CN110885962B - 热处理装置和热处理方法 - Google Patents

Abstract

提供热处理装置和热处理方法，在对金属制的被处理物实施基于加热的热处理时，减少被处理物的各部分的温度上升的偏差，从而进一步减少因热处理产生的应变。加热器(22、23)是为了对作为加热处理对象的金属制的被处理物(10)进行加热而设置的。在热处理室(21)中配置有加热器(22、23)和被处理物(10)。遮蔽部件(24、25)在热处理室(21)内配置在加热器(22、23)与被处理物(10)之间，设置为能够遮蔽从加热器(22、23)向被处理物(10)的辐射热的放射。

Description

热处理装置和热处理方法

技术领域

本发明涉及用于对金属制的被处理物进行热处理的热处理装置和热处理方法。

背景技术

以往，公知有用于对金属性的被处理物进行热处理的热处理装置(例如，参照专利文献1)。专利文献1所记载的热处理装置具有：热处理室，其配置有被处理物；以及加热器，其配置于热处理室内。在热处理室内，被处理物与加热器对置配置。而且，该热处理装置构成为，通过利用加热器对热处理室内的气氛进行加热，对配置在热处理室内的被处理物进行基于加热的热处理。

专利文献1：日本特许第6023905号公报

在通过对金属制的被处理物进行加热而对被处理物实施热处理时，如果在被处理物的表面和内部分别产生被处理物的各部分的温度上升的偏差，则各部分的热应力的状态会产生偏差，在该被处理物中产生应变。因此，优选为，使被处理物的各部分的温度上升更加均匀。

但是，根据专利文献1所记载的结构，在热处理室内，被处理物与加热器对置配置。因此，被处理物不仅被通过加热器加热后的气氛加热，还被来自加热器的辐射热加热。而且，在被处理物中，在与加热器对置的部分，辐射热产生较大影响，在没有与加热器对置的部分，辐射热基本不产生影响。因此，在被处理物的表面和内部分别产生被处理物的各部分的温度上升的偏差，各部分的应力的状态产生偏差，在被处理物中容易产生应变。

发明内容

鉴于上述情况，本发明的目的在于，提供在对金属制的被处理物实施基于加热的热处理时，能够减少被处理物的各部分的温度上升的偏差，从而进一步减少因热处理产生的应变的热处理装置和热处理方法。

(1)为了解决上述课题，本发明的一个方面的热处理装置具有：加热器，其用于对作为加热处理对象的金属制的被处理物进行加热；热处理室，其配置有所述加热器和所述被处理物；以及遮蔽部件，其在所述热处理室内配置于所述加热器与所述被处理物之间，能够遮蔽从所述加热器向所述被处理物的辐射热的放射。

根据该结构，通过在热处理室内配置于加热器与被处理物之间的遮蔽部件，能够遮蔽从加热器向被处理物的辐射热的放射。因此，在从加热器向被处理物放射的辐射热被遮蔽部件遮蔽的状态下，抑制了来自加热器的辐射热对被处理物的加热，通过被加热器加热后的气氛对被处理物整体进行加热。即，抑制了来自加热器的辐射热的加热在被处理物的一部分中产生较大的影响，通过被加热器加热后的气氛对被处理物的整体更均匀地进行加热。由此，能够减少在被处理物的表面和内部分别产生的被处理物的各部分的温度上升的偏差，减少各部分的应力的状态产生偏差的情况，从而能够进一步减少因热处理而在被处理物产生的应变。

因此，根据上述结构，能够提供如下的热处理装置：在对金属制的被处理物实施基于加热的热处理时，能够减少被处理物的各部分的温度上升的偏差，能够进一步减少因热处理产生的应变。

(2)有时，所述热处理装置还具有切换驱动部，该切换驱动部对所述遮蔽部件进行驱动而切换遮蔽部件的状态，所述切换驱动部对所述遮蔽部件进行驱动而在放射状态与遮蔽状态之间切换该遮蔽部件的状态，其中，该放射状态被配置为所述遮蔽部件允许从所述加热器向所述被处理物的辐射热的放射，该遮蔽状态被配置为所述遮蔽部件遮蔽从所述加热器向所述被处理物的辐射热的放射。

根据该结构，切换驱动部对遮蔽部件进行驱动而使遮蔽部件的状态在允许向被处理物放射辐射热的放射状态与遮蔽向被处理物放射辐射热的遮蔽状态之间进行切换。因此，在对被处理物实施基于加热的热处理时，能够根据加热温度条件等期望的条件，容易地使遮蔽部件的状态在放射状态与遮蔽状态之间切换。由此，在对被处理物实施基于加热的热处理时，在容易因被处理物的各部分的温度上升的偏差而产生应力状态的偏差的温度区域中，通过设定为遮蔽状态，能够减少因辐射热的加热而产生被处理物的各部分的温度上升的偏差的情况。而且，在不容易因被处理物的各部分的温度上升的偏差而产生应力状态的偏差的温度区域中，通过设定为放射状态，能够通过辐射热的加热使被处理物的温度上升。

