CN110850630A - 一种显示面板及其制作方法、显示装置 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种显示面板及其制作方法、显示装置，显示面板包括显示区，所述显示区包括遮光区和多个子像素开口区，每个所述子像素开口区均被所述遮光区围绕；所述显示面板包括相对设置的阵列基板和彩膜基板；所述彩膜基板包括衬底基板、黑色矩阵和光感单元，所述黑色矩阵位于所述衬底基板朝向所述阵列基板的一侧，所述光感单元位于所述黑色矩阵与所述衬底基板之间，所述黑色矩阵与所述光感单元均位于所述遮光区，且所述光感单元在所述衬底基板的垂直投影位于所述黑色矩阵在所述衬底基板的垂直投影内；绝缘层，至少部分位于所述显示区，且位于所述黑色矩阵与所述光感单元之间。本发明以提高光感指纹识别的精度。

Description

一种显示面板及其制作方法、显示装置
技术领域
本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示面板及其制作方法、显示装置。
背景技术
由于指纹对于每一个人而言是与生俱来的，是独一无二的。随着科技的发展，市场上出现了多种带有指纹识别功能的显示装置，如手机、平板电脑以及智能可穿戴设备等。这样，用户在操作带有指纹识别功能的显示装置前，只需要用手指触摸显示装置的特定区域，通过指纹识别单元的识别就可以进行权限验证，简化了权限验证过程。指纹识别按照工作原理分可以包括光感指纹识别和超声波指纹识别等。
指纹由位于指端皮肤表面的一系列脊和谷组成，对于光感指纹识别，由于指纹识别单元接收到的脊和谷反射的光线强度不同，使得由在脊的位置处形成的反射光和在谷的位置处形成的反射光转换成的电流/电压信号大小不同，然后根据电流/电压信号大小可以进行指纹识别。但是光感指纹识别的精度有待提高。
发明内容
本发明提供一种显示面板及其制作方法、显示装置，以提高光感指纹识别的精度。
第一方面，本发明实施例提供一种显示面板，包括显示区，所述显示区包括遮光区和多个子像素开口区，每个所述子像素开口区均被所述遮光区围绕；
所述显示面板包括相对设置的阵列基板和彩膜基板；
所述彩膜基板包括衬底基板、黑色矩阵和光感单元，所述黑色矩阵位于所述衬底基板朝向所述阵列基板的一侧，所述光感单元位于所述黑色矩阵与所述衬底基板之间，所述黑色矩阵与所述光感单元均位于所述遮光区，且所述光感单元在所述衬底基板的垂直投影位于所述黑色矩阵在所述衬底基板的垂直投影内；
绝缘层，至少部分位于所述显示区，且位于所述黑色矩阵与所述光感单元之间。
第二方面，本发明实施例提供一种显示装置，包括第一方面所述的显示面板。
本发明实施例提供的显示面板中，光感单元设置于彩膜基板，相对于将光感单元设置于阵列基板而言，光感单元与触摸主体(例如手指)的距离更近，携带有指纹信息的反射光可以更多地到达光感单元，提高了指纹识别的精度。彩膜基板上的黑色矩阵通常在树脂中掺杂碳粉形成，具有极好的吸光能力，同时由于掺杂了碳粉，黑色矩阵具有一定的导电性。本发明实施例中，在黑色矩阵与光感单元之间设置有绝缘层，避免了多个不同的光感单元通过黑色矩阵电连接，避免了黑色矩阵对光感单元造成不良的影响，从而进一步地提高了光感指纹识别的精度。
附图说明
图1为本发明实施例提供的一种显示面板的俯视结构示意图；
图2为沿图1中AA’方向的剖面结构示意图；
图3为本发明实施例提供的另一种显示面板的剖视结构示意图；
图4为本发明实施例提供的另一种显示面板的剖视结构示意图；
图5为本发明实施例提供的另一种显示面板的俯视结构示意图；
图6为本发明实施例提供的另一种显示面板的剖视结构示意图；
图7为本发明实施例提供的另一种显示面板的剖视结构示意图；
图8为本发明实施例提供的一种显示面板的制作方法流程图；
图9-图17为本发明实施例提供的一种显示面板的制作过程示意图；
图18为本发明实施例提供的一种显示装置的结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本发明作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本发明，而非对本发明的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与本发明相关的部分而非全部结构。
