CN111244322A - 显示基板及其制作方法、和显示装置 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种显示基板及其制作方法和显示装置，其中，包括衬底膜层和功能膜层，所述显示基板的局部显示区域内开设有多个开孔区，多个开孔区划分出用于显示的岛区和用于传输信号的桥区；所述显示基板还包括位于所述桥区内的隔离结构；所述隔离结构位于所述衬底膜层上，用于隔断目标功能膜层形成第一部分和第二部分，所述目标功能膜层包括形成在所述隔离结构远离所述衬底膜层一侧的任一功能膜层，第一部分包括所述目标功能膜层中位于所述隔离结构远离所述开孔区一侧的部分，第二部分包括所述目标功能膜层中位于所述隔离结构靠近所述开孔区一侧的部分。本发明提供的显示基板及其制作方法和显示装置，能够确保显示装置的正常显示。
Description
技术领域
本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示基板及其制作方法、和显示装置。
背景技术
随着显示技术的发展，能够进行柔性显示的有机发光二极管(organic light-emitting diode，简称OLED)促进了显示的多样化，逐渐成为显示技术的主流。在一些相关技术中，OLED柔性显示装置能够满足二维面的弯折，但不适用于情况更复杂的显示装置(例如：可穿戴设备等)对于显示基板的柔性需求。
为了发展可拉伸(Stretchable)的OLED显示功能，一些相关技术中，通过在OLED柔性显示装置在衬底材料上开孔，形成用于制备像素区的岛和用于走线的桥，并通过桥的变形来实现显示装置的拉伸。然而，由于在衬底材料上开孔，会导致水氧从开孔处进入功能膜层中，影响显示装置的正常显示。
发明内容
本发明实施例提供一种显示基板及其制作方法、和显示装置，以解决现有技术中的显示基板在衬底材料上开孔，导致水氧从开孔处进入功能膜层中，影响显示装置的正常显示的问题。
为了解决上述技术问题，本发明提供技术方案如下：
第一方面，本发明实施例提供一种显示基板，包括衬底膜层和功能膜层，所述显示基板的局部显示区域内开设有多个开孔区，多个开孔区划分出用于显示的岛区和用于传输信号的桥区，多个开孔区环绕岛区设置，一部分桥区位于岛区与开孔区之间且另一部分桥区位于开孔区与开孔区之间；所述显示基板还包括位于所述桥区内的隔离结构；
所述隔离结构位于所述衬底膜层上，用于隔断目标功能膜层形成第一部分和第二部分，所述目标功能膜层包括形成在所述隔离结构远离所述衬底膜层一侧的任一功能膜层，第一部分包括所述目标功能膜层中位于所述隔离结构远离所述开孔区一侧的部分，第二部分包括所述目标功能膜层中位于所述隔离结构靠近所述开孔区一侧的部分。
进一步地，每个隔离结构为首尾相连的封闭结构，所述隔离结构环绕开孔区设置。
进一步地，N个隔离结构环绕同一个开孔区设置，所述N等于1、2或3。
进一步地，所述桥区内包括沿远离所述衬底膜层方向依次设置的第一层信号走线、第一平坦层和第二层信号走线，所述第一平坦层位于所述第一层信号走线和所述第二层信号走线之间，其中，所述第二层信号走线的数量不大于所述第一层信号走线的数量。
进一步地，所述隔离结构位于所述第一层信号走线远离所述衬底膜层的一侧。
进一步地，所述桥区内的隔离结构位于所述第一平坦层上且位于所述第二层信号走线与所述开孔区之间，所述第一层信号走线的数量大于所述第二层信号走线的数量。
进一步地，所述隔离结构包括隔离柱，所述隔离柱包括沿垂直于所述衬底膜层方向设置的第一结构和第二结构，所述第一结构位于所述第二结构和所述衬底膜层之间，所述第一结构在所述衬底膜层的正投影位于所述第二结构在所述衬底膜层的正投影的内部。
进一步地，所述隔离柱与所述第二层信号走线的材质相同。
进一步地，所述桥区还包括覆盖所述第二层信号走线的第二平坦层，所述隔离结构位于所述第二层信号走线远离所述衬底膜层的一侧，所述第一层信号走线的数量等于所述第二层信号走线的数量。
进一步地，所述桥区还包括设置于所述第二平坦层上的钝化层，所述述隔离结构包括贯穿所述钝化层和部分所述第二平坦层形成的隔离槽，所述隔离槽的槽口在所述衬底膜层的正投影位于所述隔离槽在所述衬底膜层的正投影的内部。
进一步地，所述第二层信号走线在所述衬底膜层上的正投影与所述槽口在所述衬底膜层上的正投影不重合。
进一步地，一个隔离槽在所述衬底膜层上的正投影与所述第二层信号走线中相邻的两根走线在所述衬底膜层上的两个正投影均部分重合。
进一步地，所述显示基板为矩形显示基板，所述局部显示区域包括所述矩形显示基板的四个角区域。
第二方面，本发明实施例还提供一种显示装置，包括如上所述的显示基板。第三方面，本发明实施例还提供一种显示基板的制作方法，包括：