(3)有时，在所述被处理物的温度为包含A1相变点在内的规定的温度范围内的温度时，所述切换驱动部将所述遮蔽部件的状态维持为所述遮蔽状态。

根据该结构，在温度为包含A1相变点在内的规定的温度范围内时，将遮蔽部件的状态维持为遮蔽状态，其中，该A1相变点是被处理物的组织从铁素体+渗碳体的状态开始向奥氏体的状态相变的温度。因此，在被处理物的加热时，在被处理物的组织开始奥氏体相变的时刻，抑制来自加热器的辐射热的加热，通过被加热器加热后的气氛对被处理物的整体进行加热。由此，在包含奥氏体相变的开始时刻在内的温度区域中，减少在被处理物的表面和内部分别产生的被处理物的各部分的温度上升的偏差，在被处理物的整体中更加均匀地开始奥氏体相变。即，在被处理物的各部分中，能够使开始奥氏体相变的时刻更加一致。由此，在被处理物的各部分中，奥氏体相变开始时产生的体积变化更加均匀地开始，减少各部分的应力的状态产生偏差的情况，从而能够进一步减少在被处理物产生的应变。由此，根据上述结构，能够进一步减少被处理物的组织开始奥氏体相变时产生的应变。另外，如果是为了被处理物的渗碳处理而对被处理物进行基于加热的热处理的情况，则能够使被处理物的表面上的碳侵入的时刻更加一致。即，能够使被处理物的各部分的奥氏体相变开始的时刻更加一致，因此能够使被处理物的表面上的碳侵入的时刻更加一致。因此，根据上述结构，在被处理物的渗碳处理时，能够使被处理物的表面上的碳侵入的时刻更加一致，从而能够进一步减少在被处理物产生的应变。

(4)有时，所述规定的温度范围至少包含比A1相变点低50℃的温度以上且比A3相变点高50℃的温度以下的温度范围。

根据该结构，在比A1相变点低50℃的温度到比A3相变点高50℃的温度下，遮蔽部件的状态维持为遮蔽状态，其中，该A1相变点是被处理物的组织开始奥氏体相变的温度，该A3相变点是奥氏体相变结束的温度。因此，在从奥氏体相变开始至结束的温度区域的范围内，抑制来自加热器的辐射热的加热，通过被加热器加热后的气氛对被处理物的整体进行加热。由此，在从奥氏体相变开始至结束的温度区域的整个范围内，减少在被处理物的表面和内部分别产生的被处理物的各部分的温度上升的偏差，在被处理物的整体中更均匀地发生奥氏体相变。因此，在被处理物的各部分中，在奥氏体相变时产生的体积变化更均匀地产生，减少各部分的应力的状态产生偏差的情况，从而能够进一步减少在被处理物产生的应变。因此，根据上述结构，能够进一步减少在被处理物的组织相变为奥氏体时产生的应变。另外，根据上述结构，从比A1相变点低50℃的温度开始使遮蔽部件的状态维持遮蔽状态。因此，能够从奥氏体相变开始前更可靠地减少在被处理物的各部分的温度上升中产生偏差。另外，根据上述结构，使遮蔽部件的状态维持遮蔽状态直至比A3相变点高50℃的温度。因此，能够更可靠地减少在被处理物的各部分的温度上升中产生偏差直至奥氏体相变完全结束。

(5)有时，该热处理装置还具有温度测量部，该温度测量部对所述被处理物的温度和所述热处理室内的规定的温度测量位置处的温度中的至少任意一方的温度进行测量，所述切换驱动部根据所述温度测量部所测量的温度测量结果来切换所述遮蔽部件的状态。

根据该结构，基于被处理物的温度或热处理室内的规定的温度测量位置处的温度的测量结果来切换遮蔽部件的状态。因此，根据被处理物的实际的温度状态或热处理室内的实际的温度状态，能够容易地使遮蔽部件的状态在放射状态与遮蔽状态之间切换。

(6)有时，在所述温度测量部所测量出的温度到达与A1相变点相同的温度或到达比A1相变点低的规定的温度时，所述切换驱动部将所述遮蔽部件的状态从所述放射状态切换为所述遮蔽状态。

