傳輸層、電子傳輸層及電子注入層中的至少一層覆蓋第一電極層2以及相鄰第一電極之間的間隙，從而可以通過該公共層中的一層或者多層隔離第一電極層2和第二電極層4，避免短路。
第14-20圖是本發明根據不同示例性實施例示出的陣列基板上第一發光區的結構示意圖。在一實施例中，如第14圖所示，第一電極的列方向(第14圖中的Y方向)上的兩條邊均可以為波浪形，且兩條邊的波峰相對設置、波谷相對設置。如此使得相鄰兩列第一電極的間隙在列方向呈現為連續變化或者間斷變化。第一電極21在列方向上，無論其寬度是連續變化還是間斷變化都可以為週期性變化，一個變化週期的長度可以對應於一個像素的寬度。
第一發光區31可以設置有多行波浪形的第一電極，以在列方向上，第一電極的寬度連續變化或者間斷變化，從而使得相鄰兩列第一電極具有連續變化的間距或者間斷變化的間距。因此在第一電極的不同寬度位置以及相鄰兩列第一電極的不同間距之間，產生的衍射條紋的位置不同，不同位置處的衍射效應相互抵消，從而可以有效減弱衍射效應，進而有利於提升位於該第一發光區31下方的攝像頭的拍照效果。
在一實施例中，如第14圖所示，其中，第一電極呈多行多列排布，Y方向為第一電極的列方向、X方向為第一電極的行方向。每一第一電極均可以包括一個或者多個波峰和一個或者多個波谷。以第一電極21為例，第14圖中T所示位置處為波峰，B所示位置處為波谷。其中，第一電極的兩條邊的波峰相對處的寬度D5在30μm至(A-X)μm之間；第一電極的兩條邊的波谷相對處的寬度D6大於X，且小於波峰相對處的寬度D5，其中A為第一發光塊大小，X為電極尺寸最小處的寬度值，且A大於或等於(30+X)μm。在一實施例中，X可以為4微米；在一實施例中，X可以小於4微米。
由於第一電極的邊呈波浪形變化，從而導致相鄰第一電極之間的間距亦隨之產生變化。在一實施例中，如第14圖所示，兩列第一電極的波峰相對處具有最小間距W1，並在兩列第一電極的波谷位置相對處具有最大間距W2。其中，最小間距W1為(A-D5)，最大間距W2為(A-D6)。
在一些實施例中，第一電極在襯底上的投影的形狀可以包括至少一個第一圖形單元，從而可以形成上述的波峰和波谷。第一圖形單元可以為圓形、橢圓形、啞鈴形、葫蘆形或矩形。如第14圖和第15圖所示，每一第一電極可以由多個圓形組成；在一實施例中，如第16圖所示，第一電極21可以由多個橢圓形組成；在一實施例中，如第17圖所示，第一電極21可以由多個啞鈴形組成。在一些實施例中，第一電極21還可以由多個葫蘆形組成，其中葫蘆形可以由兩個圓形組成。在一實施例中，第一電極21也可以是由一個第一圖形單元組成。如第18圖中所示，每個第一電極21均由一個葫蘆形圖形單元組成。在一實施例中，如第19圖所示，由於每個第一電極21均由一個橢圓形的圖形單元組成，那麼，第一電極21僅包括波峰，不存在波谷，相應的，兩列第一電極間僅存在最小間距。
在一實施例中，第一發光塊311在襯底上的投影的形狀可以包括至少一個第二圖形單元，從而可以形成上述的波峰和波谷。該第 二圖形單元可以包括圓形、橢圓形、啞鈴形、葫蘆形或矩形。如第20圖所示，第一發光塊311可以為矩形。
在一實施例中，第一電極21與第一發光塊311的形狀可以相同或不同。如第14圖所示，第一電極21上對應的第一發光塊311的形狀與該第一電極21的形狀類似，均為由多個圓形組成的形狀。在一實施例中，如第15圖所示，第一電極21上對應的第一發光塊311形狀與該第一電極21的形狀不同，第一電極21為有多個圓形組成的形狀，而第一發光塊311為長方形，或者在一實施例中，第一發光塊也可以為圓形或者橢圓形等。在一實施例中，如第20圖所示，第一電極21與第一發光塊311均為矩形；在一實施例中，該呈矩形的第一電極21上對應的第一發光塊31還可以是圓形或者橢圓形等。