图1为本发明实施例提供的一种显示面板的俯视结构示意图，图2为沿图1中AA’方向的剖面结构示意图，参考图1和图2，显示面板包括显示区A1，显示区A1包括遮光区A11和多个子像素开口区A12，每个子像素开口区A12均被遮光区A11围绕。显示面板包括相对设置的阵列基板200和彩膜基板100。显示面板可以为液晶发光显示面板或者有机发光显示面板等。彩膜基板100包括衬底基板10、黑色矩阵20和光感单元30，黑色矩阵20位于衬底基板10朝向阵列基板200的一侧，光感单元30位于黑色矩阵20与衬底基板10之间，黑色矩阵20与光感单元30均位于遮光区A11，且光感单元30在衬底基板10的垂直投影位于黑色矩阵20在衬底基板10的垂直投影内。显示面板还包括绝缘层40，绝缘层40的至少部分位于显示区A1，且位于黑色矩阵20与光感单元30之间。
本发明实施例提供的显示面板中，光感单元设置于彩膜基板，相对于将光感单元设置于阵列基板而言，光感单元与触摸主体(例如手指)的距离更近，携带有指纹信息的反射光可以更多地到达光感单元，提高了指纹识别的精度。彩膜基板上的黑色矩阵通常在树脂中掺杂碳粉形成，具有极好的吸光能力，同时由于掺杂了碳粉，黑色矩阵具有一定的导电性(虽然黑色矩阵的导电性比较差)。本发明实施例中，在黑色矩阵与光感单元之间设置有绝缘层，避免了多个不同的光感单元通过黑色矩阵电连接，避免了黑色矩阵对光感单元造成不良的影响，从而进一步地提高了光感指纹识别的精度。
图3为本发明实施例提供的另一种显示面板的剖视结构示意图，参考图3，绝缘层40包括绝缘层图案41和多个开口42，绝缘层图案41位于遮光区A11，开口42在阵列基板10上的正投影覆盖子像素开口区A12。本发明实施例中，绝缘层40在子像素开口区A12设置有开口42，显示面板发射的光不会穿过绝缘层40的材料层，从而绝缘层40不会影响显示面板发出光的亮度和色度。
可选地，参考图2和图3，彩膜基板100还包括支撑柱70，支撑柱70位于遮光区A11，且位于黑色矩阵20远离衬底基板10一侧，光感单元30在衬底基板10的垂直投影与支撑柱70在衬底基板10的垂直投影至少部分交叠。支撑柱70位于衬底基板10与阵列基板200之间，并用于保持彩膜基板100与阵列基板200之间的距离，即用于保持盒厚的均匀性。由于支撑柱70具有支撑作用，设置支撑柱70的位置，彩膜基板100与阵列基板200的形变小，在垂直于衬底基板10所在平面的方向上，光感单元30与支撑柱70至少部分交叠，保证了光感单元30具有较小的形变甚至不发生形变，从而进一步地提高了光感指纹识别的精度。
可选地，参考图2和图3，光感单元30包括第一电极31、第二电极32和位于第一电极31与第二电极32之间的光敏层33。显示面板还包括第一走线81和第二走线82，第一走线81与第一电极31电连接，第二走线82与第二电极32电连接。第一走线81与第二走线82均位于遮光区A11，第一走线81与第二走线82均位于黑色矩阵20远离衬底基板10一侧。本发明实施例中，第一走线81与第二走线82均位于遮光区A11，从而第一走线81与第二走线82不会对显示面板发射的光产生遮挡，不会对显示面板发射光产生不良影响。第一走线81与第二走线82均位于黑色矩阵20远离衬底基板10一侧，朝向第一走线81以及第二走线82照射的外界环境光被黑色矩阵20吸收，从而外界环境光不会被第一走线81以及第二走线82反射，避免了第一走线81以及第二走线82被人眼可见。需要说明的是，在其他实施方式中，光感单元30还可以为对光敏感的氧化物半导体晶体管等光电器件，本发明对于光感单元30的类型不作限定。
示例性地，参考图2和图3，第一走线81以及第二走线82均采用金属材料，以提高第一走线81以及第二走线82的导电性。在其他实施方式中，第一走线81与第二走线82中的至少一个还可以采用透明导电材料，本发明对此不作限定。