根据该结构，在被处理物的加热时，在被处理物的实际的温度或热处理室内的实际的温度到达与A1相变点相同或比该A1相变点低的温度时，将遮蔽部件的状态切换为遮蔽状态。因此，能够在奥氏体相变开始或奥氏体相变开始前的时刻，更可靠地抑制来自加热器的辐射热的加热，从而能够减少在被处理物的各部分的温度上升中产生偏差的情况。

(7)有时，所述遮蔽部件具有：多个旋转轴，它们相互平行地延伸；以及多个遮蔽板，它们以多个所述旋转轴的各个所述旋转轴为中心分别被支承为旋转自如，所述切换驱动部通过使多个所述遮蔽板同时旋转而将所述遮蔽部件的状态从所述放射状态切换为所述遮蔽状态。

根据该结构，通过使构成遮蔽部件的多个遮蔽板绕各旋转轴同时旋转，能够将遮蔽部件的状态从放射状态切换为遮蔽状态。因此，能够更迅速地进行将遮蔽部件的状态从放射状态切换为遮蔽状态的动作。

(8)有时，所述遮蔽板固定于所述旋转轴，所述切换驱动部具有：多个摆动部件，它们分别固定于多个所述旋转轴；连结棒，其连结多个所述摆动部件；以及连结棒驱动部，其对所述连结棒进行驱动以使所述连结棒进退移动，多个所述摆动部件分别与所述连结棒以摆动自如的方式连结。

根据该结构，通过使连结棒进退移动而使多个摆动部件同时摆动，从而能够使多个遮蔽板与多个旋转轴一起同时进行旋转。因此，通过将与连结棒连结为摆动自如的摆动部件固定于旋转轴的简单的结构，能够实现使构成遮蔽部件的多个遮蔽板绕各旋转轴同时旋转而将遮蔽部件的状态从放射状态切换为遮蔽状态的构造。

(9)有时，该热处理装置还具有风扇，该风扇在所述热处理室内与所述被处理物对置配置，产生在所述被处理物的周围通过的气流。

根据该结构，被加热器加热后的气氛气体通过产生在被处理物的周围通过的气流的风扇而在热处理室内进行循环。因此，被加热器重新加热后的气氛气体始终被提供到被处理物的周围，因此能够通过被加热器加热后的气氛高效地进行被处理物的加热。

(10)有时，所述风扇产生沿着与所述遮蔽部件所延伸的方向平行的方向在所述被处理物的周围通过的气流。

根据该结构，在被加热器加热后的气氛气体通过产生在被处理物的周围通过的气流的风扇而在热处理室内进行循环时，遮蔽部件起到作为整流部件的功能。因此，能够通过被加热器加热后的气氛更高效地进行被处理物的加热。

(11)另外，本发明的一个方面是热处理方法，具有如下的步骤：加热步骤，在配置有作为加热处理对象的金属制的被处理物和加热器的热处理室内，使用所述加热器对所述被处理物进行加热；以及遮蔽步骤，在执行所述加热步骤的期间执行该遮蔽步骤，通过在所述热处理室内配置于所述加热器与所述被处理物之间的遮蔽部件，遮蔽从所述加热器向所述被处理物的辐射热的放射。

根据该结构，能够通过在热处理室内配置于加热器与被处理物之间的遮蔽部件遮蔽从加热器向被处理物放射的辐射热。因此，在从加热器向被处理物放射的辐射热被遮蔽部件遮蔽的状态下，抑制了来自加热器的辐射热对被处理物的加热，通过被加热器加热后的气氛对被处理物的整体进行加热。即，抑制了来自加热器的辐射热的加热在被处理物的一部分中产生较大的影响，通过被加热器加热后的气氛对被处理物的整体更均匀地进行加热。由此，能够减少在被处理物的表面和内部分别产生的被处理物的各部分的温度上升的偏差，减少各部分的应力的状态产生偏差的情况，从而能够进一步减少因热处理而在被处理物产生的应变。

