CN111010838B - 壳体的制造方法、壳体以及电子设备 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及一种壳体的制造方法、壳体以及电子设备。壳体的制造方法包括以下步骤：提供透明基板，透明基板具有在厚度方向上相对的第一表面和第二表面；在透明基板的第一表面上转印形成第一颜色纹理层；采用镀膜工艺在第一颜色纹理层上形成第一光学膜层；在第一光学膜层的表面上转印形成第二颜色纹理层；采用镀膜工艺在第二颜色纹理层上形成第二光学膜层；采用丝印工艺在第二光学膜层的表面上丝印形成盖底层，盖底层覆盖第二光学膜层。本发明的壳体的制造方法，可以解决现有技术中移动终端的保护壳纹理单一，导致保护壳外观较为单调的问题。

Description

壳体的制造方法、壳体以及电子设备
技术领域
本发明涉及电子设备技术领域，特别是涉及一种壳体的制造方法、壳体以及电子设备。
背景技术
随着消费类电子产品的日新月异，各品牌之间的电子产品竞争激烈，消费者对于消费类电子产品的要求也越来越高，也更加注重移动终端的外观设计。以移动终端的外置的保护壳为例，要做到明亮的彩色金属质感效果，目前常用的工艺有在保护壳上喷涂金属漆或真空金属镀膜等表面处理工艺，但目前常用的工艺只能呈现单一纹理，导致保护壳外观较为单调。
发明内容
本发明提供一种壳体的制造方法、壳体以及电子设备，以解决现有技术中移动终端的保护壳纹理单一，导致保护壳外观较为单调的问题。
为了解决上述技术问题，本发明是这样实现的：
第一方面，本发明提出了一种壳体的制造方法，其包括以下步骤：
提供透明基板，透明基板具有在厚度方向上相对的第一表面和第二表面；
在透明基板的第一表面上转印形成第一颜色纹理层；
采用镀膜工艺在第一颜色纹理层上形成第一光学膜层；
在第一光学膜层的表面上转印形成第二颜色纹理层；
采用镀膜工艺在第二颜色纹理层上形成第二光学膜层；
采用丝印工艺在第二光学膜层的表面上丝印形成盖底层，盖底层覆盖第二光学膜层。
第二方面，本发明提供一种壳体，包括：
透明基板，透明基板具有在厚度方向上相对的第一表面和第二表面；
色彩显示层，色彩显示层连接于第一表面，色彩显示层包括在远离透明基板的方向上依次层叠设置的第一颜色纹理层、第一光学膜层、第二颜色纹理层和第二光学膜层；
盖底层，盖底层连接于色彩显示层的远离透明基板的一侧；
其中，壳体采用如上述的壳体的制造方法制造而成。
第三方面，本发明提供一种电子设备，其包括如上述的壳体。
本发明的壳体的制造方法，在透明基板上层叠设置形成第一颜色纹理层、第一光学膜层、第二颜色纹理层以及第二光学膜层。第一颜色纹理层和第二颜色纹理层相互叠加可以提升纹理与色彩的表现丰富程度，并且与第一光学膜层和第二光学膜层搭配使用可以提升纹理深浅层次感和组合空间感，从而使得制造的壳体具有丰富的纹理与色彩，提升壳体的整体美观度。
附图说明
下面将通过参考附图来描述本发明示例性实施例的特征、优点和技术效果。
图1是本发明一实施例公开的一种壳体的制造方法的流程示意图；
图2是本发明一实施例公开的一种壳体的剖视结构示意图；
图3是本发明一实施例公开的一种壳体的俯视结构示意图。
在附图中，附图未必按照实际的比例绘制。
标记说明：
10、壳体；
20、透明基板；20a、第一表面；20b、第二表面；
30、色彩显示层；31、第一颜色纹理层；32、第一光学膜层；33、第二颜色纹理层；34、第二光学膜层；
40、盖底层；X、厚度方向。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本发明的实施方式作进一步详细描述。以下实施例的详细描述和附图用于示例性地说明本发明的原理，但不能用来限制本发明的范围，即本发明不限于所描述的实施例。
