CN111564113B - 一种阵列基板及显示面板 - Google Patents

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Abstract

本申请公开了一种阵列基板及显示面板，该阵列基板的基底包括平面区和台阶区，台阶区包括弯折区和绑定区，在基底表面设置有第一对位标记和第二对位标记，第二对位标记设置于绑定区，第一对位标记设置于平面区，且第一对位标记与像素结构中的任一结构层同层设置或位于像素结构与基底之间，解决了当平面区的所有或大部分区域均用于设置像素结构时，没有第一对位标记的设置位置而必须将第一对位标记设置于弯折区的问题，从而避免了在弯折区向背离显示方向一侧弯折后，设置于弯折区的第一对位标记与设置于台阶区的第二对位标记之间的纵向距离相差过大，而导致摄像设备无法准确抓取第一对位标记和第二对位标记之间的相对位置关系的问题。

Description

一种阵列基板及显示面板
技术领域
本申请涉及显示技术领域，更具体地说，涉及一种阵列基板及显示面板。
背景技术
随着显示技术的不断发展，显示装置的屏占比不断提高，向着真正的全面屏不断发展。
柔性基底的出现为进一步提高显示装置的屏占比提供了一种新的解决思路，参考图1，图1为一种显示装置的柔性基底10的剖面结构示意图，在该显示装置中，柔性基底10包括平面区11和与所述平面区11相邻的台阶区12，平面区11中设置有阵列排布的显示像素，台阶区12用于绑定芯片或用于设置走线，在芯片或走线在柔性基底10的台阶区12中设置完成后，通过向背离显示像素发光方向弯折的方式将台阶区12“隐藏”在显示装置的平面区11下方，从而大大提升了显示装置的屏占比。
参考图2，图2为柔性基底弯折示意图，在柔性基底的台阶区弯折时，需要两组对位标记，一组对位标记M1设置于平面区11，另一组对位标记M2设置于台阶区12，通过摄像设备获取这两组对位标记的相对位置关系，确定台阶区12是否弯折到位。但在一些柔性基底10中，参考图3，图3为柔性基底的弯折示意图，当平面区11的大部分或全部区域均为显示区域，无对位标记的设置位置时，两组对位标记均设置于台阶区12（其中一组对位标记M1设置于台阶区的弯折区中，另一组对位标记M2设置于台阶区的绑定区）中，这可能会使得弯折后两组对位标记之间的纵向距离过大的情况（位于弯折区的对位标记M1由于位于弯曲的曲面上，与位于绑定区上的另一组对位标记M2之间的纵向距离过大），这样摄像设备由于焦距等问题无法准确抓取两组对位标记的相对位置关系，造成无法准确对位的问题。
发明内容
为解决上述技术问题，本申请提供了一种阵列基板及显示面板，以解决由于两组对位标记在弯折之后纵向距离过大，而导致摄像设备无法准确抓取两组对位标记的相对位置关系的问题。
为实现上述技术目的，本申请实施例提供了如下技术方案：
一种阵列基板，包括：
基底，所述基底包括平面区和台阶区，所述台阶区包括弯折区和绑定区，所述弯折区向背离显示方向一侧弯折，以使所述绑定区位于所述平面区背离所述显示方向一侧，所述弯折区包围所述平面区；
位于所述基底的预设区域上的呈阵列排布的多个像素结构，所述预设区域至少包括部分所述平面区；所述显示方向包括所述像素结构的出光方向；
在所述基底表面，与所述像素结构同侧设置的第一对位标记和第二对位标记，所述第二对位标记位于所述绑定区；
所述第一对位标记位于所述平面区，且所述第一对位标记与所述像素结构中的任一结构层同层设置或位于所述像素结构与所述基底之间。
一种显示面板，包括：相对设置的对置基板和阵列基板，所述阵列基板为上述任一项所述的阵列基板。