因此，根据上述结构，能够提供热处理方法，在对金属制的被处理物实施基于加热的热处理时，减少被处理物的各部分的温度上升的偏差，从而能够进一步减少因热处理产生的应变。

根据本发明，在对金属制的被处理物实施基于加热的热处理时，能够减少被处理物的各部分的温度上升的偏差，从而进一步减少因热处理产生的应变。

附图说明

图1是示出本发明的实施方式的热处理装置的示意性的剖视图，是示出从图2的B-B箭头线位置观察的状态的剖视图。

图2是热处理装置的示意性的剖视图，是示出从图1的A-A箭头线位置观察的状态的剖视图。

图3是热处理装置的示意性的剖视图，是示出从图2的C-C箭头线位置观察的状态的剖视图。

图4是示意性地示出包含热处理装置的热处理系统的一例的图。

图5是热处理装置的示意性的剖视图，是示出热处理装置的遮蔽部件的状态与图1的遮蔽部件的状态不同的状态下的剖视图。

图6是放大示出热处理装置的一部分的图，是示出遮蔽部件的状态为遮蔽状态的情况的图。

图7是放大示出热处理装置的一部分的图，是示出遮蔽部件的状态为放射状态的情况的图。

图8是示意性地示出遮蔽部件的图，图8的(a)是示出遮蔽部件的状态为遮蔽状态的情况的图，图8的(b)是示出遮蔽部件的状态为放射状态的情况的图。

图9是用于对热处理装置的切换驱动部的动作进行说明的图，图9的(a)是示意性地示出切换驱动部将遮蔽部件的状态切换为遮蔽状态时的状态的图，图9的(b)是示意性地示出切换驱动部将遮蔽部件的状态切换为放射状态时的状态的图。

图10是示意性地示出热处理装置的切换驱动部的图，是用于对切换驱动部的动作进行说明的图。

图11是示意性地示出热处理装置的离心风扇和气流调整部的图，图11的(a)是从水平方向观察离心风扇和气流调整部的图，图11的(b)是从上方观察离心风扇和气流调整部的图。

图12是热处理装置的示意性的剖视图，是将热处理装置的热处理室内的结构局部省略而示出的图。

图13是与图1对应的热处理装置的示意性的剖视图，是用于对离心风扇和气流调整部的动作进行说明的图。

图14是与图2对应的热处理装置的示意性的剖视图，是用于对离心风扇和气流调整部的动作进行说明的图。

图15是用于对热处理装置的热处理动作的一例进行说明的流程图。

图16是用于对在热处理装置中被热处理的被处理物的状态进行说明的、Fe-C合金的示意性的平衡状态图。

图17是示出对热处理时的被处理物的温度变化进行测量后的结果的图，图17的(a)是实施例的温度测量结果，图17的(b)是比较例的温度测量结果。

图18是示出对热处理时的被处理物的温度变化进行测量后的结果的图，图18的(a)是实施例的温度测量结果，图18的(b)是比较例的温度测量结果。

图19是第1变形例的热处理装置的示意性的剖视图，是示出从图20的E-E箭头线位置观察的状态的剖视图。

图20是第1变形例的热处理装置的示意性的剖视图，是示出从图19的D-D箭头线位置观察的状态的剖视图。

图21是第2变形例的热处理装置的示意性的剖视图，是示出从图22的G-G箭头线位置观察的状态的剖视图。

图22是第2变形例的热处理装置的示意性的剖视图，是示出从图21的F-F箭头线位置观察的状态的剖视图。

图23是第3变形例的热处理装置的示意性的剖视图，是示出从图24的I-I箭头线位置观察的状态的剖视图。

图24是第3变形例的热处理装置的示意性的剖视图，是示出从图23的H-H箭头线位置观察的状态的剖视图。

标号说明

1：热处理装置；10：被处理物；21：热处理室；22、23：加热器；24、25：遮蔽部件；26、27：切换驱动部。

具体实施方式

以下，参照附图，对用于实施本发明的方式进行说明。

[热处理装置的概略]

图1是本发明的实施方式的热处理装置1的示意性的剖视图，是示出从图2的B-B箭头线位置观察的状态的剖视图。图2是热处理装置1的示意性的剖视图，是示出从图1的A-A箭头线位置观察的状态的剖视图。图3是热处理装置1的示意性的剖视图，是示出从图2的C-C箭头线位置观察的状态的剖视图。

参照图1至图3，热处理装置1是作为用于对金属制的被处理物10进行基于加热的热处理的装置而设置的。作为热处理装置1的热处理，能够例示出渗碳处理、淬火处理、回火处理以及退火处理等。在本实施方式中，以热处理装置1是用于进行气体渗碳处理的热处理装置的情况为例进行说明。

另外，热处理装置1可以单独使用。另外，热处理装置1也可以与其他热处理装置组合，还可以作为包含多个热处理装置的热处理系统的一部分来使用。图4是示意性地示出包含热处理装置1的热处理系统15的一例的图。热处理系统15具有气体渗碳处理用的热处理装置1、淬火装置16以及回火装置17。在通过热处理系统15对被处理物10进行处理的情况下，首先，通过热处理装置1对被处理物10进行作为渗碳处理的热处理。接下来，进行了渗碳处理后的被处理物10被搬运至淬火装置16，在淬火装置16中进行淬火处理。然后，在淬火处理结束时，被处理物10被搬运至回火装置17，在回火装置17中进行回火处理。在回火处理结束时，结束热处理系统15对被处理物10的热处理，将被处理物10从热处理系统15运出。

