CN111051073B - 机上显影型平版印刷版原版及平版印刷版的制作方法 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种机上显影型平版印刷版原版及使用上述平版印刷版原版的平版印刷版的制造方法，上述机上显影型平版印刷版原版在具有阳极氧化被膜的铝支承体上具有图像记录层，其中，上述平版印刷版原版的端部具有下弯形状，上述图像记录层含有具有支承体吸附性、分子量为1,000以下且在分子中不具有不饱和双键基团的化合物，上述化合物的含量在上述图像记录层的面内实质上相同。

Description

机上显影型平版印刷版原版及平版印刷版的制作方法

技术领域

本发明涉及一种机上显影型平版印刷版原版及平版印刷版的制作方法。

背景技术

通常，平版印刷版由在印刷过程中接受墨液的亲油性图像部和接受润版液的亲水性非图像部构成。平版印刷为如下方法，即利用水与油性墨液彼此排斥的性质，将平版印刷版的亲油性图像部作为墨液受容部，将亲水性非图像部作为润版液受容部(墨液非受容部)，在平版印刷版的表面产生墨液的附着性差异，使墨液仅着墨于图像部之后，将墨液转印于纸等被印刷体而进行印刷。

目前，在从平版印刷版原版制作平版印刷版的制版工序中，进行利用CTP(计算机直接制版)技术的图像曝光。即，图像曝光利用激光或激光二极管，通过扫描曝光等来直接在平版印刷版原版进行而不经由高反差胶片。

另一方面，由于对地球环境的关注提高，关于平版印刷版原版的制版，与伴随显影处理等湿式处理的废液有关的环境问题变得明显，随此，指向于显影处理的简易化或无处理化。作为简单的显影处理之一，提出有称为“机上显影”的方法。机上显影为如下方法，即对平版印刷版原版进行图像曝光之后，直接安装到印刷机而不进行以往的湿式显影处理，且在通常的印刷工序的初始阶段进行图像记录层的非图像部分的去除。

在使用平版印刷板进行印刷时，如在通常的单张纸印刷机那样在比印刷板尺寸小的纸上进行印刷时，由于印刷板的端部位于纸面外，因此端部不会影响印刷质量。但是，当使用报纸印刷那样的轮转印刷机在卷状纸上连续进行印刷时，由于印刷版的端部位于纸面内，因此附着在端部上的墨液会转印到纸上而产生线状污染(边缘污点)，从而印刷物的商品价值明显受损。

以抑制产生上述边缘污染为目的，专利文献1中提出了一种平版印刷版原版的层叠体，其中在具有支承体和图像记录层的平版印刷版原版的相对置的2个侧面的端部的图像记录层侧板面形成有通过亲水性成分而进行了处理而成的亲水性区域，且上述平版印刷版原版的相对置的上述2个侧面的端部至距离内部3mm的图像记录层侧版面的区域A中所含有的亲水性成分的每单位面积的含量比除了上述区域A以外的区域中的亲水性成分的每单位面积的含量多10mg/m²。

以往技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2017-019206号公报

发明内容

发明要解决的技术课题

在上述专利文献1所述的平版印刷版原版中，为了抑制产生边缘污染，通过涂布含有上述亲水性成分的涂布液等方法，与除了端部区域A以外的区域中的亲水性成分的含量相比，使端部区域A中的水溶性化合物的含量多10mg/m²以上。

然而，得知若对平版印刷版原版的端部区域实施涂布含有亲水性成分的涂布液等亲水性处理，则在已实施亲水性处理的端部区域产生图像形成性降低的现象。认为其原因如下，通过实施亲水性处理而图像记录层的机械强度降低，以及图像记录层与支承体之间的粘附力降低，从而导致在机上显影时，端部区域中的图像记录层未被保持而与非图像部分一同被去除。

本发明要解决的课题在于提供一种防止了边缘污染而未降低端部的图像形成性、机上显影性等特性的机上显影型平版印刷版原版及使用了机上显影型平版印刷版原版的制造方法。

用于解决技术课题的手段

以下记载用于解决上述课题的方案。

(1)一种机上显影型平版印刷版原版，其在具有阳极氧化被膜的铝支承体上具有图像记录层，其中，上述平版印刷版原版的端部具有下弯形状，上述图像记录层含有具有支承体吸附性、分子量为1,000以下且分子中不具有不饱和双键基团的化合物，上述化合物的含量在图像记录层的面内实质上相同。

(2)根据(1)所述的机上显影型平版印刷版原版，其中，上述化合物为含氧酸。

(3)根据(1)或(2)所述的机上显影型平版印刷版原版，其中，上述化合物为由下述式1表示的化合物。

[化学式1]

式1

式1中，n表示2～10的整数，R1、R2、R3分别独立地表示氢原子、烷基或环氧烷基。

(4)根据(1)至(3)中任一项所述的机上显影型平版印刷版原版，其中，上述化合物为磷酸、多磷酸、膦酸或次膦酸。

(5)根据(1)至(4)中任一项所述的机上显影型平版印刷版原版，其中，上述化合物的含量为10～150mg/m²。

(6)根据(1)至(5)中任一项所述的机上显影型平版印刷版原版，其中，上述下弯形状的下弯量X为25～150μm，下弯宽度Y为70～300μm。

(7)根据(6)所述的机上显影型平版印刷版原版，其中，在上述平版印刷版原版的与下弯宽度Y相当的区域的上述阳极氧化被膜的表面上存在的裂纹的面积率为10％以下。

(8)根据(7)所述的机上显影型平版印刷版原版，其中，上述裂纹的面积率为6％以下。

(9)根据(1)至(8)中任一项所述的机上显影型平版印刷版原版，其中，上述图像记录层还含有聚合物粒子。

(10)根据(9)所述的机上显影型平版印刷版原版，其中，上述聚合物粒子为包含源自苯乙烯化合物的单体单元和/或源自(甲基)丙烯腈化合物的单体单元的聚合物粒子。

(11)根据(1)至(10)中任一项所述的机上显影型平版印刷版原版，其中，上述图像记录层含有聚合引发剂、红外线吸收剂及聚合性化合物。

(12)一种机上显影型平版印刷版原版，其在具有阳极氧化被膜的铝支承体上具有图像记录层，其中，上述平版印刷版原版的端部具有下弯形状，上述图像记录层含有具有支承体吸附性、分子量为1,000以下且分子中不具有不饱和双键基团的化合物，上述化合物的含量在所述图像记录层的面内实质上相同，当通过STEM-EDS在深度方向上对上述平版印刷版原版的截面进行线分析时，从上述铝支承体与所述图像记录层的界面至图像记录层侧的任意深度都存在0.5质量％以上的源自支承体吸附性基团的元素。

(13)根据(1)至(12)中任一项所述的机上显影型平版印刷版原版，其中，上述阳极氧化被膜的所述图像记录层侧的表面的CIEL^*a^*b^*表色系中的明度L^*的值为70～100。

(14)根据(1)至(13)中任一项所述的机上显影型平版印刷版原版，其中，上述阳极氧化被膜的所述图像记录层侧的表面上的波长为0.2～2μm的成分的陡度a45为30％以下。

(15)根据(1)至(14)中任一项所述的机上显影型平版印刷版原版，其中，在上述阳极氧化被膜表面具有微孔，上述阳极氧化被膜表面上的微孔的平均直径为10～100nm。

(16)根据(15)所述的机上显影型平版印刷版原版，其中，上述微孔由从上述阳极氧化物被膜的表面延伸至深度10～1000nm的位置的大孔径部和与上述大孔径部的底部连通且从连通位置延伸至深度20～2000nm的位置的小孔径部构成，上述小孔径部的平均直径为上述大孔径部的平均直径的5％～80％。

(17)一种平版印刷版的制作方法，其包括：

通过红外线激光对(1)至(16)中任一项所述的平版印刷版原版进行图像曝光的工序；及在印刷机上通过选自印刷墨液及润版液中的至少一种来去除图像记录层的未曝光部分的工序。

发明效果

根据本发明，能够提供一种防止了边缘污染而未降低端部的图像形成性、机上显影性等特性的机上显影型平版印刷版原版及使用了机上显影型平版印刷版原版的制造方法。

附图说明

图1为表示平版印刷版原版的端部的截面形状的示意图。

图2为表示分切装置的切割部的1例的概念图。

具体实施方式

以下，对具体实施方式进行详细记载。

本说明书中，关于由式表示的化合物中的基团的标注，当未记载经取代或未经取代时，该基团还能够具有取代基时，只要无其他特别规定，则不仅包含未经取代的基团还包含具有取代基的基团。例如，式中，若有“R表示烷基、芳基或杂环基”这一记载，则是指“R表示未经取代的烷基、经取代的烷基、未经取代的芳基、经取代的芳基、未经取代的杂环基或经取代的杂环基”。

本说明书中，“(甲基)丙烯酸酯”这一术语表示“丙烯酸酯及甲基丙烯酸酯中的至少任一种”。“(甲基)丙烯酰基”、“(甲基)丙烯酸”、“(甲基)丙烯酸树脂”等也相同。

[机上显影型平版印刷版原版]

本发明所涉及的机上显影型平版印刷版原版，其至少由具有阳极氧化被膜的铝支承体和图像记录层构成，平版印刷版原版的端部具有下弯形状，图像记录层含有具有支承体吸附性，分子量为1,000以下的化合物，上述化合物不具有不饱和双键基团，上述化合物的含量在图像记录层的面内实质上相同。

〔具有阳极氧化被膜的铝支承体〕

对具有构成机上显影型平版印刷版原版的阳极氧化被膜的铝支承体进行记载。

铝支承体中所使用的铝板由以尺寸稳定的铝为主成分的金属、即由铝或铝合金形成。优选选自纯铝板及以铝为主要成分并含有微量异种元素的合金板。

铝合金中所含有的异种元素中有硅、铁、锰、铜、镁、铬、锌、铋、镍、钛等。合金中的异种元素的含量为10质量％以下。优选为纯铝板，但由于在冶炼技术上难以制造完全纯铝，因此可以使用含有微量异种元素的合金板。关于铝支承体中所使用的铝板，其组成并无特别限定，而能够适当使用以往公知的铝板，例如JIS A 1050、JIS A 1100、JIS A 3103、JISA 3005等。

铝板的厚度优选为0.1～0.6mm左右。

阳极氧化被膜是指，通过阳极氧化处理在铝板的表面上形成且具有与被膜表面大致垂直，并均匀分布的极微细孔(也称为微孔)的阳极氧化铝被膜。微孔从阳极氧化被膜的表面朝向厚度方向(深度方向)延伸。

在本发明所涉及的机上显影型平版印刷版原版中，从提高图像视觉辨认性的观点考虑，铝支承体的阳极氧化被膜表面(形成有图像记录层的一侧的表面)上的明度高而实用。

在平版印刷版的印刷工序中，通常以在将版安装到印刷机之前确认是否如目的形成有图像记录按预期进行了图像记录为目的而进行检版操作。在机上显影型平版印刷版原版中，由于需要在经图像曝光的阶段确认图像，因此在图像曝光部使用所谓的打印图像的方法。

作为定量地对经图像曝光的机上显影型平版印刷版原版的图像部的易见性(图像视觉辨认性)进行评价的方法，可举出测量图像曝光部的明度与未曝光部的明度，并求出两者之差的方法。在此，作为明度，能够使用CIEL^*a^*b^*表色系中的明度L^*的值，且测量能够使用色差计(Spectro Eye，X-Rite Inc.制)进行。通过测量得到的图像曝光部的明度与未曝光部的明度之差越大，则越容易看到图像部。

判明为了增大图像曝光部的明度与未曝光部的明度之差，有效的是阳极化被膜表面上的CIEL^*a^*b^*表色系中的明度L^*的值较大。即，明度L^*的值优选为70～100。

并且，在本发明所涉及的机上显影型平版印刷版原版中，从提高非图像部的墨液污染防止性的观点考虑，铝支承体的阳极氧化被膜表面(形成有图像记录层的一侧的表面)上波长0.2～2μm的成分的陡度a45小而实用。

波长0.2～2μm的成分的陡度a45为表示阳极氧化被膜的表面形状的因素之一，且表示从使用原子力显微镜(Atomic Force Microscope：AFM)测量阳极氧化被膜的表面形状而得的三维数据提取波长0.2～2μm的成分，且该成分中倾斜度为45度以上的部分的面积率。

波长0.2～2μm的成分的陡度a45能够根据以下(1)～(3)的步骤求出。

(1)表面形状的测量及三维数据的获取

通过原子力显微镜测量铝支承体上的阳极氧化被膜的表面形状，并得到三维数据。

具体而言，将铝支承体切成1cm见方的大小来作为试样，置于压电扫描仪上的水平试样台上，使悬臂接近试样表面，且原子力达到起作用的区域时，沿XY方向进行扫描，此时，通过压电体在Z方向上的位移来捕获试样的凹凸。关于压电扫描仪，使用能够在XY方向上扫描150μm，在Z方向上扫描10μm的压电扫描仪。悬臂通过利用共振频率120～150kHz、弹簧常数12～20N/m的悬臂的(SI-DF20、NANOPROBE公司制)，并在DFM模式(Dynamic Force Mode：动态力模式)下进行测量。通过使所得到的三维数据近似最小二乘方来校正试样的轻微倾斜并求出基准面。

关于测量，在试样表面的25×25μm范围内以512×512点进行，XY方向的分辨率为1.9μm，Z方向的分辨率为1nm，扫描速度为60μm/sec。

(2)波长0.2～2μm的成分的提取

关于提取，通过对在上述(1)中得到的三维数据进行快速傅里叶变换而求出频率分布，接着选择波长0.2～2μm的成分之后，通过傅里叶逆变换来进行。

通过该提取，能够去除当用AFM探针对如平版印刷版原版中所使用的铝支承体的具有凹凸的表面进行扫描时，探针与凸部的边缘部分撞击而蹦跳，或者除了探针的尖端部分以外的部分与深的凹部的壁面接触而产生的噪音。

(3)陡度a45的计算

使用在上述(2)中得到的三维数据(f(x，y))，提取相邻的3点，且针对所有数据计算由该3点形成的微小三角形与基准面所呈的角，从而得到倾斜度分布曲线。另一方面，求出微小三角形的面积总和来作为实际面积。根据倾斜度分布曲线，计算陡度a45(单位％)，其为相对于实际面积的倾斜度45度以上的部分的面积的比例。

从进一步提高防污性和脱模性的观点考虑，波长0.2～2μm的成分的陡度a45优选为30％以下，更优选为25％以下，进一步优选为20％以下，尤其优选为18％。下限并无特别限制，但通常为5％以上。在上述范围内，还认识到提高图像视觉辨认性的效果。

〔铝支承体的制造方法〕

铝支承体的制造方法并无特别限定。作为铝支承体的制造方法的优选方式，可举出对铝板实施粗糙化处理的工序(粗糙化处理工序)、对经粗糙化处理的铝板进行阳极氧化的工序(阳极氧化处理工序)、使在阳极氧化处理工序中得到的具有阳极氧化被膜的铝板与酸性水溶液或碱性水溶液接触而扩大阳极氧化被膜中的微孔的直径(扩孔处理工序)。

以下，对各工序进行详细说明。

＜粗糙化处理工序＞

粗糙化处理工序为对铝板的表面实施包括电化学粗糙化处理的粗糙化处理的工序。粗化处理工序优选在后述的阳极氧化工序之前实施，但若铝板的表面已经具有优选的表面形状，则可以不实施。