在本发明的描述中，需要说明的是，除非另有说明，“多个”的含义是两个以上；术语“上”、“下”、“左”、“右”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”等仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。
下述描述中出现的方位词均为图中示出的方向，并不是对本发明的具体结构进行限定。在本发明的描述中，还需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连。对于本领域的普通技术人员而言，可视具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
为了更好地理解本发明，下面结合图1至图3对本发明实施例进行描述。
参见图1并结合图2和图3所示，本发明实施例提供一种壳体10的制造方法，其包括以下步骤：
提供透明基板20，透明基板20具有在厚度方向X上相对的第一表面20a和第二表面20b；
在透明基板20的第一表面20a上转印形成第一颜色纹理层31；
采用镀膜工艺在第一颜色纹理层31上形成第一光学膜层32；
在第一光学膜层32的表面上转印形成第二颜色纹理层33；
采用镀膜工艺在第二颜色纹理层33上形成第二光学膜层34；
采用丝印工艺在第二光学膜层34的表面上丝印形成盖底层40，盖底层40覆盖第二光学膜层34。
本发明实施例的壳体10的制造方法，在透明基板20上层叠设置形成第一颜色纹理层31、第一光学膜层32、第二颜色纹理层33以及第二光学膜层34。由本发明实施例的壳体10的制造方法制成的壳体10，第一颜色纹理层31和第二颜色纹理层33相互叠加可以提升纹理与色彩的表现丰富程度，并且与第一光学膜层32和第二光学膜层34搭配使用可以提升纹理深浅层次感和组合空间感，从而使得制造的壳体10具有丰富的纹理与色彩，提升壳体10的整体美观度。
在一个实施例中，透明基板20的材料可以是玻璃、塑胶或树脂。第一颜色纹理层31和第二颜色纹理层33的色彩和图案可以相同，也可以不同，同时第一颜色纹理层31和第二颜色纹理层33的色彩可以是纯色，也可以是渐变色，从而有利于提高色彩和图案的选择灵活性，以此能够通过选择任意两种色彩和图案进行搭配使用。
在一个实施例中，第一光学膜层32和第二光学膜层34均为透明结构体。在厚度方向X上，第一光学膜层32将第一颜色纹理层31和第二颜色纹理层33隔离开，而第二光学膜层34将第二颜色纹理层33覆盖，从而可以使得第一颜色纹理层31和第二颜色纹理层33在厚度方向X上具有不同深浅层次感，有利于营造出第一颜色纹理层31和第二颜色纹理层33的立体感，提升壳体10的美观度。可选地，第一光学膜层32和第二光学膜层34的材料不受特别限制，只要满足要求，本领域技术人员可以根据需要进行灵活选择，例如可以包括但不限于氟化镁、氧化锆、氧化铪等，从而使得第一光学膜层32和第二光学膜层34具有高反射性，以此提高第一颜色纹理层31和第二颜色纹理层33的质感和壳体10整体质感。在一个示例中，采用镀膜工艺制作的第一光学膜层32和第二光学膜层34，第一光学膜层32和第二光学膜层34各自包括两层五氧化三钛层以及设置于两层五氧化三钛层之间的二氧化钛层。在一个示例中，第一光学膜层32和第二光学膜层34的厚度不受特别限制，只要满足要求，本领域技术人员可以根据需要进行灵活选择。可选地，第一光学膜层32和第二光学膜层34的厚度可以为60纳米至100纳米。在本发明一些更加具体的实施例中，第一光学膜层32和第二光学膜层34的厚度可以各自独立地为60纳米、70纳米、80纳米、90纳米、100纳米。这样，可以有利于提高第一光学膜层32和第二光学膜层34的反射性能，以实现理想的表面釉质感。
在一个实施例中，第一光学膜层32与第二颜色纹理层33之间粘接连接。第一光学膜层32与第二颜色纹理层33通过粘接剂粘接连接。粘接剂的具体材料不受特别限制，只要满足要求，本领域技术人员可以根据需要进行灵活选择。在一个示例中，粘接剂的具体材料可以为OCA(透明光学胶)，可增加对比度，尤其是强光照射下的对比度，同时可以保证第一光学膜层32与第二颜色纹理层33之间具有更高的连接强度，并且可以保证第一光学膜层32与第二颜色纹理层33的表面平整，提高纹理和色彩的细腻感和规整度。