提供一柔性衬底膜层，所述柔性衬底膜层包括在局部显示区域内开设的多个开孔区，多个开孔区划分出用于显示的岛区和用于传输信号的桥区，多个开孔区环绕岛区设置，一部分桥区位于岛区与开孔区之间且另一部分桥区位于开孔区与开孔区之间；
在所述柔性衬底膜层上形成隔离结构，所述隔离结构位于所述桥区内；
形成覆盖所述隔离结构的目标功能膜层，所述隔离结构使所述目标功能膜层形成相互隔断的第一部分和第二部分，所述第一部分包括所述目标功能膜层中位于所述隔离结构远离所述开孔区一侧的部分，所述第二部分包括所述目标功能膜层中位于所述隔离结构靠近所述开孔区一侧的部分。
进一步地，所述在所述柔性衬底膜层上形成隔离结构的步骤，包括：
在所述柔性衬底膜层上形成第一层信号走线和覆盖所述第一层信号走线的第一平坦层；
在所述第一平坦层上同时形成位于所述桥区内的第一金属图形和第二金属图形，所述第二金属图形位于所述第一金属图形与所述开孔区之间，每一金属图形均包括在垂直于所述柔性衬底膜层方向设置的第一金属层和第二金属层，所述第一金属层位于所述第二金属层与所述柔性衬底膜层之间；
在所述柔性衬底膜层上形成阳极材料层；
刻蚀所述阳极材料层得到阳极的同时，刻蚀所述第二金属图形形成隔离柱，其中，所述第一金属层的刻蚀速度大于所述第二金属层的刻蚀速度。
进一步地，所述刻蚀所述阳极材料层得到阳极的同时，刻蚀所述第二金属图形形成隔离结构的步骤，包括：
利用第一刻蚀液刻蚀所述岛区内的阳极材料层得到阳极的同时，刻蚀覆盖所述第二金属图形的部分阳极材料层且保留覆盖所述第一金属图形的部分阳极材料层；
利用第二刻蚀液刻蚀所述第二金属图形形成隔离结构。
进一步地，所述在所述柔性衬底膜层上形成隔离结构的步骤，包括：
在所述柔性衬底膜层上依次形成第一层信号走线、覆盖所述第一层信号走线的第一平坦层、第二层信号走线、覆盖所述第二层信号走线的第二平坦层和钝化层；
刻蚀所述钝化层，形成在所述桥区内贯穿所述钝化层的过孔；
以刻蚀后的所述钝化层为掩膜，刻蚀部分所述第二平坦层，形成开设于所述第二平坦层在所述桥区内的凹槽，使所述过孔和所述凹槽共同形成隔离槽，所述隔离槽的槽口在所述柔性衬底膜层上的正投影位于所述隔离槽在所述柔性衬底膜层上的正投影的内部。
本发明提供的技术方案中，由于隔离结构位于桥区内，又由于桥区位于开孔区与岛区之间，即隔离结构隔断的第一部分包括位于岛区内的部分目标功能膜层，第二部分包括靠近开孔区遭到水氧侵入的部分目标功能膜层，通过将目标功能膜层分为相互隔断的两个部分能够防止第二部分内的水氧侵入第一部分，即确保水氧无法侵入位于岛区的部分目标功能膜层，从而确保显示装置的正常显示。因此，本发明提供的技术方案能够确保显示装置的正常显示。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案，下面将对本发明实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1a为矩形显示基板中一种局部显示区域的位置示意图；
图1b为三角形显示基板中一种局部显示区域的位置示意图；
图2a为本发明一实施例提供的显示基板中包括开孔区、桥区和岛区的一个结构单元的位置示意图；
图2b为图2a中四个结构单元的位置示意图；
图3为本发明另一实施例提供的显示基板中部分膜层的结构示意图；
图4为本发明另一实施例提供的显示基板中部分膜层的结构示意图；
图5为本发明另一实施例提供的显示基板中隔离柱的结构示意图；
图6为图5所示的隔离柱隔断目标功能膜层的示意图；
图7为本发明另一实施例提供的显示基板中隔离槽的结构示意图；
图8为图7所示的隔离槽隔断目标功能膜层的示意图；
图9为本发明一实施例提供的显示基板的制作方法中形成阳极材料层后的结构示意图；
图10为本发明另一实施例提供的显示基板的制作方法中形成隔离柱后的结构示意图；
图11为本发明另一实施例提供的显示基板的制作方法中形成隔离槽后的结构示意图；
图12为本发明另一实施例提供的显示基板的制作方法中钝化层图案化后的结构示意图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
本发明实施例提供一种显示基板，包括衬底膜层和功能膜层，如图1a和图1b所示，所述显示基板的局部显示区域110内开设有多个开孔区，多个开孔区划分出用于显示的岛区和用于传输信号的桥区，多个开孔区环绕岛区设置，一部分桥区位于岛区与开孔区之间且另一部分桥区位于开孔区与开孔区之间，如图2a和图2b所示；所述显示基板还包括位于所述桥区内的隔离结构；
