CN110997343A - 机上显影型平版印刷版原版、和平版印刷版的制作方法 - Google Patents

Abstract

提供机上显影型平版印刷版原版和使用上述平版印刷版原版的平版印刷版的制作方法，该机上显影型平版印刷版原版为在具有阳极氧化被膜的铝支承体上具有图像记录层的机上显影型平版印刷版原版，上述平版印刷版原版的端部具有下弯量X为25～150μm、下弯宽度Y为70～300μm的下弯形状，上述平版印刷版原版的与下弯宽度Y相当的区域的上述阳极氧化被膜的表面上存在的裂纹的面积率为30％以下。

Description

机上显影型平版印刷版原版、和平版印刷版的制作方法

技术领域

本发明涉及机上显影型平版印刷版原版、和平版印刷版的制作方法。

背景技术

通常，平版印刷版包含在印刷过程中接受墨液的亲油性的图像部和接受润版水的亲水性的非图像部。平版印刷是如下的印刷方法，即，利用水和油性墨液彼此排斥的性质，将平版印刷版的亲油性的图像部作为墨液接受部、将亲水性的非图像部作为润版水接受部(墨液不接收部)，从而在平版印刷版的表面产生墨液附着性的差异，仅将墨液着墨到图像部，然后将墨液转移到纸等被印刷体进行印刷。

现在，在由平版印刷版原版制作平版印刷版的制版工序中，进行基于CTP(计算机直接制版)技术的图像曝光。即，在不经由制版胶片的情况下，使用激光、激光二极管直接对平版印刷版原版进行扫描曝光等，来进行图像曝光。

另一方面，对地球环境的关心高涨，因此关于平版印刷版原版的制版，针对显影处理等湿式处理所伴随的废液的环境问题受到注目，与之相伴地，开始谋求显影处理的简易化或无处理化。作为简易的显影处理之一，提出了被称为“机上显影”的方法。机上显影是如下的方法，即，将平版印刷版原版进行图像曝光后，不进行以往的湿式显影处理，而直接安装到印刷机上，在通常的印刷工序的初始阶段进行图像记录层的非图像部的除去。

在使用平版印刷版进行印刷的情况下，像通常的纸页印刷机那样对比印刷版的尺寸小的纸进行印刷时，印刷版的端部位于纸面外的位置，因此端部不会对印刷品质造成影响。但是，在使用报纸印刷那样的旋转机对卷筒状的纸连续地进行印刷的情况下，印刷版的端部位于滚筒纸面内，因此附着在端部的墨液被转印到纸上，产生线状的污渍(边缘污渍)，显著损害印刷物的商品价值。

作为防止发生上述边缘污渍的手段，专利文献1提出了如下的平版印刷版，即，在具有亲水性表面的金属支承体上设置包含水溶性化合物的底涂层和包含水不溶性树脂的非感光性树脂层，支承体的相对的2条边或4条边的端部具有20μm至100μm的裁切下弯高度。

另外，专利文献2提出了如下的平版印刷版原版，即，在支承体上具有图像记录层的平版印刷版原版的从端部起向内侧5mm为止的图像记录层侧版面的区域中所含的、分子量为60～300且在20℃时的水中的溶解度为10g/L以上的水溶性化合物的每单位面积的含量，与上述区域以外的区域中的上述水溶性化合物的每单位面积的含量相比，多50mg/m²以上。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开平11-240268号公报

专利文献2：WO2016/052443

发明内容

发明所要解决的课题

上述专利文献1中也记载了使下弯(ダレ)宽度为0.1mm～0.3mm的方案。

但是，上述专利文献1中记载的平版印刷版由于作为所谓的弃版(日文原文：捨版)使用，因此与通常的平版印刷版原版不同，代替图像记录层而具有包含在碱水溶液中发生溶解或溶胀的树脂的非感光性树脂层。而且，该平版印刷版通过与通常的湿式显影处理同样地在碱水溶液中进行处理而除去非感光性树脂层之后，被实施减感脂化处理，就能够防止上述边缘污渍。

但是，在机上显影型平版印刷版原版的情况下，不会像上述专利文献1中记载的那样在碱水溶液中进行处理、或实施减感化处理。因此，在机上显影型平版印刷版原版的情况下，无法防止上述边缘污渍。

上述专利文献2也记载了：该平版印刷版原版通过机上显影进行制版；在该平版印刷版原版的端部具有下弯量X为35～150μm、下弯宽度Y为70～300μm的下弯形状。

但是，上述专利文献2中记载的平版印刷版原版中，为了防止边缘污渍，在从平版印刷版原版的端部起向内侧直至5mm为止的图像记录层侧版面的区域，涂布含有水溶性化合物的涂布液，通过这些手段来提高端部区域中的水溶性化合物的含量。

然而，若对平版印刷版原版的端部区域实施涂布含有水溶性化合物的涂布液等亲水化处理，则存在产生端部区域中的图像形成性能下降问题的倾向。可认为其原因在于，通过实施亲水化处理，水溶性化合物向图像记录层迁移，从而导致图像记录层的机械强度下降、和图像记录层与支承体的密合力下降，在机上显影时，端部区域中的图像记录层无法被保持，而与非图像部一起被除去。

本发明要解决的课题在于提供机上显影型平版印刷版原版、和使用了机上显影型平版印刷版原版的平版印刷版的制作方法，该机上显影型平版印刷版原版在不使机上显影性、伤痕污渍防止性等特性下降的情况下防止边缘污渍。

解决课题的方法

以下记载上述解决课题的方法。

(1)一种机上显影型平版印刷版原版，其在具有阳极氧化被膜的铝支承体上具有图像记录层，上述平版印刷版原版的端部具有下弯量X为25～150μm、下弯宽度Y为70～300μm的下弯形状，上述平版印刷版原版的与下弯宽度Y相当的区域的上述阳极氧化被膜的表面上存在的裂纹的面积率为30％以下。

(2)根据(1)所述的机上显影型平版印刷版原版，其中，上述裂纹的面积率为10％以下。

(3)根据(2)所述的机上显影型平版印刷版原版，其中，上述裂纹的面积率为6％以下。

(4)根据(1)～(3)中任一项所述的机上显影型平版印刷版原版，其中，上述平版印刷版原版的与下弯宽度Y相当的区域的上述阳极氧化被膜的表面上存在的裂纹的平均宽度为20μm以下。

(5)根据(1)～(4)中任一项所述的机上显影型平版印刷版原版，其中，上述平版印刷版原版的与下弯宽度Y相当的区域的上述阳极氧化被膜的阳极氧化被膜量为0.5～5.0g/m²。

(6)根据权利要求(5)所述的机上显影型平版印刷版原版，其中，上述阳极氧化被膜量为0.8～1.2g/m²。

(7)根据(1)～(6)中任一项所述的机上显影型平版印刷版原版，其中，上述平版印刷版原版的与下弯宽度Y相当的区域的上述阳极氧化被膜的阳极氧化被膜量小于上述平版印刷版原版的与下弯宽度Y相当的区域以外的区域的上述阳极氧化被膜的阳极氧化被膜量。

(8)根据(1)～(7)中任一项所述的机上显影型平版印刷版原版，其中，上述平版印刷版原版的与下弯宽度Y相当的区域的上述阳极氧化被膜的表面上存在的微孔的平均直径为5～100nm。

(9)根据(1)～(7)中任一项所述的机上显影型平版印刷版原版，其中，上述平版印刷版原版的与下弯宽度Y相当的区域的上述阳极氧化被膜的微孔由从阳极氧化被膜表面延伸至深度为10～1000nm的位置为止的大径孔部、和与大径孔部的底部连通且从连通位置延伸至深度为20nm～2000nm的位置为止的小径孔部构成，小径孔部的连通位置处的平均直径为13nm以下。

(10)根据(1)～(9)中任一项所述的机上显影型平版印刷版原版，其中，上述图像记录层含有聚合物粒子。

(11)根据权利要求(10)所述的机上显影型平版印刷版原版，其中，上述聚合物粒子为包含来源于苯乙烯化合物的单体单元和/或来源于(甲基)丙烯腈化合物的单体单元的聚合物的粒子。

(12)根据(1)～(11)中任一项所述的机上显影型平版印刷版原版，其中，上述图像记录层还含有聚合引发剂、红外线吸收剂和聚合性化合物。

(13)平版印刷版的制作方法，其包括：将(1)～(12)中任一项所述的机上显影型平版印刷版原版，通过红外线激光进行图像曝光的工序；和在印刷机上利用选自印刷墨液和润版水中的至少一种将图像记录层的未曝光部分除去的工序。

发明效果

根据本发明，能够提供在不使机上显影性、伤痕污渍防止性等特性下降的情况下防止边缘污渍的机上显影型平版印刷版原版、和使用了机上显影型平版印刷版原版的平版印刷版的制作方法。

附图说明

图1是示出平版印刷版原版的端部的剖面形状的示意图。

图2是示出纵切机装置的裁切部的一例的概念图。

具体实施方式

以下详细地记载用于实施发明的方式。

本说明书中，关于化学式所示的化合物中的基团的表述，在没有记载为取代或未取代的情况下，在该基团能够进一步具有取代基时，只要没有其他特别规定，则不仅包括未取代的基团，也包括具有取代基的基团。例如，式中，若存在“R表示烷基、芳基或杂环基”这样的记载，则意味着“R表示未取代烷基、取代烷基、未取代芳基、取代芳基、未取代杂环基或取代杂环基”。

本说明书中，“(甲基)丙烯酸酯”这样的术语表示“丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯中的任意种”。“(甲基)丙烯酰基”、“(甲基)丙烯酸”、“(甲基)丙烯酸类树脂”等也同样。

[机上显影型平版印刷版原版]

本发明所涉及的机上显影型平版印刷版原版是如下的机上显影型平版印刷版原版，即，至少由具有阳极氧化被膜的铝支承体和图像记录层构成，平版印刷版原版的端部具有下弯量X为25～150μm、下弯宽度Y为70～300μm的下弯形状，与下弯宽度Y相当的区域的阳极氧化被膜的表面上存在的裂纹的面积率为30％以下。

〔具有阳极氧化被膜的铝支承体〕

对于构成机上显影型平版印刷版原版的具有阳极氧化被膜的铝支承体，进行记载。

铝支承体中使用的铝板包含尺寸稳定的以铝为主成分的金属、即铝或铝合金。优选选自纯铝板和以铝为主成分且包含微量的不同元素的合金板。

铝合金中所含的不同元素有硅、铁、锰、铜、镁、铬、锌、铋、镍、钛等。合金中的不同元素的含量为10质量％以下。纯铝板是合适的，但完全纯粹的铝在冶炼技术上的制造是困难的，因此，可以是稍微含有不同元素的合金板。关于铝支承体中使用的铝板，其组成并不特定，可以适宜利用以往公知的铝板，例如JISA 1050、JISA 1100、JISA 3103、JISA 3005等。

铝板的厚度优选为0.1～0.6mm左右。

阳极氧化被膜表示：通过阳极氧化处理在铝板的表面形成的、与被膜表面大致垂直、具有各自均匀分布的极细微孔(也称为微孔)的阳极氧化铝被膜。微孔从阳极氧化被膜表面朝向厚度方向进行延伸。

〔铝支承体的制造方法〕

铝支承体的制造方法没有特别限制。作为铝支承体的制造方法的优选方式，可举出包括如下工序的方法，即，对铝板实施粗糙化处理的工序(粗糙化处理工序)、使粗糙化处理后的铝板发生阳极氧化的工序(阳极氧化处理工序)、使阳极氧化处理工序中得到的具有阳极氧化被膜的铝板与酸水溶液或碱水溶液接触从而使阳极氧化被膜中的微孔的直径扩大的工序(扩孔处理工序)。

以下详细地说明各工序。

<粗糙化处理工序>

粗糙化处理工序是对铝板的表面实施包括电化学粗糙化处理在内的粗糙化处理的工序。粗糙化处理工序优选在后述的阳极氧化处理工序之前实施，但若铝板的表面已经具有优选的表面形状，则也可以不实施。

粗糙化处理可以仅实施电化学粗糙化处理，但也可以将电化学粗糙化处理、与机械粗糙化处理和/或化学粗糙化处理组合实施。

在将机械粗糙化处理与电化学粗糙化处理组合的情况下，优选在机械粗糙化处理之后实施电化学粗糙化处理。

电化学粗糙化处理优选在硝酸、盐酸的水溶液中实施。

一般而言，机械粗糙化处理出于使铝板的表面达到表面粗造度Ra：0.35～1.0μm的目的而实施。

机械粗糙化处理的各条件没有特别限定，但例如可以按照日本特公昭50-40047号公报中记载的方法来实施。机械粗糙化处理可以通过使用了浮石悬浮液的刷磨处理来实施，或者利用转印方式来实施。

另外，化学粗糙化处理也没有特别限制，可以按照公知的方法来实施。

优选在机械粗糙化处理之后实施以下的化学蚀刻处理。

在机械粗糙化处理之后实施的化学蚀刻处理为了使铝板的表面的凹凸形状的边缘部分平滑，防止印刷时的墨液被卡住，提高平版印刷版的耐污渍性的同时除去残留在表面的磨料粒子等杂质而进行。