可选地，参考图2和图3，显示面板还包括平坦化层50,平坦化层50为绝缘材料。平坦化层50位于第一走线81与黑色矩阵20之间，平坦化层50位于第二走线82与黑色矩阵20之间。第一电极31包括延伸超出光敏层33的第一电极延伸部311，覆盖光感单元30的黑色矩阵20包括第一过孔91和第二过孔92。第一走线81通过第一过孔91与第一电极延伸部311电连接，第二走线82通过第二过孔92与第二电极32电连接。本发明实施例中，第一走线81以及第二走线82与黑色矩阵20之间间隔有平坦化层50，平坦化层50为绝缘材料，避免了第一走线81以及第二走线82与黑色矩阵20相接触，避免了多个不同的光感单元30通过第一走线81、第二走线82以及黑色矩阵20电连接，避免了黑色矩阵20对光感单元30造成不良的影响。
示例性地，参考图2和图3，彩膜基板100还包括多个色阻60，色阻60位于相邻两个黑色矩阵20之间，且覆盖子像素开口区A12，显示面板发射的光穿过子像素开口区A12时被色阻60过滤，不同颜色的色阻60可以实现例如红色、绿色和蓝色等各种颜色，以实现显示面板的彩色显示。
图4为本发明实施例提供的另一种显示面板的剖视结构示意图，图5为本发明实施例提供的另一种显示面板的俯视结构示意图，参考图4和图5，阵列基板200还包括光感驱动电路220，光感驱动电路220与光感单元30电连接，光感驱动电路220位于遮光区A11。本发明实施例中，光感驱动电路220位于显示区A1内，无需占用显示区A11外的非显示区(图中未示出)的空间，从而可以减小非显示区的面积，减小显示面板的边框。光感驱动电路220位于显示区A1的遮光区A11，光感驱动电路220不在子像素开口区A12内，不会影响穿过子像素开口区A12的光线，从而不会影响显示面板的发光显示。
示例性地，参考图4和图5，阵列基板200还包括阵列衬底210，光感驱动电路220位于阵列衬底210朝向彩膜基板100一侧。阵列基板200还可以包括像素驱动电路等结构，在此不再赘述。
示例性地，参考图4和图5，第一走线81的一端与光感元件30的第一电极31电连接，第一走线81的另一端与光感驱动电路220电连接。第二走线82的一端与光感元件30的第二电极32电连接，第二走线82的另一端与光感驱动电路220电连接。第二走线82沿着支撑柱70的边缘由彩膜基板100延伸至阵列基板200，类似地，第一走线81也可以沿着支撑柱70的边缘由彩膜基板100延伸至阵列基板200。
示例性地，参考图4和图5，支撑柱70可以采用导电材料，由于第一走线81和第二走线82分别沿着不同的支撑柱70的边缘由彩膜基板100延伸至阵列基板200。一支撑柱70与第一走线81并联，另一支撑柱70(图中未示出)与第二走线82并联，从而减小了第一走线81以及第二走线82上传递信号的阻抗，以便于光感驱动电路220与光感元件30之间的电信号传输。在其他实施方式中，也可以不在采用金属材料的支撑柱70边缘走线，而是利用支撑柱70作为连接光感驱动电路220与光感元件30之间的走线的一部分。也就是说，在一些可行的实施方式中，一支撑柱70的一端通过第一走线81与光感元件30的第一电极31电连接，该支撑柱70的另一端与光感驱动电路220电连接。另一支撑柱70的一端通过第二走线82与光感元件30的第二电极32电连接，该支撑柱70的另一端与光感驱动电路220电连接。
可选地，参考图2、图3和图4，光敏层33包括金属氧化物半导体材料。光敏层33具有光敏特性，并且具有单向导电性。无光照时，光敏层33有很小的饱和反向漏电流，即暗电流，光感单元30截止。当受到光照时，光敏层33的饱和反向漏电流大大增加，形成光电流，光感单元30导通。故而，光电流的大小反映触摸主体(例如手指)的指纹反射的光强度，可以根据光电流的大实现指纹识别。金属氧化物半导体材料具有较好的光吸收能力，能够提高指纹识别的精度。金属氧化物半导体材料例如可以包括铟镓锌氧化物等。
图6为本发明实施例提供的另一种显示面板的剖视结构示意图，参考图6，光感单元30包括第一电极31、第二电极32和位于第一电极31与第二电极32之间的光敏层33。第一电极31和第二电极32均采用透明导电材料。本发明实施例中，由于第一电极31和第二电极32均采用透明导电材料，朝向光感单元30照射的外界环境光穿过第一电极31、光敏层33以及第二电极32后照射到黑色矩阵20上，并被黑色矩阵20吸收，从而外界环境光不会被光感单元30反射，避免了光感单元30被人眼可见。