从上述技术方案可以看出，本申请实施例提供了一种阵列基板及显示面板，其中，所述阵列基板的基底包括平面区和台阶区，所述台阶区包括弯折区和绑定区，在基底表面设置有第一对位标记和第二对位标记，所述第一对位标记和第二对位标记与基底表面的像素结构同侧设置，所述第二对位标记设置于绑定区，所述第一对位标记设置于所述平面区，且所述第一对位标记与所述像素结构中的任一结构层同层设置或位于所述像素结构与所述基底之间，解决了当平面区的所有或大部分区域均用于设置像素结构时，没有第一对位标记的设置位置而必须将第一对位标记设置于弯折区的问题，从而避免了在弯折区向背离显示方向一侧弯折后，设置于弯折区的第一对位标记与设置于台阶区的第二对位标记之间的纵向距离相差过大，而导致摄像设备无法准确抓取第一对位标记和第二对位标记之间的相对位置关系的问题。
附图说明
为了更清楚地说明本申请实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据提供的附图获得其他的附图。
图1包括柔性基底的显示装置的剖面结构示意图；
图2为柔性基底的一种弯折示意图；
图3为柔性基底的另一种弯折示意图；
图4为本申请的一个实施例提供的一种阵列基板的俯视结构示意图；
图5为本申请的一个实施例提供的一种阵列基板的剖面结构示意图；
图6和图7为基底的状态示意图；
图8为本申请的另一个实施例提供的一种阵列基板的俯视结构示意图；
图9为本申请的又一个实施例提供的一种阵列基板的俯视结构示意图；
图10为顶栅结构的薄膜晶体管的剖面结构示意图；
图11为底栅结构的薄膜晶体管的剖面结构示意图；
图12为本申请的另一个实施例提供的一种阵列基板的剖面结构示意图；
图13为本申请的又一个实施例提供的一种阵列基板的剖面结构示意图；
图14为本申请的再一个实施例提供的一种阵列基板的剖面结构示意图；
图15为本申请的一个可选实施例提供的一种阵列基板的剖面结构示意图；
图16为本申请的另一个可选实施例提供的一种阵列基板的剖面结构示意图；
图17为本申请的再一个实施例提供的一种阵列基板的俯视结构示意图；
图18为本申请的一个实施例提供的一种显示面板的剖面结构示意图。
具体实施方式
下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。
本申请实施例提供了一种阵列基板，参考图4和图5，图4为所述阵列基板的俯视结构示意图，图5为所述阵列基板的剖面结构示意图，所述阵列基板包括：
基底100，所述基底100包括平面区120和台阶区110，所述台阶区110包括弯折区111和绑定区112，所述弯折区111向背离显示方向DR1一侧弯折，以使所述绑定区112位于所述平面区120背离所述显示方向DR1一侧，所述弯折区111包围所述平面区120；
位于所述基底100的预设区域AA上的呈阵列排布的多个像素结构，所述预设区域AA至少包括部分所述平面区120；所述显示方向DR1包括所述像素结构的出光方向；
在所述基底100表面，与所述像素结构同侧设置的第一对位标记200和第二对位标记300，所述第二对位标记300位于所述绑定区112；
所述第一对位标记200位于所述平面区120，且所述第一对位标记200与所述像素结构中的任一结构层同层设置或位于所述像素结构与所述基底100之间。
为了清楚的展示所述阵列基板的整体结构，在图4中，所述基底100的台阶区110和与所述平面区120在同一平面内展示，且所述基底100的台阶区110的数量为多个，分别分布于平面区120的四周，所述台阶区110的弯折方向如图4中的箭头所示。在图4中，所述阵列基板包括围绕所述平面区120的四个台阶区110，即所述阵列基板应用于包括四曲面的显示面板中，所述显示面板的四个曲面分别与所述阵列基板的四个台阶区110一一对应。在四曲面的显示面板中，所述阵列基板的平面区120通常全部用于设置所述像素结构，即所述预设区域AA包括全部的所述平面区120。
所述基底100的出光方向一侧用于设置交叉排布的多条栅极线和多条数据线，以及设置于栅极线和数据线交叉限定区域中的像素结构，对于OLED（Organic Light-Emitting Diode，有机发光）显示装置而言，所述像素结构可以包括阳极、发光层、阴极和与阳极连接的像素电路等结构，其中阳极、发光层和阴极构成发光单元，所述像素电路包括多个薄膜晶体管；对于Micro-LED显示装置而言，所述像素结构可以包括像素电极、Micro-LED芯粒和与所述像素电极连接的像素电路等结构，其中像素电极和Micro-LED芯粒构成发光单元，所述像素电路包括多个薄膜晶体管。