在一个实施例中，第一颜色纹理层31的厚度小于第二颜色纹理层33的厚度，从而有利于降低因第一颜色纹理层31和第二颜色纹理层33的纹理发生干涉而导致出现摩尔纹的可能性，以此可以有效消除摩尔纹的不良影响，降低壳体10呈现出的色彩和图案因摩尔纹的存在而导致清晰度和美观度出现下降的可能性。在一个示例中，第一颜色纹理层31的厚度为10微米至15微米，第二颜色纹理层33的厚度为25微米至30微米。优选地，第一颜色纹理层31的厚度为12微米，而第二颜色纹理层33的厚度为25微米。
在一个实施例中，第一颜色纹理层31和第二颜色纹理层33均为UV转印纹理结构。在透明基材表面制作第一颜色纹理层31的工艺过程是：将UV转印胶涂覆在具有预定纹理结构的子模边缘，然后将透明基材平放在子模之上，再使用辊轴碾压透明基材，以使得UV转印胶均匀涂布在子模与透明基材之间，然后经过UV固化，将透明基材从子模上剥离，得到第一颜色纹理层31。在第一颜色纹理层31上制作好第一光学膜层32之后，采用与上述相同的工艺过程，得到第二颜色纹理层33。本实施例中，UV转印胶的具体种类不受特别限制，只要满足要求，本领域技术人员可以根据需要进行灵活选择，例如可以包括但不限于高抗刮型UV转印胶、高硬度型UV转印胶、高弹性型UV转印胶、通用型UV转印胶等。
在一个实施例中，在采用镀膜工艺在第一颜色纹理层31上形成第一光学膜层32的步骤之后，采用电晕处理工艺对第一光学膜层32远离透明基板20的表面进行表面处理。经过电晕处理工艺后，第一光学膜层32的表面受到电击侵蚀，从而可以增加表面的附着性，进而有利于提高第二颜色纹理层33与第一光学膜层32之间的结合力，降低因第二颜色纹理层33与第一光学膜层32连接不牢固而易于从第一光学膜层32上发生脱落的可能性。
在一个实施例中，盖底层40包括至少三层白色油墨层和至少两层的黑色油墨层。白色油墨层连接于第二光学膜层34，而黑色油墨层设置于所有白色油墨层远离第二光学膜层34的一侧，从而最终获得的壳体10在视觉效果上呈现浅色，且可以进一步增强细腻的光学纹理效果。可选地，在观察壳体10时，第一颜色纹理层31和第二颜色纹理层33的背景色彩呈白色或偏白色的浅色。在一个示例中，盖底层40包括三层白色油墨层和两层的黑色油墨层，并且盖底层40的总厚度在35微米左右。在另一个实施例中，盖底层40包括至少两层的黑色油墨层。黑色油墨层连接于第二光学膜层34，从而最终获得的壳体10在视觉效果上呈现深色，且可以进一步增强细腻的光学纹理效果。在一个示例中，盖底层40包括两层的黑色油墨层，并且盖底层40的总厚度在12微米左右。可选地，在观察壳体10时，第一颜色纹理层31和第二颜色纹理层33的背景色彩呈黑色或偏黑色的深色。本实施例中，盖底层40的形成方法为丝印工艺，由此，可以适用多种类型的油墨层，并且可以保证油墨层厚实，覆盖力强，不受透明基材的表面形状的限制及面积大小的限制，具有很大的灵活性和广泛的适用性。
参见图2和图3所示，本发明实施例还提供一种壳体10，用于电子设备。壳体10采用如上述实施例的壳体10的制造方法制造而成。壳体10包括透明基板20、色彩显示层以及盖底层40。透明基板20具有在厚度方向X上相对的第一表面20a和第二表面20b。色彩显示层连接于第一表面20a。色彩显示层包括在远离透明基板20的方向上依次层叠设置的第一颜色纹理层31、第一光学膜层32、第二颜色纹理层33和第二光学膜层34。盖底层40连接于色彩显示层的远离透明基板20的一侧。本发明实施例的壳体10中，第一颜色纹理层31和第二颜色纹理层33相互叠加可以提升纹理与色彩的表现丰富程度，并且与第一光学膜层32和第二光学膜层34搭配使用可以提升纹理深浅层次感和组合空间感，从而使得制造的壳体10具有丰富的纹理与色彩，提升壳体10的整体美观度。