所述隔离结构位于所述衬底膜层上，用于隔断目标功能膜层形成第一部分和第二部分，所述目标功能膜层包括形成在所述隔离结构远离所述衬底膜层一侧的任一功能膜层，第一部分包括所述目标功能膜层中位于所述隔离结构远离所述开孔区一侧的部分，第二部分包括所述目标功能膜层中位于所述隔离结构靠近所述开孔区一侧的部分。
本发明实施例中，由于隔离结构位于桥区内，又由于桥区位于开孔区与岛区之间，即隔离结构隔断的第一部分包括位于岛区内的部分目标功能膜层，第二部分包括靠近开孔区遭到水氧侵入的部分目标功能膜层，通过将目标功能膜层分为相互隔断的两个部分能够防止第二部分内的水氧侵入第一部分，即确保水氧无法侵入位于岛区的部分目标功能膜层，从而确保显示装置的正常显示。因此，本发明提供的技术方案能够确保显示装置的正常显示。
本发明实施例中，并不限定显示基板的形状，比如显示基板为矩形显示基板时，如图1a所示，矩形显示基板可以有四个局部显示区域110，每个局部显示区域110内开设多个开孔区Ⅰ，其中，四个局部显示区域可以包括矩形显示基板的四个角区域，如图1a所示，也可以包括矩形显示基板的四个边框区域，还可以包括两个角区域和两个边框区域；又比如显示基板为三角形显示基板时，如图1b所示，三角形显示基板有三个局部显示区域110，每个局部显示区域110内开设多个开孔区Ⅰ，其中，三个局部显示区域可以包括三角形显示基板的三个角区域，如图1b所示。
本发明实施例中，局部显示区域110内一个包括开孔区Ⅰ、桥区Ⅱ和岛区Ⅲ的结构单元如图2a所示，其中，开孔区Ⅰ内包括贯穿功能膜层和衬底膜层的过孔，桥区Ⅱ内包括传输信号的信号走线，岛区Ⅲ内包括显示器件，显示器件用于与所述信号走线电连接来进行发光显示。所述开孔区Ⅰ可以在局部显示区域内以“工”字型结构排布。
需要说明的是，开孔区Ⅰ、桥区Ⅱ和岛区Ⅲ是重复性排布的，图2a所示的只是重复性排布的一个结构单元，局部显示区域内可以重复排布有多个如图2a所示的结构单元，如图2b所示，为4个重复排布的结构单元。
多个开孔区Ⅰ开放式环绕岛区Ⅲ设置，如图2a所示，岛区Ⅲ包括四个方向，四个开孔区Ⅰ分别占据四个方向的部分区域，从而使得桥区Ⅱ内的信号走线能够与岛区Ⅲ内的显示器件电连接。优选的，隔离结构210位于桥区Ⅱ内靠近开孔区Ⅰ的位置，隔离结构210在图2a和图2b中通过虚线表示。
隔离结构210位于桥区Ⅱ内，具体的，隔离结构210位于两个开孔区Ⅰ之间的桥区Ⅱ内，还位于开孔区Ⅰ与岛区Ⅲ之间的桥区Ⅱ内，隔离结构210如图2中虚线所示。
每个隔离结构210在衬底膜层上的正投影的轮廓为封闭图形，且与开孔区Ⅰ的边界图形相同，从而能够确保隔离结构210在各个位置防止水氧从开孔区Ⅰ侵入岛区Ⅲ。
隔离结构210设置于衬底膜层上，用于隔断目标功能膜层形成第一部分和第二部分，上述目标功能膜层为形成在所述隔离结构远离所述衬底膜层一侧的任一功能膜层，功能膜层为显示膜层。
通过将目标功能膜层分为相互隔断的第一部分和第二部分，使得靠近开孔区Ⅰ的第二部分受到水氧侵入时，位于岛区Ⅲ的第一部分因与第二部分隔绝了而不会被侵入水氧，确保了岛区Ⅲ内的目标功能膜层正常工作，确保显示装置的正常显示。
其中，每个隔离结构210为首尾相连的封闭结构，所述隔离结构210环绕开孔区Ⅰ设置。
本实施例中，每一个隔离结构210为封闭结构。通过将隔离结构210环绕开孔区Ⅰ设置，能够防止开孔区Ⅰ侵入的水氧不会越过隔离结构210进入岛区Ⅲ，确保岛区Ⅲ阻隔水氧的效果。
进一步地，N个隔离结构210环绕同一个开孔区210设置，所述N等于1、2或3。
每个开孔区Ⅰ包围有至少一个隔离结构210才能够起到防止开孔区Ⅰ内的水氧侵入岛区Ⅲ的作用。开孔区Ⅰ包围的隔离结构210数量越多，防止水氧入侵的岛区Ⅲ的效果越好，但是同时也越占桥区Ⅱ的空间。通过将包围一个开孔区Ⅰ的隔离结构210数量设计为1、2或3，能够在保证岛区Ⅲ阻隔水氧的效果的同时降低隔离结构210在桥区Ⅱ内占据的空间。
至少两个包围同一开孔区Ⅰ的隔离结构210的走向相同，即轮廓形状相同，轮廓长度与距离开孔区Ⅰ的距离成正比，至少两个包围同一开孔区Ⅰ的隔离结构210共开孔区Ⅰ的中心设置。
进一步地，如图3和图4所示，所述桥区Ⅱ内包括沿远离所述衬底膜层410方向依次设置的第一层信号走线420、第一平坦层430和第二层信号走线440，所述第一平坦层430位于所述第一层信号走线420和所述第二层信号走线440之间，其中，所述第二层信号走线440的数量不大于所述第一层信号走线420的数量。
本实施例中，第一层信号走线420的数量与第二层信号走线440的数量可以相等，也可以是第一层信号走线420的数量大于第二层信号走线440的数量。