所述台阶区110主要用于设置引出所述栅极线的栅极扇出线、引出所述数据线的数据扇出线以及其他扇出线（例如电源扇出线）等，这些扇出线可以统称为走线，当然，在本申请的部分实施例中，所述台阶区110的部分区域（例如弯折区111）也可以用于设置像素结构、栅极线和数据线，以进一步增大显示面积，有利于提升最终制成的显示面板的屏占比，提升显示效果。所述像素结构的覆盖区域均可以称为显示区，即所述显示区可以仅设置于所述平面区120中，也可以设置于所述弯折区111中，以使阵列基板的部分或全部弯折区111也可以具备显示功能。
随着显示面板的每英寸像素数量（Pixels Per Inch，PPI）的不断提升，用于引出与像素结构连接的栅极线和数据线的数量，以及与所述栅极线和数据线对应的扇出线的数量也越来越多，因此用于设置这些走线的区域的大小也愈加的不可忽视，因此可以利用弯折区111向背离显示方向DR1弯折的方式将用于设置这些走线的区域弯折到背离显示方向DR1一侧，可以有效提升显示面板正面的显示区域，给用户一种全面屏的视觉感受。
通常情况下，所述基底100为柔性材料形成的基底100，整个基底100均具备可弯折的特性，在本申请中，所述平面区120为根据设计需求的基本平坦部分，所述台阶区110中的弯折区111则为根据阵列基板或显示面板的设计需求而需要进行一定角度弯曲的部分。
在本申请中，上面所述的“基本平坦部分”可以包括不完全平坦的部分，例如，参考图6和图7，图6和图7为基底100的状态示意图，图6中所示的凹入中央部分和图7所示的突起中央部分在一些实施例中均可被描述为基本平坦部分。图6和图7中一个或多个台阶区110被设置在凹入中央部分或突起中央部分的旁边并沿弯曲线BL相对于弯曲轴以预设设计的角度向内或向外弯曲。弯折区111的曲率半径小于凹入中央部分或突起中央部分的曲率半径，或者说弯折区111的曲率大于凹入中央部分和突起中央部分的曲率，换句话说，“基本平坦部分”是指具有比相邻部分的曲率小的曲率的部分。
在本实施例中，所述阵列基板的基底100包括平面区120和台阶区110，所述台阶区110包括弯折区111和绑定区112，在基底100表面设置有第一对位标记200和第二对位标记300，所述第一对位标记200和第二对位标记300与基底100表面的像素结构同侧设置，所述第二对位标记300设置于绑定区112，所述第一对位标记200设置于所述平面区120，且所述第一对位标记200与所述像素结构中的任一结构层同层设置或位于所述像素结构与所述基底100之间，解决了当平面区120的所有或大部分区域均用于设置像素结构时，没有第一对位标记200的设置位置而必须设置于弯折区111的问题，从而避免了在弯折区111向背离显示方向DR1一侧弯折后，设置于弯折区111的第一对位标记200与设置于台阶区110的第二对位标记300之间的纵向距离相差过大，而导致摄像设备无法准确抓取第一对位标记200和第二对位标记300之间的相对位置关系的问题。
另外，需要说明的是，所述预设区域AA至少包括部分所述平面区120是指所述预设区域AA可以包括全部所述平面区120（如图4所示），此时所述平面区120全部用于设置所述像素结构，以用于显示。此外，所述预设区域AA也可以包括部分所述平面区120（参考图8，图8为所述阵列基板的俯视结构示意图），所述平面区120与所述弯折区111的相邻部分可以不作为所述预设区域AA，即部分所述平面区120用于设置像素结构。当然地，无论所述预设区域AA包括全部所述平面区120还是包括部分所述平面区120，所述预设区域AA还可以包括部分所述弯折区111，以使所述弯折区111也可以部分或全部用于显示。
下面对本申请实施例提供的阵列基板的像素结构、第一对位标记200和第二对位标记300的具体结构和设置的位置关系等内容进行说明。