作为化学蚀刻处理，已知基于酸的蚀刻或基于碱的蚀刻，但从蚀刻效率的方面考虑，作为特别优异的方法，可举出使用碱溶液的化学蚀刻处理(以下也称为“碱蚀刻处理”。)。

碱溶液中所使用的碱剂没有特别限定，但例如可适合地举出氢氧化钠、氢氧化钾、偏硅酸钠、碳酸钠、铝酸钠、葡萄糖酸钠等。

另外，碱剂可以含有铝离子。碱溶液的浓度优选为0.01质量％以上，更优选为3质量％以上，另外，优选为30质量％以下，更优选为25质量％以下。

另外，碱溶液的温度优选为室温以上，更优选为30℃以上，且优选为80℃以下，更优选为75℃以下。

蚀刻量优选为0.1g/m²以上，更优选为1g/m²以上，另外，优选为20g/m²以下，更优选为10g/m²以下。

另外，关于处理时间，与蚀刻量对应地优选为2秒～5分钟，从生产率提高的观点出发更优选为2～10秒。

在机械粗糙化处理后实施碱蚀刻处理的情况下，为了除去因碱蚀刻处理而产生的生成物，优选使用低温酸性溶液来实施化学蚀刻处理(以下也称为“去污处理”。)。

酸性溶液中使用的酸没有特别限定，但例如可举出硫酸、硝酸、盐酸。酸性溶液的浓度优选为1～50质量％。另外，酸性溶液的温度优选为20～80℃。若酸性溶液的浓度和温度为该范围，则使用了铝支承体的平版印刷版的耐斑点状污渍性会进一步提高。

上述粗糙化处理为在根据希望实施机械粗糙化处理及化学蚀刻处理之后，实施电化学粗糙化处理的处理，但在未进行机械粗糙化处理便实施电化学粗糙化处理的情况下，在电化学粗糙化处理之前，也能够使用氢氧化钠等碱水溶液来实施化学蚀刻处理。由此，能够除去存在于铝板表面附近的杂质等。

电化学粗糙化处理中，可轻松地向铝板的表面赋予微细的凹凸(凹坑)，因此适合制作印刷性优异的平版印刷版。

电化学粗糙化处理在以硝酸或盐酸为主体的水溶液中，利用直流或交流来进行。

另外，在电化学粗糙化处理之后，优选进行以下化学蚀刻处理。在电化学粗糙化处理之后的铝板的表面存在污垢或金属间化合物。在电化学粗糙化处理之后进行的化学蚀刻处理中，尤其是为了有效地去除污垢，优选首先使用碱溶液来进行化学蚀刻处理(碱蚀刻处理)。使用了碱溶液的化学蚀刻处理的各条件中，处理温度优选为20～80℃，并且处理时间优选为1～60秒。另外，优选碱溶液中含有铝离子。

另外，在电化学粗糙化处理之后进行使用碱溶液的化学蚀刻处理之后，为了除去因该化学蚀刻处理而产生的生成物，优选使用低温酸性溶液进行化学蚀刻处理(去污处理)。

另外，即使在电化学粗糙化处理之后不进行碱蚀刻处理的情况下，也为了有效地除去污垢，优选进行去污处理。

上述化学蚀刻处理均能够通过浸渍法、淋浴法、涂布法等进行，没有特别限定。

<阳极氧化处理工序>

阳极氧化处理工序为如下工序，即，通过对实施了上述粗糙化处理的铝板实施阳极氧化处理，由此在铝板表面形成具有沿深度方向(厚度方向)延伸的微孔的铝的氧化被膜。通过该阳极氧化处理，在铝板的表面形成具有微孔的铝的阳极氧化被膜。

阳极氧化处理能够通过该领域中以往实施的方法来进行，以能够最终形成上述微孔的方式适宜设定制造条件。具体地，阳极氧化处理工序中形成的微孔的平均直径(平均开口径)通常为4～14nm左右，优选为5～10nm。若为上述范围内，则易于形成具有规定的形状的微孔，所得到的平版印刷版原版和平版印刷版的性能也更优异。

另外，微孔的深度通常为10nm以上且小于100nm左右，优选为20～60nm。若为上述范围内，则易于形成具有规定的形状的微孔，所得到的平版印刷版原版和平版印刷版的性能也更优异。

微孔的孔密度没有特别限定，但孔密度优选为50～4000个/μm²，更优选为100～3000个/μm²。若为上述范围内，则所得到的平版印刷版的耐印性和放置处置性(放置払い性)、以及平版印刷版原版的机上显影性优异。

阳极氧化处理工序中，可以主要使用硫酸、磷酸、乙二酸等水溶液作为电解浴。也可以根据情况使用铬酸、氨基磺酸、苯磺酸等或将它们的二种以上组合而得的水溶液或非水溶液。若在电解浴中对铝板流通直流或交流，则能够在铝板表面形成阳极氧化被膜。此外，可以在电解浴中包含铝离子。铝离子的含量没有特别限定，但优选为1～10g/L。

阳极氧化处理的条件根据所使用的电解液来适宜设定，但一般而言，电解液的浓度为1～80质量％(优选5～20质量％)、液温5～70℃(优选10～60℃)、电流密度0.5～60A/dm²(优选5～50A/dm²)、电压1～100V(优选5～50V)、电解时间1～100秒(优选5～60秒)的范围是适当的。

这些阳极氧化处理中，特别优选英国专利第1412768号说明书中记载的、在硫酸中以高电流密度进行阳极氧化的方法。

阳极氧化处理也可以进行多次。可以对各阳极氧化处理中使用的电解液的种类、浓度、液温、电流密度、电压、电解时间等条件的1个以上进行变更。在阳极氧化处理的次数为2次的情况下，也有时将最初的阳极氧化处理称为第1阳极氧化处理，将第2次的阳极氧化处理称为第2阳极氧化处理。通过进行第1阳极氧化处理和第2阳极氧化处理，可以制作出具有不同的形状的阳极氧化被膜，能够提供印刷性能优异的平版印刷版原版。

另外，也可以紧接着阳极氧化处理之后进行下述的扩孔处理、并在其后再次进行阳极氧化处理。此时，成为进行第1阳极氧化处理、扩孔处理、第2阳极氧化处理的情况。

通过阳极氧化处理形成的微孔的形状通常是微孔的直径在深度方向(厚度方向)上几乎不发生变化的近似直管状(近似圆柱状)，但也可以为直径在深度方向(厚度方向)上连续变小的圆锥状。另外，也可以为直径在深度方向(厚度方向)上不连续地变小的形状。

作为直径在深度方向(厚度方向)上不连续地变小的形状的微孔，具体地，可举出由从阳极氧化被膜表面起沿深度方向延伸的大径孔部、和与大径孔部的底部连通且从连通位置起沿深度方向延伸的小径孔部构成的微孔。为了形成此种形状的微孔，可以利用进行上述的第1阳极氧化处理、扩孔处理、第2阳极氧化处理的方法。

具有大径孔部和小径孔部的上述微孔中，大径孔部在阳极氧化被膜表面中的平均直径为10～100nm，优选为15～60nm。

大径孔部是从阳极氧化被膜表面向深度方向(厚度方向)延伸10～1000nm的孔部。上述深度优选为10～200nm。

大径孔部的底部位于从阳极氧化被膜表面起在深度方向(厚度方向)上为10～1000nm的位置。

大径孔部的形状没有特别限制，例如可举出，近似直管状(近似圆柱状)、和直径在深度方向(厚度方向)上连续地变小的圆锥状，优选为近似直管状。

小径孔部是与大径孔部的底部连通、从连通位置起进一步沿深度方向(厚度方向)延伸20～2000nm的孔部。上述深度优选为300～1500nm。

小径孔部在连通位置处的平均直径优选为13nm以下，更优选为11nm以下。下限没有特别限制，但通常为8nm以上。

小径孔部的形状没有特别限制，例如可举出，近似直管状(近似圆柱状)、和直径在深度方向(厚度方向)上连续地变小的圆锥状，优选为近似直管状。

从将本发明所涉及的与下弯宽度Y相当的区域中的、阳极氧化被膜的表面上存在的裂纹的面积率调整为30％以下、和/或将裂纹的平均宽度调整为20μm以下的观点出发，作为具有大径孔部和小径孔部的微孔，优选由从阳极氧化被膜表面延伸至深度为10～1000nm的位置为止的大径孔部、和与大径孔部的底部连通且从连通位置延伸至深度为20～2000nm的位置为止的小径孔部构成，且小径孔部在连通位置处的平均直径为13nm以下的微孔。

<扩孔处理工序>

扩孔处理工序是使通过上述阳极氧化处理工序形成的阳极氧化被膜上存在的微孔的直径(孔径)扩大的处理(孔径扩大处理)。通过该扩孔处理，微孔的直径被扩大，形成具有更大的平均直径的微孔的阳极氧化被膜。

扩孔处理通过使利用上述阳极氧化处理工序得到的铝板与酸水溶液或碱水溶液接触来进行。进行接触的方法没有特别限制，例如可举出浸渍法、喷雾法。其中，优选为浸渍法。

在扩孔处理工序中使用碱水溶液的情况下，优选使用选自氢氧化钠、氢氧化钾和氢氧化锂中的至少一种的碱水溶液。碱水溶液的浓度优选为0.1～5质量％。此外，将碱水溶液的pH调整为11～13后，在10～70℃(优选20～50℃)的条件下使铝板与碱水溶液接触1～300秒(优选1～50秒)的做法是适当的。此时，碱处理液中可以包含碳酸盐、硼酸盐、磷酸盐等多元弱酸的金属盐。

在扩孔处理工序中使用酸水溶液的情况下，优选使用硫酸、磷酸、硝酸、盐酸等无机酸或它们的混合物的水溶液。酸水溶液的浓度优选为1～80质量％，更优选为5～50质量％。此外，在酸水溶液的液温5～70℃(优选10～60℃)的条件下使铝板与酸水溶液接触1～300秒(优选1～150秒)的做法是适当的。此外，碱水溶液或酸水溶液中可以包含铝离子。铝离子的含量没有特别限定，但优选为1～10g/L。

<端部扩孔处理工序>

扩孔处理工序也优选仅对支承体上的一部分的区域(端部)实施。通过如上所述地不在支承体的整个面而是在一部分的区域实施扩孔处理，由此可以防止耐伤痕性的下降。

作为仅在一部分的区域中实施扩孔处理的方法，可以利用模涂法、浸涂法、气刀涂布法、帘涂法、辊涂法、线棒涂布法、凹版涂布法、滑涂法、喷墨涂布法、涂布器涂布法、喷雾法等公知的方法，但从需要在支承体上的一部分涂布酸水溶液或碱水溶液的观点出发，优选为喷墨涂布法或涂布器涂布法。另外，进行涂布的区域优选位于裁切后的平版印刷原版的相对的2边。

酸水溶液或碱水溶液可以从支承体的端部进行涂布，也可以涂布于支承体的端部以外的位置，也可以将这些进行涂布的位置组合。另外，不论是从支承体的端部进行涂布的情况、还是涂布于支承体的端部以外的位置的情况，均优选以具有一定宽度的带状进行涂布。优选的涂布宽度为1～50mm。优选在涂布宽度的涂布区域上进行裁切，且在自裁切后的端部1cm以内存在涂布区域。关于裁切，可以对涂布区域上的1处进行裁切，也可以在同一涂布区域上的2处进行裁切。

<亲水化处理工序>

铝支承体的制造方法可以在上述扩孔处理工序之后具有实施亲水化处理的亲水化处理工序。作为亲水化处理，可以使用日本特开2005-254638号公报的第0109～0114段中公开的公知的方法。

优选通过在硅酸钠、硅酸钾等碱金属硅酸盐的水溶液中进行浸渍的方法、涂布亲水性乙烯基聚合物或亲水性化合物来形成亲水性的底涂层的方法等，进行亲水化处理。

基于硅酸钠、硅酸钾等碱金属硅酸盐的水溶液的亲水化处理，可以按照美国专利第2714066号说明书和美国专利第3181461号说明书中记载的方法和顺序来进行。

铝支承体可以根据需要在与图像记录层相反一侧的面上具有包含日本特开平5-45885号公报中记载的有机高分子化合物、或日本特开平6-35174号公报中记载的硅的烷氧基化合物等的背面涂层。

〔图像记录层〕

对于构成机上显影型平版印刷版原版的图像记录层进行记载。

<聚合物粒子>

图像记录层优选含有聚合物粒子。聚合物粒子有助于机上显影性的提高。聚合物粒子优选为在被施加热能够将图像记录层转变为疏水性的聚合物粒子。聚合物粒子优选为选自疏水性热塑性聚合物粒子、热反应性聚合物粒子、具有聚合性基团的聚合物粒子、内包有疏水性化合物的微胶囊和微粒凝胶(交联聚合物粒子)中的至少1种。

作为疏水性热塑性聚合物粒子，可合适地举出1992年1月的Research DisclosureNo.33303、日本特开平9-123387号公报、日本特开平9-131850号公报、日本特开平9-171249号公报、日本特开平9-171250号公报和欧州专利第931647号说明书等中记载的疏水性热塑性聚合物粒子。