粗糙化处理可以仅通过电化学粗糙化处理来执行，但也可以通过将电化学粗糙化处理与机械粗糙化处理和/或化学粗糙化处理相结合来实施。

当将机械粗糙化处理和电化学粗糙化处理结合时，优选在机械粗糙化处理之后实施电化学粗糙化处理。

电化学粗糙化处理优选在硝酸或盐酸的水溶液中实施。

机械粗糙化处理通常以使铝板的表面为表面粗糙度Ra：0.35～1.0μm的目的而实施。

机械粗糙化处理的各项条件无特别限定，例如能够按照日本特公昭50-040047号公报中所记载的方法实施。机械粗糙化处理能够通过使用了帕米斯顿悬浮液的刷纹处理实施，或者通过转印方式实施。

并且，化学粗糙化处理也并无特别限定，而能够按照公知的方法实施。

机械粗糙化处理后，优选实施以下化学蚀刻处理。

机械粗糙化处理之后执行的化学蚀刻处理为了平滑铝板的表面上的凹凸形状的边缘部分，防止印刷时的墨液的卡止，并提高平版印刷版的耐污性的同时去除残留在表面上的磨料粒子等不需要的物质。

作为化学蚀刻处理，已知通过酸进行的蚀刻或通过碱进行的蚀刻，但作为在蚀刻效率方面尤其优异的方法，可举出使用碱溶液的化学蚀刻处理(以下，也称为“碱蚀刻处理”。)。

碱溶液中所使用的碱剂并无特别限定，例如优选举出苛性钠、苛性钾、偏硅酸钠、碳酸钠、铝酸钠、葡萄糖酸钠等。

并且，碱剂可以含有铝离子。碱溶液的浓度优选为0.01质量％以上，更优选为3质量％以上，并且优选为30质量％以下，更优选为25质量％以下。

而且，碱溶液的温度优选为室温以上，更优选为30℃以上，优选为80℃以下，更优选为75℃以下。

蚀刻量优选为0.1g/m²以上，更优选为1g/m²以上，并且优选为20g/m²以下，更优选为10g/m²以下。

并且，处理时间优选与蚀刻量对应而为2秒～5分，从提高生产率的观点考虑，更优选为2～10秒。

当在机械粗糙化处理之后实施了碱蚀刻处理时，为了去除由碱蚀刻处理产生的产物，优选使用低温酸性溶液进行化学蚀刻处理(以下，也称为“去污处理”)。

酸性溶液中所使用的酸并无特别限定，例如可举出硫酸、硝酸、盐酸。酸性溶液的浓度优选为1～50质量％。并且，酸性溶液的温度优选为20～80℃。若酸性溶液的浓度及温度在该范围内，则使用了铝支承体的平版印刷版的锅形耐污性进一步提高。

上述粗糙化处理为根据需要在实施了机械粗糙化处理及化学蚀刻处理之后实施电化学粗糙化处理的处理，但即使在不进行机械粗糙化处理而实施电化学粗糙化处理的情况下，也能够在电化学粗糙化处理之前，使用苛性钠等碱性水溶液进行化学蚀刻处理。由此，能够除去存在于铝板的表面附近的杂质等。

关于电化学粗糙化处理，由于容易对铝板的表面赋予微细的凹凸(凹坑)，因此适合制作印刷性优异的平版印刷版。

关于电化学粗糙化处理，在以硝酸或盐酸为主体的水溶液中使用直流电或交流电进行。

并且，在电化学粗糙化处理之后，优选进行以下化学蚀刻处理。在电化学粗糙化处理之后的铝板的表面存在污迹或金属间化合物。在电化学粗糙化处理之后进行的化学蚀刻处理中，尤其为了有效地去除污迹，优选首先使用碱性溶液进行化学蚀刻处理(碱蚀刻处理)。关于使用了碱性溶液的化学蚀刻处理的各项条件，处理温度优选为20～80℃，并且处理时间优选为1～60秒。另外，优选在碱性溶液中含有铝离子。

而且，在电化学粗糙化处理之后进行使用碱性溶液的化学蚀刻处理，之后为了去除由此产生的生成物，优选使用低温酸性溶液执行化学蚀刻处理(去污处理)。

并且，即使在电化学粗糙化处理之后不进行碱蚀刻处理的情况下，为了有效地去除污迹，也优选进行去污处理。

上述化学蚀刻处理均能够通过浸渍法、淋浴法、涂布法等进行，且并无特别限定。

＜阳极氧化处理工序＞

阳极氧化处理工序为如下工序，即通过对已实施上述粗糙化处理的铝板进行阳极氧化处理，在铝板表面上形成具有沿深度方向(厚度方向)延伸的微孔的铝的氧化被膜。通过该阳极氧化处理在铝板的表面上形成具有微孔的铝的阳极氧化被膜。

阳极氧化处理能够通过在本领域中从以往使用的方法进行，但适当地设定制造条件以便最终能够形成上述微孔。具体而言，在阳极氧化处理工序中形成的微孔的平均直径(平均开口直径)通常为4～100nm左右，优选为5～60nm。若在上述范围内，则容易形成具有规定形状的微孔，且所得到的平版印刷版原版及平版印刷版的性能也进一步优异。

并且，微孔的深度通常为10nm以上且小于3000nm左右，优选为10～2000nm。若在上述范围内，则容易形成具有规定形状的微孔，且所得到的平版印刷版原版及平版印刷版的性能也进一步优异。

微孔的孔密度并无特别限定，但孔密度优选为50～4000个/μm²，更优选为100～3000个/μm²。若在上述范围内，则所得到的平版印刷版的印刷耐久性及脱模性以及平版印刷版原版的机上显影性优异。

在阳极氧化处理工序中，能够将硫酸、磷酸、草酸等的水溶液主要用作电解浴。根据情况，还能够使用铬酸、磺酰胺酸、苯磺酸等或组合它们中的两种以上而成的水溶液或非水溶液。若在电解浴中使直流电或交流电通过铝板，则能够在铝板的表面上形成阳极氧化被膜。另外，电解浴中可以包含铝离子。铝离子的含量并无特别限定，但优选为1～10g/L。

阳极氧化处理的条件根据所使用的电解液而适当设定，通常电解液的浓度为1～80质量％(优选为5～20质量％)，液温为5～70℃(优选为10～60℃)，电流密度为0.5～60A/dm²(优选为5～50A/dm²)，电压为1～100V(优选为5～50V)，电解时间为1～100秒(优选为5～60秒)的范围为适当。

在这些阳极氧化处理中也尤其优选英国专利1,412,768说明书中所记载的在硫酸中以高电流密度进行阳极氧化的方法。

阳极氧化处理还能够进行多次。能够变更在各阳极氧化处理中所使用的电解液的种类、浓度、液温、电流密度、电压、电解时间等条件中的1个以上。当阳极氧化处理的次数为2时，有时将最初的极氧化处理称为第1阳极氧化处理，且将第二次阳极氧化处理称为第2阳极氧化处理。通过进行第1阳极氧化处理和第2阳极氧化处理，能够制作具有不同的形状的阳极氧化被膜，并能够提供印刷性能优异的平版印刷版原版。

而且，还能够在阳极氧化处理之后进行下述细孔处理，然后再次进行阳极氧化处理。该情况下，执行第1阳极氧化处理，扩孔处理和第2阳极氧化处理。

通过阳极氧化处理而形成的微孔的形状通常为微孔的直径朝向深度方向(厚度方向)几乎不会发生变化的大致直管状(大致圆柱形)，但也可以为直径朝向深度方向(厚度方向)连续减小的圆锥状。并且，也可以为直径朝向深度方向(厚度方向)不连续减小的形状。

作为直径朝向深度方向(厚度方向)不连续减小的形状的微孔，具体而言，可举出由从阳极氧化被膜表面沿深度方向延伸的大径孔部和与大径孔部的底部连通并从连通位置沿深度方向延伸的小径孔部构成的微孔。为了形成这种形状的微孔，能够利用进行上述第1阳极氧化处理、扩孔处理、第2阳极氧化处理的方法。

在具有大径孔部和小径孔部的上述微孔中，大径孔部的阳极氧化被膜表面上的平均直径为10～100nm，优选为15～60nm。

大径孔部为从阳极氧化被膜的表面沿深度方向(厚度方向)延伸10～1000nm的孔部。上述深度优选为10～200nm。

大径孔部的底部位于从阳极氧化被膜的表面沿深度方向(厚度方向)距离10～1000nm的位置。

大径孔部的形状并无特别限制，例如可举出大致直管状(大致圆柱形)及直径朝向深度方向(厚度方向)连续减小的圆锥形，优选为大致直管状。

小径孔部为与大径孔部的底部连通且比连通位置进一步沿深度方向(厚度方向)延伸20～2000nm的孔部。上述深度优选为300～1500nm。

小径孔部的连通位置上的平均直径优选为13nm以下，更优选为11nm以下。下限并无特别限制，但通常为8nm以上。

小径孔部的形状并无特别限制，例如可举出大致直管状(大致圆柱形)及直径朝向深度方向(厚度方向)连续减小的圆锥形，优选为大致直管状。

作为具有大径孔部和小径孔部的微孔，从将与本发明的下弯宽度Y相当的区域中存在于阳极氧化被膜的表面上的裂纹的面积率调整为30％以下和/或将裂纹的平均宽度调整为20μm以下的观点考虑，优选为由从阳极氧化被膜的表面延伸至深度10～1000nm的位置的大径孔部和与大径孔部的底部连通并从连通位置延伸至20～2000nm的位置的小径孔部构成，且小径孔部的平均直径为大径孔部的平均直径的5％～80％微孔。

＜扩孔处理工序＞

扩孔处理工序为扩大存在于通过上述阳极氧化处理工序而形成的阳极氧化被膜中的微孔的直径(孔径)的处理(孔径扩大处理)。通过该扩孔处理，微孔的直径被扩大，且形成具有平均直径更大的微孔的阳极氧化被膜。

扩孔处理通过使通过上述阳极氧化处理工序得到的铝板与酸性水溶液或碱性水溶液接触而进行。接触的方法并无特别限定，例如可举出浸渍法、喷雾法。其中，优选浸渍法。

当在扩孔处理工序中使用碱性水溶液时，优选使用选自氢氧化钠、氢氧化钾及氢氧化锂中的至少一种碱性水溶液。碱性水溶液的浓度优选为0.1～5质量％。另外，在将碱性水溶液的pH调整至11～13之后，在10～70℃(优选为20～50℃)的条件下，使铝板与碱性水溶液接触1～300秒(优选为1～50秒)为适宜。此时，碱性处理液中可以含有碳酸盐、硼酸盐、磷酸盐等多价弱酸的金属盐。

当在扩孔处理工序中使用酸性水溶液时，优选使用硫酸、磷酸、硝酸、盐酸等无机酸或它们的混合物的水溶液。酸性水溶液的浓度优选为1～80质量％，更优选为5～50质量％。另外，在将酸性水溶液的液温5～70℃(优选为10～60℃)的条件下，使铝板与酸性水溶液接触1～300秒(优选为1～150秒)为适宜。另外，碱性水溶液或酸性水溶液可以包含铝离子。铝离子的含量并无特别限定，但优选为1～10g/L。

＜端部扩孔处理工序＞

扩孔处理工序还优选仅在支承体上的部分区域(端部)中实施。如上所述，通过对支承体的部分区域实施扩孔处理而不是支承体的整个表面，能够防止耐擦伤性降低。

作为仅在部分区域实施扩孔处理的方法，能够利用模涂法、浸涂法、气刀刮涂法、帘涂法、辊涂法、线棒涂布法、凹版涂布法、滑动涂布法、喷墨涂布法、分配器涂布方法、喷涂法等公知的方法，但从需要将酸性水溶液或碱性水溶液涂布到支承体的一部分的方面考虑，优选为喷墨涂布法或分配器涂布法。并且，优选所涂布的区域与切割后的平版印刷原版的相对置的2个边对应。

酸性水溶液或碱性水溶液可以从支承体的端部涂布，也可以涂布到支承体的除了端部以外的位置，也可以结合这些涂布位置。并且，在从支承体的端部涂布的情况和涂布到支承体的除了端部以外的位置的情况中的任意情况下，均优选涂布成具有一定宽度的带状。优选的涂布宽度为1～50mm。优选切割涂布宽度的涂布区域，且在从切割之后的端部距离1cm以内存在涂布区域。关于切割，可以切割涂布区域上的1个部位，也可以切割相同涂布区域上的2个部位。

＜亲水处理工序＞

铝支承体的制造方法可以具有在上述扩孔处理工序之后实施亲水处理的亲水处理工序。作为亲水处理，能够使用日本特开2005-254638号公报的0109～0114段中所公开的公知的方法。

优选通过浸渍于硅酸钠、硅酸钾等碱金属硅酸盐的水溶液中的方法、涂布亲水性乙烯基聚合物或亲水性化合物来形成亲水性底涂层的方法等进行亲水处理。

通过硅酸钠、硅酸钾等碱金属硅酸盐的水溶液进行的亲水处理能够通过美国专利第2,714,066号说明书及美国专利第3,181,461号说明书中所记载的方法及步骤进行。

铝支承体可以根据需要而在与图像记录层的相反的一侧的面具有包含日本特开平5-045885号公报中所记载的有机高分子化合物或日本特开平6-035174号公报中所记载的硅的烷氧化合物等的背涂层。

〔图像记录层〕

关于构成机上显影型平版印刷版原版的图像记录层进行记载。

图像记录层具有支承体吸附性，且含有分子量为1,000以下的化合物。该化合物在分子中不具有不饱和双键基团。该化合物的含量在图像记录层的面内实质上相同。

关于图像记录层中所含有且具有支承体吸附性、分子量为1,000以下且在分子中不具有不饱和双键基团的化合物(以下还称为特定低分子量化合物)进行记载。

特定低分子量化合物具有在机上显影时有效地吸附裂纹，并将裂纹亲水化的特性，从而有助于防止边缘污染。

特定低分子量化合物具有支承体吸附性为特征之一。在此，“支承体吸附性”是指铝支承体所具有的针对阳极氧化被膜的吸附性。关于针对阳极氧化被膜的吸附性的有无，能够通过以下方法而轻松地进行判定。

即，制备将试验化合物溶解在易溶性溶剂(例如，水)中而成的溶液。以干燥后的涂布量成为30mg/m²的方式将该溶液涂布在具有阳极氧化被膜的铝支承体上并干燥。接着，使用上述易溶性溶剂将涂布有试验化合物的铝支承体重复进行5次清洗和干燥之后，测量未通过清洗而去除的试验化合物的残留量。关于残留量的测量，可以直接对所残留的试验化合物的量进行定量，也对溶解在清洗液中的试验化合物的量进行定量。试验化合物的定量例如能够通过荧光X射线测量、反射光谱吸收率测量等来实施。