在本申请的一个实施例中，参考图9，图9为所述阵列基板的俯视结构示意图，图9中，所述第一对位标记200与所述像素结构的任一结构层同层设置。
所述预设区域AA包括第一区域AA1和第二区域AA2；
所述像素结构包括第一类像素410和第二类像素420，所述第一类像素410分布于所述第一区域AA1，所述第二类像素420分布于所述第二区域AA2；
所述第一类像素410结构在所述平面区120的正投影面积大于所述第二类像素420结构在所述平面区120的正投影面积；
所述第一对位标记200位于所述第二区域AA2中，且所述第一对位标记200在所述基底100上的正投影与所述第二类像素420在所述基底100上的正投影互不交叠。
在本实施例中，由于所述第一对位标记200与所述像素结构的任一结构层同层设置，因此需要通过压缩第二类像素420在所述平面区120的正投影面积的方式为所述第一对位标记200留出设置位置，以使所述第一对位标记200可以设置在所述平面区120中，且不影响第二类像素420的正常发光显示。
对于像素结构而言，所述像素结构包括：
像素电路和发光单元，所述像素电路包括多个薄膜晶体管，所述像素电路与所述发光单元电连接。
在本申请的一个实施例中，所述第一对位标记200与所述薄膜晶体管的预设结构层同层设置；
参考图10，图10为顶栅结构的薄膜晶体管的剖面结构示意图，当所述薄膜晶体管为顶栅结构的薄膜晶体管时，所述预设结构层为薄膜晶体管的有源区；所述薄膜晶体管的第一极和第二级又可称为所述薄膜晶体管的源极和漏极。
参考图11，图11为底栅结构的薄膜晶体管，当所述薄膜晶体管为底栅结构的薄膜晶体管时，所述预设结构层为薄膜晶体管的控制极。所述薄膜晶体管的控制极又可称为所述薄膜晶体管的栅极。
即所述预设结构层为所述薄膜晶体管中最靠近所述基底100的结构层，这样当利用摄像设备对与所述预设结构层同层设置的第一对位标记200进行捕捉拍摄时，可以最大化降低其他结构层对于第一对位标记200的遮挡效果，提高摄像设备对于第一对位标记200的拍摄清晰度和捕捉准确性。
在图10和图11中，标号g表示所述薄膜晶体管的栅极，s和d分别表示所述薄膜晶体管的源极和漏极，标号430表示所述薄膜晶体管，431表示所述薄膜晶体管的有源区，该有源区包括源区、漏区以及沟道。此外图10和图11中还示出了用于隔离多层金属的绝缘层，这些绝缘层并未以标号方式标出。
下面对所述第一对位标记200设置于所述基底100与所述像素结构之间的可行情况进行说明。
在本申请的一个实施例中，参考图12，图12为所述阵列基板的剖面结构示意图，所述阵列基板还包括：位于所述基底100与多个所述像素结构之间的遮光金属层500。
所述遮光金属层500主要用于遮挡外界光从底面射入到薄膜晶体管的结构层，避免外界光对薄膜晶体管的性能产生不良影响。
此时所述第一对位标记200可与所述遮光金属层同层设置。当所述第一对位标记200与所述遮光金属层同层设置时，由于所述第一对位标记200与所述像素结构的任何结构层均不同层，此时所述像素结构无需分为第一类像素410和第二类像素420，即所述第一对位标记200所在位置附近区域的像素结构无需进行尺寸压缩。
仍然参考图12，所述遮光金属层还可以复用为薄膜晶体管的沟道与基底100的隔离结构，即所述遮光金属层还可以包括多个隔离金属结构；
多个所述隔离金属结构与所述像素结构包括的多个薄膜晶体管一一对应，且所述隔离金属结构在所述基底100上的正投影至少覆盖与所述隔离金属结构对应的薄膜晶体管的沟道在所述基底100上的正投影。
在本实施例中，所述隔离金属结构将基底100与薄膜晶体管的沟道之间的接触隔离开来，可以实现隔断基底100中的杂质对于薄膜晶体管的沟道的负面影响，有利于保证薄膜晶体管具备良好的电学性能。
在本申请的一个可选实施例中，参考图13，图13为所述阵列基板的剖面结构示意图，在本实施例中，所述阵列基板还可以包括：辅助电容结构520；