作为构成疏水性热塑性聚合物粒子的聚合物的具体例，可举出乙烯、苯乙烯、氯乙烯、丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、偏二氯乙烯、丙烯腈、乙烯基咔唑、具有聚亚烷基结构的丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯等单体的均聚物或共聚物或者它们的混合物。可优选举出包含聚苯乙烯、苯乙烯和丙烯腈的共聚物、聚甲基丙烯酸甲酯。疏水性热塑性聚合物粒子的平均粒径优选为0.01～2.0μm。

作为热反应性聚合物粒子，可举出具有热反应性基团的聚合物粒子。具有热反应性基团的聚合物粒子通过基于热反应的交联和此时的官能团变化形成疏水化区域。

作为具有热反应性基团的聚合物粒子中的热反应性基团，若可形成化学键，则可以为进行任意反应的官能团，优选为聚合性基团。作为其例，可合适地举出：进行自由基聚合反应的烯属不饱和基团(例如，丙烯酰基、甲丙烯酰基、乙烯基、烯丙基等)、阳离子聚合性基团(例如，乙烯基、乙烯基氧基、环氧基、氧杂环丁烷基等)、进行加成反应的异氰酸基或其封端体、环氧基、乙烯基氧基和具有作为它们的反应对象的活性氢原子的官能团(例如，氨基、羟基、羧基等)、进行缩合反应的羧基和作为反应对象的羟基或氨基、进行开环加成反应的酸酐和作为反应对象的氨基或羟基等。

作为微胶囊，例如可举出，如日本特开2001-277740号公报和日本特开2001-277742号公报中记载的、将图像记录层的构成成分的全部或一部分内包于微胶囊而成的微胶囊。也可以在微胶囊外含有图像记录层的构成成分。作为含有微胶囊的图像记录层，优选的方式是：在微胶囊中内包疏水性的构成成分、并在微胶囊外含有亲水性的构成成分。

微粒凝胶(交联聚合物粒子)可以在其内部和表面的至少一方含有图像记录层的构成成分的一部分。从图像形成灵敏度、耐印性的观点出发，特别优选通过在其表面具有自由基聚合性基团来得到反应性微粒凝胶的方式。

为了将图像记录层的构成成分微胶囊化或微粒凝胶化，可以使用公知的方法。

微胶囊、微粒凝胶的平均粒径优选为0.01～3.0μm，更优选0.05～2.0μm，特别优选0.10～1.0μm。通过在该范围内可得到良好的分辨率和经时稳定性。

作为聚合物粒子，从有助于机上显影性的观点出发，优选包含来源于苯乙烯化合物的单体单元、和/或来源于(甲基)丙烯腈化合物的单体单元的聚合物的粒子。另外，优选进一步包含来源于聚(乙二醇)烷基醚甲基丙烯酸酯化合物的单体单元的聚合物的粒子。

聚合物粒子可以单独使用1种，也可以并用2种以上。

聚合物粒子的含量在图像记录层的全部固体成分中优选为5～90质量％，更优选为5～80质量％，进一步优选为10～75质量％。

图像记录层优选含有聚合引发剂、红外线吸收剂、聚合性化合物。

<聚合引发剂>

聚合引发剂为通过光、热或该两者的能量而生成自由基、阳离子等聚合引发中心的化合物，可以从公知的热聚合引发剂、具有键离解能小的键的化合物、光聚合引发剂等中适宜选择使用。

作为聚合引发剂，优选为红外线感光性聚合引发剂。另外，作为聚合引发剂，优选为自由基聚合引发剂。自由基聚合引发剂可以并用2种以上。

自由基聚合引发剂可以为受电子性聚合引发剂和供电子性聚合引发剂中的任意种。

(受电子性聚合引发剂)

作为受电子性聚合引发剂，例如可举出，有机卤素化物、羰基化合物、偶氮化合物、有机过氧化物、茂化合物、叠氮化物化合物、六芳基双咪唑化合物、双磺基化合物、肟酯化合物和鎓盐化合物。

作为有机卤素化物，例如优选为日本特开2008-195018号公报的第0022～0023段中记载的化合物。

作为羰基化合物，例如优选为日本特开2008-195018号公报的第0024段中记载的化合物。

作为偶氮化合物，例如可举出日本特开平8-108621号公报中记载的偶氮化合物等。

作为有机过氧化物，例如优选为日本特开2008-195018号公报的第0025段中记载的化合物。

作为茂化合物，例如，优选为日本特开2008-195018号公报的第0026段中记载的化合物。

作为叠氮化物化合物，例如可举出2，6-双(4-叠氮亚苄基)-4-甲基环己酮等化合物。

作为六芳基双咪唑化合物，例如优选为日本特开2008-195018号公报的第0027段中记载的化合物。

作为双磺基化合物，例如可举出日本特开昭61-166544号、日本特开2002-328465号的各公报中记载的化合物。

作为肟酯化合物，例如优选为日本特开2008-195018号公报的第0028～0030段中记载的化合物。

受电子性聚合引发剂中，作为更优选的物质，可举出碘鎓盐、锍盐和吖嗪鎓盐(アヅニウム)等鎓盐。特别优选碘鎓盐和锍盐。碘鎓盐和锍盐的具体例如以下所示，但本发明并不限定于它们。

作为碘鎓盐的例子，优选为二苯基碘鎓盐，特别优选为具有供电子性基团作为取代基的、例如由烷基或烷氧基取代后的二苯基碘鎓盐，另外优选为非对称的二苯基碘鎓盐。作为具体例，可举出二苯基碘鎓＝六氟磷酸盐、4-甲氧基苯基-4-(2-甲基丙基)苯基碘鎓＝六氟磷酸盐、4-(2-甲基丙基)苯基-对甲苯基碘鎓＝六氟磷酸盐、4-己基氧基苯基-2，4，6-三甲氧基苯基碘鎓＝六氟磷酸盐、4-己基氧基苯基-2，4-二乙氧基苯基碘鎓＝四氟硼酸盐、4-辛基氧基苯基-2，4，6-三甲氧基苯基碘鎓＝1-全氟丁磺酸盐、4-辛基氧基苯基-2，4，6-三甲氧基苯基碘鎓＝六氟磷酸盐、双(4-叔丁基苯基)碘鎓＝六氟磷酸盐。

作为锍盐的例子，优选为三芳基锍盐，特别地，优选为具有吸电子性基团作为取代基的、例如芳香环上的基团的至少一部分由卤素原子取代了的三芳基锍盐，进一步优选为芳香环上的卤素原子的总取代数为4以上的三芳基锍盐。作为具体例，可举出三苯基锍＝六氟磷酸盐、三苯基锍＝苯甲酰基甲酸盐、双(4-氯苯基)苯基锍＝苯甲酰基甲酸盐、双(4-氯苯基)-4-甲基苯基锍＝四氟硼酸盐、三(4-氯苯基)锍＝3，5-双(甲氧基羰基)苯磺酸盐、三(4-氯苯基)锍＝六氟磷酸盐、三(2，4-二氯苯基)锍＝六氟磷酸盐。

受电子性聚合引发剂可以单独使用1种，也可以并用2种以上。

在图像记录层的全部固体成分中，受电子性聚合引发剂的含量优选为0.1～50质量％，更优选为0.5～30质量％，进一步优选为0.8～20质量％。

(供电子性聚合引发剂)

供电子性聚合引发剂有助于由平版印刷版原版制作的平版印刷版的耐印性提高。作为供电子性聚合引发剂，例如可举出以下的5种。(i)烷基或芳基酸根型络合物：认为碳-杂键氧化性断裂，并生成活性自由基。具体地可举出硼酸盐化合物等。(ii)氨基乙酸化合物：认为因氧化而与氮相邻的碳上的C-X键断裂而生成活性自由基。作为X，优选为氢原子、羧基、三甲基甲硅烷基或苄基。具体地，可举出N-苯基甘氨酸类(可以在苯基上具有取代基。)、N-苯基亚氨基二乙酸(可以在苯基上具有取代基。)等。(iii)含硫化合物：将上述氨基乙酸化合物的氮原子置换为硫原子而成的化合物可通过相同的作用而生成活性自由基。具体地，可举出苯硫基乙酸(可以在苯基上具有取代基。)等。(iv)含锡化合物：将上述氨基乙酸化合物的氮原子置换为锡原子而成的化合物可通过相同的作用而生成活性自由基。(v)亚磺酸盐类：可通过氧化而生成活性自由基。具体地，可举出芳基亚磺酸钠等。

供电子性聚合引发剂中，优选为硼酸盐化合物。作为硼酸盐化合物，优选为四芳基硼酸盐化合物或单烷基三芳基硼酸盐化合物，从化合物稳定性的观点出发，更优选为四芳基硼酸盐化合物。

作为硼酸盐化合物所具有的抗衡阳离子，优选为碱金属离子或四烷基铵离子，更优选为钠离子、钾离子或四丁基铵离子。

作为硼酸盐化合物的具体，可举出以下所示的化合物。在此，X_c ⁺表示一价的阳离子，优选为碱金属离子或四烷基铵离子，更优选为碱金属离子或四丁基铵离子。另外，Bu表示正丁基。

[化1]

[化2]

[化3]

[化4]

供电子性聚合引发剂可以单独使用1种，也可以并用2种以上。

在图像记录层的全部固体成分中，供电子性聚合引发剂的含量优选为0.01～30质量％，更优选为0.05～25质量％，进一步优选为0.1～20质量％。

<红外线吸收剂>

红外线吸收剂具有经红外线激发而向聚合引发剂等进行电子迁移和/或能量迁移的功能。另外，具有将吸收了的红外线转变为热的功能。红外线吸收剂优选在750～1400nm的波长范围具有极大吸收。作为红外线吸收剂，可举出染料或颜料，优选使用染料。

作为染料，能够利用市售的染料、和“染料便览”(有机合成化学协会编集，昭和45年刊)等文献中记载的公知的染料。具体地可举出偶氮染料、金属络合物偶氮染料、吡唑啉酮偶氮染料、萘醌染料、蒽醌染料、酞菁染料、碳鎓染料、醌亚胺染料、次甲基染料、花青染料、方酸色素、吡喃鎓盐、金属硫醇盐络合物等染料。

染料中，优选花青色素、方酸色素、吡喃鎓盐，更优选花青色素，特别优选假吲哚花青色素。

作为花青色素，可举出下述式(a)所示的花青色素。

[化5]

式(a)

式(a)中，X¹表示氢原子、卤素原子、-N(R⁹)(R¹⁰)、-X²-L¹或以下所示的基团。在此，R⁹和R¹⁰可以相同也可以不同，可以各自独立地表示碳数6～10的芳香族烃基、碳数1～8的烷基或氢原子，或者也可以R⁹与R¹⁰相互键合而形成环。碳数6～10的芳香族烃基或碳数1～8的烷基可以具有取代基。优选R⁹与R¹⁰同时为苯基。X²表示氧原子或硫原子，L¹表示碳数1～12的烃基或包含杂原子的碳数1～12的烃基。在此，杂原子表示N、S、O、卤素原子、Se。以下所示的基团中，Xa^-与后述的Za^-同义，Ra表示氢原子、或者选自烷基、芳基、取代或未取代的氨基和卤素原子中的取代基。

[化6]

式(a)中，R¹和R²各自独立地表示碳数1～12的烃基。从图像记录层涂布液的保存稳定性的观点出发，R¹和R²优选为碳数2以上的烃基，进一步地，特别优选R¹和R²相互键合而形成5元环或6元环。

式(a)中，Ar¹、Ar²可以相同也可以不同，各自表示芳香族烃基。芳香族烃基可以具有取代基。作为优选的芳香族烃基，可举出苯环基和萘环基。另外，作为优选的取代基，可举出碳数12以下的烃基、卤素原子、碳数12以下的烷氧基。Y¹、Y²可以相同也可以不同，各自表示硫原子或碳数12以下的二烷基亚甲基。R³、R⁴可以相同也可以不同，各自表示碳数20以下的烃基。碳数20以下的烃基可以具有取代基。作为优选的取代基，可举出碳数12以下的烷氧基、羧基、磺基。R⁵、R⁶、R⁷和R⁸可以相同也可以不同，各自表示氢原子或碳数12以下的烃基。从原料的获得容易性角度考虑，优选为氢原子。另外，Za^-表示抗衡阴离子。但是，在式(a)所示的花青色素在其结构内具有阴离子性的取代基、不需要电荷的中和的情况下，无需Za^-。从图像记录层涂布液的保存稳定性的观点出发，Za^-优选为卤素化物离子、高氯酸根离子、四氟硼酸盐离子、六氟磷酸盐离子、或磺酸根离子，更优选为高氯酸根离子、六氟磷酸盐离子、或芳基磺酸根离子。

式(a)所示的花青色素中，更优选X¹为二苯基氨基。另外，进一步优选X¹为二苯基氨基、且Y¹和Y²同时为二甲基亚甲基。

作为花青色素的具体例，可举出日本特开2001-133969号公报的第0017～0019段中记载的化合物、日本特开2002-23360号公报的第0016～0021段、日本特开2002-40638号公报的第0012～0037段中记载的化合物，优选举出日本特开2002-278057号公报的第0034～0041段、日本特开2008-195018公报的第0080～0086段中记载的化合物，特别优选举出日本特开2007-90850号公报的第0035～0043段中记载的化合物。