第21圖是本發明根據一示例性實施例示出的一種陣列基板的截面示意圖。在一實施例中，如第21圖所示，該陣列基板100還可以包括像素限定層5，該像素限定層5形成於第一電極層2上，並且包括對應於第一發光區31設置的多個第一像素限定孔51。在一實施例中，每一像素限定孔51內可以設置多個第一發光塊311，如第21圖所示；或者，在一實施例中，每一像素限定孔51內也可以設置一個第一發光塊311，可以有效降低相鄰第一發光塊311之間的混色風險。
第22-26圖是本發明根據不同示例性實施例示出的陣列基板上的結構示意圖。如第22圖所示，像素限定層5還可以包括對應於第二發光區32設置的多個第二像素限定孔52。在一實施例中，第二像素限定孔可以與第二發光塊之間一一對應，或者也可以是單個第二像素限定孔內對應多個第二發光塊。
在一實施例中，第二像素限定孔52的尺寸等於或小於第一像素限定孔51的尺寸。如第22圖所示，第一像素限定孔51和第二像素限定孔52的尺寸相等，可以有效降低對掩膜的加工難度；或者，如第23圖所示，第一像素限定孔51的尺寸可以大於第二像素限定孔52的尺寸，從而相鄰第一像素限定孔51之間的間距等於相鄰第二像素限定孔52之間 的間距時，第一像素限定孔51的分佈密度相對較小，第一像素限定孔51之間的間隙數量少，能夠有效降低光線的衍射概率。在一實施例中，像素限定層5可以整體採用透明有機材質製成；或者，像素限定層5也可以採用透明無機材質製成；或者，像素限定層5對應第一發光區31的一段可以採用透明材質製成，而對應第二發光區32的一段可以採用非透明材質製成。
在一實施例中，如第24圖所示，多個第一發光塊311和多個第二發光塊321均設置多列，並且第一發光塊311的列和第二發光塊321的列一一對應，如此可以使得第一發光區31的分佈密度相對較大。在一實施例中，如第24圖所示，多個第一發光塊311和多個第二發光塊321的列方向為Y方向；在一些實施例中，多個第一發光塊311和多個第二發光塊321的列方向可以為X方向。
在一實施例中，同一列第一發光塊311的顏色與該列第二發光塊321中靠近第一發光區31的第一個第二發光塊321顏色相同，可以降低對第一發光區31的工藝要求，有效避免第一發光區31在同一列方向的混色風險。如第24圖所示，第一發光塊311C和第一發光塊311D組成一列，在該列中的第二發光塊中靠近第一發光區31的第二發光塊321A與第一發光塊311C和第一發光塊311D的顏色相同。即，當第二發光塊321A為藍色時，第一發光塊311C和第一發光塊311D均為藍色；或者，當第二發光塊321A為綠色時，第一發光塊311C和第一發光塊311D均為綠色；或者，當第二發光塊321A為紅色時，第一發光塊311C和第一發光塊311D均為紅色。
在一實施例中，一列第二發光塊中靠近第一發光區31設置的一個或者多個第二發光塊321和該列第一發光塊中相鄰的一個或者多個第一發光塊311組成一個像素重複單元。在一實施例中，像素重複單元可以包括三原色，如第25圖所示，第二發光塊321A、第一發光塊311C和第一發光塊311D可以組成一個包括紅色、綠色和藍色色塊的像素重複單元(如第25圖中虛線框所示)；在一實施例中，如第26圖所示，第二 發光塊321A、第二發光塊321B和第一發光塊311C可以組成一個包括紅色、綠色和藍色色塊的像素重複單元(如第26圖中虛線框所示)。如此可以在第一發光區31和第二發光區32的交界處進行顯示過渡，提升顯示效果。在一些實施例中，該像素重複單元也可以包括兩個原色，例如紅色和綠色、紅色和藍色或者綠色和藍色。在一些實施例中，像素重複單元也可以包括四個或者四個以上的原色，相應的，組成該像素重複單元的第一發光塊311和第二發光塊321的數量可以相應進行調整。