所述像素结构包括像素电路，所述像素电路包括第一电容C1，沿所述像素结构的出光方向，所述辅助电容结构520与所述第一电容C1的第一电极板600至少部分交叠，所述辅助电容结构520与预设电压信号输入端电连接；
所述辅助电容结构520位于所述基底100与多个所述像素结构之间
即在本实施例中，所述辅助电容结构520与第一电容C1的第一电极板600至少部分交叠，且与所述预设电压信号输入端电连接，以实现与第一电容C1构成并联电容的目的，可以在保证所述第一电容C1具备所需电容值的情况下，缩小所述第一电容C1所占尺寸，有利于提高阵列基板的开口率，优化阵列基板的显示效果，当所述阵列基板还包括遮光金属层时，所述辅助电容结构520与所述遮光金属层同层设置。
在上述实施例的基础上，在本申请的另一个可选实施例中，参考图14，图14为所述阵列基板的剖面结构示意图，所述阵列基板还包括：设置于所述基底100背离所述像素结构一侧的功能金属层700；
所述功能金属层700包括透光通孔TH1，所述透光通孔TH1在所述基底100上的正投影覆盖所述第一对位标记200在所述基底100上的正投影，所述功能金属层700在所述基底100上的正投影位于所述平面区120内。
在本实施例中，所述功能金属层700可以具备散热等功能，所述功能金属层700可以包括铜箔等金属层结构。为了避免所述功能金属层700对于所述第一对位标记200的遮挡，在所述功能金属层700与第一对位标记200所在区域对于的区域上设置透光通孔TH1，以露出所述第一对位标记200。
在上述实施例的基础上，在本申请的又一个实施例中，参考图15，图15为所述阵列基板的剖面结构示意图，所述阵列基板还包括：
位于所述功能金属层与所述基底100之间的支撑膜层800，所述支撑膜层800至少覆盖部分所述绑定区112和所述平面区120，且所述支撑膜层800暴露出所述弯折区111；
覆盖所述绑定区112的支撑膜层800与所述功能金属层700固定粘接。
在本实施例中，通过设置支撑膜层800，且将覆盖所述绑定区112的支撑膜层800与所述功能金属层700固定粘接的方式，实现对于弯折后的弯折区111的形状的固定。
所述支撑膜层800可以选取硬度相较于基底100的硬度较大的材料形成。
可选的，参考图16，图16为所述阵列基板的剖面结构示意图，为了进一步对弯折区111弯折后的形状进行固定，避免出现弯折角度过大的“死折”的情况，所述阵列基板还包括：
设置于所述弯折区111形成的半包围区域中的支撑端900，所述支撑端900包括朝向所述弯折区111的第一弧面，所述支撑端900填充了所述弯折区111形成的半包围区域中的部分空间，可以设置在所述弯折区111的弯折半径最大的区域，避免该区域出现“死折”，所述支撑端900可与所述弯折区111的贴合部分可以进行粘接处理。
下面对所述第一对位标记200、第二对位标记300和弯折区111的具体设置位置关系进行说明。
参考图17，图17为所述阵列基板的俯视结构示意图，在图17中，为了表示清楚，未示出台阶区110中的绑定区112，且所述弯折区111展开与所述平面区120在同一平面上显示，所述弯折区111包括两个第一子弯折区1111和两个第二子弯折区1112，两个所述第一子弯折区1111分别分布于所述显示区的第一方向D1两侧，两个所述第二子弯折区1112分别分布于所述显示区的第二方向D2两侧，所述第一方向D1和第二方向D2垂直；
所述第一对位标记200包括：两个第一标记组和两个第二标记组，两个所述第一标记组分别沿所述平面区120平行于所述第一方向D1延伸的两条边排布，两个所述第二标记组分别沿所述平面区120平行于所述第二方向D2延伸的两条边排布；
所述第二对位标记300包括：两个第三标记组和两个第四标记组，两个所述第三标记组分别位于两个所述第一子弯折区1111中，两个所述第四标记组分别位于两个所述第二子弯折区1112中。
即在本实施例中，一个第一标记组与一个第四标记组用于标记一个第二子弯折区1112的弯折情况，一个第二标记组和一个第三标记组用于标记一个第二子弯折区1112的弯折情况。