其中，第一层信号走线420和第二层信号走线440可以是正对设置的，即第一层信号走线420在衬底膜层410上的正投影与第二层信号走线440在衬底膜层410上的正投影重合；第一层信号走线420和第二层信号走线440也可以是错位设置的，即一根第一层信号走线420在衬底膜层410上的正投影位于相邻两根第二层信号走线420在衬底膜层410上的两个正投影之间。
其中，第一层信号走线420和第二层信号走线440传输的信号可以相同也可以不同，在第一层信号走线420和第二层信号走线440传输的信号相同的情况下，第一层信号走线420和第二层信号走线440可以在岛区和/或桥区内利用过孔进行连接，图中未示出。
具体的，所述隔离结构位于所述第一层信号走线420远离所述衬底膜层410的一侧。
即隔离结构不会占据桥区Ⅱ内布局第一层信号走线420的空间，但是存在可能会占据桥区Ⅱ内布局第二层信号走线440的空间的情况，而导致第二层信号走线440的数量小于第一层信号走线420的数量。
在本发明一可选的实施方式中，如图3所示，所述桥区Ⅱ内的隔离结构位于所述第一平坦层430上且位于所述第二层信号走线440与所述开孔区Ⅰ之间，所述第一层信号走线420的数量大于所述第二层信号走线440的数量。
如图3所示，第二层信号走线440和隔离结构均设置于第一平坦层430上，由于桥区Ⅱ内的布局空间有限，布局了隔离结构则缩小了第二层信号走线440的布局空间，使得第二层信号走线440的数量降低，小于未缩小布局空间的第一层信号走线420的数量。
进一步地，所述隔离结构包括隔离柱451，如图5所示，所述隔离柱包括沿垂直于所述衬底膜层410方向设置的第一结构510和第二结构520，所述第一结构510位于所述第二结构520和所述衬底膜层410之间，所述第一结构510在所述衬底膜层410的正投影位于所述第二结构520在所述衬底膜层410的正投影的内部。
在第一平坦层430形成隔离柱之后，后续形成在隔离柱远离衬底膜层410一侧的目标功能膜层会在第二结构520处将目标功能膜层分为相互断开的第一部分610和第二部分620，如图6所示，第一部分610包括所述目标功能膜层中位于所述隔离结构远离所述开孔区Ⅰ一侧的部分，第二部分620包括所述目标功能膜层中位于所述隔离结构靠近所述开孔区Ⅰ一侧的部分。这样，水氧侵入目标功能膜层的第二部分620时，水氧不会通过第二部分620侵入第一部分610，这样就不会破坏目标功能膜层的第一部分610的功能性，确保岛区Ⅲ能够正常显示。
需要说明的是，隔离柱451并不仅限于第一结构510和第二结构520，还可以包括第三结构530，第三结构530位于第二结构520远离第一结构510的一侧，即隔离柱451为“工”字型结构，此时隔离柱的第一结构510和第二结构520同样能够将目标功能膜层分为相互断开的第一部分610和第二部分620，防止水氧从第二部分620侵入第一部分610。
进一步地，所述隔离柱451与所述第二层信号走线440的材质相同。
隔离柱451与第二层信号走线440共同位于第一平坦层430上，又由于隔离柱451与第二层信号走线440的材质相同，这样，在制作显示基板时能够同时在第一平坦层上制作隔离柱451和第二层信号走线440，提高显示基板的制作效率。
在本发明另一可选的实施方式中，如图4所示，所述桥区Ⅱ还包括覆盖所述第二层信号走线440的第二平坦层460，所述隔离结构位于所述第二层信号走线440远离所述衬底膜层410的一侧，所述第一层信号走线420的数量等于所述第二层信号走线440的数量。
由于隔离结构位于第二层信号走线440远离所述衬底膜层410的一侧，即隔离结构不影响第二层信号走线440的布局空间，因此第二层信号走线440和第一层信号走线420具有相同的布局空间，能够布局相同数量的走线。
本实施例中，由于隔离结构均不影响第一层信号走线420和第二层信号走线440的布局空间，从而能够在同样走线数量的情况下使桥区Ⅱ内的信号走线之间间隔更大，即走线密度降低，从而避免相邻走线之间发生串扰，便于高像素密度(PPI)显示装置在桥区Ⅱ内的走线的可靠性。
进一步地，所述桥区Ⅱ还包括设置于所述第二平坦层460上的钝化层470，所述隔离结构包括贯穿所述钝化层470和部分所述第二平坦层460形成的隔离槽452，所述隔离槽452的槽口在所述衬底膜层410的正投影位于所述隔离槽452在所述衬底膜层410的正投影的内部。
本实施例中，钝化层470为无机层，能够防止靠近衬底膜层410一侧的水氧直接透过而侵入钝化层470远离衬底膜层410一侧的功能膜层。
本实施例中，第二平坦层460靠近衬底膜层410的一部分用于覆盖第二层信号走线440，另一部分用于与钝化层470共同形成隔离槽452。
如图7所示，隔离槽452的槽口在纸面横向上的尺寸小于隔离槽452中两相对设置的槽壁在纸面横向上的间隔距离。其中，隔离槽452的槽口为钝化层470远离衬底膜层410的一面上的开口。