被处理物10被设置为作为热处理对象的金属制的部件，在本实施方式中，被设置为作为加热处理对象的金属制的部件。另外，在本实施方式中，被处理物10由碳素钢构成，被设置为高度尺寸比直径尺寸小的呈圆筒状形成的环状部件。被处理物10例如由含碳量(碳势)为0.2％左右的碳素钢构成。作为环状的被处理物10，例如能够例示出滚动轴承的外圈和内圈等圈部件、正齿轮等齿轮、滚动轴承的滚柱、轴以及垫圈等。另外，在本实施方式中，以被处理物10由碳素钢制的环状部件构成的情况为例进行说明，但也可以不是这样。被处理物10也可以由碳素钢制以外的金属制的部件构成，另外，也可以由形成为环状以外的形状的部件构成。

另外，被处理物10在被热处理装置1进行热处理时，例如以配置在形成为薄型的箱状的箱体11内的状态进行热处理。在箱体11中，多个被处理物10以大致均等间隔地扩展配置的状态被收纳。被处理物10以配置在箱体11内的状态配置在热处理装置1的后述的热处理室21内，被热处理室21内的气氛加热，从而实施热处理。另外，收纳有多个被处理物10的箱体11以堆积多个的状态(即，以层叠多层的状态)配置在热处理室21内。由此，对分别收纳在多个箱体10中的被处理物10同时进行热处理。另外，在图2中，例示了将6个箱体11堆积并层叠起来的状态。

另外，在收纳多个被处理物10的箱体11中，例如设置有形成于周围侧面和底面的多个孔和形成于上表面的开口，以使得周围的气体能够几乎无阻力地通过。由此，构成为使热处理室21内的气氛气体以通过箱体11的方式流动，使热处理室21内的气氛气体在配置于箱体11内的被处理物10的周围流动。另外，箱体11只要是能够使热处理室21内的气氛气体以通过箱体11的方式流动的构造即可，例如，也可以采用由网状部件形成的方式。

热处理装置1构成为具有热处理室21、加热器(22、23)、遮蔽部件(24、25)、切换驱动部(26、27)、温度测量部28、离心风扇(风扇)29、气流调整部30、气氛气体提供部31以及控制部32等。

[热处理室]

参照图1至图3，热处理室21具有一对侧壁(33、34)、前方壁35、后方壁36、底壁37、顶壁38以及多个脚部39等。一对侧壁(33、34)、前方壁35、后方壁36、底壁37以及顶壁38构成中空的箱状的部分。多个脚部39设置于中空的箱状的部分的下端部，构成为对中空的箱状进行局部支承。热处理室21是作为用于对配置在中空的箱状部分的内部的被处理物10实施热处理的热处理炉而设置的。

一对侧壁(33、34)平行配置，由第1侧壁33和第2侧壁34构成。即，热处理室21具有作为一对侧壁(33、34)的第1侧壁33和第2侧壁34。第1侧壁33和第2侧壁34作为分别沿上下方向延伸的壁部而设置。

前方壁35和后方壁36平行配置，与一对侧壁(33、34)垂直地扩展，并且作为分别沿上下方向延伸的壁部而设置。前方壁35设置为使一对侧壁(33、34)的沿上下方向延伸的两个端部的一方结合为一体。后方壁36设置为使一对侧壁(33、34)的沿上下方向延伸的两个端部的另一方结合为一体。在前方壁35设置有入口门35a，在后方壁36设置有出口门36a。底壁37是作为划分出热处理室21的底部分的壁部而设置的，设置为使一对侧壁(33、34)、前方壁35以及后方壁36的下端部结合为一体。多个脚部39设置为从该底壁37的下端面朝向下方延伸。顶壁38是作为划分出热处理室21的顶部分的壁部而设置的，设置为使一对侧壁(33、34)、前方壁35以及后方壁36的上端部结合为一体。

在热处理室21中配置有后述的加热器(22、23)、遮蔽部件(24、25)、温度测量部28、离心风扇(风扇)29以及气流调整部30。另外，在热处理室21中，设置有将收纳了被处理物10的箱体11搬运至热处理室21内的多个搬运辊40。

在多个搬运辊40中分别设置有旋转轴40a，各搬运辊40设置为绕旋转轴40a旋转。多个搬运辊40的旋转轴40a配置为相互平行延伸，并且配置为沿与一对侧壁(33、34)垂直的方向延伸。另外，各搬运辊40的旋转轴40a被支承为相对于一对侧壁(33、34)旋转自如。多个搬运辊40构成为通过省略了图示的链条机构而同步旋转。例如，各旋转轴40a的一个端部贯穿第2侧壁34，在第2侧壁34的外部，在各旋转轴40a的一个端部设置有链轮，该链轮构成为通过链条机构进行旋转。链条机构构成为通过电动马达来进行环绕驱动，该电动马达根据来自后述的控制部32的控制指令而进行旋转。