残留量只要为1mg/m²以上，则判定为试验化合物具有支承体吸附性。

特定低分子量化合物具有支承体吸附性，因此优选具有针对铝支承体的阳极氧化被膜表现出吸附性的基团。作为针对铝支承体所具有的阳极氧化被膜表现出吸附性的基团，可举出能够存在于阳极氧化被膜的表面上的物质(例如，金属、金属氧化物)或官能团(例如，羟基)和形成化学键(例如，离子键、氢键或配位键)的官能团。这些官能团中，优选酸基。酸基的酸解离常数(pKa)优选为7以下。作为酸基的例，可举出酚性羟基、羧基、-SO₃H、-OSO₃H、-PO₃H₂、-OPO₃H₂、-CONHSO₂-、-SO₂NHSO₂-、-COCH₂COCH₃。尤其优选为-OPO₃H₂及-PO₃H₂。酸基可以形成盐。作为由酸基形成的盐，可举出碱金属盐、碱土类金属盐、铵盐等。

特定低分子量化合物的分子量为1,000以下。分子量为1,000以下，由此在机上显影时容易移动到阳极氧化被膜的表面，且可得到优异的防止边缘污染的效果。分子量优选为50～1,000，更优选为50～800，进一步优选为50～600。

特定低分子量化合物在分子中不具有不饱和双键基团。不饱和双键基团为具有聚合性的基团，且包含(甲基)丙烯酸基、乙烯基、烯丙基、苯乙烯基等烯属不饱和基团。特定低分子量化合物在分子中不具有不饱和双键基团，由此能够抑制特定低分子量化合物通过曝光与图像记录层一起固化。

作为特定低分子量化合物，能够使用含氧酸。含氧酸是指，相同原子中键合有羟基(-OH)和氧代基(＝O)，并且羟基赋予酸性质子的化合物。

作为特定分子量化合物，可举出磷酸、多磷酸、偏磷酸、磷酸二氢铵、磷酸氢二铵、磷酸二氢钠、磷酸一氢钠、磷酸二氢钾、磷酸氢二钾、三聚磷酸钠、焦磷酸钾、六偏磷酸钠、次膦酸、乙基膦酸、丙基膦酸、异丙基膦酸、丁基膦酸、己基膦酸、辛基膦酸、十二烷基膦酸、十八烷基膦酸、2-羟乙基膦酸及它们的钠盐或钾盐、甲基膦酸甲酯、乙基膦酸甲酯、2-羟乙基膦酸甲酯等烷基膦酸单烷基酯及它们的钠盐或钾盐、亚甲基二膦酸、亚乙基二膦酸等亚烷基二膦酸即它们的钠盐或钾盐、聚乙烯基膦酸、对甲苯磺酸、对甲苯磺酸钠、磺基邻苯二甲酸、柠檬酸等。

作为特定低分子量化合物，优选为由下述式1表示的化合物。

[化学式2]

式1

式1中，n表示2～10的整数，R1、R2、R3分别独立地表示氢原子、烷基或环氧烷基。

式1中的烷基优选为碳原子数1～10的烷基，更优选为碳原子数1～5的烷基，进一步优选为碳原子数1～3的烷基。

式1中的环氧烷基优选为具有1～10个碳原子数2或3的环氧烷单元的环氧烷基，更优选为具有1～5个碳原子数2或3的环氧烷单元的环氧烷基，进一步优选为具有1～3个碳原子数2或3的环氧烷单元的环氧烷基。

作为特定低分子量化合物，尤其优选为磷酸、多磷酸、膦酸或次膦酸。

特定低分子量化合物可以单独使用一种，也可以同时使用两种以上。

特定低分子量化合物的含量优选为10～150mg/m²，更优选为30～100mg/m²，进一步优选为50～100mg/m²。

在本发明中，特定低分子量化合物的含量在图像记录层的面内实质上相同。在此，“特定低分子量化合物的含量在图像记录层的面内实质上相同”是指，特定低分子量化合物在图像记录层的面内几乎均匀地存在，且在平版印刷版原版的中央部和端部，特定低分子量化合物的含量实质上无差异。即，是指除了在对图像记录层进行了涂布时通常可产生的图像记录层面内的特定低分子量化合物的含量差以外，无含量差。

因此，本发明中形成如下状态，即有意仅对平版印刷版原版的端部应用特定低分子量化合物而使端部的特定低分子量化合物的含量比除了端部以外的区域的特定低分子量化合物的含量多，在该方面不同。

＜聚合物粒子＞

图像记录层优选含有聚合物粒子。聚合物粒子有助于提高机上显影性。聚合物粒子优选为被施加热时能够将图像记录层转换为疏水性的聚合物粒子。聚合物粒子优选为选自疏水性热塑性聚合物粒子、热反应性聚合物粒子、具有聚合性基的聚合物粒子、内含疏水性化合物的微胶囊及微凝胶(交联聚合物粒子)中的至少一个。

作为疏水性热塑性聚合物粒子，可优选地举出1992年1月的Research Disclosure No.33303、日本特开平9-123387号公报、日本特开9-131850号公报、日本特开9-171249号公报、日本特开9-171250号公报及欧洲专利第931647号说明书等中所记载的疏水性热塑性聚合物粒子。

作为构成疏水性热塑性聚合物粒子的聚合物的具体例，可举出乙烯、苯乙烯、氯乙烯、丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、偏二氯乙烯、丙烯腈、乙烯基咔唑、具有聚亚烷基结构的丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯等单体的均聚物或预聚物或它们的混合物。优选举出含有聚苯乙烯、苯乙烯及丙烯晴的共聚物、聚甲基丙烯酸甲酯。疏水性热塑性聚合物粒子的平均粒径优选为0.01～2.0μm。

作为热反应性聚合物粒子，可举出具有热反应性基的聚合物粒子。具有热反应性基团的聚合物粒子通过基于热反应的交联及进行交联时的官能团变化而形成疏水性区域。

作为具有热反应性基的聚合物粒子中的热反应性基，只要可形成化学键，则可以是进行任意反应的官能团，优选为聚合性基。作为其例，优选举出进行自由基聚合反应的烯属不饱和基(例如，丙烯酰基、甲基丙烯酰基、乙烯基、烯丙基等)、阳离子聚合性基(例如，乙烯基、乙烯氧基、环氧基、氧杂环丁基等)、进行加成反应的异氰酸酯基或其嵌段物、环氧基、乙烯氧基及具有作为这些反应目标的活性氢原子的官能团(例如，氨基、羟基、羧基等)、进行缩合反应的羧基及作为反应目标的羟基或氨基、进行开环加成反应的酸酐及作为反应目标的氨基或羟基等。

作为微胶囊，例如可举出如日本特开2001-277740号公报及日本特开2001-277742号公报中所记载，在微胶囊内含有所有的图像记录层的构成成分或其一部分。图像记录层的构成成分还能够在微胶囊外含有。作为含有微胶囊的图像记录层，优选的方式为在微胶囊内含有疏水性构成成分，且在微胶囊外含有亲水性构成成分。

微凝胶(交联聚合物粒子)能够在其内部及表面的至少一个含有图像记录层的构成成分的一部分。尤其，从图像形成灵敏度或印刷耐久性的观点考虑，优选为通过在其表面具有自由基聚合性基而进行了反应性微凝胶的方式。

为了将图像记录层的构成成分微胶囊化或微凝胶化，能够利用公知的方法。

微胶囊或微凝胶的平均粒径优选为0.01～3.0μm，更优选为0.05～2.0μm，尤其优选为0.10～1.0μm。在该范围内可得到良好的分辨率和经时稳定性。

作为聚合物粒子，从对机上显影性的贡献的观点考虑，优选为包含源自苯乙烯化合物的单体单元和/或源自(甲基)丙烯腈化合物的单体单元的聚合物粒子。并且，优选进一步包含源自聚(乙二醇)烷基醚甲基丙烯酸酯化合物的单体单元的聚合物粒子。

聚合物粒子可以单独使用一种，也可以同时使用两种以上。

聚合物粒子的含量在图像记录层的总固体成分中优选为5～90质量％，更优选为5～80质量％，进一步优选为10～75质量％。

图像记录层优选含有聚合引发剂、红外线吸收剂、聚合性化合物。

＜聚合引发剂＞

聚合引发剂为通过光、热或该两者的能量而产生自由基或阳离子等聚合引发种的化合物，并能够从公知的热聚合引发剂、具有键解离能小的键的化合物、光聚合引发剂等中适当选择而使用。

作为聚合引发剂，优选为红外线感光性聚合引发剂。并且，作为聚合引发剂，优选为自由基聚合引发剂。自由基聚合引发剂可以同时使用两种以上。

自由基聚合引发剂可以为受电子性聚合引发剂及供电子性聚合引发剂。

(受电子性聚合引发剂)

作为受电子性聚合引发剂，例如可举出有机卤化物、羰基化合物、偶氮化合物、有机过氧化物、茂金属化合物、叠氮化合物、六芳基联咪唑化合物、二砜化合物、肟酯化合物及鎓盐化合物。

作为有机卤化物，例如优选为日本特开2008-195018号公报的0022～0023段中所记载的化合物。

作为羰基化合物，例如优选为日本特开2008-195018号公报的0024段中所记载的化合物。

作为偶氮化合物，例如可举出日本特开平8-108621号公报中所记载的偶氮化合物等。

作为有机过氧化物，例如优选为日本特开2008-195018号公报的0025段中所记载的化合物。

作为茂金属化合物，例如优选为日本特开2008-195018号公报的0026段中所记载的化合物。

作为叠氮化合物，例如可举出2,6-双(4-叠氮亚苄基)-4-甲基环己酮等化合物。

作为六芳基双咪唑化合物，例如优选为日本特开2008-195018号公报的0027段中所记载的化合物。

作为二砜化合物，例如可举出日本特开昭61-166544号、日本特开2002-328465号的各公报中所记载的化合物。

作为肟酯化合物，例如优选日本特开2008-195018号公报的0028～0030段中所记载的化合物。

在受电子型聚合引发剂中，作为更优选的化合物，可举出碘鎓盐、锍盐及吖嗪鎓盐等鎓盐。尤其优选碘鎓盐及锍盐。以下示出碘鎓盐及锍盐的具体例，但本发明并不限定于这些。

作为碘鎓盐的例，优选为二苯基碘鎓盐，尤其优选具有给电子基团来作为取代基的例如经烷基或烷氧基取代的二苯基碘鎓盐，并且，优选为非对称的二苯基碘鎓盐。作为具体例，可举出二苯基碘鎓＝六氟磷酸盐、4-甲氧基苯基-4-(2-甲基丙基)苯基碘鎓＝六氟磷酸盐、4-(2-甲基丙基)苯基-对-甲苯基碘鎓＝六氟磷酸盐、4-己氧基苯基-2,4,6-三甲氧基苯基碘鎓＝六氟磷酸盐、4-己氧基苯基-2,4-二乙氧基苯基碘鎓＝四氟硼酸盐、4-辛氧基苯基-2,4,6-三甲氧基苯基碘鎓＝1-全氟丁基磺酸盐、4-辛氧基苯基-2,4,6-三甲氧基苯基碘鎓＝六氟磷酸盐及双(4-叔丁基苯基)碘鎓＝四苯硼酸盐。

作为锍盐的例，优选为三芳基锍盐，尤其优选具有吸电子基团作为取代基、例如芳香环上的基团的至少一部分被卤素原子取代的三芳基锍盐，进一步优选为芳香环上的卤素原子的总取代数为4以上的三芳基锍盐。作为具体例，可举出三苯基硫鎓＝六氟磷酸盐、三苯基硫鎓＝苯甲酰基甲酸盐、双(4-氯苯基)苯基硫鎓＝苯甲酰基甲酸盐、双(4-氯苯基)-4-甲基苯基硫鎓＝四氟硼酸盐、三(4-氯苯基)硫鎓＝3,5-双(甲氧基羰基)苯磺酸盐、三(4-氯苯基)硫鎓＝六氟磷酸盐、三(2,4-二氯苯基)硫鎓＝六氟磷酸盐。

受电子性聚合引发剂可以单独使用一种，也可以同时使用两种以上。

受电子性聚合引发剂的含量在图像记录层的总固体成分中优选为0.1～50质量％，更优选为0.5～30质量％，进一步优选为0.8～20质量％。

(受电子性聚合引发剂)

供电子性聚合引发剂有助于改善由平版印刷版原版制作的平版印刷版的印刷耐久性。作为供电子性聚合引发剂，例如可举出以下5种。

(i)烷基或芳基酸根型络合物：认为碳-杂键氧化性裂解，并生成活性自由基。具体而言，可举出硼酸盐化合物等。

(i i)氨基乙酸化合物：认为因氧化而与氮相邻的碳上的C-X键裂解而生成活性自由基。作为X，优选为氢原子、羧基、三甲基甲硅烷基或苄基。具体而言，可举出N-苯基甘氨酸类(可以在苯基中具有取代基。)、N-苯基亚氨基二乙酸(可以在苯基中具有取代基。)等。

(iii)含硫化合物：将上述氨基乙酸化合物的氮原子取代为硫原子而成的化合物可通过相同的作用而生成活性自由基。具体而言，可举出苯硫基乙酸(可以在苯基中具有取代基。)等。

(iv)含锡化合物：将上述氨基乙酸化合物的氮原子取代为锡原子而成的化合物可通过相同的作用而生成活性自由基。

(v)亚磺酸盐类：可通过氧化而生成活性自由基。具体而言，可举出芳基亚磺酸钠等。

在供电子性聚合引发剂中，优选硼酸盐化合物。作为硼酸盐化合物，优选为四芳基硼酸盐化合物或单烷基三芳基硼酸盐化合物，从化合物稳定性的观点考虑，更优选为四芳基硼酸盐化合物。

作为硼酸盐化合物所具有的抗衡阳离子，优选为碱金属离子或四烷基铵离子，更优选为钠离子、钾离子或四丁基铵离子。

作为硼酸盐化合物的具体例，可举出以下所示的化合物。其中，X_c ⁺表示一价阳离子，优选为碱金属离子或四烷基铵离子，更优选为碱金属离子或四丁基铵离子。并且，Bu表示正丁基。

[化学式3]

[化学式4]

[化学式5]

[化学式6]

供电子性聚合引发剂可以单独使用一种，也可以同时使用两种以上。

供电子性聚合引发剂的含量在图像记录层的总固体成分中优选为0.01～30质量％，更优选为0.05～25质量％，进一步优选为0.1～20质量％。

＜红外线吸收剂＞

红外线吸收剂具有通过红外线而被激发并向聚合引发剂等电子移动和/或能量移动的功能。并且，具有将所吸收的红外线转换成热的功能。红外线吸收剂优选在750～1,400nm的波长区域具有极大吸收。作为红外线吸收剂，可举出染料或颜料，优选地使用染料。

作为染料，能够利用市售的染料及例如“染料便览”(The Society of SyntheticOrganic Chemistry，Japan.编辑、昭和45(1970年)年刊)等文献中所记载的公知的染料。具体而言，可举出偶氮染料、金属络合物偶氮染料、吡唑啉酮偶氮染料、萘醌染料、蒽醌染料、酞菁染料、碳鎓染料、醌亚胺染料、次甲基染料、花青染料、芳酸菁色素、吡喃鎓盐、金属硫醇盐络合物等染料。

染料中，优选花青色素、方酸菁色素、吡喃鎓盐，更优选花青色素，尤其优选吲哚菁色素。

作为花青色素，可举出由下述式(a)表示的花青色素。

[化学式7]

式(a)