为了避免台阶区110对于第一标记组或第二标记组的遮挡，可选的，所述第一标记组包括两个第一标记210，两个所述第一标记210的连线与所述第一方向D1平行；
所述第二标记组包括两个第二标记220，两个所述第二标记220的连线与所述第二方向D2平行；
所述第三标记组包括两个第三标记310，两个所述第三标记310的连线与所述第二方向D2平行；
所述第四标记组包括两个第四标记320，两个所述第四标记320的连线与所述第一方向D1平行；
两个所述第一标记210之间的间距大于两个所述第四标记320之间的间距；
两个所述第二标记220之间的间距大于两个所述第三标记310之间的间距。
相应的，本申请实施例还提供了一种显示面板，如图18所示，图18为所述显示面板A100的外观示意图，所述显示面板A100包括相对设置的对置基板和阵列基板，所述阵列基板为上述任一实施例所述的阵列基板。
综上所述，本申请实施例提供了一种阵列基板及显示面板，其中，所述阵列基板的基底100包括平面区120和台阶区110，所述台阶区110包括弯折区111和绑定区112，在基底100表面设置有第一对位标记200和第二对位标记300，所述第一对位标记200和第二对位标记300与基底100表面的像素结构同侧设置，所述第二对位标记300设置于绑定区112，所述第一对位标记200设置于所述平面区120，且所述第一对位标记200与所述像素结构中的任一结构层同层设置或位于所述像素结构与所述基底100之间，解决了当平面区120的所有或大部分区域均用于设置像素结构时，没有第一对位标记200的设置位置而必须设置于弯折区111的问题，从而避免了在弯折区111向背离显示方向DR1一侧弯折后，设置于弯折区111的第一对位标记200与设置于台阶区110的第二对位标记300之间的纵向距离相差过大，而导致摄像设备无法准确抓取第一对位标记200和第二对位标记300之间的相对位置关系的问题。此外，相较于将对位标记做在遮光金属层等其他外部结构上的方案，本申请实施例提供的阵列基板在利用第一对位标记200和第二对位标记300进行弯折对位时，可以避免由于贴合等物理工艺的精度较差而导致的对位标记发生偏移的问题，有利于提高对位精度。
本说明书中各个实施例采用递进的方式描述，每个实施例重点说明的都是与其他实施例的不同之处，各个实施例之间相同相似部分互相参见即可。
对所公开的实施例的上述说明，使本领域专业技术人员能够实现或使用本申请。对这些实施例的多种修改对本领域的专业技术人员来说将是显而易见的，本文中所定义的一般原理可以在不脱离本申请的精神或范围的情况下，在其它实施例中实现。因此，本申请将不会被限制于本文所示的这些实施例，而是要符合与本文所公开的原理和新颖特点相一致的最宽的范围。

Claims (12)

1.一种阵列基板，其特征在于，包括：
基底，所述基底包括平面区和台阶区，所述台阶区包括弯折区和绑定区，所述弯折区向背离显示方向一侧弯折，以使所述绑定区位于所述平面区背离所述显示方向一侧，所述弯折区包围所述平面区；
位于所述基底的预设区域上的呈阵列排布的多个像素结构，所述预设区域至少包括部分所述平面区；所述显示方向包括所述像素结构的出光方向；
在所述基底表面，与所述像素结构同侧设置的第一对位标记和第二对位标记，所述第二对位标记位于所述绑定区；
所述第一对位标记位于所述平面区，且所述第一对位标记与所述像素结构中的任一结构层同层设置或位于所述像素结构与所述基底之间；
当所述第一对位标记与所述像素结构中的任一结构层同层设置时，所述预设区域包括第一区域和第二区域；
所述像素结构包括第一类像素和第二类像素 ，所述第一类像素分布于所述第一区域，所述第二类像素位于所述第二区域；
所述第一类像素结构在所述平面区的正投影面积大于所述第二类像素结构在所述平面区的正投影面积；
所述第一对位标记位于所述第二区域中，且所述第一对位标记在所述基底上的正投影与所述第二类像素在所述基底上的正投影互不交叠。