第27圖是本發明根據一示例性實施例示出的顯示面板的截面示意圖。如第27圖所示，本發明還提供一種顯示面板200，該顯示面板200可以包括封裝層201和上述任一項實施例中所述的陣列基板100。封裝層201位於陣列基板100上遠離襯底的一側。在顯示面板100上可以形成對應於第一發光區31設置的透明顯示區域和對應於第二發光區設置的非透明顯示區域。透明顯示區域的下方可以放置感光器件，該感光器件可以通過該透明顯示區域採集外部光線，或者向外發射光線。在一實施例中，當感光器件處於工作狀態時，透明顯示區域可以切換至非顯示狀態，當感光器件處於關閉狀態時，透明顯示區域可以切換至顯示狀態。在一實施例中，該封裝層201可以包括偏光片(圖中未示出)，該偏光片可以覆蓋第二發光區對應的區域，且未覆蓋第一發光區對應的區域，以避免偏光片的設置影響外部的入射光線和/或電子設備發出的光線。
在一實施例中，陣列基板100的第一發光區至少部分被第二發光區包圍，如第27圖所示，該顯示面板200還可以包括晶片組件202，該晶片組件202可以用於控制第一發光塊和第二發光塊的顯示狀態，並且能夠使得位於第一發光區和第二發光區交界處的第一發光塊和第二發光塊顏色一致，從而在視覺上減弱透明顯示區域和非透明顯示區域之間的差異，有效提升使用者的視覺效果。
第28圖是本發明根據一示例性實施例示出的顯示裝置的截面示意圖。如第28圖所示，本發明提供一種顯示裝置300，該顯示裝置300可以包括裝置本體301和上述任一項實施例所述的顯示面板200，顯 示面板200設置在裝置本體301上，且與該裝置本體301相互連接。其中，顯示面板200可以採用前述任一實施例中的顯示面板，用以顯示靜態或者動態畫面。
第29圖是本發明根據一示例性實施例示出的顯示裝置的結構示意圖。如第29圖所示，設備本體301可以包括一器件區3011，該器件區3011可以設置有如攝像頭400以及光感測器等感光器件。顯示面板200的透明顯示區域對應於器件區3011設置，以使得感光器件能夠透過第一發光區對外部光線進行採集等操作。由於第一發光區中的顯示面板能夠有效改善外部光線透射該第一發光區時所產生的衍射效應，從而可有效提升顯示裝置上攝像頭400所拍攝圖像的品質，避免因衍射而導致的圖像失真，同時也能提升光感測器感測外部光線的精准度和敏感度。
該顯示裝置可以為液晶顯示裝置、電子紙、手機、平板電腦、電視機、顯示器、筆記型電腦、數碼相框或導航儀等任何具有顯示功能的產品或部件。
本領域技術人員可以理解圖式只是一個優選實施例的示意圖，圖式中的模組或流程並不一定是實施本發明所必須的。以上所述僅為本發明的具體實施方式，但本發明的保護範圍並不局限於此，任何熟悉本技術領域的技術人員在本發明揭露的技術範圍內，可輕易想到的變化或替換，都應涵蓋在本發明的保護範圍之內。因此，本發明的保護範圍應以申請專利範圍的保護範圍為准。

Claims (10)

  1. 一種陣列基板，包括：襯底；第一電極層，所述第一電極層形成於所述襯底上；發光層，所述發光層形成於所述第一電極層上，包括第一發光區和第二發光區，至少部分所述第一發光區被所述第二發光區包圍，所述第一發光區包括多個第一發光塊，所述第二發光區包括多個第二發光塊，所述多個第一發光塊和所述多個第二發光塊在同一個工藝中形成；和第二電極層，所述第二電極層形成於所述發光層上；其中，所述第一電極層包括對應所述第一發光區設置的多個第一電極，每一所述第一電極上對應多個所述第一發光塊，且同一所述第一電極上的第一發光塊的顏色相同，所述第一發光區為透明區，所述第二發光區為非透明區。