在式(a)中，X¹表示氢原子、卤素原子，-N(R⁹)(R¹⁰)、-X²-L¹或以下所示的基团。其中，R⁹及R¹⁰可以相同也可以不同，且分别独立地表示碳原子数6～10的芳香族烃基，碳原子数1～8的烷基或氢原子，或者R⁹与R¹⁰可以彼此键合而形成环。碳原子数6～10的芳香族烃基或碳原子数1～8的烷基可以具有取代基。R⁹与R¹⁰优选同时为苯基。X²表示氧原子或硫原子，L¹表示碳原子数1～12的烃基或含有杂原子且碳原子数1～12的烃基。其中，杂原子表示N、S、O、卤素原子、Se。在以下所示的基团中，Xa-的定义与后述Za-相同，Ra表示选自氢原子或烷基、芳基、取代或未经取代的氨基及卤素原子中的取代基。

[化学式8]

在式(a)中，R¹及R²分别独立地表示碳原子数1～12的烃基。从图像记录层涂布液的保存稳定性考虑，R¹及R²优选为碳原子数2以上的烃基，而且尤其优选R¹及R²彼此键合而形成5元环或6元环。

在式(a)中，Ar¹、Ar²可以相同也可以不同，且分别表示芳香族烃基。芳香族烃基可以具有取代基。作为优选的芳香族烃基，可举出苯环基及萘环基。并且，作为优选的取代基，可举出碳原子数12以下的烃基、卤素原子、碳原子数12以下的烷氧基。Y¹、Y²可以相同也可以不同，且分别表示硫原子或碳原子数12以下的二烷基亚甲基。R³和R⁴可以相同也可以不同，且分别表示碳原子数20以下的烃基。碳原子数20以上的烃基可以具有取代基。作为优选的取代基，可举出碳原子数12以下的烷氧基、羧基、磺基。R⁵、R⁶、R⁷及R⁸可以相同也可以不同，且分别表示氢原子或碳原子数12以下的烃基。从原料的易获得性考虑，优选为氢原子。并且，Za^-表示抗衡阴离子。其中，由式(a)表示的花青色素在其结构内具有阴离子性取代基，当无需中和电荷时不需要Za^-。关于Za^-，从图像记录层涂布液的保存稳定性考虑，优选为卤化物离子、高氯酸根离子、四氟硼酸根离子、六氟磷酸根离子或磺酸根离子，更优选为高氯酸根离子、六氟磷酸根离子或芳基磺酸根离子。

在由式(a)表示的花青色素中，更优选X¹为二苯基氨基。并且，进一步优选X¹为二苯基氨基，Y¹及Y²一同为二甲基亚甲基。

作为花青色素的具体例，可举出日本特开2001-133969号公报的0017～0019段中所记载的化合物、日本特开2002-023360号公报的0016～0021段、日本特开2002-040638号公报的0012～0037段中所记载的化合物，优选日本特开2002-278057号公报的0034～0041段、日本特开2008-195018公报的0080～0086段中所记载的化合物，尤其优选日本特开2007-090850号公报的0035～0043段中所记载的化合物。

并且，还能够优选使用日本特开平5-005005号公报的0008～0009段、日本特开2001-222101号公报的0022～0025段中所记载的化合物。

作为颜料，优选日本特开2008-195018号公报的0072～0076段中所记载的化合物。

红外线吸收剂可以单独使用一种，也可以同时使用两种以上。

红外线吸收剂的含量在图像记录层的总固体成分中优选为0.05～30质量％，更优选为0.1～20质量％，进一步优选为0.2～10质量％。

＜聚合性化合物＞

聚合性化合物例如可以为自由基聚合性化合物，也可以为阳离子聚合性化合物，但优选为具有至少一个烯属不饱和键的加成聚合性化合物(烯属不饱和化合物)。作为烯属不饱和化合物，优选为至少具有1个末端烯属不饱和键的化合物，更优选为具有2个以上的末端烯属不饱和键的化合物。聚合性化合物例如能够具有单体、预聚物，即二聚体、三聚体或低聚物或者它们的混合物等化学形态。

作为单体的例，可举出不饱和羧酸(例如，丙烯酸、甲基丙烯酸、衣康酸、巴豆酸、异巴豆酸、马来酸)或其醚类、酰胺类。优选为不饱和羧酸与多元醇化合物的酯类、不饱和羧酸与多价胺化合物的酰胺类。并且，还优选地使用羟基、氨基、巯基等具有亲核性取代基的不饱和羧酸酯类或酰胺类与单官能或多官能异氰酸酯类或环氧类的加成反应物及与单官能或多官能羧酸的脱水缩合反应物等。并且，还优选异氰酸酯基、环氧基等具有亲电子性取代基的不饱和羧酸酯类或酰胺类与单官能或多官能醇类、胺类、硫醇类的加成反应物、更优选为卤素原子、甲苯磺酰氧基等具有脱离性取代基的不饱和羧酸酯类或酰胺类与单官能或多官能醇类、胺类、硫醇类的取代反应物。并且，作为另一例，还能够使用以不饱和膦酸、苯乙烯、乙烯基醚等取代上述不饱和羧酸的化合物组。这些化合物记载于日本特表2006-508380号公报、日本特开2002-287344号公报、日本特开2008-256850号公报、日本特开2001-342222号公报、日本特开平9-179296号公报、日本特开平9-179297号公报、日本特开平9-179298号公报、日本特开2004-294935号公报、日本特开2006-243493号公报、日本特开2002-275129号公报、日本特开2003-064130号公报、日本特开2003-280187号公报、日本特开平10-333321号公报等。

作为多元醇化合物和不饱和羧酸的酯单体的具体例，作为丙烯酸酯，可举出乙二醇二丙烯酸酯、1,3-丁二醇二丙烯酸酯、四亚甲基二醇二丙烯酸酯、丙二醇二丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、己二醇二丙烯酸酯、四乙二醇二丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、山梨糖醇三丙烯酸酯、异氰脲酸环氧乙烷(EO)改性三丙烯酸酯、聚酯丙烯酸酯低聚物等。作为甲基丙烯酸酯，可举出四亚甲基二醇二甲基丙烯酸酯、季戊二醇二甲基丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯、乙二醇二甲基丙烯酸酯、季戊四醇三甲基丙烯酸酯、双〔对-(3-甲基丙烯酰氧基-2-羟基丙氧基)苯基〕二甲基甲烷、双〔对-(甲基丙烯酰氧基乙氧基)苯基〕二甲基甲烷等。并且，作为多元胺化合物和不饱和羧酸的酰胺单体的具体例，可举出亚甲基双丙烯酰胺、亚甲基双甲基丙烯酰胺、1,6-六亚甲基双丙稀酰胺、1,6-六亚甲基双甲基丙烯酰胺、二乙烯三胺三丙烯酰胺、亚二甲苯基双丙烯酰胺、亚二苯基双甲基丙烯酰胺等。

并且，还优选利用异氰酸酯与羟基的加成反应而制造的氨基甲酸酯系加成聚合性化合物，作为其具体例，例如可举出对日本特公昭48-041708号公报中所记载的使在1分子中具有两个以上的异氰酸酯基的聚异氰酸酯化合物与由下述式(M)表示的含有羟基的乙烯基单体加成而得的在1分子中含有两个以上的聚合性乙烯基的乙烯基氨基甲酸酯化合物等。

CH₂＝C(R^M4)COOCH₂CH(R^M5)OH (M)

式(M)中，R^M4及R^M5分别独立地表示氢原子或甲基。

并且，还优选日本特开昭51-037193号公报、日本特公平2-032293号公报、日本特公平2-016765号公报、日本特开2003-344997号公报、日本特开2006-065210号公报中所记载的氨基甲酸酯丙烯酸酯类、日本特公昭58-049860号公报、日本特公昭56-017654号公报、日本特公昭62-039417号公报、日本特公昭62-039418号公报、日本特开2000-250211号公报、日本特开2007-094138号公报中所记载的具有环氧乙烷系骨架的氨基甲酸酯化合物类、美国专利第7153632号说明书、日本特表平8-505958号公报、日本特开2007-293221号公报、日本特开2007-293223号公报中所记载的具有亲水性基的氨基甲酸酯化合物类。

关于聚合性化合物的结构，单独使用或者同时使用、添加量等使用方法的详细内容能够通过考虑平版印刷版原版的最终用途等而任意设定。

聚合性化合物的含量在图像记录层的总固体成分中优选为1～50质量％，更优选为3～30质量％，进一步优选为5～20质量％。

图像记录层能够含有粘合剂聚合物、链转移剂、低分子亲水性化合物、增感剂、其他成分。

＜粘合剂聚合物＞

作为粘合剂聚合物，优选具有被膜性的聚合物，且可优选地举出(甲基)丙烯酸树脂、聚乙烯醇缩醛树脂、聚氨酯树脂等。

关于机上显影型平版印刷版原版的图像记录层中所使用的粘合剂聚合物(以下，还称为机上显影用粘合剂聚合物)进行详细记载。

作为机上显影用粘合剂聚合物，优选具有环氧烷链的粘合剂聚合物。具有环氧烷链的粘合剂聚合物可以在主链具有聚(环氧烷)部位也可以在侧链具有。并且，可以是在侧链具有聚(环氧烷)的接枝聚合物，也可以是由含有聚(环氧烷)的重复单元构成的嵌段物与由不含有(环氧烷)的重复单元构成的嵌段物的嵌段共聚物。

当在主链具有聚(环氧烷)部位时，优选聚氨酯树脂。作为在侧链具有聚(环氧烷)部位的情况下的主链的聚合物，可举出(甲基)丙烯酸树脂、聚乙烯醇缩醛树脂、聚氨酯树脂、聚脲树脂、聚酰亚胺树脂、聚酰胺树脂、环氧树脂、聚苯乙烯树脂、酚醛清漆型酚醛树脂、聚酯树脂、合成橡胶、天然橡胶，尤其优选(甲基)丙烯酸树脂。

作为环氧烷优选碳原子数为2～6的环氧烷，尤其优选环氧乙烷或环氧丙烷。

聚(环氧烷)部位中的环氧烷的重复数优选为2～120，更优选为2～70，进一步优选为2～50。

若环氧烷的重复数为120以下，则基于摩擦的印刷耐久性、基于墨液接受性的印刷耐久性这两个方面不会降低，因此优选。

关于聚(环氧烷)部位，优选作为粘合剂聚合物的侧链，以由下述式(AO)表示的结构含有，更优选作为(甲基)丙烯酸树脂的侧链，以由下述式(AO)表示的结构含有。

[化学式9]

式(AO)中，y表示2～120，R₁表示氢原子或烷基，R₂表示氢原子或一价有机基团。

作为一价有机基团，优选为碳原子数1～6的烷基。具体而言，可举出甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、仲丁基、异丁基、叔丁基、正戊基、异戊基、季戊基、正己基、异己基、1,1-二甲基丁基、2,2-二甲基丁基、环戊基及环己基。

式(AO)中，y优选为2～70，更优选为2～50。R₁优选为氢原子或甲基，尤其优选为氢原子。R₂尤其优选为氢原子或甲基。

关于粘合剂聚合物，为了提高图像部的被膜强度而可以具有交联性。为了使聚合物具有交联性，将乙烯性不饱和键等交联性官能团导入高分子的主链中或侧链中即可。交联性官能团可以通过共聚而导入，也可以通过聚合物反应而导入。

作为在分子的主链中具有乙烯性不饱和键的聚合物的例，可举出聚-1,4-丁二烯、聚-1,4-异戊二烯等。

作为在分子的侧链中具有乙烯性不饱和键的聚合物的例，能够举出丙烯酸或甲基丙烯酸的酯或酰胺的聚合物，且为由酯或酰胺的残基(-COOR或-CONHR的R)具有乙烯性不饱和键的聚合物。

作为具有乙烯性不饱和键的残基(上述R)的例，能够举出-(CH₂)_nCR^1A＝CR^2AR^3A、-(CH₂O)_nCH₂CR^1A＝CR^2AR^3A、-(CH₂CH₂O)_nCH₂CR^1A＝CR^2AR^3A、-(CH₂)_nNH-CO-O-CH₂CR^1A＝CR^2AR^3A、-(CH₂)_n-O-CO-CR^1A＝CR^2AR^3A及-(CH₂CH₂O)₂-X^A(式中，R^A1～R^A3分别独立地表示氢原子、卤素原子、碳原子数1～20的烷基、芳基、烷氧基或芳基氧基，R^A1可以与R^A2或R^A3彼此键合而形成环。n表示1～10的整数。X^A表示二环戊二烯残基。)。

作为酯残基的具体例，可举出-CH₂CH＝CH₂、-CH₂CH₂O-CH₂CH＝CH₂、-CH₂C(CH₃)＝CH₂、-CH₂CH＝CH-C₆H₅、-CH₂CH₂OCOCH＝CH-C₆H₅、-CH₂CH₂-NHCOO-CH₂CH＝CH₂及-CH₂CH₂O-X(式中，X表示二环戊二烯残基。)。

作为酰胺残基的具体例，可举出-CH₂CH＝CH₂、-CH₂CH₂-Y(式中，Y表示环己烯残基。)及-CH₂CH₂-OCO-CH＝CH₂。

关于具有交联性的粘合剂聚合物，例如对该交联性官能团加成自由基(聚合引发自由基或聚合性化合物的聚合过程的生长自由基)，在聚合物之间直接或经由聚合性化合物的聚合链而加成聚合，从而在聚合物分子之间形成交联而固化。或者，聚合物中的原子(例如，与官能性交联基相邻的碳原子上的氢原子)因自由基被去除而生成聚合物自由基，且其彼此键合，从而在聚合物分子之间形成交联而固化。

从良好的灵敏度和良好的保存稳定性的观点考虑，粘合剂聚合物中的交联性基的含量(基于碘滴定的能够自由基聚合的不饱和双键的含量)在每1g粘合剂聚合物中优选为0.1～10.0mmol，更优选为1.0～7.0mmol，进一步优选为2.0～5.5mmol。

以下示出粘合剂聚合物的具体例1～11，但本发明并不限定于这些。下述例示化合物中，一并记载于各重复单元的数值(一并记载于主链重复单元的数值)表示重复单元的摩尔百分比。一并记载于侧链重复单元的数值表示重复部位的重复数。并且，Me表示甲基，Et表示乙基，Ph表示苯基。

[化学式10]

(1)

(2)

(3)

(4)

(5)

(6)

(7)

[化学式11]

(8)

(9)

(10)

(11)

关于粘合剂聚合物的分子量，作为基于GPC法的聚苯乙烯换算值重均分子量(Mw)为2,000以上，优选为5,000以上，更优选为10,000～300,000。

根据需要能够同时使用日本特开2008-195018号公报中所记载的聚丙烯酸、聚乙烯醇等亲水性聚合物。并且，还能够同时使用亲油性聚合物和亲水性聚合物。

粘合剂聚合物可以单独使用一种，也可以同时使用两种以上。

粘合剂聚合物的含量在图像记录层的总固体成分中优选为1～90质量％，更优选为5～80质量％。

＜链转移剂＞

链转移剂有助于提高由平版印刷版原版制作的平版印刷版的印刷耐久性。

作为链转移剂，优选硫醇化合物，从沸点(难挥发性)的观点考虑，更优选为碳原子数7以上的硫醇，进一步优选为在芳香环上具有巯基的化合物(芳香族硫醇化合物)。硫醇化合物优选为单官能硫醇化合物。

作为链转移剂的具体例，可举出下述化合物。

[化学式12]

[化学式13]

[化学式14]

[化学式15]