另外，也可以优选地使用日本特开平5-5005号公报的第0008～0009段、日本特开2001-222101号公报的第0022～0025段中记载的化合物。

作为颜料，优选为日本特开2008-195018号公报的第0072～0076段中记载的化合物。

红外线吸收剂可以单独使用1种，也可以并用2种以上。

在图像记录层的全部固体成分中，红外线吸收剂的含量优选为0.05～30质量％，更优选为0.1～20质量％，进一步优选为0.2～10质量％。

<聚合性化合物>

聚合性化合物例如可以为自由基聚合性化合物，也可以为阳离子聚合性化合物，但优选为具有至少1个烯属不饱和键的加成聚合性化合物(烯属不饱和化合物)。作为烯属不饱和化合物，优选为具有至少1个末端烯属不饱和键的化合物，更优选为具有2个以上的末端烯属不饱和键的化合物。聚合性化合物例如可以具有单体、预聚物即2聚物、3聚物或低聚物、或者它们的混合物等化学形态。

作为单体的例，可举出不饱和羧酸(例如，丙烯酸、甲基丙烯酸、衣康酸、巴豆酸、异巴豆酸、马来酸)或其酯类、酰胺类。优选为不饱和羧酸与多元醇化合物的酯类、不饱和羧酸与多元胺化合物的酰胺类。另外，还适合使用具有羟基、氨基、巯基等亲核性取代基的不饱和羧酸酯类或酰胺类与单官能或多官能异氰酸酯类或环氧类的加成反应物、以及与单官能或多官能羧酸的脱水缩合反应物等。另外，还适合为具有异氰酸酯基、环氧基等亲电子性取代基的不饱和羧酸酯类或酰胺类与单官能或多官能醇类、胺类、硫醇类的加成反应物，更适合为具有卤素原子、甲苯磺酰氧基等离去性取代基的不饱和羧酸酯类或酰胺类与单官能或多官能醇类、胺类、硫醇类的取代反应物。另外，作为另一例，还可以使用以不饱和膦酸、苯乙烯、乙烯基醚等置换上述不饱和羧酸而得的化合物组。这些化合物记载于日本特表2006-508380号公报、日本特开2002-287344号公报、日本特开2008-256850号公报、日本特开2001-342222号公报、日本特开平9-179296号公报、日本特开平9-179297号公报、日本特开平9-179298号公报、日本特开2004-294935号公报、日本特开2006-243493号公报、日本特开2002-275129号公报、日本特开2003-64130号公报、日本特开2003-280187号公报、日本特开平10-333321号公报等中。

作为多元醇化合物和不饱和羧酸的酯单体的具体例，作为丙烯酸酯，可举出乙二醇二丙烯酸酯、1，3-丁二醇二丙烯酸酯、四亚甲基二醇二丙烯酸酯、丙二醇二丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、己二醇二丙烯酸酯、四乙二醇二丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、山梨糖醇三丙烯酸酯、异氰脲酸环氧乙烷(EO)改性三丙烯酸酯、聚酯丙烯酸酯低聚物等。作为甲基丙烯酸酯，可举出四亚甲基二醇二甲基丙烯酸酯、新戊二醇二甲基丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯、乙二醇二甲基丙烯酸酯、季戊四醇三甲基丙烯酸酯、双[对(3-甲基丙烯酰氧基-2-羟基丙氧基)苯基]二甲基甲烷、双[对(甲基丙烯酰氧基乙氧基)苯基]二甲基甲烷等。并且，作为多元胺化合物和不饱和羧酸的酰胺单体的具体例，有亚甲基双丙烯酰胺、亚甲基双甲基丙烯酰胺、1，6-六亚甲基双丙稀酰胺、1，6-六亚甲基双甲基丙烯酰胺、二亚乙三胺三丙烯酰胺、亚二甲苯基双丙烯酰胺、亚二甲苯基双甲基丙烯酰胺等。

另外，利用异氰酸酯与羟基的加成反应而制造的氨基甲酸酯系加成聚合性化合物也是合适的，作为其具体例，例如可举出日本特公昭48-041708号公报中所记载的、使在1分子中具有2个以上的异氰酸酯基的多异氰酸酯化合物与下述式(M)所示的含有羟基的乙烯基单体加成而得的在1分子中含有2个以上的聚合性乙烯基的乙烯基氨基甲酸酯化合物等。

CH₂＝C(R^M4)COOCH₂CH(R^M5)OH (M)

式(M)中，R^M4和R^M5各自独立地表示氢原子或甲基。

另外，日本特开昭51-37193号公报、日本特公平2-32293号公报、日本特公平2-16765号公报、日本特开2003-344997号公报、日本特开2006-65210号公报中记载的氨基甲酸酯丙烯酸酯类、日本特公昭58-49860号公报、日本特公昭56-17654号公报、日本特公昭62-39417号公报、日本特公昭62-39418号公报、日本特开2000-250211号公报、日本特开2007-94138号公报中记载的具有环氧乙烷系骨架的氨基甲酸酯化合物类、美国专利第7153632号说明书、日本特表平8-505958号公报、日本特开2007-293221号公报、日本特开2007-293223号公报中记载的具有亲水基团的氨基甲酸酯化合物类也是合适的。

对于聚合性化合物的结构、单独使用还是并用、添加量等使用方法上的细节，可以考虑着平版印刷版原版的最终用途等而任意地设定。

在图像记录层的全部固体成分中，聚合性化合物的含量优选为1～50质量％，更优选为3～30质量％，进一步优选为5～20质量％。

图像记录层可以含有粘结剂聚合物、链转移剂、低分子亲水性化合物、感脂化剂、其他成分。

<粘结剂聚合物>

作为粘结剂聚合物，优选为具有被膜性的聚合物，可优选举出(甲基)丙烯酸类树脂、聚乙烯醇缩醛树脂、聚氨酯树脂等。

对于机上显影型平版印刷版原版的图像记录层中使用的粘结剂聚合物(以下也称为机上显影用粘结剂聚合物)，详细地进行记载。

作为机上显影用粘结剂聚合物，优选为具有环氧烷链的粘结剂聚合物。具有环氧烷链的粘结剂聚合物可以在主链具有聚(环氧烷)部位，也可以在侧链具有聚(环氧烷)部位。另外，可以是在侧链具有聚(环氧烷)的接枝聚合物，也可以是由含有聚(环氧烷)的重复单元构成的嵌段与由不含有(环氧烷)的重复单元构成的嵌段的嵌段共聚物。

当在主链具有聚(环氧烷)部位时，优选聚氨酯树脂。作为在侧链具有聚(环氧烷)部位的情况下的主链的聚合物，可举出(甲基)丙烯酸类树脂、聚乙烯醇缩醛树脂、聚氨酯树脂、聚脲树脂、聚酰亚胺树脂、聚酰胺树脂、环氧树脂、聚苯乙烯树脂、线型酚醛型酚醛树脂、聚酯树脂、合成橡胶、天然橡胶，特别优选(甲基)丙烯酸类树脂。

作为环氧烷，优选碳数为2～6的环氧烷，特别优选环氧乙烷或环氧丙烷。

聚(环氧烷)部位中的环氧烷的重复数优选为2～120，更优选为2～70，进一步优选为2～50。

若环氧烷的重复数为120以下，则磨损所致的耐印性、墨液接受性所致的耐印性这两方面不会下降，从而优选。

关于聚(环氧烷)部位，作为粘结剂聚合物的侧链，优选以下述式(AO)所示的结构含有，作为(甲基)丙烯酸类树脂的侧链，更优选以下述式(AO)所示的结构含有。

[化7]

式(AO)中，y表示2～120，R₁表示氢原子或烷基，R₂表示氢原子或一价的有机基团。

作为一价的有机基团，优选为碳数1～6的烷基。具体地可举出，甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、仲丁基、异丁基、叔丁基、正戊基、异戊基、新戊基、正己基、异己基、1，1-二甲基丁基、2，2-二甲基丁基、环戊基和环己基。

式(AO)中，y优选为2～70，更优选为2～50。R₁优选为氢原子或甲基，特别优选为氢原子。R₂特别优选为氢原子或甲基。

为了提高图像部的被膜强度，粘结剂聚合物可以具有交联性。为了使聚合物具有交联性，将烯属不饱和键等交联性官能团导入至高分子的主链中或侧链中即可。交联性官能团可通过共聚进行导入，也可以通过聚合物反应进行导入。

作为在分子的主链中具有烯属不饱和键的聚合物的例子，可举出聚-1，4-丁二烯、聚-1，4-异戊二烯等。

作为在分子的侧链中具有烯属不饱和键的聚合物的例子，可举出为丙烯酸或甲基丙烯酸的酯或酰胺的聚合物、并且其中酯或酰胺的残基(-COOR或-CONHR的R)具有烯属不饱和键。

作为具有烯属不饱和键的残基(上述R)的例子，可举出-(CH₂)_nCR^1A＝CR^2AR^3A、-(CH₂O)_nCH₂CR^1A＝CR^2AR^3A、-(CH₂CH₂O)_nCH₂CR^1A＝CR^2AR^3A、-(CH₂)_nNH-CO-O-CH₂CR^1A＝CR^2AR^3A、-(CH₂)_n-O-CO-CR^1A＝CR^2AR^3A和-(CH₂CH₂O)₂-X^A(式中，R^A1～R^A3各自独立地表示氢原子、卤素原子、碳数1～20的烷基、芳基、烷氧基或芳基氧基，R^A1与R^A2或R^A3可以相互键合而形成环。n表示1～10的整数。X^A表示二环戊二烯基残基。)。

作为酯残基的具体例，可举出-CH₂CH＝CH₂、-CH₂CH₂O-CH₂CH＝CH₂、-CH₂C(CH₃)＝CH₂、-CH₂CH＝CH-C₆H₅、-CH₂CH₂OCOCH＝CH-C₆H₅、-CH₂CH₂-NHCOO-CH₂CH＝CH₂和-CH₂CH₂O-X(式中，X表示二环戊二烯基残基。)。

作为酰胺残基的具体例，可举出-CH₂CH＝CH₂、-CH₂CH₂-Y(式中，Y表示环己烯残基。)和-CH₂CH₂-OCO-CH＝CH₂。

具有交联性的粘结剂聚合物，例如对其交联性官能团加成自由基(聚合引发自由基或聚合性化合物的聚合过程的生长自由基)，在聚合物分子之间直接或经由聚合性化合物的聚合链进行加成聚合，从而在聚合物分子间形成交联并固化。或者，聚合物中的原子(例如与官能性交联基团相邻的碳原子上的氢原子)通过自由基而被拔除并生成聚合物自由基，该聚合物自由基相互键合，由此在聚合物分子间形成交联并固化。

从良好的灵敏度和良好的保存稳定性的观点出发，粘合剂聚合物中的交联性基团的含量(能够通过碘滴定进行自由基聚合的不饱和双键的含量)在每1g粘结剂聚合物中，优选为0.1～10.0mmol，更优选为1.0～7.0mmol，进一步优选为2.0～5.5mmol。

以下示出粘结剂聚合物的具体例1～11，但本发明并不限定于这些。下述例示化合物中，一并记载于各重复单元的数值(一并记载于主链的重复单元的数值)表示重复单元的摩尔百分率。一并记载于侧链的重复单元的数值表示重复部位的重复数。另外，Me表示甲基，Et表示乙基，Ph表示苯基。

[化8]

[化9]

关于粘结剂聚合物的分子量，以基于GPC法的聚苯乙烯换算值计，重均分子量(Mw)为2000以上，优选为5000以上，更优选为10000～300000。

可以根据需要并用日本特开2008-195018号公报中记载的聚丙烯酸、聚乙烯醇等亲水性聚合物。另外，还可以将亲油性聚合物和亲水性聚合物并用。

粘结剂聚合物可以单独使用1种，也可以并用2种以上。

在图像记录层的全部固体成分中，粘结剂聚合物的含量优选为1～90质量％，更优选为5～80质量％。

<链转移剂>

链转移剂有助于由平版印刷版原版制作的平版印刷版中的耐印性的提高。

作为链转移剂，优选硫醇化合物，从沸点(不易挥发)的观点出发，更优选碳数7以上的硫醇，进一步优选在芳香环上具有巯基的化合物(芳香族硫醇化合物)。硫醇化合物优选为单官能硫醇化合物。

作为链转移剂的具体例，可举出下述的化合物。

[化10]

[化11]

[化12]

[化13]

链转移剂可以单独使用1种，也可以并用2种以上。

在图像记录层的全部固体成分中，链转移剂的含量优选为0.01～50质量％，更优选为0.05～40质量％，进一步优选为0.1～30质量％。

<低分子亲水性化合物>

低分子亲水性化合物在不使由平版印刷版原版制作的平版印刷版的耐印性下降的情况下，有助于平版印刷版原版的机上显影性的提高。低分子亲水性化合物优选为分子量小于1000的化合物，更优选为分子量小于800的化合物，进一步优选为分子量小于500的化合物。