贯穿钝化层470的过孔在衬底膜层410上的正投影与位于第二平坦层460内形成的部分隔离槽的槽口在衬底膜层410上的正投影重合。
在第二平坦层460和钝化层470共同形成隔离槽452之后，后续形成在隔离槽452远离衬底膜层410一侧的目标功能膜层会在槽口处将目标功能膜层分为相互断开的第一部分610和第二部分620，如图8所示，第一部分610包括所述目标功能膜层中位于所述隔离槽452离所述开孔区Ⅰ一侧的部分，第二部分620包括所述目标功能膜层中位于所述隔离结构靠近所述开孔区Ⅰ一侧的部分。这样，水氧侵入目标功能膜层的第二部分620时，水氧不会通过第二部分620侵入第一部分610，这样就不会破坏目标功能膜层的第一部分610的功能性，确保岛区Ⅲ能够正常显示。
进一步地，所述第二层信号走线440在所述衬底膜层410上的正投影与所述槽口在所述衬底膜层410上的正投影不重合。
通过将第二层信号走线440与槽口错位设计，这样能够避免在刻蚀形成隔离槽452的过程中过度刻蚀而破坏第二层信号走线440的情况发生，提高显示基板制作的可靠性和制作良率。
其中，在高PPI的显示装置中，桥区Ⅱ内的走线较多时，一个隔离槽452在所述衬底膜层420上的正投影可以与所述第二层信号走线440中相邻的两根走线在所述衬底膜层410上的两个正投影均部分重合。
本发明实施例还提供了一种显示装置，包括如上所述的显示基板。
显示装置可以是显示器、手机、平板电脑、电视机、可穿戴电子设备、导航显示设备等。
本发明实施例还提供了一种显示基板的制作方法，其特征在于，包括：
提供一柔性衬底膜层，所述柔性衬底膜层包括在局部显示区域内开设的多个开孔区，多个开孔区划分出用于显示的岛区和用于传输信号的桥区，多个开孔区环绕岛区设置，一部分桥区位于岛区与开孔区之间且另一部分桥区位于开孔区与开孔区之间；
在所述柔性衬底膜层上形成隔离结构，所述隔离结构位于所述桥区内；
形成覆盖所述隔离结构的目标功能膜层，所述隔离结构使所述目标功能膜层形成相互隔断的第一部分和第二部分，所述第一部分包括所述目标功能膜层中位于所述隔离结构远离所述开孔区一侧的部分，所述第二部分包括所述目标功能膜层中位于所述隔离结构靠近所述开孔区一侧的部分。
本发明实施例中，由于隔离结构位于桥区内，又由于桥区位于开孔区与岛区之间，即隔离结构隔断的第一部分包括位于岛区内的部分目标功能膜层，第二部分包括靠近开孔区遭到水氧侵入的部分目标功能膜层，通过将目标功能膜层分为相互隔断的两个部分能够防止第二部分内的水氧侵入第一部分，即确保水氧无法侵入位于岛区的部分目标功能膜层，从而确保显示装置的正常显示。因此，本发明提供的技术方案能够确保显示装置的正常显示。
本发明实施例中，并不限定显示基板的形状，比如显示基板为矩形显示基板时，如图1a所示，矩形显示基板可以有四个局部显示区域110，每个局部显示区域110内开设多个开孔区Ⅰ，其中，四个局部显示区域可以包括矩形显示基板的四个角区域，如图1a所示，也可以包括矩形显示基板的四个边框区域，还可以包括两个角区域和两个边框区域；又比如显示基板为三角形显示基板时，如图1b所示，三角形显示基板有三个局部显示区域110，每个局部显示区域110内开设多个开孔区Ⅰ，其中，三个局部显示区域可以包括三角形显示基板的三个角区域，如图1b所示。
本发明实施例中，一个局部显示区域110内的开孔区Ⅰ、桥区Ⅱ和岛区Ⅲ如图2所示，其中，开孔区Ⅰ内包括贯穿显示基板的过孔，桥区Ⅱ内包括传输信号的信号走线，岛区Ⅲ内包括显示器件，显示器件用于与所述信号走线电连接来进行发光显示。所述开孔区Ⅰ可以在局部显示区域内以“工”字型结构排布。
需要说明的是，开孔区Ⅰ、桥区Ⅱ和岛区Ⅲ是重复性排布的，图2所示的只是重复性排布的一个结构单元，局部显示区域内可以重复排布有多个如图2所示的结构单元。
多个开孔区Ⅰ开放式环绕岛区Ⅲ设置，如图2所示，岛区Ⅲ包括四个方向，四个开孔区Ⅰ分别占据四个方向的部分区域，从而使得桥区Ⅱ内的信号走线能够与岛区Ⅲ内的显示器件电连接。优选的，隔离结构210位于桥区Ⅱ内靠近开孔区Ⅰ的位置。
隔离结构210位于桥区Ⅱ内，具体的，隔离结构210位于两个开孔区Ⅰ之间的桥区Ⅱ内，还位于开孔区Ⅰ与岛区Ⅲ之间的桥区Ⅱ内，隔离结构210如图2中虚线所示。
每个隔离结构210在衬底膜层上的正投影的轮廓为封闭图形，且与开孔区Ⅰ的边界图形相同，从而能够确保隔离结构210在各个位置防止水氧从开孔区Ⅰ侵入岛区Ⅲ。
隔离结构210设置于衬底膜层上，用于隔断目标功能膜层形成第一部分和第二部分，上述目标功能膜层为形成在所述隔离结构远离所述衬底膜层一侧的任一功能膜层，功能膜层为显示膜层。