链转移剂可以单独使用一种，也可以同时使用两种以上。

链转移剂的含量在图像记录层的总固体成分中优选为0.01～50质量％，更优选为0.05～40质量％，进一步优选为0.1～30质量％。

＜低分子亲水性化合物＞

低分子量亲水性化合物有助于提高平版印刷版原版的机上显影性，而不会降低由平版印刷版原版制作的平版印刷版的印刷耐久性。低分子亲水性化合物优选为分子量小于1,000的化合物，更优选为分子量小于800的化合物，进一步优选为分子量小于500的化合物。

作为低分子亲水性化合物，例如作为水溶性有机化合物，可举出乙二醇、二乙二醇、三乙二醇、丙二醇、二丙二醇、三丙二醇等甘醇类及其醚或酯衍生物类、甘油、季戊四醇、三(2-羟乙基)异氰脲酸酯等多元醇类、三乙醇胺、二乙醇胺、单乙醇胺等有机胺类及其盐、烷基磺酸、甲苯磺酸、苯磺酸等的有机磺酸类及其盐、烷基氨基磺酸等有机氨基磺酸类及其盐、烷基硫酸、烷基醚硫酸等有机硫酸类及其盐、苯基膦酸等有机膦酸类及其盐、酒石酸、草酸、柠檬酸、苹果酸、乳酸、葡萄糖酸、氨基酸类等有机羧酸类及其盐、甜菜碱类等。

低分子亲水性化合物优选为选自多元醇类、有机硫酸盐类、有机磺酸盐类及甜菜碱类中的至少一种。

作为有机磺酸盐类的具体例，可举出正丁基磺酸钠、正己基磺酸钠、2-乙基己基磺酸钠、环己基磺酸钠、正辛基磺酸钠等烷基磺酸盐，5,8,11-三氧杂十五烷-1-磺酸钠、5,8,11-三氧杂十七烷-1-磺酸钠、13-乙基-5,8,11-三氧杂十七烷-1-磺酸钠、5,8,11,14-四氧杂二十四烷-1-磺酸钠等包含氧化乙烯链的烷基磺酸盐，苯磺酸钠、对甲苯磺酸钠、对羟基苯磺酸钠、对苯乙烯磺酸钠、间苯二甲酸二甲酯-5-磺酸钠、1-萘磺酸钠、4-羟基萘磺酸钠、1,5-萘二磺酸二钠、1,3,6-萘三磺酸三钠等芳基磺酸盐、日本特开2007-276454号公报的0026～0031段及日本特开2009-154525号公报的0020～0047段中所记载的化合物等。盐可以为钾盐、锂盐。

作为有机硫酸盐类，可举出聚环氧乙烷的烷基、烯基、炔基、芳基或杂环单醚的硫酸盐。环氧乙烷单元的数量优选1～4，盐优选钠盐、钾盐或锂盐。作为具体例，可举出日本特开2007-276454号公报的0034～0038段中所记载的化合物。

作为甜菜碱类，优选针对氮原子的烃取代基的碳原子数为1～5的化合物，作为具体例，可举出三甲基铵醋酸盐、二甲基丙基铵醋酸盐、3-羟基-4-三甲基铵丁酸盐、4-(1-吡啶基)丁酸盐、1-羟基乙基-1-咪唑醋酸盐、三甲基铵甲磺酸盐、二甲基丙基铵甲基磺酸盐、3-三甲基铵基-1-丙烷磺酸盐、3-(1-吡啶基)-1-丙烷磺酸盐等。

低分子亲水性化合物由于其疏水性部分的结构较小且几乎无表面活性作用，因此润版液不会浸透图像记录层曝光部(图像部)而使图像部的疏水性或被膜强度降低，从而可良好地维持图像记录层的墨液接受性或印刷耐久性。

低分子亲水性化合物可以单独使用一种，也可以同时使用两种以上。

低分子亲水性化合物的含量在图像记录层的总固体成分中优选为0.5～20质量％，更优选为1～15质量％，进一步优选为2～10质量％。

＜增感剂＞

增感剂有助于提高由平版印刷版原版制作的平版印刷版的墨液的着墨性(以下，还简称为“着墨性”)。作为增感剂，可举出鏻化合物、含氮低分子化合物、含铵基聚合物等。尤其，当平版印刷版原版在保护层中含有无机层状化合物时，这些化合物能够作为无机层状化合物的表面涂覆剂而发挥功能，并具有抑制基于无机层状化合物的印刷中途的着墨性降低的功能。

作为增感剂，优选同时使用鏻化合物、含氮低分子化合物及含铵基聚合物，更优选同时使用鏻化合物、季铵盐类及含铵基聚合物。

作为鏻化合物，可举出日本特开2006-297907号公报及日本特开2007-050660号公报所记载的鏻化合物。作为具体例，可举出四丁基碘化膦、丁基三苯基溴化膦、四苯基溴化膦、1,4-双(三苯基膦)丁烷＝二(六氟磷酸盐)、1,7-双(三苯基膦)庚烷＝硫酸盐、1,9-双(三苯基膦)壬烷＝萘-2,7-二磺酸盐等。

作为含氮低分子化合物，可举出胺盐类、季铵盐类。并且还可举出咪唑啉鎓盐类、苯并咪唑啉鎓盐类、吡啶鎓盐类、喹啉鎓盐类。其中，优选季铵盐类及吡啶鎓盐类。作为具体例，可举出四甲基铵＝六氟磷酸盐、四丁基铵＝六氟磷酸盐、十二烷基三甲基铵＝对甲苯磺酸、苄基三乙基铵＝六氟磷酸盐、苄基二甲基辛基铵＝六氟磷酸盐、苄基二甲基十二烷基铵＝六氟磷酸盐、日本特开2008-284858号公报的0021～0037段、日本特开2009-090645号公报的0030～0057段中所记载的化合物等。

作为含铵基聚合物，只要在其结构中具有铵基即可，优选为含有5～80摩尔％的在侧链具有铵基的(甲基)丙烯酸酯作为共聚成分的聚合物。作为具体例，可举出日本特开2009-208458号公报的0089～0105段中所记载的聚合物。

关于含铵基聚合物，通过日本特开2009-208458号公报中所记载的测定方法求出的比浓粘度(单位：ml/g)的值优选为5～120的范围，更优选为10～110的范围，尤其优选为15～100的范围。以重均分子量(Mw)换算上述比浓粘度的情况下，优选为10,000～150,000，更优选为17,000～140,000，尤其优选为20,000～130,000。

以下，示出含铵基聚合物的具体例。

(1)2-(三甲基铵基)乙基甲基丙烯酸酯＝对甲苯磺酸盐/3,6-二氧杂庚基甲基丙烯酸酯共聚物(摩尔比10/90、Mw4.5万)

(2)2-(三甲基铵基)乙基甲基丙烯酸酯＝六氟磷酸盐/3,6-二氧杂庚基甲基丙烯酸酯共聚物(摩尔比20/80、Mw6.0万)

(3)2-(乙基二甲基铵)乙基甲基丙烯酸酯＝对甲苯磺酸盐/己基甲基丙烯酸酯共聚物(摩尔比30/70、Mw4.5万)

(4)2-(三甲基铵基)乙基甲基丙烯酸酯＝六氟磷酸盐/2-乙基己基甲基丙烯酸酯共聚物(摩尔比20/80、Mw6.0万)

(5)2-(三甲基铵基)乙基甲基丙烯酸酯＝甲基硫酸盐/己基甲基丙烯酸酯共聚物(摩尔比40/60、Mw7.0万)

(6)2-(丁基二甲基铵)乙基甲基丙烯酸酯＝六氟磷酸盐/3,6-二氧杂庚基甲基丙烯酸酯共聚物(摩尔比25/75、Mw6.5万)

(7)2-(丁基二甲基铵)乙基丙烯酸酯＝六氟磷酸盐/3,6-二氧杂庚基甲基丙烯酸酯共聚物(摩尔比20/80、Mw6.5万)

(8)2-(丁基二甲基铵)乙基甲基丙烯酸酯＝13-乙基-5,8,11-三氧杂-1-十七烷磺酸盐/3,6-二氧杂庚基甲基丙烯酸酯共聚物(摩尔比20/80、Mw7.5万)

(9)2-(丁基二甲基铵)乙基甲基丙烯酸酯＝六氟磷酸/3,6-二氧杂庚基甲基丙烯酸酯/2-羟基-3-甲基丙烯酰氧基丙基甲基丙烯酸酯共聚物(摩尔比15/80/5、Mw6.5万)

增感剂的含量在图像记录层的总固体成分中优选为0.01～30质量％，更优选为0.1～15质量％，进一步优选为1～10质量％。

＜其他成分＞

图像记录层中，作为其他成分，能够含有表面活性剂、聚合抑制剂、高级脂肪酸衍生物、增塑剂、无机粒子、无机层状化合物等。具体而言，能够使用日本特开2008-284817号公报的0114～0159段中所记载的各成分。

根据图像记录层的一方式，图像记录层含有红外线吸收剂、聚合性化合物、聚合引发剂以及粘合剂聚合物及聚合物粒子中的至少一种。图像记录层优选进一步含有链转移剂。

根据图像记录层的另一方式，图像记录层含有红外线吸收剂、热熔粒子及粘合剂聚合物。

＜图像记录层的形成＞

关于图像记录层，例如如日本特开2008-195018号公报的0142～0143段中所记载，能够通过将所需要的上述各成分适当分散或溶解于公知的溶剂来制备涂布液，在支承体上通过棒涂等公知的方法涂布涂布液，并进行干燥而形成。涂布、干燥后的图像记录层的涂布量(固体成分)根据用途而不同，但从得到良好的灵敏度和图像记录层的良好的被膜特性的观点考虑，优选为0.3～3.0g/m²。

形成图像记录层时，也能够使用含有特定低分子量化合物的图像记录层底层用涂布液而形成图像记录层底层，且在图像记录层底层上使用不含有特定低分子量化合物的图像记录层上层用涂布液而形成图像记录层上层来作为图像记录层。

关于图像记录层底层用涂布液，除了特定低分子量化合物以外，还可以含有作为图像记录层底层的粘合剂而发挥功能的聚合物、螯合剂、表面活性剂等。作为粘合剂而发挥功能的聚合物，能够举出在后述的底涂层中所使用的聚合物。关于螯合剂，以防止非图像部的经时污染等为目的而使用，例如可举出CHELEST系列(CHELEST CORPORATION)。作为表面活性剂，以通过降低表面张力来提高涂布性等为目的而使用，例如可举出EMALEX系列(NIHON EMULSION Co.,Ltd.)。

关于图像记录层底层用涂布液，除了特定低分子量化合物以外，还可以含有上述图像记录层成分。

图像记录层底层用涂布液能够通过将上述各成分溶解在水中而制备。能够通过棒涂等公知的方法涂布图像记录层底层用涂布液，并进行干燥而形成图像记录层底层。干燥后的图像记录层底层的涂布量(固体成分)优选为5～200mg/m²，更优选为10～150mg/m²。特定低分子量化合物的涂布量优选为1～190mg/m²，更优选为10～150mg/m²。

图像记录层上层用涂布液只要为从上述图像记录层成分中去除了特定低分子量化合物的结构即可。图像记录层上层用涂布液能够依据关于上述图像记录层的形成所记载的方法而形成。干燥后的图像记录层上层的涂布量(固体成分)优选为100～4000mg/m²，更优选为300～3000mg/m²。

在通过使用含有特定低分子量化合物的图像记录层底层用涂布液而形成图像记录层底层，且在图像记录层底层上使用不含有特定低分子量化合物的图像记录层上层用涂布液形成图像记录层上层而形成的图像记录层中，发现特定低分子量化合物不仅存在于图像记录层底层，还存在于图像记录层上层。认为其原因在于一部分特定低分子量化合物从图像记录层底层扩散到图像记录层上层。特定低分子量化合物不仅存在于图像记录层底层，还存在于图像记录层上层的情况能够通过以下所记载的方法确认。

源自图像记录层中所含有的特定低分子量化合物的支承体吸附性基团的元素的测量能够通过以下方法进行。即，通过STEM-EDS沿深度方向对平版印刷版原版的截面进行线分析。直至将源自支承体吸附基团的元素(例如，磷)识别为信号为止进行测量。将支承体界面(零点)的深度设为最靠近铝(Al)强度为最大值的80％的图像记录层侧的深度。根据STEM-EDS测量数据并通过Cliff-Lorimer法对上述元素进行定量。接着，对于通过使用水/有机溶剂对上述平版印刷版原版进行了脱模处理的支承体也同样地进行测量，并对支承体中所含有的来自支承体吸附性基团的上述元素进行定量。将通过上述平版印刷版原版的测量而得到的元素量与通过上述支承体的测量而得到的元素量之差设为源自图像记录层中所含有的特定低分子量化合物的支承体吸附性基团的元素量。

本发明还包含一种机上显影型平版印刷版原版，其在具有阳极氧化被膜的铝支承体上具有图像记录层，其中，上述平版印刷版原版的端部具有下弯形状，上述图像记录层含有具有支承体吸附性、分子量为1,000以下且分子中不具有不饱和双键基团的化合物，上述化合物的含量在所述图像记录层的面内实质上相同，当通过STEM-EDS在深度方向上对上述平版印刷版原版的截面进行线分析时，从上述铝支承体与所述图像记录层的界面至图像记录层侧的任何深度存在0.5质量％以上的源自支承体吸附性基团的元素。

该机上显影型平版印刷版原版为防止了边缘污染而并不降低端部的图像形成性、机上显影性等特性的机上显影型平版印刷版原版。

从抗边缘污染性的观点考虑，源自上述图像记录层中所含有的特定低分子量化合物的支承体吸附性基团的元素的含量优选为0.8质量％以上。

本发明所涉及的机上显影型平版印刷版原版能够在图像记录层与支承体之间具有底涂层(有时还称为中间层)，且能够在图像记录层上具有保护层(有时还称为外涂层)。

〔底涂层〕

底涂层在曝光部强化支承体与图像记录层的粘附，且在未曝光部中使图像记录层容易从支承体剥离，因此该底涂层有助于提高显影性，而并不损害印刷耐久性。并且，红外线激光曝光的情况下，底涂层作为隔热层而发挥功能，由此还具有防止通过曝光而产生的热扩散到支承体而使灵敏度降低的效果。

作为使用于底涂层的化合物，可举出具有可吸附于支承体表面的吸附性基团及亲水性基团的聚合物。为了提高与图像记录层的粘附性优选为具有吸附性基团及亲水性基团，并进一步具有交联性基团的聚合物。底涂层中所使用的化合物可以是低分子化合物也可以是聚合物。使用于底涂层的化合物可以根据需要而混合两种以上来使用。

使用于底涂层的化合物为聚合物的情况下，优选为具有吸附性基团的单体、具有亲水性基团的单体及具有交联性基团的单体的共聚物。

作为可吸附于支承体表面的吸附性基团，优选为酚性羟基、羧基、-PO₃H₂、-OPO₃H₂、-CONHSO₂-、-SO₂NHSO₂-、-COCH₂COCH₃。作为亲水性基团，优选为磺基或其盐、羧基的盐。作为交联性基团，优选为丙烯酸基、甲基丙烯酸基、丙烯酰胺基、甲基丙烯酰胺基、烯丙基等。

聚合物可以具有交联性基团，所述交联性基团通过聚合物的极性取代基与具有与该极性取代基相反的电荷的取代基及具有烯属不饱和键的化合物的盐形成而被导入，还可以进一步共聚有除了上述以外的单体，优选为亲水性单体。