作为低分子亲水性化合物，例如作为水溶性有机化合物，可举出乙二醇、二乙二醇、三乙二醇、丙二醇、二丙二醇、三丙二醇等二醇类及其醚或酯衍生物类、甘油、季戊四醇、三(2-羟乙基)异氰脲酸酯等多元醇类、三乙醇胺、二乙醇胺、单乙醇胺等有机胺类及其盐、烷基磺酸、对甲苯磺酸、苯磺酸等有机磺酸类及其盐、烷基氨基磺酸等有机氨基磺酸类及其盐、烷基硫酸、烷基醚硫酸等有机硫酸类及其盐、苯基膦酸等有机膦酸类及其盐、酒石酸、草酸、柠檬酸、苹果酸、乳酸、葡萄糖酸、氨基酸类等有机羧酸类及其盐、甜菜碱类等。

低分子亲水性化合物优选为选自多元醇类、有机硫酸盐类、有机磺酸盐类和甜菜碱类中的至少1种。

作为有机磺酸盐类的具体例，可举出正丁基磺酸钠、正己基磺酸钠、2-乙基己基磺酸钠、环己基磺酸钠、正辛基磺酸钠等烷基磺酸盐；5，8，11-三氧杂十五烷-1-磺酸钠、5，8，11-三氧杂十七烷-1-磺酸钠、13-乙基-5，8，11-三氧杂十七烷-1-磺酸钠、5，8，11，14-四氧杂二十四烷-1-磺酸钠等包含氧化乙烯链的烷基磺酸盐；苯磺酸钠、对甲苯磺酸钠、对羟基苯磺酸钠、对苯乙烯磺酸钠、间苯二甲酸二甲酯-5-磺酸钠、1-萘磺酸钠、4-羟基萘磺酸钠、1，5-萘二磺酸二钠、1，3，6-萘三磺酸三钠等芳基磺酸盐；日本特开2007-276454号公报的第0026～0031段及日本特开2009-154525号公报的第0020～0047段中记载的化合物等。盐可以为钾盐、锂盐。

作为有机硫酸盐类，可举出聚氧化乙烯的烷基、烯基、炔基、芳基或杂环单醚的硫酸盐。氧化乙烯单元数优选为1～4，盐优选为钠盐、钾盐或锂盐。作为具体例，可举出日本特开2007-276454号公报的第0034～0038段中记载的化合物。

作为甜菜碱类，优选氮原子上的烃取代基的碳数为1～5的化合物，作为具体例，可举出三甲基乙酸铵、二甲基丙基乙酸铵、3-羟基-4-三甲基丁酸铵、4-(1-吡啶基)丁酸盐、1-羟基乙基-1-咪唑乙酸盐、三甲基甲磺酸铵、二甲基丙基甲基磺酸铵、3-三甲基铵基-1-丙磺酸盐、3-(1-吡啶基)-1-丙磺酸盐等。

低分子亲水性化合物由于其疏水性部分的结构较小且几乎无表面活性作用，因此润版水不会向图像记录层曝光部(图像部)渗透而使图像部的疏水性或被膜强度下降，从而能够良好地维持图像记录层的墨液接受性及耐印性。

低分子亲水性化合物可以单独使用1种，也可以并用2种以上。

在图像记录层的全部固体成分中，低分子亲水性化合物的含量优选为0.5～20质量％，更优选为1～15质量％，进一步优选为2～10质量％。

<感脂化剂>

感脂化剂有助于由平版印刷版原版制作的平版印刷版中的墨液的着墨性(以下也简称为“着墨性”)的提高。作为感脂化剂，可举出鏻化合物、含氮低分子化合物、含铵基聚合物等。特别地，在平版印刷版原版在保护层中含有无机层状化合物的情况下，这些化合物作为无机层状化合物的表面被覆剂发挥作用，具有抑制无机层状化合物所致的印刷途中的着墨性下降的功能。

作为感脂化剂，优选并用鏻化合物、含氮低分子化合物和含铵基聚合物，更优选为并用鏻化合物、季铵盐类和含铵基聚合物。

作为鏻化合物，可举出日本特开2006-297907号公报及日本特开2007-50660号公报中记载的鏻化合物。作为具体例，可举出四丁基碘化鏻、丁基三苯基溴化鏻、四苯基溴化鏻、1，4-双(三苯基鏻)丁烷＝二(六氟磷酸盐)、1，7-双(三苯基鏻)庚烷＝硫酸盐、1，9-双(三苯基鏻)壬烷＝萘-2，7-二磺酸盐等。

作为含氮低分子化合物，可举出胺盐类、季铵盐类。另外，还可举出咪唑啉鎓盐类、苯并咪唑啉鎓盐类、吡啶鎓盐类、喹啉鎓盐类。其中，优选季铵盐类及吡啶鎓盐类。作为具体例，可举出四甲基铵＝六氟磷酸盐、四丁基铵＝六氟磷酸盐、十二烷基三甲基铵＝对甲苯磺酸、苄基三乙基铵＝六氟磷酸盐、苄基二甲基辛基铵＝六氟磷酸盐、苄基二甲基十二烷基铵＝六氟磷酸盐、日本特开2008-284858号公报的第0021～0037段、日本特开2009-090645号公报的第0030～0057段中所记载的化合物等。

作为含铵基聚合物，只要在其结构中具有铵基即可，优选含有5～80摩尔％的在侧链具有铵基的(甲基)丙烯酸酯作为共聚成分的聚合物。作为具体例，可举出日本特开2009-208458号公报的第0089～0105段中记载的聚合物。

关于含铵基聚合物，通过日本特开2009-208458号公报中记载的测定方法求出的比浓粘度(单位：ml/g)的值优选为5～120的范围，更优选为10～110的范围，特别优选为15～100的范围。当将上述比浓粘度换算为重均分子量(Mw)时，优选为10000～1500000，更优选为17000～140000，特别优选为20000～130000。

以下示出含铵基聚合物的具体例。

(1)甲基丙烯酸2-(三甲基铵基)乙基酯＝对甲苯磺酸盐/甲基丙烯酸3，6-二氧杂庚基酯共聚物(摩尔比10/90，Mw4.5万)

(2)甲基丙烯酸2-(三甲基铵基)乙基酯＝六氟磷酸盐/甲基丙烯酸3，6-二氧杂庚基酯共聚物(摩尔比20/80，Mw6.0万)

(3)甲基丙烯酸2-(乙基二甲基铵基)乙基酯＝对甲苯磺酸盐/甲基丙烯酸己基酯共聚物(摩尔比30/70，Mw4.5万)

(4)甲基丙烯酸2-(三甲基铵基)乙基酯＝六氟磷酸盐/甲基丙烯酸2-乙基己基酯共聚物(摩尔比20/80，Mw6.0万)

(5)甲基丙烯酸2-(三甲基铵基)乙基酯＝甲基硫酸盐/甲基丙烯酸己基酯共聚物(摩尔比40/60，Mw7.0万)

(6)甲基丙烯酸2-(丁基二甲基铵基)乙基酯＝六氟磷酸盐/甲基丙烯酸3，6-二氧杂庚基酯共聚物(摩尔比25/75，Mw6.5万)

(7)丙烯酸2-(丁基二甲基铵基)乙基酯＝六氟磷酸盐/甲基丙烯酸3，6-二氧杂庚基酯共聚物(摩尔比20/80，Mw6.5万)、

(8)甲基丙烯酸2-(丁基二甲基铵基)乙基酯＝13-乙基-5，8，11-三氧杂-1-十七烷磺酸盐/甲基丙烯酸3，6-二氧杂庚基酯共聚物(摩尔比20/80，Mw7.5万)

(9)甲基丙烯酸2-(丁基二甲基铵基)乙基酯＝六氟磷酸盐/甲基丙烯酸3，6-二氧杂庚基酯/甲基丙烯酸2-羟基-3-甲基丙烯酰氧基丙基酯共聚物(摩尔比15/80/5，Mw6.5万)

在图像记录层的全部固体成分中，感脂化剂的含量优选为0.01～30质量％，更优选为0.1～15质量％，进一步优选为1～10质量％。

<其他成分>

图像记录层可以含表面活性剂、聚合抑制剂、高级脂肪酸衍生物、增塑剂、无机粒子、无机层状化合物等作为其他成分。具体地，可以使用日本特开2008-284817号公报的第0114～0159段中记载的各成分。

根据图像记录层的一个方式，图像记录层含有红外线吸收剂、聚合性化合物、聚合引发剂、以及粘结剂聚合物和聚合物粒子中的至少1种。图像记录层优选进一步含有链转移剂。

根据图像记录层的另一个方式，图像记录层含有红外线吸收剂、热熔融性粒子、和粘结剂聚合物。

<图像记录层的形成>

图像记录层例如可以如日本特开2008-195018号公报的第0142～0143段中所记载地，通过将必要的上述各成分分散或溶解于公知的溶剂中而制备涂布液，并利用棒涂器涂布等公知的方法在支承体上涂布涂布液，并进行干燥而形成。涂布、干燥后的图像记录层的涂布量(固体成分)根据用途而不同，但从得到良好的灵敏度和图像记录层的良好的被膜特性的观点出发，优选为0.3～3.0g/m²左右。

本发明所涉及的机上显影型平版印刷版原版可以在图像记录层与支承体之间具有底涂层(也有时称为中间层。)、并在图像记录层上具有保护层(也有时称为外涂层。)。

〔底涂层〕

底涂层在曝光部处强化支承体与图像记录层的密合，且在未曝光部处使图像记录层容易从支承体产生剥离，因此该底涂层有助于在不损害耐印性的情况下提高显影性。另外，在为红外线激光曝光的情况下，底涂层作为隔热层而发挥作用，由此还具有防止通过曝光产生的热扩散到支承体而使灵敏度下降的效果。

作为用于底涂层的化合物，可举出具有能够吸附于支承体表面的吸附性基团及亲水性基团的聚合物。为了提高与图像记录层的密合性，优选具有吸附性基团及亲水性基团、并进一步具有交联性基团的聚合物。底涂层中使用的化合物可以是低分子化合物也可以是聚合物。用于底涂层的化合物可以根据需要混合使用2种以上。

当用于底涂层的化合物为聚合物时，优选具有吸附性基团的单体、具有亲水性基团的单体及具有交联性基团的单体的共聚物。

作为能够吸附于支承体表面的吸附性基团，优选酚性羟基、羧基、-PO₃H₂、-OPO₃H₂、-CONHSO₂-、-SO₂NHSO₂-、-COCH₂COCH₃。作为亲水性基团，优选磺基或其盐、羧基的盐。作为交联性基团，优选为丙烯酸基、甲基丙烯酸基、丙烯酰胺基、甲基丙烯酰胺基、烯丙基。

聚合物可以具有交联性基团，该交联性基团通过聚合物的极性取代基、与具有与该极性取代基相反的电荷的取代基及具有烯属不饱和键的化合物的盐形成而被导入，还可以进一步共聚有上述以外的单体，优选进一步共聚有亲水性单体。

具体地，可适合地举出日本特开平10-282679号公报中记载的具有能够加成聚合的烯属双键反应基团的硅烷偶联剂、日本特开平2-304441号公报中记载的具有烯属双键反应基团的磷化合物。还可优选使用日本特开2005-238816号、日本特开2005-125749号、日本特开2006-239867号、日本特开2006-215263号的各公报中记载的具有交联性基团(优选为烯属不饱和键基)、与支承体表面相互作用的官能团及亲水性基团的低分子或高分子化合物。

作为更优选的化合物，可举出日本特开2005-125749号及日本特开2006-188038号公报中记载的具有能够吸附于支承体表面的吸附性基团、亲水性基团及交联性基团的高分子聚合物。

底涂层中使用的聚合物中的烯属不饱和键基的含量在每1g聚合物中优选为0.1～10.0mmol，更优选为0.2～5.5mmol。

底涂层中使用的聚合物的重均分子量(Mw)优选为5000以上，更优选为1万～30万。

底涂层中，除了上述底涂层用化合物以外，为了防止经时污染，还可以含有螯合剂、仲胺或叔胺、聚合抑制剂、具有氨基或具有聚合抑制能力的官能团和与支承体表面相互作用的基团的化合物(例如，1，4-二氮杂双环[2.2.2]辛烷环(DABCO)、2，3，5，6-四羟基对苯醌、氯醌、磺基邻苯二甲酸、羟乙基乙二胺三乙酸、二羟乙基乙二胺二乙酸、羟乙基亚氨基二乙酸等)等。

底涂层可通过公知的方法来涂布。底涂层的涂布量(固体成分)优选为0.1～100mg/m²，更优选为1～30mg/m²。

〔保护层〕

保护层除了具有通过阻氧而抑制图像形成阻碍反应的功能以外，还具有防止在图像记录层中产生伤痕及防止高照度激光曝光时的烧蚀的功能。

关于这种特性的保护层，例如记载于美国专利第3458311号说明书及日本特公昭55-49729号公报中。作为用于保护层的低氧透过性聚合物，可以适宜地选择水溶性聚合物、水不溶性聚合物中的任意种来使用，还可以根据需要混合使用2种以上。具体地，例如可举出聚乙烯醇、改性聚乙烯醇、聚乙烯基吡咯烷酮、水溶性纤维素衍生物、聚(甲基)丙烯腈等。