通过将目标功能膜层分为相互隔断的第一部分和第二部分，使得靠近开孔区Ⅰ的第二部分受到水氧侵入时，位于岛区Ⅲ的第一部分因与第二部分隔绝了而不会被侵入水氧，确保了岛区Ⅲ内的目标功能膜层正常工作，确保显示装置的正常显示。
其中，每个隔离结构210为首尾相连的封闭结构，所述隔离结构210环绕开孔区Ⅰ设置。
本实施例中，每一个隔离结构210为封闭结构。通过将隔离结构210环绕开孔区Ⅰ设置，能够防止开孔区Ⅰ侵入的水氧不会越过隔离结构210进入岛区Ⅲ，确保岛区Ⅲ阻隔水氧的效果。
其中，每个开孔区Ⅰ包围有至少一个隔离结构210才能够起到防止开孔区Ⅰ内的水氧侵入岛区Ⅲ的作用。开孔区Ⅰ包围的隔离结构210数量越多，防止水氧入侵的岛区Ⅲ的效果越好，但是同时也越占桥区Ⅱ的空间。通过将包围一个开孔区Ⅰ的隔离结构210数量设计为1、2或3，能够在保证岛区Ⅲ阻隔水氧的效果的同时降低隔离结构210在桥区Ⅱ内占据的空间。
至少两个包围同一开孔区Ⅰ的隔离结构210的走向相同，即轮廓形状相同，轮廓长度与距离开孔区Ⅰ的距离成正比，至少两个包围同一开孔区Ⅰ的隔离结构210共开孔区Ⅰ的中心设置。
在本发明一可选的实施方式中，所述在所述柔性衬底膜层上形成隔离结构的步骤，包括：
在所述柔性衬底膜层上形成第一层信号走线和覆盖所述第一层信号走线的第一平坦层；
在所述第一平坦层上同时形成位于所述桥区内的第一金属图形和第二金属图形，所述第二金属图形位于所述第一金属图形与所述开孔区之间，每一金属图形均包括在垂直于所述柔性衬底膜层方向设置的第一金属层和第二金属层，所述第一金属层位于所述第二金属层与所述柔性衬底膜层之间；
在所述柔性衬底膜层上形成阳极材料层；
刻蚀所述阳极材料层得到阳极的同时，刻蚀所述第二金属图形形成隔离柱，其中，所述第一金属层的刻蚀速度大于所述第二金属层的刻蚀速度。
本实施例中，隔离结构为隔离柱，隔离柱的结构和材质与第二层信号走线的结构和材质相同。
其中，第二金属图形为用于制作隔离柱的金属图形，第一金属图形为第二层信号走线的金属图形。在制作完成第一平坦层后，可以通过一次构图工艺将第一金属图形和第二金属图形同时形成在第一平坦层上。
第一金属图形和第二金属图形均包括在垂直于所述柔性衬底膜层方向设置的第一金属层和第二金属层，所述第一金属层位于所述第二金属层与所述柔性衬底膜层之间，其中，选用在同一刻蚀条件下刻蚀速度大的金属材质作为第一金属层，选用刻蚀速度小的金属材质作为第二金属层。例如：金属铝作为第一金属层，金属钛作为第二金属层。
在形成第一金属图形和第二金属图形后，形成阳极材料层，并在刻蚀得到阳极材料层的过程中刻蚀第二金属层，得到隔离柱。如图5中，隔离柱451的第一结构510即为第一金属层刻蚀后的部分，第二结构520即为第二金属层刻蚀后的部分。
需要说明的是，在形成第一金属图形和第二金属图形之后和形成阳极材料之前，还可以有形成其他功能膜层的步骤，这些形成的功能膜层图案化后不保留在桥区内，所以使得后续形成的阳极材料能够覆盖第一金属图形和第二金属图形，例如：在岛区内形成第二平坦层。
后续形成在隔离柱远离衬底膜层410一侧的目标功能膜层会在第二结构520处将目标功能膜层分为相互断开的第一部分610和第二部分620，如图6所示，第一部分610包括所述目标功能膜层中位于所述隔离结构远离所述开孔区Ⅰ一侧的部分，第二部分620包括所述目标功能膜层中位于所述隔离结构靠近所述开孔区Ⅰ一侧的部分。这样，水氧侵入目标功能膜层的第二部分620时，水氧不会通过第二部分620侵入第一部分610，这样就不会破坏目标功能膜层的第一部分610的功能性，确保岛区Ⅲ能够正常显示。
其中，所述刻蚀所述阳极材料层得到阳极的同时，刻蚀所述第二金属图形形成隔离柱的步骤，包括：
利用第一刻蚀液刻蚀所述岛区内的阳极材料层得到阳极的同时，刻蚀覆盖所述第二金属图形的部分阳极材料层且保留覆盖所述第一金属图形的部分阳极材料层；
利用第二刻蚀液刻蚀所述第二金属图形形成隔离结构。
本实施例中，首先在阳极材料层上整层涂覆光刻胶，利用透光区域与阳极和第一金属图形对应的掩膜版遮盖光刻胶进行曝光，得到光刻胶图形，所述光刻胶在衬底膜层上的正投影与阳极在衬底膜层上的正投影和第一金属图形在衬底膜层上的正投影重合；
之后，利用第一刻蚀液进行显影，在岛区刻蚀部分阳极材料得到阳极的同时，在桥区内刻蚀覆盖第二金属图形的部分，暴露第二金属图形，但是不刻蚀覆盖第一金属图形的部分，使阳极材料保护第一金属图形，如图9所示。
之后，再利用第二刻蚀液刻蚀暴露的第二金属图形，第二刻蚀液无法刻蚀阳极材料，因此被阳极材料保护的第一金属图形不会受到第二刻蚀液的刻蚀，从而第二金属图形形成隔离柱，如图10所示。之后再去除掉覆盖第一金属图形的阳极材料。