具体而言，优选举出日本特开平10-282679号公报中所记载的具有可加成聚合的乙烯性双键反应基团的硅烷偶联剂、日本特开平2-304441号公报中所记载的具有乙烯性双键反应基团的磷化合物。还可优选使用日本特开2005-238816号、日本特开2005-125749号、日本特开2006-239867号、日本特开2006-215263号的各公报中所记载的交联性基团(优选为烯属不饱和键基)、具有与支承体表面相互作用的官能团及亲水性基团的低分子或高分子化合物。

作为更优选的化合物，可举出日本特开2005-125749号及日本特开2006-188038号公报中所记载的具有可吸附于支承体表面的吸附性基团、亲水性基团及交联性基团的高分子聚合物。

底涂层中所使用的聚合物中的烯属不饱和键基的含量在每1g聚合物中优选为0.1～10.0mmol，更优选为0.2～5.5mmol。

底涂层中所使用的聚合物的质均分子量(Mw)优选为5,000以上，更优选为1万～30万。

底涂层中，除了上述底涂层用化合物以外，为了防止经时污染，还可以含有螯合剂、仲胺或叔胺、聚合抑制剂、氨基或具有聚合抑制作用的官能团和与支承体表面相互作用的基团的化合物(例如，1,4-二氮杂双环[2.2.2]辛烷环(DABCO)、2,3,5,6-四羟基-对苯醌、氯醌、磺基邻苯二甲酸、羟乙基乙二胺三乙酸、二羟乙基乙二胺二乙酸、羟乙基亚氨二乙酸等)等。

底涂层可通过公知的方法来涂布。底涂层的涂布量(固体成分)优选为0.1～100mg/m²，更优选为1～30mg/m²。

〔保护层〕

除了通过阻氧而抑制图像形成阻碍反应的功能以外，保护层还具有防止在图像记录层中产生划痕及防止高照度激光曝光时烧蚀的功能。

关于这种特性的保护层，例如记载于美国专利第3,458,311号说明书及日本特公昭55-049729号公报中。作为使用于保护层的低氧渗透性聚合物，能够适当选择水溶性聚合物、水不溶性聚合物中的任一个来使用，还能够根据需要混合两种以上来使用。具体而言，例如可举出聚乙烯醇、改性聚乙烯醇、聚乙烯吡咯烷酮、水溶性纤维素衍生物、聚(甲基)丙烯腈等。

作为改性聚乙烯醇，优选使用具有羧基或磺基的酸改性聚乙烯醇。具体而言，可举出日本特开2005-250216号公报及日本特开2006-259137号公报中所记载的改性聚乙烯醇。

为了提高阻氧性，保护层优选含有无机层状化合物。无机层状化合物为具有较薄的平板状形状的粒子，例如可举出天然云母、合成云母等云母组、由式：3MgO·4SiO·H₂O表示的滑石、带云母、蒙脱石、皂石、锂蒙脱石、磷酸锆等。

优选使用的无机层状化合物为云母化合物。作为云母化合物，可举出例如由式：A(B,C)_2-5D₄O₁₀(OH,F,O)₂〔其中，A为K、Na、Ca中的任一种，B及C为Fe(II)、Fe(III)、Mn、Al、Mg、V中的任一种，D为Si或Al。〕表示的天然云母、合成云母等云母组。

云母组中，作为天然云母可举出白云母、钠云母、金云母、黑云母及鳞云母。作为合成云母，可举出氟金云母KMg₃(AlSi₃O₁₀)F₂、钾四硅云母KMg_2.5(Si₄O₁₀)F₂等非溶胀性云母及Na四氟硅云母NaMg_2.5(Si₄O₁₀)F₂、Na或Li带云母(Na，Li)Mg₂Li(Si₄O₁₀)F₂、蒙脱石系Na或Li锂蒙脱石(Na，Li)_1/8Mg_2/5Li_1/8(Si₄O₁₀)F₂等溶胀性云母等。而且合成蒙皂石也有用。

云母化合物中，氟系溶胀性云母尤其有用。即。溶胀性合成云母具有由

左右的厚度的单位晶格层组成的层叠结构，格子内金属原子取代明显比其他粘土矿物大。其结果，在晶格层中产生正电荷不足的情况，为了补偿该情况而在层间吸附有Li⁺、Na⁺、Ca^{2 +}、Mg²⁺等阳离子。将这些介于层间的阳离子称为交换性阳离子，且可以与多种阳离子进行交换而得到。尤其，层间的阳离子为Li⁺、Na⁺的情况下，由于离子半径较小而层状晶格间的键合较弱，并通过水而溶胀为较大。若在该状态下施加剪切力，则层状晶格容易裂开而在水中形成稳定的溶胶。溶胀性合成云母的该倾向较强，从而尤其优选使用。

作为云母化合物的形状，从控制扩散的观点考虑，厚度越薄越好，且在不阻碍涂布面的平滑性和活性光线的透射性的范围内，平面尺寸越大越好。从而，纵横比优选为20以上，更优选为100以上，尤其优选为200以上。纵横比为粒子的长径与厚度之比，例如能够通过由粒子的显微镜照片得到的投影图来进行测定。纵横比越大，所得到的效果越大。

关于云母化合物的粒径，其平均长径优选为0.3～20μm，更优选为0.5～10μm，尤其优选为1～5μm。粒子的平均厚度优选为0.1μm以下，更优选为0.05μm以下，尤其优选为0.01μm以下。具体而言，例如，作为代表性化合物的溶胀性合成云母的情况下，作为优选的方式，厚度为1～50nm左右，平面尺寸(长径)为1～20μm左右。

无机层状化合物的含量相对于保护层的总固体成分优选为0～60质量％，更优选为3～50质量％。并用多种无机层状化合物的情况下，也优选无机层状化合物的合计量为上述含量。在上述范围内，阻氧性会提高，且可得到良好的灵敏度。并且，能够防止着墨性降低。

保护层可以含有用于赋予挠性的增塑剂、用于提高涂布性的表面活性剂、用于控制表面润滑性的无机微粒等公知的添加物。并且，可以在保护层中含有图像记录层中所记载的增感剂。

保护层通过公知的方法而被涂布。保护层的涂布量(固体成分)优选为0.01～10g/m²，更优选为0.02～3g/m²，尤其优选为0.02～1g/m²。

本发明所涉及的机上显影型平版印刷版原版在端部具有下弯形状。下弯形状优选下弯量X为25～150μm，且下弯宽度Y为70～300μm。

图1为示意性地表示平版印刷版原版的端部的截面形状的图。

在图1中，平版印刷版原版1在其端部具有下弯2。将平版印刷版原版1的端面1c的上端(下弯2与端面1c的边界点)与图像记录层表面(形成有保护层时为保护层表面)1a的延长线的距离X称为“下弯量“，将平版印刷版原版1的图像记录层表面1a开始下弯的点与端面1c的延长线的距离Y称为“下弯宽度”。

端部的下弯量更优选为35μm以上，进一步优选为40μm以上。关于下弯量的上限，从防止因端部表面状态恶化而导致机上显影性劣化的方面考虑，优选为150μm。若机上显影性劣化，则墨液会附着于所残留的图像记录层而会成为产生边缘污染的原因。若下弯量过少，则附着在端部的墨液容易转印到橡皮布上而有时会成为产生边缘污染的原因。当下弯量的范围为25～150μm时，若下弯宽度过小，则在端部产生裂纹的可能性增大，且印刷墨液会滞留于该处，从而成为导致边缘污染的原因。从这种观点考虑，下弯宽度优选为70～300μm的范围，更优选为80～250μm的范围。另外，上述下弯量和下弯宽度的范围与平版印刷版原版1的支承体表面1b的边缘形状无关。

通常，在平版印刷版原版1的端部，与图像记录层表面1a相同，在图像记录层与支承体的边界B、支承体表面1b中也产生了下弯。

具有上述下弯形状的端部的形成例如能够通过调整平版印刷版原版的切割条件来进行。

具体而言，能够通过调整在切割平版印刷版原版时所使用的分切装置中的上侧切割刀片与下侧切割刀片的间隙、咬合量、刀片边缘角度等来进行。

例如，图2为表示分切装置的切割部的概念图。在分切装置中，左右配置有上下一对切割刀片10、20。切割刀片10、20由圆板上的圆形刀片构成，且上侧切割刀片10a及10b分别同轴支承在旋转轴11上，下侧切割刀片20a及20b分别同轴支承在旋转轴21上。上侧切割刀片10a及10b和下侧切割刀片20a及20b沿相反的方向旋转。平版印刷版原版30通过上侧切割刀片10a及10b与下侧切割刀片20a及20b之间并被切割成规定的宽度。能够通过调整分切装置的切割部的上侧切割刀片10a与下侧切割刀片20a的间隙及上侧切割刀片10b与下侧切割刀片20b的间隙来形成具有下弯形状的端部。

在本发明所涉及的机上显影型平版印刷版原版中，从进一步抑制边缘污染的观点考虑，优选与下弯宽度Y相当的区域中存在于阳极氧化被膜的表面上的裂纹的面积率为10％以下。

在此，与下弯宽度相当的区域是指，从上述图1中的图像记录层表面(形成有保护层时为保护层表面)1a的延长线与端面1c的延长线的交点至1a的延长线与图像记录层表面(形成有保护层时为保护层表面)相接的区域。

通过以下方法计算存在于阳极氧化被膜的表面上的裂纹的面积率。

使用Yamato Scientific Co.,Ltd.制PlasmaReactor PR300去除平版印刷版原版的构成层(底涂层、图像记录层、保护层)。对于所暴露的铝支承体的阳极氧化被膜的表面，将Pt-Pd膜蒸镀3nm并进行导电处理来制成试样。用Hitachi High-TechnologiesCorporation制S-4800型场发射扫描电子显微镜(FE-SEM)在加速电压30kV下SEM观察该试样，以观察倍率1,500倍从端部朝向中央部获取连续照片，从而得到150×50μm的图像。对于该图像，通过图像处理软件“ImageJ”，利用裂纹部与阳极氧化被膜层表面的明度差而提取裂纹形状，并进行二值化处理，计算150×50μm范围内的裂纹的比例来作为裂纹的面积率。

关于裂纹的面积率，从防止产生边缘污染的观点考虑，尤其优选为6％以下。

为了将与下弯宽度Y相当的区域中存在于阳极氧化被膜的表面上的裂纹的面积率调整为10％以下，优选将阳极氧化被膜的阳极氧化被膜量控制在0.5～5.0g/m²的范围内。关于阳极氧化被膜量，从进一步抑制边缘污染的观点考虑，更优选控制在0.8～1.2g/m²的范围内。

通过以下方法计算阳极氧化被膜的阳极氧化被膜量。

使用Yamato Scientific Co.，Ltd.制PlasmaReactor PR300去除平版印刷版原版的构成层(底涂层、图像记录层、保护层)。使用荧光X射线分析装置(Rigaku Corporation制ZSX Primus II)测量所暴露的铝支承体的阳极氧化被膜的表面，并使用另外制成的校准曲线计算出阳极氧化被膜的阳极氧化被膜量(g/m²)。校准曲线根据从荧光X射线分析装置得到的康普顿散射强度与通过梅森法计算的阳极氧化被膜量的关系而创建。为了提高梅森法的测量精度，梅森液全部使用了新液。荧光X射线分析的条件如下。X射线管球：Rh、测量光谱：RhLα、管电压：50kV、管电流：60mA、狭缝：S2、分光晶体：Ge、检测器：PC、分析面积：30mmφ、峰值位置(2θ)：89.510deg.、背景(2θ)：87.000deg.及92.000deg.、累计时间：60秒/样品

为了控制阳极氧化被膜的阳极氧化被膜量，可举出例如调整阳极氧化处理中的电解时间的方法。

为了将与下弯宽度Y相当的区域中存在于阳极氧化被膜的表面上的裂纹的面积率调整为10％以下，优选将存在于阳极氧化被膜的表面的微孔的平均直径控制在5～35nm的范围内。

通过以下方法计算阳极氧化被膜的微孔的平均直径。

使用Yamato Scientific Co.,Ltd.制PlasmaReactor PR300去除平版印刷版原版的构成层(底涂层、图像记录层、保护层)。对于所暴露的铝支承体的阳极氧化被膜的表面，将碳或Pt-Pd膜蒸镀3nm并进行导电处理来制成试样。对于该试样，用Hitachi High-Technologies Corporation制S-4800型场发射扫描电子显微镜(FE-SEM)，以观察倍率150,000倍从端部朝向中央部获取连续照片，从而得到4张400×600nm的图像。测量存在于该4张图像中的90个微孔的直径，并进行平均来作为微孔的平均直径。另外，当微孔的形状并不是圆形时，假定具有与微孔的投影面积相同的投影面积的圆，并将该圆的直径设为微孔的直径。

当微孔具有大径孔部和小径孔部时，以倍率15万倍的FE-SEM观察N＝4张大径孔部表面及小径孔部表面，在所得到的4张图像中，测量存在于400×600nm²的范围内的微孔(大径孔部及小径孔部)的直径，并进行平均来作为各微孔的平均直径。另外，当大径孔部的深度较深，且很难测量小径孔部的直径时，在切削阳极氧化被膜上部之后进行上述操作。

为了控制阳极氧化被膜的微孔的平均直径，可举出例如调整扩孔处理中的处理时间的方法。

本发明所涉及的机上显影型平版印刷版原版具有如下特征，即在端部具有下弯形状，且在图像记录层中含有特定低分子量化合物，由此能够抑制产生边缘污染而不会降低端部的图像形成性、机上显影性等特性。

而且，本发明所涉及的机上显影型平版印刷版原版具有如下特征，即能够防止产生边缘污染而不对端部实施涂布含有水溶性化合物的涂布液等亲水处理。

[平版印刷版的制作方法]

本发明所涉及的平版印刷版的制作方法包括对本发明所涉及的平版印刷版原版进行图像曝光的工序(曝光工序)及对于图像曝光后的平版印刷版原版在印刷机上通过印刷墨液及润版液中的至少一种来去除图像记录层的未曝光部的工序(机上显影工序)。

〔曝光工序〕

图像曝光优选通过红外线激光等对数字数据进行扫描曝光的方法来进行。

优选使用波长为750～1,400nm的曝光光源。作为750～1,400nm的光源，优选辐射红外线的固体激光及半导体激光。曝光机构可以为内鼓方式、外鼓方式、平板方式等中的任一种。

曝光工序能够通过制版机等并以公知的方法来进行。并且，也可以使用具备曝光装置的印刷机来将平版印刷版原版安装于印刷机之后，在印刷机上进行曝光。

〔机上显影工序〕

若在机上显影工序中，在印刷机上供给印刷墨液及润版液而开始进行印刷而未对图像曝光后的平版印刷版原版实施任何显影处理，则在印刷中途的初始阶段，平版印刷版原版的未曝光部分会被去除，随此亲水性支承体表面会暴露而形成非图像部。作为印刷墨液及润版液，可使用公知的平版印刷用印刷墨液及润版液。最初被供给于平版印刷版原版表面的化合物可以为印刷墨液，也可以为润版液，但从防止因润版液所去除的图像记录层成分而被污染的方面考虑，优选最初供给印刷墨液。