在对被处理物10进行热处理时，在热处理室21的入口门35a打开的状态下，配置于箱体11内的被处理物10与箱体11一同从热处理室21的外部被运进热处理室21内。然后，被运进热处理室21内的被处理物10配置于一对侧壁(33、34)之间。另外，被运进热处理室21内并收纳有被处理物10的箱体11配置在多个搬运辊40上。然后，通过使多个搬运辊40进行旋转，使收纳有被处理物10的箱体11沿行进方向X1进行搬运，该行进方向是从入口门35a朝向出口门36a的方向。另外，在图1中以箭头X1示出行进方向X1。通过多个搬运辊40的旋转，在箱体11被搬运至热处理室21内的大致中央部分时，停止多个搬运辊40的搬运，进行热处理。当被处理物10在热处理室21内被热处理时，入口门35a和出口门36a关闭。在热处理室21内的热处理结束时，出口门36a打开，通过多个搬运辊40的旋转，将收纳有被处理物10的箱体11沿行进方向X1进行搬运。然后，在出口门36a打开的状态下，使配置在箱体11内的被处理物10与箱体11一同从热处理室21内向热处理室21的外部运出。

[加热器]

参照图1至图3，加热器(22、23)是为了对作为加热处理对象的被处理物10进行加热而设置的，配置于热处理室21。而且，加热器(22、23)构成为通过对热处理室21内的气氛进行加热，从而对配置在热处理室21内的被处理物10进行基于加热的热处理。另外，加热器(22、23)是成对设置的，作为第1加热器22和第2加热器23而设置。在热处理室21内，第1加热器22沿第1侧壁33配置，第2加热器23沿第2侧壁34配置。即，在热处理装置1中，在热处理室21内具有分别沿一对侧壁(33、34)配置的一对加热器(22、23)。

一对加热器(22、23)中的一方的第1加热器22和另一方的第2加热器23分别具有多个发热体41。即，第1加热器22具有多个发热体41，第2加热器23也具有多个发热体41。

第1和第2加热器(22、23)的各发热体41具有大致圆形的截面形状，设置为从热处理室21的顶壁38朝向下方笔直地延伸至搬运辊40的上方的位置。而且，第1加热器22的多个发热体41沿第1侧壁33排列配置，并且沿与第1侧壁33平行的方向等间隔地排列配置。另外，第2加热器23的多个发热体41沿第2侧壁34排列配置，并且沿与第2侧壁34平行的方向等间隔地排列配置。

另外，第1和第2加热器(22、23)的各发热体41具有：圆筒状的管；以及电热体，其配置在管的内部，将从省略图示的电源提供的电能转换为热能。管是为了将向配置在管内的电热体通电而产生的热传递至热处理室21内的气氛而设置的。通过在管内从电热体产生的热对热处理室21内的气氛进行加热，从而通过加热后的气氛对热处理室21内的被处理物10进行加热。另外，第1和第2加热器(22、23)的各发热体41构成为根据来自控制部32的控制指令而进行发热动作。根据来自控制部32的控制指令而进行向各发热体41的电热体的通电，从而使各发热体41进行发热动作，对热处理室21内的气氛进行加热，从而对热处理室21内的被处理物10进行加热。

[温度测量部]

参照图1至图3，温度测量部28是作为对热处理室21内的规定的温度测量位置处的温度进行测量的温度传感器而设置的。而且，温度测量部28构成为对热处理室21内的气氛的温度进行测量。温度测量部28安装在从顶壁38在热处理室21内朝向下方呈棒状延伸的安装器具中，并且设置在热处理室21内。温度测量部28配置在设置于热处理室21内的被处理物10的附近的位置。另外，在本实施方式中，温度测量部28配置于比最上方的箱体11的上表面高的位置，以使得收纳有被处理物10的箱体11在相对于热处理室21内运进和运出时不与箱体11抵接。

另外，温度测量部28与控制部32连接，构成为向控制部32输入温度测量部28的温度测量结果。另外，控制部32根据温度测量部28的温度测量结果，对后述的切换驱动部(26、27)进行控制。

[气氛气体提供部]

气氛气体提供部31构成为向热处理室21内提供用于构成热处理室21内的气氛的气氛气体，该气氛气体是用于对被处理物10进行期望的热处理的热处理用气体。气氛气体提供部31与热处理室21连接，具有在热处理室21的内部开口的配管，该配管与泵31a和未图示的罐连接。气氛气体提供部31的泵31a的动作被控制部32控制。由此，贮存于罐的气氛气体被气氛气体提供部31提供至热处理室21内。在本实施方式中，使用一氧化碳(CO)气体等含碳的气体来作为热处理用气体。该气体的碳势(质量％)被设定为比作为被处理物10的母材的碳素钢的含碳量大。