  2. 如申請專利範圍第1項所述的陣列基板，其中，所述第一電極為條狀電極，多個所述第一電極排列成一行多列、一列多行、兩列多行、兩行多列或多行多列；所述第一電極的列方向與所述第一發光塊的列方向平行或者垂直。
  3. 如申請專利範圍第1或2項所述的陣列基板，其中，所述第一電極層還包括對應所述第二發光區設置的多個第二電極，每一所述第二電極上對應多個所述第二發光塊；所述第一電極的列方向與所述第二發光塊的列方向相同，且在所述列方向上，所述第一電極的寬度大於或等於所述第二電極的寬度。
  4. 如申請專利範圍第1或2項所述的陣列基板，其中，每一所述第一電極上沿第一方向對應多列所述第一發光塊，對應同一所述第一電極上沿第二方向相鄰的兩個所述第一發光塊對齊設置或者錯位設置，所述第二方向與所述第一方向垂直；對應同一所述第一電極上相鄰的兩個所述第一發光塊的中軸線在所述 第二方向上的間距為所述第一發光塊在所述第二方向上尺寸的0.5-2倍；和/或相鄰兩個所述第一電極對應的所述第一發光塊對齊設置或錯位設置。
  5. 如申請專利範圍第1或2項所述的陣列基板，其中，所述第一電極包括：多個第一子電極，在所述第二方向上相鄰的所述第一子電極錯位排列，每一所述第一子電極對應一列沿第一方向設置的所述第一發光塊，每一所述第一子電極包括多個條狀電極或塊狀電極，所述第二方向與所述第一方向垂直；和連接部，所述連接部電性連接相鄰的兩個條狀電極或塊狀電極。
  6. 如申請專利範圍第1或2項所述的陣列基板，其中，所述第一電極在列方向上的兩條邊均為波浪形，且兩條波浪形的邊的波峰相對設置，波谷相對設置；和/或所述第一發光塊在所述第一電極的列方向上的兩條邊均為波浪形，且兩條波浪形的邊的波峰相對設置、波谷相對設置。
  7. 如申請專利範圍第1或2項所述的陣列基板，其中，還包括：像素限定層，所述像素限定層形成於所述第一電極層上，且包括對應於所述第一發光區設置的多個第一像素限定孔，每一所述第一像素限定孔對應至少一個所述第一發光塊；所述像素限定層還包括對應於所述第二發光區的多個第二像素限定孔，所述第二像素限定孔的尺寸等於或小於所述第一像素限定孔的尺寸。
  8. 如申請專利範圍第1或2項所述的陣列基板，其中，多個所述第一發光塊和多個所述第二發光塊均排布成多列，且一一對應；同一列中所述第一發光塊顏色與第二發光塊中靠近所述第一發光區設置的第一個第二發光塊顏色一致；或多個所述第一發光塊和多個所述第二發光塊均排布成多列，同一列的至少一個所述第一發光塊與該列所述第二發光塊中靠近所述第一發光區設置的至少一個所述第二發光塊組成一個像素重複單元。
  9. 一種顯示面板，包括：如申請專利範圍第1-8項任一項所述的陣列基板；封裝層，所述封裝層封裝於所述陣列基板上遠離所述襯底的一側；所述封裝層包括偏光片，所述偏光片覆蓋所述第二發光區，未覆蓋所述第一發光區；和晶片組件，控制所述第一發光塊和所述第二發光塊的顯示狀態。
  10. 一種顯示裝置，包括：裝置本體，包括器件區；和如申請專利範圍第9項所述的顯示面板，所述顯示面板覆蓋在所述裝置本體上；所述器件區位於所述第一發光區的下方，且所述器件區包括透過所述第一發光區發射或者採集光線的感光器件。
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