如此，平版印刷版原版在胶版印刷机上进行机上显影，并直接使用于多张印刷中。

除了上述工序以外，本发明所涉及的平版印刷版的制造方法还可以包括公知的其他工序。作为其他工序，例如可举出在各工序之前确认平版印刷版原版的位置或朝向等的检版工序或者在机上显影工序之后确认印刷图像的确认工序等。

实施例

以下，通过实施例对本发明的实施方式进行详细说明，但本发明并不限定于这些。另外，高分子化合物中，除了特别规定的高分子化合物以外，分子量为作为通过凝胶渗透色谱(GPC)法得到的聚苯乙烯换算值的质均分子量(Mw)，重复单元的比率为摩尔百分率。并且，除非另有说明，则“份”、“％”是指“质量份”、“质量％”。

(实施例1～实施例21及比较例1～比较例3)

＜支承体(1)的制作＞

对铝板依次实施下述(a)～(g)的各处理，从而制作了具有阳极氧化被膜的铝支承体(支承体(1))。另外，在所有的处理工序之间实施了水洗处理。

(a)碱蚀刻处理

通过从喷雾管向厚度0.3mm的铝板(材质JIS 1052)喷吹苛性钠浓度25质量％、铝离子浓度100g/L、温度60℃的水溶液而进行了蚀刻。实施电化学粗糙化处理的铝板表面的蚀刻量为3g/m²。

(b)除污处理

通过从喷雾管向铝板喷吹5秒钟的温度35℃的硫酸水溶液(浓度300g/L)而进行了除污处理。

(c)电化学粗糙化处理

使用将氯化铝溶解在1质量％盐酸水溶液中并将铝离子浓度设为4.5g/L的电解液(液温35℃)，使用60Hz的交流电源，并使用扁平型电解槽对铝板连续进行了电化学粗糙化处理。交流电源的波形使用了正弦波。在电化学粗糙化处理中，在交流电的峰值时，铝板的阳极反应时的电流密度为30A/dm²。铝板的阳极反应时的电量总和与阴极反应时的电量总和之比为0.95。电量以铝板为阳极时的电量总和计为480C/dm²。关于电解液，使用泵使液体循环而在电解槽内进行了搅拌。

(d)碱蚀刻处理

从喷雾管向铝板喷吹苛性钠浓度5质量％、铝离子浓度5g/L、温度35℃的水溶液而进行了蚀刻处理。铝板的实施了电化学粗糙化处理的表面的蚀刻量为0.05g/m²。

(e)除污处理

从喷雾管向铝板喷吹5秒钟硫酸浓度300g/L、铝离子浓度5g/L、液温35℃的水溶液而进行了除污处理。

(f)阳极氧化处理

使用15质量％的硫酸(包含0.5质量％的铝离子)的电解液，在40℃、电流密度15A/dm²的条件下，设置了厚度1,000nm的直流阳极氧化被膜。然后，通过喷射进行了水洗。

(g)扩孔处理1

使用NaOH5％水溶液在30℃下对铝板进行2秒钟的碱处理而制作了支承体(1)。支承体(1)的阳极氧化被膜的微孔的平均直径为15nm。阳极氧化被膜的微孔的平均直径为按照上述方法计算的数值(以下相同)。阳极氧化被膜表面的明度L^*的值为80，陡度a45为23％。

＜支承体(2)的制作＞

在支承体(1)的制作中，调整阳极氧化处理的时间而将阳极氧化被膜的厚度设为750nm，除此以外，以与支承体(1)的制作相同的方式制作了支承体(2)。支承体(2)的阳极氧化被膜的微孔的平均直径为15nm。阳极氧化被膜表面的明度L^*的值为80，陡度a45为23％。

＜支承体(3)的制作＞

在支承体(1)的制作中，调整阳极氧化处理的时间而将阳极氧化被膜的厚度设为500nm，除此以外，以与支承体(1)的制作相同的方式制作了支承体(3)。支承体(3)的阳极氧化被膜的微孔的平均直径为15nm。阳极氧化被膜表面的明度L^*的值为80，陡度a45为23％。

＜支承体(4)的制作＞

在支承体(1)的制作中，如下变更了(f)阳极氧化处理且未进行(g)扩孔处理，除此以外，以与支承体(1)的制作相同的方式制作了支承体(4)。支承体(4)的阳极氧化被膜的微孔的平均直径为35nm。阳极氧化被膜表面的明度L^*的值为83，陡度a45为23％。

(f)阳极氧化处理

使用22质量％的磷酸水溶液的电解液，在38℃、电流密度15A/dm²的条件下，设置了厚度500nm的直流阳极氧化被膜。然后，通过喷射进行了水洗。

＜图像记录层(1)的形成＞

在支承体上棒涂下述组成的图像记录层涂布液(1)，并在100℃下烘干60秒钟，从而形成了干燥涂布量为1.0g/m²的图像记录层。

在涂布下述感光液(1)及微凝胶液之前进行混合并搅拌来制备了图像记录层涂布液(1)。

＜感光液(1)＞

TPB〔下述结构〕

·聚合性化合物 0.192份

三(丙烯酰氧基)异氰脲酸酯

(NK酯A-9300、Shin-Nakamura Chemical Co.,Ltd.制)

·低分子亲水性化合物： 0.062份

三(2-羟乙基)异氰脲酸酯

·低分子亲水性化合物(1)〔下述结构〕 0.050份

·氟系表面活性剂(1)〔下述结构〕 0.008份

·特定低分子量化合物或比较化合物〔表1中所记载的化合物〕

〔表1中所记载的量〕

·2-丁酮 1.091份

·1-甲氧基-2-丙醇 8.609份

＜微凝胶液＞

·微凝胶(1) 2.640份

·蒸馏水 2.425份

以下示出上述感光液(1)中所使用的粘合剂聚合物(1)、聚合引发剂(1)、红外线吸收剂(1)、TPB、低分子亲水性化合物(1)及氟系表面活性剂(1)的结构。

[化学式16]

[化学式17]

[化学式18]

[化学式19]

[化学式20]

[化学式21]

以下示出使用了上述微凝胶液的微凝胶(1)的制备法。

＜多价异氰酸酯化合物(1)的制备＞

向异佛尔酮二异氰酸酯17.78g(80mmol)与下述多元酚化合物(1)7.35g(20mmol)的乙酸乙酯(25.31g)悬浮溶液添加三(2-乙基己酸酯)铋(NEOS TANN U-600，NITTO KASEICO.,LTD.)43mg并进行了搅拌。在发热得到抑制的时点将反应温度设定在50℃，并搅拌3小时而得到了多元异氰酸酯化合物(1)的乙酸乙酯溶液(50质量％)。

[化学式22]

＜微凝胶(1)的制备＞

将下述油相成分及水相成分混合，并使用均质器以12000rpm乳化10分钟。将所得到的乳化物在45℃下搅拌4小时之后，添加1,8-二氮杂双环[5.4.0]十一碳-7-烯-辛酸盐(U-CAT SA102，San-Apro Ltd.制)10质量％水溶液5.20g，在室温下搅拌30分钟，并在45℃下静置了24小时。用蒸馏水将固体成分浓度调整为20质量％，从而得到了微凝胶(1)的水分散液。通过光散射法测定了平均粒径，其结果为0.28μm。

(油相成分)

(成分1)乙酸乙酯：12.0g

(成分2)将三羟甲基丙烷(6摩尔)与二甲苯二异氰酸酯(18摩尔)进行加成，并对其加成甲基侧链聚氧乙烯(1摩尔，氧化乙烯单元的重复数：90)而成的加成物(50质量％乙酸乙酯溶液，Mitsui Chemicals，Inc.制)：3.76g

(成分3)多价异氰酸酯化合物(1)(作为50质量％乙酸乙酯溶液)：15.0g

(成分4)二季戊四醇五丙烯酸酯(SR-399，Sartomer Company，Inc制)的65质量％乙酸乙酯溶液：11.54g

(成分5)磺酸盐型表面活性剂(PIONIN A-41-C，Takemoto Oil&Fat Co.,Ltd.制)的10％乙酸乙酯溶液：4.42g

(水相成分)蒸馏水：46.87g

＜图像记录层(2)的形成＞

在支承体上，棒涂下述组成的图像记录层涂布液(2)之后，在94℃下烘干60秒钟，从而形成了干燥涂布量0.85g/m²的图像记录层。

(图像记录层涂布液(2))

*1：聚合性化合物1为二季戊四醇六丙烯酸酯(Shin-Nakamura Chemical Co.，Ltd.制)。

*2：接枝共聚物1为通过聚(氧-1,2-乙二基),α-(2-甲基-1-氧基-2-丙烯基)-ω-甲氧基-,乙烯基苯接枝的聚合物，且为将其于80％正丙醇/20％水的溶剂中含有25％的分散物。

*3：接枝共聚物2为聚(乙二醇)甲醚丙烯酸甲酯/苯乙烯/丙烯腈＝10:9:81的接枝共聚物的聚合物粒子，且为将其于正丙醇/水的质量比为80/20的溶剂中含有24质量％的分散物。聚合物粒子的体积平均粒径为193nm。

*4：巯基-3-三唑为能够从PCAS公司(法国)得到的3-巯基-1H,2,4-三唑。

*5：Irgacure 250为能够从Ciba Specialty Chemicals公司得到的碘鎓(4-甲基苯基)[4-(2-甲基丙基)苯基]六氟磷酸盐的75％碳酸丙烯酯溶液。

*6：Klucel 99M为能够从Hercules公司得到的羟丙基纤维素增稠剂的1％水溶液。

*7：Byk 336为能够从Byk Chemie公司得到的改性二甲基聚硅氧烷共聚物的25％二甲苯/乙酸甲氧基丙酯溶液。

[化学式23]

[化学式24]

＜保护层的形成＞

在图像记录层上，棒涂下述组成的保护层涂布液，在120℃下烘干60秒钟，形成干燥涂布量为0.15g/m²的保护层而制作了平版印刷版原版。

＜保护层涂布液＞

以下示出上述保护层涂布液中所使用的无机层状化合物分散液(1)的制备法。

＜无机层状化合物分散液(1)的制备＞

向离子交换水193.6g添加合成云母(SOMASIF ME-100 Co-op Chemical Co.,Ltd.制)6.4g，使用均质器分散至体积平均粒径(激光散射法)成为3μm。所得到的分散粒子的纵横比为100以上。

〔平版印刷版原版的制作〕

如表1中所记载那样对上述支承体及图像记录层进行组合而制作了平版印刷版原版。另外，在图像记录层(1)上形成有上述保护层，但在图像记录层(2)上未形成保护层。

在比较例1及比较例2的平版印刷版原版中，在对图像记录层进行涂布之后，使用HEISHIN Ltd.制2NL04作为涂布装置涂布特定低分子量化合物的水溶液，而不进行干燥。即，通过将涂布装置的间隙固定为0.3mm并调整送液量，在从端部距离3cm的位置以6mm的宽度涂布了特定低分子量化合物的水溶液，以便成为表1中所记载的特定低分子量化合物的含量。然后，在100℃下烘干了60秒钟。

比较例3的平版印刷版原版的图像记录层中所使用的PHOSMER PE为Uni chemicalCo.,Ltd.的酸式磷酸氧聚氧乙二醇单甲基丙烯酸酯(氧乙烯的重复数：4～5)。

〔平版印刷版原版的切割〕

使用如图2所示的旋转刀片，并调整上侧切割刀片与下侧切割刀片的间隙、咬合量及刀片角度来对平版印刷版原版进行切割，从而形成了具有下弯量50μm及下弯宽度150μm的下弯形状。另外，关于比较例的平版印刷版原版，在涂布有6mm宽的特定低分子量化合物的水溶液的区域的中心进行切割，从而得到了在端部具有3mm宽的特定低分子量化合物的涂布区域的平版印刷版原版。

按照上述中所记载的方法对存在于与下弯宽度Y相当的部分的阳极氧化被膜的表面的裂纹的面积率的结果，支承体(1)的面积率为13％，支承体(2)的面积率为8％，支承体(3)及支承体(4)的面积率为6％。

〔平版印刷版原版的评价〕

关于平版印刷版原版，如下对抗边缘污染性、端部的图像形成性及机上显影性进行了评价。

＜边缘防污性＞

通过搭载有红外线半导体激光的Fujifilm Corporation制Luxcel PLATESE TTERT-6000III，在外鼓转速1,000rpm、激光输出70％、分辨率2,4000dpi的条件下对平版印刷版原版进行了曝光。曝光图像中使用了包括实心图像、50％网点、非图像部的图表。

将经图像曝光的平版印刷版原版安装在TOKYO KIKAI SEISAKUSHO,LTD.制胶印轮转印刷机上，作为报纸用印刷墨液使用Inktec Co.,Ltd.制Soiby KKST-S(红色)，作为润版液使用TOYO INK CO.,LTD.制TOYO ALKY，以100,000张/小时的速度在报纸用纸上进行印刷，以消除脏版的水位至1.5倍的水位对第1,000张的印刷物进行采样，并以下述基准对由平版印刷版原版的端部引起的线性污染的程度进行了评价。

5：完全未污染

4：5和3的中间级别

3：微微被污染但为允许级别

2：3和1的中间级别(允许级别)

1：明显被污染且为非允许级别

＜端部的图像形成性＞

以与上述抗边缘污染性相同的方式将经图像曝光的平版印刷版原版安装在TOKYOKIKAI SEISAKUSHO,LTD.制胶印轮转印刷机上，并作为报纸用印刷墨液使用Inktec Co.，Ltd.制SOIBY KKST-S(红色)，作为润版液使用SAKATA INX CORPORATION制EcoSeven N-1，以100,000张/小时的速度在报纸用纸上进行印刷，对第1,000、10,000、50,000、100,000张印刷物进行采样，并以以下基准对从平版印刷版原版的端部至内侧1mm的区域中的图像形成性进行了评价。

5：在印刷100,000张之后也能够印刷图像。

4：在印刷50,000张之后也能够印刷图像。

3：在印刷10,000张之后也能够印刷图像。

2：在印刷1,000张之后也能够印刷图像。

1：在印刷1,000张之后无法印刷图像。

＜机上显影性＞

以与上述抗边缘污染性的评价相同的方式将经图像曝光的平版印刷版原版安装在TOKYO KIKAI SEISAKUSHO,LTD.制胶印轮转印刷机上，并作为报纸用印刷墨液使用Inktec Co.,Ltd.制Soiby KKST-S(红色)，作为润版液使用SAKATA INX CORPORATION制EcoSeven N-1，以100,000张/小时的速度在报纸用纸上进行了印刷。计算从平版印刷版原版的端部至内侧50mm的区域中，图像记录层的未曝光部在印刷机上的机上显影结束，并且墨水不会转印到非图像部的状态为止所需要的报纸用纸的张数来作为机上显影张数进行计算，并以以下基准进行了评价。

5：机上显影张数为25张以下

4：机上显影张数为26～30张

3：机上显影张数为31～35张

2：机上显影张数为36～40张

1：机上显影张数为100张以上且为非允许级别

将评价结果示于表1。在表1中，当将特定低分子量化合物的含量记载为包含“/”的数值时，“/”的左侧的数值表示端部的特定低分子量化合物的含量，“/”的右侧的数值表示除了端部以外的区域中的特定低分子量化合物的含量。例如，比较例1中的“10/0”表示端部的磷酸含量为10mg/m²，除了端部以外的区域的磷酸含量为0mg/m²。