[遮蔽部件]

参照图1至图3，遮蔽部件(24、25)在热处理室21内配置于加热器(22、23)与被处理物10之间，作为能够遮蔽从加热器(22、23)向被处理物10放射的辐射热的部件而设置。遮蔽部件(24、25)是成对设置的，作为第1遮蔽部件24和第2遮蔽部件25而设置。

在热处理室21内，第1遮蔽部件24沿第1加热器22配置。而且，第1遮蔽部件24设置为，在收纳于箱体11的被处理物10与箱体11一同被运进至热处理室21内并配置在搬运辊40的上方的状态下，配置于第1加热器22与被处理物10之间。在热处理室21内，第2遮蔽部件25沿第2加热器23配置。而且，第2遮蔽部件25设置为，在收纳于箱体11的被处理物10与箱体11一同被运进热处理室21内并配置在搬运辊40的上方的状态下，配置于第2加热器23与被处理物10之间。

另外，遮蔽部件(24、25)构成为被后述的切换驱动部(26、27)驱动，从而在放射状态与遮蔽状态之间切换自身的状态(即，遮蔽部件(24、25)的状态)。另外，在放射状态下，遮蔽部件(24、25)是配置为允许从加热器(22、23)向被处理物10放射辐射热的状态。另一方面，在遮蔽状态下，遮蔽部件(24、25)是配置为遮蔽从加热器(22、23)向被处理物10放射辐射热的状态。

图5是热处理装置1的示意性的剖视图，是示出热处理装置1的遮蔽部件(24、25)的状态与图1的遮蔽部件(24、25)的状态不同的状态下的剖视图。图1示出遮蔽部件(24、25)的状态为遮蔽状态的情况，图5示出遮蔽部件(24、25)的状态为放射状态的情况。另外，图6是放大示出热处理装置1的一部分的图，是示出第1遮蔽部件24的状态为遮蔽状态的情况的图。图7是放大示出热处理装置1的一部分的图，是示出第1遮蔽部件24的状态为放射状态的情况的图。另外，图6放大示出了图1的一部分，图7放大示出了图5的一部分。另外，图8是示意性地示出第1遮蔽部件24的图，图8的(a)是示出第1遮蔽部件24的状态为遮蔽状态的情况的图，图8的(b)是示出第1遮蔽部件24的状态为放射状态的情况的图。另外，图8的(a)和图8的(b)示意性地示出从被处理物10侧观察的第1遮蔽部件24的状态。

参照图1至图3、图5至图8，遮蔽部件(24、25)具有多个旋转轴42和多个遮蔽部件43。即，第1遮蔽部件24具有多个旋转轴42和多个遮蔽部件43，第2遮蔽部件25也具有多个旋转轴42和多个遮蔽部件43。另外，在图6至图8中，仅图示了第1遮蔽部件24，但第2遮蔽部件25也构成为与第1遮蔽部件24同样。

第1和第2遮蔽部件(24、25)中的多个旋转轴42分别设置为相互平行延伸。另外，各旋转轴42设置为沿上下方向笔直延伸，并且设置为在热处理室21内从底壁37朝向上方呈悬臂状延伸。另外，第1遮蔽部件24的多个旋转轴42沿与第1加热器22平行的方向排列配置。而且，第2遮蔽部件25的多个旋转轴42沿与第2加热器23平行的方向排列配置。另外，第1和第2遮蔽部件(24、25)的各旋转轴42被支承为绕轴心旋转自如。例如，各旋转轴42的下端侧的部分在下方以旋转自如的状态贯穿底壁37，各旋转轴42的下端部被省略图示的轴承部支承为绕轴心旋转自如。

第1和第2遮蔽部件(24、25)的多个遮蔽板43分别相对于多个旋转轴42固定。由此，多个遮蔽板43以多个旋转轴42的各个旋转轴42为中心分别被支承为旋转自如，并且设置为与多个旋转轴42的各个旋转轴42一起进行旋转。另外，多个遮蔽板43分别被设置为沿上下方向较长地延伸的长方形状的外形的板状体。

而且，在图1、图3、图6以及图8的(a)所示的遮蔽状态下，多个遮蔽板43配置为使平坦扩展的面方向沿着在与各加热器(22、23)的配置方向平行的方向上扩展的同一面扩展，其中，各加热器(22、23)沿着与各侧壁(33、34)平行的方向配置。因此，在遮蔽状态下，通过沿同一面扩展的多个遮蔽板43，遮蔽从各加热器(22、23)向被处理物10的辐射热。