本发明实施例还提供一种电子设备，其包括上述实施例的壳体10。
由于本发明实施例的壳体10可以呈现丰富的色彩和纹理，具有很高的美观度，因此具有该壳体10的电子设备自身具有很好的品质感和档次感，有利于提升用户体验满意度。根据本发明的实施例，电子设备的具体种类不受特别限制，例如可以包括但不限于手机、平板电脑、可穿戴设备等。本领域技术人员可以理解，除了上述的壳体10，上述电子设备还包括常规电子设备所必要的结构和部件。以电子设备为手机为例，电子设备还可以包括触控显示屏、照相模组、指纹识别模组、声音系统、CPU等等，在此不再过多赘述。
虽然已经参考优选实施例对本发明进行了描述，但在不脱离本发明的范围的情况下，可以对其进行各种改进并且可以用等效物替换其中的部件，尤其是，只要不存在结构冲突，各个实施例中所提到的各项技术特征均可以任意方式组合起来。本发明并不局限于文中公开的特定实施例，而是包括落入权利要求的范围内的所有技术方案。

Claims (10)

1.一种壳体的制造方法，其特征在于，包括以下步骤：
提供透明基板(20)，所述透明基板(20)具有在厚度方向(X)上相对的第一表面(20a)和第二表面(20b)；
在所述透明基板(20)的所述第一表面(20a)上转印形成第一颜色纹理层(31)；
采用镀膜工艺在所述第一颜色纹理层(31)上形成第一光学膜层(32)；
在所述第一光学膜层(32)的表面上转印形成第二颜色纹理层(33)；
采用镀膜工艺在所述第二颜色纹理层(33)上形成第二光学膜层(34)；
采用丝印工艺在所述第二光学膜层(34)的表面上丝印形成盖底层(40)，所述盖底层(40)覆盖所述第二光学膜层(34)。
2.根据权利要求1所述的壳体的制造方法，其特征在于，所述第一光学膜层(32)与所述第二颜色纹理层(33)之间粘接连接。
3.根据权利要求1所述的壳体的制造方法，其特征在于，所述第一颜色纹理层(31)的厚度小于所述第二颜色纹理层(33)的厚度。
4.根据权利要求3所述的壳体的制造方法，其特征在于，所述第一颜色纹理层(31)的厚度为10微米至15微米，所述第二颜色纹理层(33)的厚度为25微米至30微米。
5.根据权利要求1至4任一项所述的壳体的制造方法，其特征在于，所述第一光学膜层(32)和所述第二光学膜层(34)均为透明结构体。
6.根据权利要求1至4任一项所述的壳体的制造方法，其特征在于，所述第一颜色纹理层(31)和所述第二颜色纹理层(33)均为UV转印纹理结构。
7.根据权利要求1至4任一项所述的壳体的制造方法，其特征在于，在所述采用镀膜工艺在所述第一颜色纹理层(31)上形成第一光学膜层(32)的步骤之后，采用电晕处理工艺对所述第一光学膜层(32)远离所述透明基板(20)的表面进行表面处理。
8.根据权利要求1至4任一项所述的壳体的制造方法，其特征在于：
所述盖底层(40)包括至少三层白色油墨层和至少两层的黑色油墨层，所述白色油墨层连接于所述第二光学膜层(34)，所述黑色油墨层设置于所有所述白色油墨层远离所述第二光学膜层(34)的一侧；
或者，所述盖底层(40)包括至少两层的黑色油墨层。
9.一种壳体，其特征在于，包括：
透明基板(20)，所述透明基板(20)具有在厚度方向(X)上相对的第一表面(20a)和第二表面(20b)；
色彩显示层(30)，所述色彩显示层(30)连接于所述第一表面(20a)，所述色彩显示层(30)包括在远离所述透明基板(20)的方向上依次层叠设置的第一颜色纹理层(31)、第一光学膜层(32)、第二颜色纹理层(33)和第二光学膜层(34)；
盖底层(40)，所述盖底层(40)连接于所述色彩显示层(30)的远离所述透明基板(20)的一侧；
其中，所述壳体采用如权利要求1至8中任一项所述的壳体的制造方法制造而成。
10.一种电子设备，其特征在于，包括如权利要求9所述的壳体。
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