这样，能够确保在刻蚀第二金属图形形成隔离柱的同时，使第一金属图形免于被刻蚀，确保第二层信号走线的制作良率。
在本发明另一可选的实施例中，所述在所述柔性衬底膜层上形成隔离结构的步骤，包括：
在所述柔性衬底膜层上依次形成第一层信号走线、覆盖所述第一层信号走线的第一平坦层、第二层信号走线、覆盖所述第二层信号走线的第二平坦层和钝化层；
刻蚀所述钝化层，形成在所述桥区内贯穿所述钝化层的过孔；
以刻蚀后的所述钝化层为掩膜，刻蚀部分所述第二平坦层，形成开设于所述第二平坦层在所述桥区内的凹槽，使所述过孔和所述凹槽共同形成隔离槽，所述隔离槽的槽口在所述柔性衬底膜层上的正投影位于所述隔离槽在所述柔性衬底膜层上的正投影的内部。
本实施例中，隔离结构为贯穿钝化层和部分第二平坦层的隔离槽。
首先，在形成钝化层之后，在钝化层上涂覆光刻胶，对光刻胶进行曝光后，显影形成贯穿钝化层的过孔；
之后，再以具有过孔的钝化层作为掩膜，干法刻蚀部分第二平坦层，形成在第二平坦层内的凹槽，如图11所示，其中，通过控制干法刻蚀的时长能够调整槽内开口尺寸的大小，
形成隔离槽之后再完成过孔的制作之后再进行钝化层的图形化，如图12所示。
本实施例中，隔离槽的槽口为钝化层远离衬底膜层一面的开口，即钝化层开设的过孔远离衬底膜层的一端。
后续形成在隔离槽452远离衬底膜层410一侧的目标功能膜层会在槽口处将目标功能膜层分为相互断开的第一部分610和第二部分620，如图9所示，第一部分610包括所述目标功能膜层中位于所述隔离槽452离所述开孔区Ⅰ一侧的部分，第二部分620包括所述目标功能膜层中位于所述隔离结构靠近所述开孔区Ⅰ一侧的部分。这样，水氧侵入目标功能膜层的第二部分620时，水氧不会通过第二部分620侵入第一部分610，这样就不会破坏目标功能膜层的第一部分610的功能性，确保岛区Ⅲ能够正常显示。
除非另外定义，本公开使用的技术术语或者科学术语应当为本发明所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本公开中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的组成部分。“包括”或者“包含”等类似的词语意指出现该词前面的元件或者物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同，而不排除其他元件或者物件。“连接”或者“相连”等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接，而是可以包括电性的连接，不管是直接的还是间接的。“上”、“下”、“左”、“右”等仅用于表示相对位置关系，当被描述对象的绝对位置改变后，则该相对位置关系也可能相应地改变。
可以理解，当诸如层、膜、区域或基板之类的元件被称作位于另一元件“上”或“下”时，该元件可以“直接”位于另一元件“上”或“下”，或者可以存在中间元件。
上面结合附图对本发明的实施例进行了描述，但是本发明并不局限于上述的具体实施方式，上述的具体实施方式仅仅是示意性的，而不是限制性的，本领域的普通技术人员在本发明的启示下，在不脱离本发明宗旨和权利要求所保护的范围情况下，还可做出很多形式，均属于本发明的保护之内。
Claims (18)
1.一种显示基板，包括衬底膜层和功能膜层，其特征在于，所述显示基板的局部显示区域内开设有多个开孔区，多个开孔区划分出用于显示的岛区和用于传输信号的桥区，多个开孔区环绕岛区设置，一部分桥区位于岛区与开孔区之间且另一部分桥区位于开孔区与开孔区之间；所述显示基板还包括位于所述桥区内的隔离结构；
所述隔离结构位于所述衬底膜层上，用于隔断目标功能膜层形成第一部分和第二部分，所述目标功能膜层包括形成在所述隔离结构远离所述衬底膜层一侧的任一功能膜层，第一部分包括所述目标功能膜层中位于所述隔离结构远离所述开孔区一侧的部分，第二部分包括所述目标功能膜层中位于所述隔离结构靠近所述开孔区一侧的部分。
2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，每个隔离结构为首尾相连的封闭结构，所述隔离结构环绕开孔区设置。
3.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，N个隔离结构环绕同一个开孔区设置，所述N等于1、2或3。
4.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述桥区内包括沿远离所述衬底膜层方向依次设置的第一层信号走线、第一平坦层和第二层信号走线，所述第一平坦层位于所述第一层信号走线和所述第二层信号走线之间，其中，所述第二层信号走线的数量不大于所述第一层信号走线的数量。