[表1]

从表1中所记载的结果可知，在本发明所涉及的实质上在图像记录层的面内含有相同量的特定低分子量化合物的平版印刷版原版中，防止了边缘污染而未降低端部的图像形成性、机上显影性等特性。相对于此，在特定低分子量化合物的含量在图像记录层的面内不同的比较例1～比较例2的平版印刷版原版中，产生了明显的边缘污染，或者端部的图像形成性恶化。并且，在比较例3的平版印刷版原版中所使用的PHOSMER PE具有如下问题，即其含有具有支承体吸附性的磷酸基，分子量为1,000以下，但具有不饱和双键基即甲基丙烯酸基，因此在曝光时与图像记录层一同被固化，其结果机上显影性恶化。如此，可知在比较例1～比较例3中，无法满足所有的边缘防污性、端部的图像形成性及机上显影性。

[实施例31～实施例56及比较例31～比较例32]

＜支承体(5)的制作＞

在支承体(1)的制作中，如下变更了(f)阳极氧化处理及(g)扩孔处理，除此以外，以与支承体(1)的制作相同的方式制作了支承体(5)。

(f1)第1阳极氧化处理

将15质量％的硫酸水溶液用作电解液，并在50℃、电流密度30A/dm²的条件下实施了阳极氧化处理。然后，通过喷射进行了水洗。

(g)扩孔处理

使用NaOH5％水溶液在40℃下对铝板进行了3秒钟的碱处理。然后，通过喷射进行了水洗。

(f2)第2阳极氧化处理

将15质量％的硫酸水溶液用作电解液，并在50℃、电流密度30A/dm²的条件下实施了阳极氧化处理。然后，通过喷射进行了水洗。

支承体(5)的阳极氧化被膜的厚度为1,000nm。支承体(5)中的阳极氧化被膜的微孔由大径孔部和小径孔部构成，大径孔部的深度、大径孔部的平均直径、小径孔部的深度、小径孔部的连通位置上的平均直径各自为100nm、30nm、900nm、10nm。阳极氧化被膜表面的明度L^*的值为82，陡度a45为23％。

＜支承体(6)的制作＞

在支承体(1)的制作中，如下变更了(f)阳极氧化处理且未进行(g)扩孔处理，除此以外，以与支承体(1)的制作相同的方式制作了支承体(6)。

(f1)第1阳极氧化处理

将13质量％的磷酸水溶液用作电解液，并在35℃、电流密度4.5A/dm²的条件下实施了阳极氧化处理。然后，通过喷射进行了水洗。

(f2)第2阳极氧化处理

将13质量％的磷酸水溶液用作电解液，并在35℃、电流密度4.5A/dm²的条件下实施了阳极氧化处理。然后，通过喷射进行了水洗。

支承体(6)的阳极氧化被膜的厚度为1000nm，阳极氧化被膜的微孔的平均直径为40nm。阳极氧化被膜表面的明度L^*的值为83，陡度a45为23％。

＜支承体(7)的制作＞

在支承体(1)的制作中，如下变更了(f)阳极氧化处理且未进行(g)扩孔处理，除此以外，以与支承体(1)的制作相同的方式制作了支承体(7)。

(f1)第1阳极氧化处理

将13质量％的磷酸水溶液用作电解液，并在35℃、电流密度4.5A/dm²的条件下实施了阳极氧化处理。然后，通过喷射进行了水洗。

(f2)第2阳极氧化处理

将15质量％的硫酸水溶液用作电解液，并在50℃、电流密度13A/dm²的条件下实施了阳极氧化处理。然后，通过喷射进行了水洗。

支承体(7)的阳极氧化被膜的厚度为1000nm，阳极氧化被膜的微孔的平均直径为40nm。阳极氧化被膜表面的明度L^*的值为83，陡度a45为23％。

＜支承体(8)的制作＞

在支承体(1)的制作中，如下变更了(f)阳极氧化处理及(g)扩孔处理，除此以外，以与支承体(1)的制作相同的方式制作了支承体(8)。

(f1)第1阳极氧化处理

将3质量％的硫酸水溶液用作电解液，并在20℃、电流密度15A/dm²的条件下实施了阳极氧化处理。然后，通过喷射进行了水洗。

(g)扩孔处理

使用NaOH5％水溶液在30℃下对铝板进行了7秒钟的碱处理。然后，通过喷射进行了水洗。

支承体(8)的阳极氧化被膜的厚度为1000nm，阳极氧化被膜的微孔的平均直径为60nm。阳极氧化被膜表面的明度L^*的值为85，陡度a45为23％。

＜支承体(9)的制作＞

在支承体(1)的制作中，如下变更了(f)阳极氧化处理且未进行(g)扩孔处理，除此以外，以与支承体(1)的制作相同的方式制作了支承体(9)。

(f1)阳极氧化处理

将18质量％的磷酸水溶液用作电解液，并在38℃、电流密度5A/dm²的条件下实施了阳极氧化处理。然后，通过喷射进行了水洗。

支承体(9)的阳极氧化被膜的厚度为1000nm，阳极氧化被膜的微孔的平均直径为15nm。阳极氧化被膜表面的明度L^*的值为83，陡度a45为23％。

＜支承体(10)的制作＞

在支承体(1)的制作中，如下变更了(f)阳极氧化处理且未进行(g)扩孔处理，除此以外，以与支承体(1)的制作相同的方式制作了支承体(10)。

(f1)阳极氧化处理

将18质量％的磷酸水溶液用作电解液，并在38℃、电流密度30A/dm²的条件下实施了阳极氧化处理。然后，通过喷射进行了水洗。

支承体(10)的阳极氧化被膜的厚度为1000nm，阳极氧化被膜的微孔的平均直径为60nm。阳极氧化被膜表面的明度L^*的值为87，陡度a45为23％。

＜图像记录层底层的形成＞

在支承体上棒涂下述组成的图像记录层底层涂布液，并在100℃下烘干30秒钟，从而形成了特定低分子量化合物的涂布量为90mg/m²的图像记录层底层。

(图像记录层底层涂布液)

[化学式25]

＜图像记录层上层(1)的形成＞

在上述图像记录层上层(1)的形成中，不使用感光液(1)中的特定低分子量化合物或比较化合物，除此以外，以与图像记录层(1)的形成相同的方式形成了图像记录层上层(1)。

＜图像记录层上层(2)的形成＞

在上述图像记录层(2)的形成中，不使用特定低分子量化合物，除此以外，以与图像记录层(2)的形成相同的方式形成了图像记录层上层(2)。

〔平版印刷版原版的制作〕

如表2中所记载那样对上述支承体、图像记录层底层、图像记录层上层进行组合而制作了平版印刷版原版。另外，在图像记录层上层(1)上形成有上述保护层，但在图像记录层上层(2)上未形成保护层。

在比较例32的平版印刷版原版中，在对图像记录层底层进行涂布之后，使用HEISHIN Ltd.制2NL04作为涂布装置涂布特定低分子量化合物的水溶液，而不进行干燥。即，通过将涂布装置的间隙固定为0.3mm并调整送液量，在从端部距离3cm的位置以6mm的宽度涂布了特定低分子量化合物的水溶液，以便成为表2中所记载的特定低分子量化合物的含量。然后，在100℃下烘干了60秒钟。

〔平版印刷版原版的切割〕

使用如图2所示的旋转刀片，并调整上侧切割刀片与下侧切割刀片的间隙、咬合量及刀片角度来对平版印刷版原版进行切割，从而形成了在端部具有表2中所记载的下弯量及下弯宽度的下弯形状。另外，关于比较例32的平版印刷版原版，在涂布有6mm宽的特定低分子量化合物的水溶液的区域的中心进行切割，从而得到了在端部具有3mm宽的特定低分子量化合物的涂布区域的平版印刷版原版。

〔平版印刷版原版的评价〕

关于平版印刷版原版，以与实施例1相同的方式对抗边缘污染性、端部的图像形成性及机上显影性进行了评价。

将评价结果示于表2。表2中，在特定低分子量化合物中，多磷酸为三聚体，分子量为256。CHELEST PH-210由CHELEST CORPORATION制造，且分子量为206。当将特定低分子量化合物的含量记载为包含“/”的数值时，“/”的左侧的数值表示端部的特定低分子量化合物的含量，“/”的右侧的数值表示除了端部以外的区域中的特定低分子量化合物的含量。比较例32中的“90/0”表示端部的磷酸含量为90mg/m²，除了端部以外的区域的磷酸含量为0mg/m²。

[表2]

从表2中所记载的结果可知，在本发明所涉及的实质上在图像记录层底层的面内含有相同量的特定低分子量化合物的平版印刷版原版中，防止了边缘污染而未降低端部的图像形成性、机上显影性等特性。相对于此，在图像记录层上层及图像记录层底层中不含有特定低分子量化合物的比较例31的平版印刷版原版中，产生明显的边缘污染，且特定低分子量化合物的含量在图像记录层的面内不同的比较例32中，端部的图像形成性恶化。如此，可知在比较例的平版印刷版原版中，无法满足所有的边缘防污性、端部的图像形成性及机上显影性。

产业上的可利用性

根据本发明，能够提供一种防止了边缘污染而未降低端部的图像形成性、机上显影性等特性的机上显影型平版印刷版原版及使用了机上显影型平版印刷版原版的制造方法。

详细地并且参考特定的实施方式对本发明进行了说明，但本领域技术人员明确可知在不脱离本发明的精神和范围的情况下能够施以各种变更或修改。

本申请基于2017年8月30日申请的日本专利申请(日本专利申请2017-165908)、2018年5月2日申请的日本专利申请(日本专利申请2018-088781)、2018年7月30日申请的日本专利申请(日本专利申请2018-142869)，其内容通过参考援用于此。

符号说明

1-平版印刷版原版，1a-图像记录层，1b-支承体表面，1c-端面，2-下弯，X-下弯量，Y-下弯宽度，B-图像记录层表面与支承体的边界，10-切割刀片，10a-上侧切割刀片，10b-上侧切割刀片，11-旋转轴，20-切割刀片，20a-下侧切割刀片，20b-下侧切割刀片，21-旋转轴。

Claims (15)

1.一种机上显影型平版印刷版原版，其在具有阳极氧化被膜的铝支承体上具有图像记录层，其中，

所述平版印刷版原版的端部具有下弯形状，所述图像记录层含有具有支承体吸附性、分子量为1000以下且在分子中不具有不饱和双键基团的化合物，所述化合物的含量在所述图像记录层的面内实质上相同，

所述化合物为磷酸、多磷酸、偏磷酸、磷酸二氢铵、磷酸氢二铵、磷酸二氢钠、磷酸一氢钠、磷酸二氢钾、磷酸氢二钾、三聚磷酸钠、焦磷酸钾、六偏磷酸钠、膦酸、次膦酸、乙基膦酸、丙基膦酸、异丙基膦酸、丁基膦酸、己基膦酸、辛基膦酸、十二烷基膦酸、十八烷基膦酸、2-羟乙基膦酸及它们的钠盐或钾盐、烷基膦酸单烷基酯及其钠盐或钾盐、亚烷基二膦酸及其钠盐或钾盐、聚乙烯基膦酸、对甲苯磺酸、对甲苯磺酸钠、磺基邻苯二甲酸、柠檬酸中的至少一种。

2.根据权利要求1所述的机上显影型平版印刷版原版，其中，

所述化合物为磷酸、多磷酸、膦酸或次膦酸。

3.根据权利要求1或2所述的机上显影型平版印刷版原版，其中，

所述化合物的含量为10mg/m²～150mg/m²。

4.根据权利要求1或2所述的机上显影型平版印刷版原版，其中，

所述下弯形状的下弯量X为25μm～150μm，下弯宽度Y为70μm～300μm。

5.根据权利要求4所述的机上显影型平版印刷版原版，其中，

在所述平版印刷版原版的与下弯宽度Y相当的区域的所述阳极氧化被膜的表面上存在的裂纹的面积率为10％以下。

6.根据权利要求5所述的机上显影型平版印刷版原版，其中，

所述裂纹的面积率为6％以下。

7.根据权利要求1、2、5、6中任一项所述的机上显影型平版印刷版原版，其中，

所述图像记录层含有聚合物粒子。

8.根据权利要求7所述的机上显影型平版印刷版原版，其中，

所述聚合物粒子为包含源自苯乙烯化合物的单体单元和/或源自(甲基)丙烯腈化合物的单体单元的聚合物的粒子。

9.根据权利要求1、2、5、6、8中任一项所述的机上显影型平版印刷版原版，其中，

所述图像记录层含有聚合引发剂、红外线吸收剂及聚合性化合物。

10.一种机上显影型平版印刷版原版，其在具有阳极氧化被膜的铝支承体上具有图像记录层，其中，

所述平版印刷版原版的端部具有下弯形状，所述图像记录层含有具有支承体吸附性、分子量为1000以下且在分子中不具有不饱和双键基团的化合物，所述化合物的含量在所述图像记录层的面内实质上相同，当通过STEM-EDS在深度方向上对所述平版印刷版原版的截面进行线分析时，从所述铝支承体与所述图像记录层的界面至图像记录层侧的任意深度都存在0.5质量％以上的源自支承体吸附性基团的元素，

所述化合物为磷酸、多磷酸、偏磷酸、磷酸二氢铵、磷酸氢二铵、磷酸二氢钠、磷酸一氢钠、磷酸二氢钾、磷酸氢二钾、三聚磷酸钠、焦磷酸钾、六偏磷酸钠、膦酸、次膦酸、乙基膦酸、丙基膦酸、异丙基膦酸、丁基膦酸、己基膦酸、辛基膦酸、十二烷基膦酸、十八烷基膦酸、2-羟乙基膦酸及它们的钠盐或钾盐、烷基膦酸单烷基酯及其钠盐或钾盐、亚烷基二膦酸及其钠盐或钾盐、聚乙烯基膦酸、对甲苯磺酸、对甲苯磺酸钠、磺基邻苯二甲酸、柠檬酸中的至少一种。

11.根据权利要求1、2、5、6、8、10中任一项所述的机上显影型平版印刷版原版，其中，

所述阳极氧化被膜的所述图像记录层侧的表面的CIEL^*a^*b^*表色系中的明度L^*的值为70～100。

12.根据权利要求1、2、5、6、8、10中任一项所述的机上显影型平版印刷版原版，其中，

所述阳极氧化被膜的所述图像记录层侧的表面上的波长为0.2μm～2μm的成分的陡度a45为30％以下。

13.根据权利要求1、2、5、6、8、10中任一项所述的机上显影型平版印刷版原版，其中，

在所述阳极氧化被膜表面具有微孔，所述阳极氧化被膜表面中的微孔的平均直径为10nm～100nm。

14.根据权利要求13所述的机上显影型平版印刷版原版，其中，

所述微孔由大孔径部和小孔径部构成，所述小孔径部的平均直径为所述大孔径部的平均直径的5％～80％，

所述大孔径部从所述阳极氧化被膜的表面延伸至深度10nm～1000nm的位置，所述小孔径部与所述大孔径部的底部连通且从连通位置延伸至深度20nm～2000nm的位置。

15.一种平版印刷版的制作方法，其包括：

通过红外线激光对权利要求1至14中任一项所述的机上显影型平版印刷版原版进行图像曝光的工序；及在印刷机上通过选自印刷墨液及润版液中的至少一种来去除图像记录层的未曝光部分的工序。

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