作为改性聚乙烯醇，优选使用具有羧基或磺基的酸改性聚乙烯醇。具体地，可举出日本特开2005-250216号公报及日本特开2006-259137号公报中记载的改性聚乙烯醇。

为了提高阻氧性，保护层优选含有无机层状化合物。无机层状化合物为具有薄平板状形状的粒子，例如可举出天然云母、合成云母等云母组、式：3MgO·4SiO·H₂O所示的滑石、带云母、蒙脱石、皂石、锂蒙脱石、磷酸锆等。

优选使用的无机层状化合物为云母化合物。作为云母化合物，例如可举出式：A(B，C)_2-5D₄O₁₀(OH，F，O)₂〔其中，A为K、Na、Ca中的任意者，B和C为Fe(II)、Fe(III)、Mn、Al、Mg、V中的任意者，D为Si或Al。〕所示的天然云母、合成云母等云母组。

云母组中，作为天然云母可举出白云母、钠云母、金云母、黑云母及鳞云母。作为合成云母，可举出氟金云母KMg₃(AlSi₃O₁₀)F₂、钾四硅云母KMg_2.5(Si₄O₁₀)F₂等非溶胀性云母、以及Na四氟硅云母NaMg_2.5(Si₄O₁₀)F₂、Na或Li带云母(Na，Li)Mg₂Li(Si₄O₁₀)F₂、蒙脱石系的Na或Li锂蒙脱石(Na，Li)_1/8Mg_2/5Li_1/8(Si₄O₁₀)F₂等溶胀性云母等。另外，合成膨润石也有用。

云母化合物中，氟系的溶胀性云母特别有用。即，溶胀性合成云母具有包括厚度为

左右的单元晶格层的层叠结构，晶格内金属原子置换比其他粘土矿物显著地大。其结果是，晶格层产生正电荷不足的情况，为了补偿该情况而在层间吸附有Li⁺、Na⁺、Ca²⁺、Mg²⁺等阳离子。将这些介于层间的阳离子称为交换性阳离子，且可以与各种阳离子进行交换。特别地，当层间的阳离子为Li⁺、Na⁺时，由于离子半径较小而层状晶格间的键合较弱，并通过水而溶胀得较大。若在该状态下施加剪切，则容易发生裂开，而在水中形成稳定的溶胶。溶胀性合成云母的该倾向较强，从而特别优选使用。

作为云母化合物的形状，从控制扩散的观点来看，厚度越薄越好，且只要是不阻碍涂布面的平滑性、活性光线的透射性，则平面尺寸越大越好。因此，长径比优选为20以上，更优选为100以上，特别优选为200以上。长径比为粒子的长径相对于厚度的比，例如，可通过由粒子的显微镜照片获得的投影图来进行测定。长径比越大，则所获得的效果越大。

关于云母化合物的粒径，其平均长径优选为0.3～20μm，更优选为0.5～10μm，特别优选为1～5μm。粒子的平均厚度优选为0.1μm以下，更优选为0.05μm以下，特别优选为0.01μm以下。具体地，例如，当为作为代表性化合物的溶胀性合成云母时，作为优选方式，厚度为1～50nm左右，平面尺寸(长径)为1～20μm左右。

无机层状化合物的含量相对于保护层的全部固体成分优选为0～60质量％，更优选为3～50质量％。即使在并用多种无机层状化合物的情况下，无机层状化合物的合计量也优选为上述含量。在上述范围内，阻氧性得到提高，且可获得良好的灵敏度。另外，可防止着墨性的下降。

保护层可以含有用于赋予挠性的增塑剂、用于提高涂布性的表面活性剂、用于控制表面润滑性的无机粒子等公知的添加物。另外，可以在保护层中含有在图像记录层中记载过的感脂化剂。

保护层通过公知的方法进行涂布。保护层的涂布量(固体成分)优选为0.01～10g/m²，更优选为0.02～3g/m²，特别优选为0.02～1g/m²。

本发明所涉及的机上显影型平版印刷版原版在端部具有下弯量X为25～150μm、下弯宽度Y为70～300μm的下弯形状。

图1是示意性示出平版印刷版原版的端部的剖面形状的图。

图1中，平版印刷版原版1在其端部具有下弯2。将平版印刷版原版1的端面1c的上端(下弯2与端面1c的边界点)、与图像记录层面(在形成保护层的情况下为保护层面)1a的延长线的距离X称为“下弯量”，将平版印刷版原版1的图像记录层面1a开始下弯的点、与端面1c的延长线上的距离Y称为“下弯宽度”。

端部的下弯量优选为35μm以上，更优选为40μm以上。从防止端部表面状态的恶化所致的机上显影性劣化的观点出发，下弯量的上限优选为150μm。若机上显影性发生劣化，则墨液附着到残留的图像记录层，导致产生边缘污渍。若下弯量低于25μm，则存在附着在端部的墨液容易转印到橡皮布从而导致产生边缘污渍的情况。在下弯量的范围为25～150μm的情况下，若下弯宽度小，则端部处的裂纹的产生增多，由于印刷墨液贮留于此，从而导致边缘污渍。从此种观点出发，下弯宽度为70～300μm的范围是适当的，优选为80～250μm的范围。此外，上述下弯量与下弯宽度的范围与平版印刷版原版1的支承体面1b的边缘形状无关。

通常，在平版印刷版原版1的端部处，图像记录层与支承体的边界B、和支承体面1b也与图像记录层面1a同样地发生下弯。

具有上述下弯形状的端部的形成例如可以通过调整平版印刷版原版的裁切条件来进行。

具体地，可以通过对平版印刷版原版的裁切时使用的纵切机装置中的上侧裁切刃与下侧裁切刃的间隙、咬入量、刃尖角度等进行调整来进行。

例如，图2是示出纵切机装置的裁切部的概念图。在纵切机装置的左右配置有上下一对的裁切刃10、20。裁切刃10、20包含圆板上的圆刃，上侧裁切刃10a和10b被旋转轴11支承在同一轴上，下侧裁切刃20a和20b被旋转轴21支承在同一轴上。上侧裁切刃10a和10b与下侧裁切刃20a和20b朝向相反的方向旋转。平版印刷版原版30通过上侧裁切刃10a、10b与下侧裁切刃20a、20b之间，被裁切为规定的宽度。通过对纵切机装置的裁切部的上侧裁切刃10a与下侧裁切刃20a的间隙、和上侧裁切刃10b与下侧裁切刃20b的间隙进行调整，由此可以形成具有下弯形状的端部。

关于本发明所涉及的机上显影型平版印刷版原版，与下弯宽度Y相当的区域中的阳极氧化被膜的表面上存在的裂纹的面积率为30％以下。

在此，与下弯宽度Y相当的区域是指，上述图1中的从图像记录层面(在形成有保护层的情况下为保护层面)1a的延长线与端面1c的延长线的交点开始、直至1a的延长线与图像记录层面(在形成有保护层的情况下为保护层面)发生接触为止的区域。

阳极氧化被膜的表面上存在的裂纹的面积率按照以下的方法算出。

使用Yamato科学(株)制Plasma Reactor PR300除去平版印刷版原版的构成层(底涂层、图像记录层、保护层)。对露出的铝支承体的阳极氧化被膜的表面蒸镀3nm的Pt-Pd膜，进行导电处理，从而制成试样。使用(株)日立High-Technologies制S-4800型场发射扫描电子显微镜(FE-SEM)，在加速电压30kV的条件下，对该试样进行SEM观察，以观察倍率1500倍的条件，从端部向中央部连续取得照片，得到150×50μm的图像。对于该图像，通过图像处理软件“Image J”，利用裂纹部与阳极氧化被膜层表面的亮度差提取出裂纹形状，进行二值化处理，算出150×50μm范围中的裂纹的比例，得到裂纹的面积率。

从防止产生边缘污渍的观点出发，裂纹的面积率更优选为10％以下，特别优选为6％以下。

与下弯宽度Y相当的区域中的、阳极氧化被膜的表面上存在的裂纹的平均宽度也是与边缘污渍的产生相关的因素。阳极氧化被膜的表面上存在的裂纹的平均宽度优选为20μm以下。

阳极氧化被膜的表面上存在的裂纹的平均宽度按照以下的方法算出。

与上述阳极氧化被膜的表面上存在的裂纹的面积率的算出方法同样地进行操作，得到150×50μm的图像。对于该图像，通过图像处理软件“Image J”，利用裂纹部与阳极氧化被膜层表面的亮度差，提取出裂纹形状，进行二值化处理，测定150×50μm范围中的15根裂纹的宽度，将其平均值作为裂纹的平均宽度。

为了将与下弯宽度Y相当的区域中的、阳极氧化被膜的表面上存在的裂纹的面积率调整为30％以下、和/或将裂纹的平均宽度调整为20μm以下，优选将上述阳极氧化被膜的阳极氧化被膜量控制为0.5～5.0g/m²的范围。从防止产生边缘污渍的观点出发，阳极氧化被膜量更优选控制为0.8～1.2g/m²的范围。

阳极氧化被膜的阳极氧化被膜量按照以下的方法算出。

使用Yamato科学(株)制Plasma Reactor PR300除去平版印刷版原版的构成层(底涂层、图像记录层、保护层)。利用荧光X射线分析装置((株)Rigaku制ZSX Primus II)测定露出的铝支承体的阳极氧化被膜的表面，使用另外制作的标准曲线算出阳极氧化被膜的阳极氧化被膜量(g/m²)。标准曲线根据由荧光X射线分析装置得到的康普顿散射线强度与通过梅森法算出的阳极氧化被膜量的关系制成。为了提高梅森法的测定精度，梅森液全部使用新液。荧光X射线分析的条件如以下所示。X射线管灯：Rh；测定光谱：RhLα；管电压：50kV；管电流：60mA；狭缝：S2；分光晶体：Ge；检测器：PC；分析面积：

峰位置(2θ)：89.510deg.；背景(2θ)：87.000deg.和92.000deg.；累加时间：60秒/样本。

为了对阳极氧化被膜的阳极氧化被膜量进行控制，例如可举出调整阳极氧化处理中的电解时间的方法。

平版印刷版原版的与下弯宽度Y相当的区域的阳极氧化被膜的阳极氧化被膜量优选小于平版印刷版原版的与下弯宽度Y相当的区域以外的区域的阳极氧化被膜的阳极氧化被膜量。若降低阳极氧化被膜量，则有在平版印刷版原版的处置时和印刷时在阳极氧化被膜产生破损，从而发生由此导致的伤痕污渍的情况。因此，通过仅对涉及边缘污渍的端部降低阳极氧化被膜量，由此可以抑制伤痕污渍的产生。

为了将与下弯宽度Y相当的区域中的、阳极氧化被膜的表面上存在的裂纹的面积率调整为30％以下、和/或将裂纹的平均宽度调整为20μm以下，优选将上述阳极氧化被膜的表面上存在的微孔的平均直径控制为5～100nm的范围，更优选控制为5～35nm的范围。

阳极氧化被膜的微孔的平均直径按照以下的方法算出。

使用Yamato科学(株)制Plasma Reactor PR300除去平版印刷版原版的构成层(底涂层、图像记录层、保护层)。对露出的铝支承体的阳极氧化被膜的表面蒸镀3nm的碳或Pt-Pd膜，进行导电处理，制成试样。对于该试样，使用(株)日立High-Technologies制S-4800型场发射扫描电子显微镜(FE-SEM)，以观察倍率150000倍的条件，从端部向中央部连续取得照片，得到4张400×600nm的图像。测定该4张的图像中存在的90个微孔的直径，进行平均从而得到微孔的平均直径。此外，在微孔的形状不为圆形的情况下，假想具有与微孔的投影面积相同的投影面积的圆，将该圆的直径作为微孔的直径。

在微孔具有大径孔部和小径孔部的情况下是如下的值，即，对于大径孔部表面和小径孔部表面，利用倍率15万倍的FE-SEM观察N＝4张，在所得到的4张的图像中测定400×600nm²的范围中存在的微孔(大径孔部和小径孔部)的直径，进行平均而得的值。此外，当大径孔部的深度很深而不易测定小径孔部的直径时，切削阳极氧化被膜上部，然后求出各种直径。

阳极氧化被膜的微孔的深度是如下的值，即，对于支承体(阳极氧化被膜)的剖面，利用FE-SEM进行观察(大径孔部深度观察：15万倍；小径孔部深度观察：5万倍)，在所得到的图像中测定任意的25个微孔的深度，进行平均而得的值。

为了对阳极氧化被膜的微孔的平均直径进行控制，例如可举出调整扩孔处理中的处理时间的方法。

本发明所涉及的机上显影型平版印刷版原版具有如下特征，即，在端部具有下弯量X为25～150μm、下弯宽度Y为70～300μm的下弯形状要件、以及与下弯宽度Y相当的区域的阳极氧化被膜的表面上存在的裂纹的面积率为30％以下要件相互结合，从而可以在不使机上显影性等特性下降的情况下防止边缘污渍的产生。若仅是在端部具有下弯量X为25～150μm、下弯宽度Y为70～300μm的下弯形状要件，则无法得到此种特征。另外，若仅是与下弯宽度Y相当的区域的阳极氧化被膜的表面上存在的裂纹的面积率为30％以下要件，则无法得到此种特征。