2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述像素结构包括：
像素电路和发光单元，所述像素电路包括多个薄膜晶体管，所述像素电路与所述发光单元电连接。
3.根据权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，所述第一对位标记与所述薄膜晶体管的预设结构层同层设置；
当所述薄膜晶体管为顶栅结构的薄膜晶体管时，所述预设结构层为薄膜晶体管的有源区；
当所述薄膜晶体管为底栅结构的薄膜晶体管时，所述预设结构层为薄膜晶体管的控制极。
4.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，还包括：位于所述基底与多个所述像素结构之间的遮光金属层。
5.根据权利要求4所述的阵列基板，其特征在于，所述第一对位标记与所述遮光金属层同层设置。
6.根据权利要求5所述的阵列基板，其特征在于，所述遮光金属层包括多个隔离金属结构；
多个所述隔离金属结构与所述像素结构包括的多个薄膜晶体管一一对应，且所述隔离金属结构在所述基底上的正投影至少覆盖与所述隔离金属结构对应的薄膜晶体管的沟道在所述基底上的正投影。
7.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，还包括：辅助电容结构；
所述像素结构包括像素电路，所述像素电路包括第一电容，沿所述像素结构的出光方向，所述辅助电容结构与所述第一电容的第一电极板至少部分交叠，所述辅助电容结构与预设电压信号输入端电连接；
所述辅助电容结构位于所述基底与多个所述像素结构之间。
8.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，还包括：设置于所述基底背离所述像素结构一侧的功能金属层；
所述功能金属层包括透光通孔，所述透光通孔在所述基底上的正投影覆盖所述第一对位标记在所述基底上的正投影，所述功能金属层在所述基底上的正投影位于所述平面区内。
9.根据权利要求8所述的阵列基板，其特征在于，还包括：
位于所述功能金属层与所述基底之间的支撑膜层，所述支撑膜层至少覆盖部分所述绑定区和所述平面区，且所述支撑膜层暴露出所述弯折区；
覆盖所述绑定区的支撑膜层与所述功能金属层固定粘接。
10.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述弯折区包括两个第一子弯折区和两个第二子弯折区，两个所述第一子弯折区分别分布于显示区的第一方向两侧，两个所述第二子弯折区分别分布于所述显示区的第二方向两侧，所述第一方向和第二方向垂直；
所述第一对位标记包括：两个第一标记组和两个第二标记组，两个所述第一标记组分别沿所述平面区平行于所述第一方向延伸的两条边排布，两个所述第二标记组分别沿所述平面区平行于所述第二方向延伸的两条边排布；
所述第二对位标记包括：两个第三标记组和两个第四标记组，两个所述第三标记组分别位于两个所述第一子弯折区中，两个所述第四标记组分别位于两个所述第二子弯折区中。
11.根据权利要求10所述的阵列基板，其特征在于，所述第一标记组包括两个第一标记，两个所述第一标记的连线与所述第一方向平行；
所述第二标记组包括两个第二标记，两个所述第二标记的连线与所述第二方向平行；
所述第三标记组包括两个第三标记，两个所述第三标记的连线与所述第二方向平行；
所述第四标记组包括两个第四标记，两个所述第四标记的连线与所述第一方向平行；
两个所述第一标记之间的间距大于两个所述第四标记之间的间距；
两个所述第二标记之间的间距大于两个所述第三标记之间的间距。
12.一种显示面板，其特征在于，包括：相对设置的对置基板和阵列基板，所述阵列基板为权利要求1-11任一项所述的阵列基板。
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