示例性地，参考图6，第一电极31和第二电极32均采用透明导电材料，透明导电材料例如可以包括氧化铟锡等。在其他实施方式中，第一电极31可以采用透明导电材料，第二电极32可以采用金属材料。
可选地，参考图6，显示面板还包括与第一电极31以及第二电极32电连接的走线80。走线80位于黑色矩阵20与衬底基板10之间。走线80与第一电极31同层且采用同种材料，或者，走线80与第二电极32同层且采用同种材料。本发明实施例中，由于第一电极31和第二电极32均采用透明导电材料，因此走线80均采用透明导电材料，从而走线80不会遮挡穿过子像素开口区A12的光线，走线80也不会反射环境光导致走线80被人眼可见。
示例性地，参考图6，走线80包括第一走线81与第二走线82，第一走线81与第一电极31电连接，第二走线82与第二电极32电连接，第一走线81以及第二走线82可以与第一电极31采用同种材料并在同一制程中形成，第一走线81以及第二走线82还可以与第二电极32采用同种材料并在同一制程中形成，或者，第一走线81可以与第一电极31采用同种材料并在同一制程中形成，第二走线82可以与第二电极32采用同种材料并在同一制程中形成。
示例性地，参考图6，第二电极32包括延伸超出光敏层33的第二电极延伸部321，第二走线82与第二电极延伸部321电连接。
图7为本发明实施例提供的另一种显示面板的剖视结构示意图，参考图7，显示面板还包括走线80，走线80包括第一走线81和第二走线82，第一走线81与第一电极31电连接，第二走线82与第二电极32电连接。第一走线81位于黑色矩阵20与衬底基板10之间，第一走线81采用透明导电材料，第一走线81不会遮挡穿过子像素开口区A12的光线，第一走线81也不会反射环境光导致走线80被人眼可见。第二走线82位于遮光区A11，第二走线82位于黑色矩阵20远离衬底基板10一侧。由于第二走线82位于遮光区A11，从而第二走线82不会对显示面板发射的光产生遮挡，不会对显示面板发射光产生不良影响。由于第二走线82位于黑色矩阵20远离衬底基板10一侧，朝向第二走线82照射的外界环境光被黑色矩阵20吸收，从而外界环境光不会被第二走线82反射，避免了第二走线82被人眼可见。
示例性地，参考图7，第二走线82采用金属材料，以提高第二走线82的导电性。
示例性地，参考图7，显示面板还包括平坦化层50,平坦化层50为绝缘材料。平坦化层50位于第二走线82与黑色矩阵20之间。覆盖光感单元30的黑色矩阵20包括第二过孔92。第二走线82通过第二过孔92与第二电极32电连接。本发明实施例中，第二走线82与黑色矩阵20之间间隔有平坦化层50，平坦化层50为绝缘材料，避免了第二走线82与黑色矩阵20相接触，避免了多个不同的光感单元30通过第二走线82以及黑色矩阵20电连接，避免了黑色矩阵20对光感单元30造成不良的影响。
图8为本发明实施例提供的一种显示面板的制作方法流程图，图9-图17为本发明实施例提供的一种显示面板的制作过程示意图，参考图8以及图9-图17，显示面板包括显示区A1，显示区A1包括遮光区A11和多个子像素开口区A12，每个子像素开口区A12均被遮光区A11围绕。显示面板的制作方法包括如下步骤：
S110、提供衬底基板10。
衬底基板10可以为柔性基板或者刚性基板。
S120、在衬底基板10一侧的遮光区A11内形成光感单元30。
示例性地，参考图10，衬底基板10一侧的遮光区A11内形成光感单元30包括：在衬底基板10一侧的遮光区A11内形成第一电极31、在第一电极31上形成光敏层33，在光敏层33上形成第二电极32。需要说明的是，在其他实施方式中，光感单元30还可以为对光敏感的氧化物半导体晶体管等光电器件，本发明对于光感单元30的类型不作限定。
S130、在显示区A1形成覆盖衬底基板10以及光感单元30的绝缘层40。
也就是说，在遮光区A11和子像素开口A12内形成一层覆盖衬底基板10以及光感单元30的绝缘层40。其中，绝缘层40可以为有机绝缘层或者无机绝缘层。
S140、在绝缘层40远离衬底基板10一侧的遮光区A11内形成覆盖光感单元30的黑色矩阵20。