5.根据权利要求4所述的显示基板，其特征在于，所述隔离结构位于所述第一层信号走线远离所述衬底膜层的一侧。
6.根据权利要求5所述的显示基板，其特征在于，所述桥区内的隔离结构位于所述第一平坦层上且位于所述第二层信号走线与所述开孔区之间，所述第一层信号走线的数量大于所述第二层信号走线的数量。
7.根据权利要求6所述的显示基板，其特征在于，所述隔离结构包括隔离柱，所述隔离柱包括沿垂直于所述衬底膜层方向设置的第一结构和第二结构，所述第一结构位于所述第二结构和所述衬底膜层之间，所述第一结构在所述衬底膜层的正投影位于所述第二结构在所述衬底膜层的正投影的内部。
8.根据权利要求7所述的显示基板，其特征在于，所述隔离柱与所述第二层信号走线的材质相同。
9.根据权利要求5所述的显示基板，其特征在于，所述桥区还包括覆盖所述第二层信号走线的第二平坦层，所述隔离结构位于所述第二层信号走线远离所述衬底膜层的一侧，所述第一层信号走线的数量等于所述第二层信号走线的数量。
10.根据权利要求9所述的显示基板，其特征在于，所述桥区还包括设置于所述第二平坦层上的钝化层，所述隔离结构包括贯穿所述钝化层和部分所述第二平坦层形成的隔离槽，所述隔离槽的槽口在所述衬底膜层的正投影位于所述隔离槽在所述衬底膜层的正投影的内部。
11.根据权利要求10所述的显示基板，其特征在于，所述第二层信号走线在所述衬底膜层上的正投影与所述槽口在所述衬底膜层上的正投影不重合。
12.根据权利要求11所述的显示基板，其特征在于，一个隔离槽在所述衬底膜层上的正投影与所述第二层信号走线中相邻的两根走线在所述衬底膜层上的两个正投影均部分重合。
13.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述显示基板为矩形显示基板，所述局部显示区域包括所述矩形显示基板的四个角区域。
14.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1-13中任一项所述的显示基板。
15.一种显示基板的制作方法，其特征在于，包括：
提供一柔性衬底膜层，所述柔性衬底膜层包括在局部显示区域内开设的多个开孔区，多个开孔区划分出用于显示的岛区和用于传输信号的桥区，多个开孔区环绕岛区设置，一部分桥区位于岛区与开孔区之间且另一部分桥区位于开孔区与开孔区之间；
在所述柔性衬底膜层上形成隔离结构，所述隔离结构位于所述桥区内；
形成覆盖所述隔离结构的目标功能膜层，所述隔离结构使所述目标功能膜层形成相互隔断的第一部分和第二部分，所述第一部分包括所述目标功能膜层中位于所述隔离结构远离所述开孔区一侧的部分，所述第二部分包括所述目标功能膜层中位于所述隔离结构靠近所述开孔区一侧的部分。
16.根据权利要求15所述的方法，其特征在于，所述在所述柔性衬底膜层上形成隔离结构的步骤，包括：
在所述柔性衬底膜层上形成第一层信号走线和覆盖所述第一层信号走线的第一平坦层；
在所述第一平坦层上同时形成位于所述桥区内的第一金属图形和第二金属图形，所述第二金属图形位于所述第一金属图形与所述开孔区之间，每一金属图形均包括在垂直于所述柔性衬底膜层方向设置的第一金属层和第二金属层，所述第一金属层位于所述第二金属层与所述柔性衬底膜层之间；
在所述柔性衬底膜层上形成阳极材料层；
刻蚀所述阳极材料层得到阳极的同时，刻蚀所述第二金属图形形成隔离柱，其中，所述第一金属层的刻蚀速度大于所述第二金属层的刻蚀速度。
17.根据权利要求16所述的方法，其特征在于，所述刻蚀所述阳极材料层得到阳极的同时，刻蚀所述第二金属图形形成隔离柱的步骤，包括：
利用第一刻蚀液刻蚀所述岛区内的阳极材料层得到阳极的同时，刻蚀覆盖所述第二金属图形的部分阳极材料层且保留覆盖所述第一金属图形的部分阳极材料层；
利用第二刻蚀液刻蚀所述第二金属图形形成隔离结构。
18.根据权利要求15所述的方法，其特征在于，所述在所述柔性衬底膜层上形成隔离结构的步骤，包括：
在所述柔性衬底膜层上依次形成第一层信号走线、覆盖所述第一层信号走线的第一平坦层、第二层信号走线、覆盖所述第二层信号走线的第二平坦层和钝化层；
刻蚀所述钝化层，形成在所述桥区内贯穿所述钝化层的过孔；
以刻蚀后的所述钝化层为掩膜，刻蚀部分所述第二平坦层，形成开设于所述第二平坦层在所述桥区内的凹槽，使所述过孔和所述凹槽共同形成隔离槽，所述隔离槽的槽口在所述柔性衬底膜层上的正投影位于所述隔离槽在所述柔性衬底膜层上的正投影的内部。
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