另外，本发明所涉及的机上显影型平版印刷版原版中，具有如下特征，即，不对端部区域实施涂布含有水溶性化合物的涂布液的处理等亲水化处理，可以防止边缘污渍的产生。

[平版印刷版的制作方法]

本发明所涉及的平版印刷版的制作方法包括：对本发明所涉及的平版印刷版原版进行图像曝光的工序(曝光工序)；以及，对于图像曝光后的平版印刷版原版，在印刷机上利用印刷墨液和润版水中的至少一者除去图像记录层的未曝光部的工序(机上显影工序)。

〔曝光工序〕

图像曝光优选通过对数字数据利用红外线激光等进行扫描曝光的方法来进行。

曝光光源的波长优选使用750～1400nm。作为750～1400nm的光源，放射红外线的固体激光器和半导体激光器是合适的。曝光机构可以为内鼓方式、外鼓方式和平板方式等的任意种。

曝光工序可以利用版上成像机等通过公知的方法来进行。另外，可以使用具备曝光装置的印刷机，将平版印刷版原版安装于印刷机上后，在印刷机上进行曝光。

〔机上显影工序〕

机上显影工序中，若在不对图像曝光后的平版印刷版原版实施任何显影处理的情况下，在印刷机上供给印刷墨液和润版水、开始印刷，则在印刷中途的初始階段，平版印刷版原版的未曝光部分被除去，与之相伴地，亲水性支承体表面露出，形成非图像部。作为印刷墨液和润版水，可使用公知的平版印刷用的印刷墨液和润版水。在最初向平版印刷版原版表面供给的可以是印刷墨液也可以是润版水，但从防止被除去润版水后的图像记录层成分污染的观点出发，优选在最初供给印刷墨液。

由此平版印刷版原版在胶印机上进行机上显影，可直接用于多页的印刷。

本发明所涉及的平版印刷版的制作方法可以在上述工序以外包括公知的其他工序。作为其他工序，例如可举出：在各工序之前对平版印刷版原版的位置、朝向等进行确认的检版工序；在机上显影工序之后对印刷图像进行确认的确认工序等。

实施例

以下通过实施例详细地说明本发明，但本发明并不限定于它们。此外，高分子化合物中，除了特别规定的事项以外，分子量是作为基于凝胶渗透色谱(GPC)法的聚苯乙烯换算值而得的重均分子量(Mw)，重复单元的比率为摩尔百分率。另外，“份”、“％”若无特别说明则表示“质量份”、“质量％”。

[实施例1～20和比较例1～2]

<支承体(1)的制作>

对铝板依次实施下述(a)～(g)的各处理，制作具有阳极氧化被膜的铝支承体(支承体(1))。此外，在全部处理工序之间实施水洗处理。

(a)碱蚀刻处理

从喷雾管向厚度0.3mm的铝板(材质JIS 1052)喷吹氢氧化钠浓度25质量％、铝离子浓度100g/L、温度60℃的水溶液，进行蚀刻处理。铝板的实施电化学粗糙化处理的面的蚀刻量为3g/m²。

(b)去污处理

从喷雾管向铝板喷吹温度35℃的硫酸水溶液(浓度300g/L)5秒钟，进行去污处理。

(c)电化学粗糙化处理

对铝板，使用在1质量％盐酸水溶液中溶解氯化铝从而使铝离子浓度为4.5g/L的电解液(液温35℃)，使用60Hz的交流电源，并使用平板电解池型的电解槽，连续地进行电化学粗糙化处理。交流电源的波形使用正弦波。电化学粗糙化处理中，交流的峰值时的铝板的阳极反应时的电流密度为30A/dm²。铝板的阳极反应时的电量总和与阴极反应时的电量总和之比为0.95。电量以铝板的阳极时的电量总和计为480C/dm²。对于电解液，使用泵来使液循环，由此进行电解槽内的搅拌。

(d)碱蚀刻处理

从喷雾管对铝板喷吹氢氧化钠浓度5质量％、铝离子浓度5g/L、温度35℃的水溶液，进行蚀刻处理。铝板的实施了电化学粗糙化处理的面的蚀刻量为0.05g/m²。

(e)去污处理

从喷雾管对铝板喷吹硫酸浓度300g/L、铝离子浓度5g/L、液温35℃的水溶液5秒钟，进行去污处理。

(f)阳极氧化处理

使用15质量％的硫酸(包含铝离子0.5质量％。)的电解液，在40℃、电流密度15A/dm²的条件下设置厚度1000nm的直流阳极氧化被膜。之后，通过喷雾进行水洗。

(g)扩孔处理

对于铝板，使用NaOH的5％水溶液，在30℃碱处理2秒钟，制作支承体(1)。

<支承体(2)的制作>

在支承体(1)的制作中将(f)阳极氧化处理如下所示地进行变更，且不进行(g)扩孔处理，除此以外与支承体(1)的制作同样地进行，制作支承体(2)。

(f1)第1阳极氧化处理

使用15质量％的硫酸(包含铝离子0.5质量％。)的电解液，在60℃、电流密度30A/dm²的条件下设置直流阳极氧化被膜。之后，通过喷雾进行水洗。

(f2)第2阳极氧化处理

使用15质量％的硫酸(包含铝离子0.5质量％。)的电解液，在60℃、电流密度15A/dm²的条件下设置直流阳极氧化被膜。之后，通过喷雾进行水洗。

支承体(2)中的阳极氧化被膜的厚度为500nm。

<支承体(3)的制作>

在支承体(2)的制作中调整第2阳极氧化处理的处理时间从而将阳极氧化被膜的厚度设为300nm，除此以外与支承体(2)的制作同样地进行，制作支承体(3)。

<支承体(4)的制作>

在支承体(1)的制作中将(g)扩孔处理如下所示地变更，除此以外与支承体(1)的制作方法同样地操作，制作支承体(4)。支承体(4)中的阳极氧化被膜的厚度为1000nm。

(g)扩孔处理

对于铝板，使用NaOH的5％水溶液，在30℃碱处理4秒钟。

<支承体(5)的制作>

在支承体(1)的制作中将(g)扩孔处理如下所示地变更，除此以外与支承体(1)的制作方法同样地操作，制作支承体(5)。支承体(5)中的阳极氧化被膜的厚度为1000nm。

(g)扩孔处理

对于铝板，使用NaOH的5％水溶液，在30℃碱处理6秒钟。

<支承体(6)的制作>

在支承体(1)的制作中将(g)扩孔处理如下所示地变更，除此以外与支承体(1)的制作方法同样地操作，制作支承体(6)。支承体(6)中的阳极氧化被膜的厚度为1000nm。

对于铝板，使用NaOH的5％水溶液，在30℃碱处理7秒钟。

<支承体(7)的制作>

在支承体(4)的制作中调整阳极氧化处理的时间从而使阳极氧化被膜的厚度为500nm，除此以外与支承体(4)的制作方法同样地操作，制作支承体(7)。

<支承体(8)的制作>

在支承体(6)的制作中调整阳极氧化处理的时间从而使阳极氧化被膜的厚度为300nm，除此以外与支承体(6)的制作方法同样地操作，制作支承体(8)。

<支承体(9)的制作>

在支承体(1)的制作中将(f)阳极氧化处理如下所示地变更，除此以外与支承体(1)的制作方法同样地操作，制作支承体(9)。支承体(9)中的阳极氧化被膜的厚度为500nm。

(f)阳极氧化处理

将22质量％磷酸水溶液作为电解液，在38℃、电流密度15A/dm²的条件下实施阳极氧化处理。之后，通过喷雾进行水洗。

<支承体(10)的制作>

在支承体(5)的制作中将(g)扩孔处理如下所示地变更，除此以外与支承体(5)的制作方法同样地操作，制作支承体(10)。

(g)扩孔处理

仅对铝板的端部使用NaOH的5％水溶液，在30℃碱处理2秒钟。下弯部的最终的阳极氧化被膜的厚度为1000nm。

<支承体(11)和(12)的制作>

在支承体(1)的制作中未进行(g)扩孔处理、以及控制阳极氧化处理的时间从而变更为表1中记载的阳极氧化被膜的厚度，除此以外与支承体(1)的制作方法同样地操作，制作支承体(11)和(12)。

<支承体(13)的制作>

在支承体(1)的制作中将(f)阳极氧化处理如下所示地进行变更、且未进行(g)扩孔处理，除此以外与支承体(1)的制作方法同样地操作，制作支承体(13)。

(f)阳极氧化处理

使用15质量％磷酸水溶液作为电解液，在35℃、电流密度4.5A/dm²的条件下实施阳极氧化处理。之后，通过喷雾进行水洗。支承体(13)中的阳极氧化被膜的厚度为1000nm。

<支承体(14)的制作>

在支承体(13)的制作中将(f)阳极氧化处理如下所示地变更，除此以外与支承体(13)的制作方法同样地操作，制作支承体(14)。

(f1)第1阳极氧化处理

使用15质量％磷酸水溶液作为电解液，在35℃、电流密度4.5A/dm²的条件下实施阳极氧化处理。之后，通过喷雾进行水洗。第1阳极氧化被膜量为0.5g/m²。

(f2)第2阳极氧化处理

使用170g/L硫酸水溶液作为电解液，在50℃、电流密度30A/dm²的条件下实施阳极氧化处理。之后，通过喷雾进行水洗。

支承体(14)中的阳极氧化被膜的厚度为800mn。

<支承体(15)的制作>

在支承体(13)的制作中将(f)阳极氧化处理如下所示地变更，除此以外与支承体(13)的制作方法同样地操作，制作支承体(15)。

(f1)第1阳极氧化处理

使用15质量％磷酸水溶液作为电解液，在35℃、电流密度4.5A/dm²的条件下实施阳极氧化处理。之后，通过喷雾进行水洗。第1阳极氧化被膜量通过调节处理时间而设为0.3g/m²。

(f2)第2阳极氧化处理

使用15质量％磷酸水溶液作为电解液，在35℃、电流密度4.3A/dm²的条件下实施阳极氧化处理。之后，通过喷雾进行水洗。

支承体(15)中的阳极氧化被膜的厚度为500nm。

<支承体(16)的制作>

在支承体(1)的制作中将(f)阳极氧化处理和(g)扩孔处理如下所示地变更，除此以外与支承体(1)的制作方法同样地操作，制作支承体(16)。

(f1)第1阳极氧化处理

使用15质量％磷酸水溶液作为电解液，在35℃、电流密度4.5A/dm²的条件下实施阳极氧化处理。之后，通过喷雾进行水洗。第1阳极氧化被膜量为0.5g/m²。

(g)扩孔处理

对于铝板，使用NaOH的5％水溶液，在40℃碱处理4秒钟。之后，通过喷雾进行水洗。

(f2)第2阳极氧化处理

使用170g/L硫酸水溶液作为电解液，在50℃、电流密度13A/dm²的条件下实施阳极氧化处理。之后，通过喷雾进行水洗。

支承体(16)中的阳极氧化被膜的厚度为1000nm。支承体(16)中的阳极氧化被膜的微孔由大径孔部和小径孔部构成，大径孔部的深度、大径孔部的平均直径、小径孔部的深度、小径孔部的连通位置处的平均直径各自为100nm、100nm、900nm、8nm。

<支承体(17)的制作>

在支承体(1)的制作中将(f)阳极氧化处理和(g)扩孔处理如下所示地变更，除此以外与支承体(1)的制作方法同样地操作，制作支承体(17)。

(f1)第1阳极氧化处理

使用170g/L硫酸水溶液作为电解液，在50℃、电流密度30A/dm²的条件下实施阳极氧化处理。之后，通过喷雾进行水洗。第1阳极氧化被膜量为0.5g/m²。

(g)扩孔处理

对于铝板，使用NaOH的5％水溶液，在40℃碱处理3秒钟。之后，通过喷雾进行水洗。

(f2)第2阳极氧化处理

使用170g/L硫酸水溶液作为电解液，在50℃、电流密度30A/dm²的条件下实施阳极氧化处理。之后，通过喷雾进行水洗。

支承体(17)中的阳极氧化被膜的厚度为1000nm。支承体(17)中的阳极氧化被膜的微孔由大径孔部和小径孔部构成，大径孔部的深度、大径孔部的平均直径、小径孔部的深度、小径孔部的连通位置处的平均直径各自为100nm、30nm、900nm、10nm。

<底涂层的形成>

在支承体上棒涂下述组成的底涂层涂布液(1)，在100℃烘箱干燥30秒钟，形成干燥涂布量为20mg/m²的底涂层。

(底涂层涂布液(1))

·底涂化合物1(下述) 0.18份

·甲醇 55.24份

·蒸馏水 6.15份

[化14]

<图像记录层(1)的形成>

在底涂层上棒涂下述组成的图像记录层涂布液(1)，在100℃烘箱干燥60秒钟，形成干燥涂布量为1.0g/m²的图像记录层(1)。

图像记录层涂布液(1)通过在即将涂布前将下述感光液(1)和微粒凝胶液混合、搅拌来制备。

<感光液(1)>

含铵基聚合物(1)