本发明实施例提供的显示面板的制作方法中，光感单元设置于彩膜基板，相对于将光感单元设置于阵列基板而言，光感单元与触摸主体(例如手指)的距离更近，携带有指纹信息的反射光可以更多地到达光感单元，提高了指纹识别的精度。在黑色矩阵与光感单元之间设置有绝缘层，避免了多个不同的光感单元通过黑色矩阵电连接，避免了黑色矩阵对光感单元造成不良的影响，从而进一步地提高了光感指纹识别的精度。
示例性地，参考图12，在绝缘层40远离衬底基板10一侧的遮光区A11内形成覆盖光感单元30的黑色矩阵20之后，显示面板的制作方法还可以包括：在子像素开口区A11中形成色阻60。
可选地，参考图8以及图9-图17，光感单元30包括第一电极31、第二电极32和位于第一电极31与第二电极32之间的光敏层33。第一电极31包括延伸超出光敏层33的第一电极延伸部311，显示面板的制作方法还可以包括如下步骤：
S150、在覆盖光感单元30的黑色矩阵20上形成第一过孔91和第二过孔92；第一过孔91漏出第一电极延伸部311，第二过孔92漏出第二电极32。
示例性地，参考图13，第一过孔91由黑色矩阵20远离衬底基板10一侧的表面贯穿黑色矩阵20以及绝缘层40至第一电极延伸部311。第二过孔92由黑色矩阵20远离衬底基板10一侧的表面贯穿黑色矩阵20以及绝缘层40至第二电极32。
S160、形成覆盖显示区A1的平坦化层50。
示例性地，参考图14，平坦化层50覆盖黑色矩阵20、色阻60，并填充第一过孔91和第二过孔92。
S170、在填充第一过孔91的平坦化层50中形成第三过孔93，第一过孔91暴露第一电极延伸部311，且平坦化层50覆盖第一过孔91的侧壁；并在填充第二过孔92的平坦化层50中形成第四过孔94，第二过孔92暴露第二电极32，且平坦化层50覆盖第二过孔92的侧壁。
示例性地，参考图15，第三过孔93的直径小于第一过孔91的直径，在填充有平坦化层50材料的第一过孔91中形成第三过孔93，第三过孔93位于第一过孔91内，第一过孔91的侧壁为黑色矩阵20，第三过孔93的侧壁为平坦化层50。类似地，第四过孔94的直径小于第二过孔92的直径，在填充有平坦化层50材料的第二过孔92中形成第四过孔94，第四过孔94位于第二过孔92内，第二过孔92的侧壁为黑色矩阵20，第四过孔94的侧壁为平坦化层50。
S180、在遮光区A11的第一过孔91上方形成第一走线81，并在遮光区A11的第二过孔92上方形成第二走线82。
示例性地，参考图16，第一走线81位于遮光区A11，且第一走线81通过第一过孔91与第一电极延伸部311电连接。第二电极82位于遮光区A11，且第二走线82通过第二过孔92与第二电极32电连接。第一走线81与黑色矩阵20之间间隔有平坦化层50的材料，第二走线82与黑色矩阵20之间间隔有平坦化层50的材料。
可选地，参考图17，在遮光区A11的第一过孔91上方形成第一走线81，并在遮光区A11的第二过孔92上方形成第二走线82之后，显示面板的制作方法还可以包括：在平坦化层50远离衬底基板10一侧形成支撑柱70，其中，在垂直于衬底基板10所在平面的方向上，支撑柱70与发光单元30至少部分交叠。
示例性地，显示面板的制作方法还可以包括：形成阵列基板200，并将阵列基板200与彩膜基板100组立形成显示面板。
本发明实施例还提供了一种显示装置。图18为本发明实施例提供的一种显示装置的结构示意图，参见图18，显示装置包括本发明实施例提供的任意一种显示面板300。显示装置具体可以为手机、平板电脑以及智能可穿戴设备等。
注意，上述仅为本发明的较佳实施例及所运用技术原理。本领域技术人员会理解，本发明不限于这里所述的特定实施例，对本领域技术人员来说能够进行各种明显的变化、重新调整、相互结合和替代而不会脱离本发明的保护范围。因此，虽然通过以上实施例对本发明进行了较为详细的说明，但是本发明不仅仅限于以上实施例，在不脱离本发明构思的情况下，还可以包括更多其他等效实施例，而本发明的范围由所附的权利要求范围决定。

Claims (12)

1.一种显示面板，其特征在于，包括显示区，所述显示区包括遮光区和多个子像素开口区，每个所述子像素开口区均被所述遮光区围绕；
所述显示面板包括相对设置的阵列基板和彩膜基板；
所述彩膜基板包括衬底基板、黑色矩阵和光感单元，所述黑色矩阵位于所述衬底基板朝向所述阵列基板的一侧，所述光感单元位于所述黑色矩阵与所述衬底基板之间，所述黑色矩阵与所述光感单元均位于所述遮光区，且所述光感单元在所述衬底基板的垂直投影位于所述黑色矩阵在所述衬底基板的垂直投影内；
绝缘层，至少部分位于所述显示区，且位于所述黑色矩阵与所述光感单元之间。
2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述绝缘层包括绝缘层图案和多个开口，所述绝缘层图案位于所述遮光区，所述开口在所述阵列基板上的正投影覆盖所述子像素开口区。
3.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述彩膜基板还包括支撑柱，位于所述遮光区，且位于所述黑色矩阵远离所述衬底基板一侧；
所述光感单元在所述衬底基板的垂直投影与所述支撑柱在所述衬底基板的垂直投影至少部分交叠。
4.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述光感单元包括第一电极、第二电极和位于所述第一电极与所述第二电极之间的光敏层；
所述第一电极和所述第二电极均采用透明导电材料。
5.根据权利要求4所述的显示面板，其特征在于，还包括与所述第一电极以及所述第二电极电连接的走线；
所述走线位于所述黑色矩阵与所述衬底基板之间；所述走线与所述第一电极同层且采用同种材料，或者，所述走线与所述第二电极同层且采用同种材料。
6.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述阵列基板还包括光感驱动电路，与所述光感单元电连接；所述光感驱动电路位于所述遮光区。
7.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述光感单元包括第一电极、第二电极和位于所述第一电极与所述第二电极之间的光敏层；
所述显示面板还包括第一走线和第二走线，所述第一走线与所述第一电极电连接，所述第二走线与所述第二电极电连接；所述第一走线与所述第二走线均位于所述遮光区，所述第一走线与所述第二走线均位于所述黑色矩阵远离所述衬底基板一侧。
8.根据权利要求7所述的显示面板，其特征在于，还包括平坦化层,所述平坦化层为绝缘材料；所述平坦化层位于所述第一走线与所述黑色矩阵之间，所述平坦化层位于所述第二走线与所述黑色矩阵之间；
所述第一电极包括延伸超出所述光敏层的第一电极延伸部，覆盖所述光感单元的所述黑色矩阵包括第一过孔和第二过孔；
所述第一走线通过所述第一过孔与所述第一电极延伸部电连接，所述第二走线通过所述第二过孔与所述第二电极电连接。
9.根据权利要求4或者7所述的显示面板，其特征在于，所述光敏层包括金属氧化物半导体材料。
10.一种显示面板的制作方法，其特征在于，所述显示面板包括显示区，所述显示区包括遮光区和多个子像素开口区，每个所述子像素开口区均被所述遮光区围绕；
所述制作方法包括：
提供衬底基板；
在所述衬底基板一侧的所述遮光区内形成光感单元；
在所述显示区形成覆盖所述衬底基板以及所述光感单元的绝缘层；
在所述绝缘层远离所述衬底基板一侧的所述遮光区内形成覆盖所述光感单元的黑色矩阵。
11.根据权利要求10所述的制作方法，其特征在于，所述光感单元包括第一电极、第二电极和位于所述第一电极与所述第二电极之间的光敏层；所述第一电极包括延伸超出所述光敏层的第一电极延伸部；
所述制作方法还包括：
在覆盖所述光感单元的所述黑色矩阵上形成第一过孔和第二过孔；所述第一过孔漏出所述第一电极延伸部，所述第二过孔漏出所述第二电极；
形成覆盖所述显示区的平坦化层；
在填充所述第一过孔的平坦化层中形成第三过孔，所述第一过孔暴露所述第一电极延伸部，且所述平坦化层覆盖所述第一过孔的侧壁；并在填充所述第二过孔的平坦化层中形成第四过孔，所述第二过孔暴露所述第二电极，且所述平坦化层覆盖所述第二过孔的侧壁；
在所述遮光区的第一过孔上方形成第一走线，并在所述遮光区的第二过孔上方形成第二走线。
12.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求1-9任一项所述的显示面板。
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