下述结构，比浓粘度44ml/g〕

·氟系表面活性剂(1)〔下述结构〕 0.008g

·2-丁酮 1.091g

·1-甲氧基-2-丙醇 8.609g

<微粒凝胶液>

·微粒凝胶(1) 2.640g

·蒸馏水 2.425g

上述感光液(1)中使用的粘结剂聚合物(1)、聚合引发剂(1)、红外线吸收剂(1)、TPB、低分子亲水性化合物(1)、鏻化合物(1)、含铵基聚合物(1)和氟系表面活性剂(1)的结构如下所示。

[化15]

[化16]

[化17]

[化18]

[化19]

[化20]

上述微粒凝胶液中使用的微粒凝胶(1)的制备法如下所示。

<多异氰酸酯化合物(1)的制备>

在异佛尔酮二异氰酸酯17.78g(80mmol)与下述多元酚化合物(1)7.35g(20mmol)的乙酸乙酯(25.31g)悬浮溶液中加入三(2-乙基己酸)铋(NEOSTANN U-600，日东化成(株)制)43mg，进行搅拌。在放热结束的时刻将反应温度设定为50℃，搅拌3小时，得到多异氰酸酯化合物(1)的乙酸乙酯溶液(50质量％)。

[化21]

<微粒凝胶(1)的制备>

将下述油相成分和水相成分混合，使用匀浆仪以12000rpm乳化10分钟。将所得到的乳化物在45℃搅拌4小时后，加入1，8-二氮杂双环[5.4.0]十一碳-7-烯-辛酸盐(U-CATSA102，San-Apro(株)制)的10质量％水溶液5.20g，在室温搅拌30分钟，在45℃静置24小时。用蒸馏水将固体成分浓度调整至20质量％，得到微粒凝胶(1)的水分散液。利用光散射法测定了平均粒径，为0.28μm。

(油相成分)

(成分1)乙酸乙酯：12.0g

(成分2)将三羟甲基丙烷(6摩尔)与二甲苯二异氰酸酯(18摩尔)加成、并对所得物加成甲基单末端聚氧亚乙基(1摩尔，氧亚乙基单元的重复数：90)而得的加成物(50质量％乙酸乙酯溶液，三井化学(株)制)：3.76g

(成分3)多异氰酸酯化合物(1)(50质量％乙酸乙酯溶液的形式)：15.0g

(成分4)二季戊四醇五丙烯酸酯(SR-399，Sartomer公司制)的65质量％乙酸乙酯溶液：11.54g

(成分5)磺酸盐型表面活性剂(パイオニンA-41-C，竹本油脂(株)制)的10％乙酸乙酯溶液：4.42g

(水相成分)蒸馏水：46.87g

<图像记录层(2)的形成>

在底涂层上棒涂下述组成的图像记录层涂布液(2)后，在94℃烘箱干燥60秒钟，形成干燥涂布量0.85g/m²的图像记录层。

(图像记录层涂布液(2))

*1：聚合性化合物1为二季戊四醇六丙烯酸酯(新中村化学工业(株)制)。

*2：接枝共聚物1为由聚(氧基-1，2-乙烷二基)，α-(2-甲基-1-氧代-2-丙烯基)-ω-甲氧基-，乙烯基苯接枝而得的聚合物，并且是将其分散在80％正丙醇/20％水的溶剂中的25％的分散物。

*3：接枝共聚物2为聚(乙二醇)甲基醚甲基丙烯酸酯/苯乙烯/丙烯腈＝10∶9∶81的接枝共聚物的聚合物粒子，并且是将其在正丙醇/水的质量比为80/20的溶剂中含有24质量％的分散物。聚合物粒子的体积平均粒径为193nm。

*4：巯基-3-三唑为能够从PCAS公司(法国)获得的3-巯基-1H，2，4-三唑。

*5：Irgacure 250为能够从Ciba Specialty Chemicals公司获得的碘鎓(4-甲基苯基)[4-(2-甲基丙基)苯基]六氟磷酸酯的75％碳酸亚丙酯溶液。

*6：Klucel 99M为能够从Hercules公司获得的羟基丙基纤维素增稠剂的1％水溶液。

*7：Byk 336为能够从Byk Chemie公司获得的改性二甲基聚硅氧烷共聚物的25％二甲苯/乙酸甲氧基丙基酯溶液。

[化22]

[化23]

<保护层的形成>

在图像记录层上棒涂下述组成的保护层涂布液，在120℃烘箱干燥60秒钟，形成干燥涂布量为0.15g/m²的保护层，制作平版印刷版原版。

<保护层涂布液>

上述保护层涂布液中使用的无机层状化合物分散液(1)的制备法如下所示。

<无机层状化合物分散液(1)的制备>

在离子交换水193.6g中添加合成云母(ソマシフME-100，Co-op Chemical(株)制)6.4g使用匀浆仪进行分散，直至平均粒径(激光散射法)达到3μm为止。所得到的分散粒子的长径比为100以上。

〔平版印刷版原版的制作〕

将上述支承体和图像记录层如表1中记载的那样进行组合，制作平版印刷版原版。此外，在图像记录层(1)上形成了上述保护层，而在图像记录层(2)上没有形成保护层。

〔平版印刷版原版的裁切〕

使用图2所示的旋转刃，调整上侧裁切刃与下侧裁切刃的间隙、咬入量和刃尖角度，裁切平版印刷版原版，在端部形成具有表1中记载的下弯量和下弯宽度的下弯形状。

〔平版印刷版原版的评价〕

<边缘污渍防止性>

利用搭载红外线半导体激光的富士胶片(株)制Luxcel PLATESETTER T-6000III，在外鼓转速1000rpm、激光输出70％、分辨率24000dpi的条件下将平版印刷版原版曝光。曝光图像包括满版图像和50％网点图。

将图像曝光后的平版印刷版原版装载到(株)东京机械制作所制旋转胶印机，作为报纸用印刷墨液，使用Ink Tec(株)制SOYBI KKST-S(红)和东洋INK(株)制东洋ALKY润版水，以100000页/小时的速度进行印刷，从浮垢消除水平的刻度(日文：水目盛り)到2倍水平的刻度，将第1000页的印刷物作为样本，用下述的基准评价了边缘部的污渍的程度。

5：完全没有污染

4：5与3之间的水平

3：稍微发生污染但为允许水平

2：3与1之间的水平(允许水平)

1：明显发生污染，非允许水平

<机上显影性>

与上述边缘污渍防止性的评价同样地将图像曝光后的平版印刷版原版装载到(株)东京机械制作所制旋转胶印机，作为报纸用印刷墨液，使用Ink Tec(株)制SOYBIKKST-S(红)，作为润版水，使用SAKATA INX(株)制ECO7N-1，在报纸用纸上以100000页/小时的速度进行印刷。将图像记录层的未曝光部在印刷机上的机上显影结束、且直至墨液不转印到非图像部的状态为止所需要的报纸用纸的页数作为机上显影页数来计测，用以下的基准进行评价。

5：机上显影页数为25页以下

4：机上显影页数为26～30页

3：机上显影页数为31～35页

2：机上显影页数为36～40页

1：机上显影页数为100页以上，为非允许水平

<伤痕污渍防止性>

将平版印刷版原版在25℃、60％RH的环境下调湿2小时后，冲裁为2.5cm×2.5cm，安装于新东科学(株)制的连续加重式划痕强度试验机TYPE-18，以在未进行打孔的平版印刷版原版的表面上接触进行了打孔的平版印刷版原版的背面的方式来设置，以0gf～1500gf的加重对平版印刷版原版的多处施加擦伤。对于施加了擦伤的平版印刷版原版，用搭载红外线半导体激光器的富士胶片(株)制Luxcel PLATESETTER T-6000III，在外鼓转速1000rpm、激光输出70％、分辨率24000dpi的条件下进行曝光。

将图像曝光后的平版印刷版原版装载到(株)东京机械制作所制旋转胶印机，作为报纸用印刷墨液，使用Ink Tec(株)制SOYBI KKST-S(红)，作为润版水，使用SAKATA INX(株)制ECO7N-1，在报纸用纸上以100000页/小时的速度进行印刷。印刷过程中，将第1000页的印刷物作为样本，目视观察擦伤所致的伤痕污渍的程度，用以下的基准进行评价。

3：以目视观察和6倍放大镜无法确认伤痕污渍。

2：目视观察无法确认，但能够以6倍放大镜确认的伤痕污渍存在多处。

1：能够以目视观察的伤痕污渍存在于很多处，为非允许水平。

评价结果如表1所示。表1中，裂纹的面积率、裂纹的平均宽度、阳极氧化被膜量、微孔的平均直径，为按照上文中记载的方法算出的数值。

【表1】

根据表1中记载的结果可知，本发明所涉及的平版印刷版原版可在不使机上显影性、伤痕污渍防止性等特性下降的情况下防止边缘污渍。与此相对地，可知比较例的平版印刷版原版发生了边缘污渍。

另外，对于本发明所涉及的平版印刷版原版而言，也没有确认到端部区域中的图像形成性能下降的情况。

产业上的可利用性

根据本发明，能够提供在不使机上显影性、伤痕污渍防止性等特性下降的情况下防止边缘污渍的机上显影型平版印刷版原版、和使用了机上显影型平版印刷版原版的平版印刷版的制作方法。

参照详细且特定的实施方式说明了本发明，但本领域技术人员知晓，本发明可以在不脱离其主旨和范围的情况下进行各种变更、修正。

本申请基于2017年7月31日申请的日本专利申请(日本特愿2017-148558)、2018年6月5日申请的日本专利申请(日本特愿2018-107994)，它们的内容以引证的方式并入本说明书中。

附图标记说明

1 平版印刷版原版

1a 图像记录层面

1b 支承体面

1c 端面

2 下弯

X 下弯量

Y 下弯宽度

B 图像记录层面与支承体的边界

10 裁切刃

10a 上侧裁切刃

10b 上侧裁切刃

11 旋转轴

20 裁切刃

20a 下侧裁切刃

20b 下侧裁切刃

21 旋转轴

Claims (13)

1.一种机上显影型平版印刷版原版，其在具有阳极氧化被膜的铝支承体上具有图像记录层，

所述平版印刷版原版的端部具有下弯量X为25μm～150μm、下弯宽度Y为70μm～300μm的下弯形状，所述平版印刷版原版的与下弯宽度Y相当的区域的所述阳极氧化被膜的表面上存在的裂纹的面积率为30％以下。

2.根据权利要求1所述的机上显影型平版印刷版原版，其中，

所述裂纹的面积率为10％以下。

3.根据权利要求2所述的机上显影型平版印刷版原版，其中，

所述裂纹的面积率为6％以下。

4.根据权利要求1～3中任一项所述的机上显影型平版印刷版原版，其中，

所述平版印刷版原版的与下弯宽度Y相当的区域的所述阳极氧化被膜的表面上存在的裂纹的平均宽度为20μm以下。

5.根据权利要求1～4中任一项所述的机上显影型平版印刷版原版，其中，

所述平版印刷版原版的与下弯宽度Y相当的区域的所述阳极氧化被膜的阳极氧化被膜量为0.5g/m²～5.0g/m²。

6.根据权利要求5所述的机上显影型平版印刷版原版，其中，

所述阳极氧化被膜量为0.8g/m²～1.2g/m²。

7.根据权利要求1～6中任一项所述的机上显影型平版印刷版原版，其中，

所述平版印刷版原版的与下弯宽度Y相当的区域的所述阳极氧化被膜的阳极氧化被膜量小于所述平版印刷版原版的与下弯宽度Y相当的区域以外的区域的所述阳极氧化被膜的阳极氧化被膜量。

8.根据权利要求1～7中任一项所述的机上显影型平版印刷版原版，其中，

所述平版印刷版原版的与下弯宽度Y相当的区域的所述阳极氧化被膜的表面上存在的微孔的平均直径为5nm～100nm。

9.根据权利要求1～7中任一项所述的机上显影型平版印刷版原版，其中，

所述平版印刷版原版的与下弯宽度Y相当的区域的所述阳极氧化被膜的微孔由从阳极氧化被膜表面延伸至深度为10nm～1000nm的位置为止的大径孔部、和与大径孔部的底部连通、且从连通位置延伸至深度为20nm～2000nm的位置为止的小径孔部构成，小径孔部的连通位置处的平均直径为13nm以下。

10.根据权利要求1～9中任一项所述的机上显影型平版印刷版原版，其中，

所述图像记录层含有聚合物粒子。

11.根据权利要求10所述的机上显影型平版印刷版原版，其中，

所述聚合物粒子为包含来源于苯乙烯化合物的单体单元和/或来源于(甲基)丙烯腈化合物的单体单元的聚合物的粒子。

12.根据权利要求1～11中任一项所述的机上显影型平版印刷版原版，其中，

所述图像记录层还含有聚合引发剂、红外线吸收剂和聚合性化合物。

13.平版印刷版的制作方法，其包括：

将权利要求1～12中任一项所述的机上显影型平版印刷版原版，通过红外线激光进行图像曝光的工序；和

在印刷机上利用选自印刷墨液和润版水中的至少一种将图像记录层的未曝光部分除去的工序。

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