另一方面，在图5、图7以及图8的(b)所示的放射状态下，多个遮蔽板43配置为使平坦扩展的面方向沿与各加热器(22、23)的配置方向垂直的方向相互平行地扩展，其中，各加热器(22、23)沿着与各侧壁(33、34)平行的方向配置。因此，在放射状态下，相邻的遮蔽板43之间的区域较大地开放，允许从各加热器(22、23)向被处理物10放射辐射热。

[切换驱动部]

切换驱动部(26、27)是作为对遮蔽部件(24、25)进行驱动而切换遮蔽部件(24、25)的状态的机构而设置的。而且，切换驱动部(26、27)构成为，对遮蔽部件(24、25)进行驱动而在图5所示的放射状态与图1至图3所示的遮蔽状态之间切换遮蔽部件(24、25)的状态。另外，放射状态作为遮蔽部件(24、25)被配置为允许从加热器(22、23)向被处理物10放射辐射热的状态而构成。遮蔽状态作为遮蔽部件(24、25)被配置为遮蔽从加热器(22、23)向被处理物10放射辐射热的状态而构成。

另外，切换驱动部(26、27)是成对设置的，作为第1切换驱动部26和第2切换驱动部27而设置。第1切换驱动部26构成为，对第1遮蔽部件24进行驱动而在放射状态与遮蔽状态之间切换第1遮蔽部件24的状态。而且，第2切换驱动部27构成为，对第2遮蔽部件25进行驱动而在放射状态与遮蔽状态之间切换第2遮蔽部件25的状态。

图9是用于对切换驱动部(26、27)的动作进行说明的图，是示意性地示出具有相同构造的切换驱动部(26、27)中的第2切换驱动部27的俯视图。另外，图9的(a)是示意性地示出第2切换驱动部27将第2遮蔽部件25的状态切换为遮蔽状态时的状态的图，图9的(b)是示意性地示出第2切换驱动部27将第2遮蔽部件25的状态切换为放射状态时的状态的图。另外，在图9的(a)和图9的(b)中，以双点划线示出第2遮蔽部件25的多个遮蔽板44。另外，图10是示意性地示出第2切换驱动部27的图，是用于对第2切换驱动部27的动作进行说明的图。另外，图10是放大示出第2切换驱动部27的一部分的图。

参照图2、图9以及图10，切换驱动部(26、27)设置于热处理室21的底壁37的下侧，具有多个摆动部件44、连结棒(45、46)以及连结棒驱动部(47、48)。另外，在图9和图10中，图示了第2切换驱动部27，但第1切换驱动部26也构成为与第2切换驱动部27同样。即，第1切换驱动部26具有多个摆动部件44、连结棒(45、46)以及连结棒驱动部(47、48)，第2切换驱动部27也具有多个摆动部件44、连结棒(45、46)以及连结棒驱动部(47、48)。

第1和第2切换驱动部(26、27)中的多个摆动部件44分别是作为外形为长方形状的板状的部件而设置的，分别固定于多个旋转轴42。另外，切换驱动部(26、27)设置于底壁37的下侧，各摆动部件44被支承为相对于底壁37旋转自如，固定于贯穿底壁37的各旋转轴42的下端部分。

另外，各摆动部件44以呈长方形状的板状延伸的方向向与各旋转轴42垂直的方向突出并延伸的状态固定于各旋转轴42。另外，在遮蔽部件(24、25)为遮蔽状态时，各摆动部件44以与从入口门35a朝向出口门36a的行进方向X1平行地相对于多个旋转轴42所排列的方向按照规定的角度朝向入口门35a侧倾斜突出并延伸的状态固定于各旋转轴42。另外，在遮蔽部件(24、25)为遮蔽状态时，多个摆动部件44设置为，相对于多个旋转轴42所排列的方向以规定的角度分别向两侧交替地倾斜突出并延伸。另外，在各摆动部件44上设置有用于以摆动自如的方式与后述的连结棒(45、46)连结的长孔44a。

连结棒(45、46)是作为连结多个摆动部件44的棒状的部件而设置的。在各个第1和第2切换驱动部(26、27)中，连结棒(45、46)是成对设置的。一对连结棒(45、46)设置为相互平行地延伸，并且沿与多个旋转轴42所排列的方向平行的方向延伸。连结棒45构成为将各个第1和第2切换驱动部(26、27)的多个摆动部件44中的一半数量的摆动部件44连结起来，连结棒46构成为将各个第1和第2切换驱动部(26、27)的多个摆动部件44中的剩余一半数量的摆动部件44连结起来。更具体而言，连结棒45设置为将沿着多个旋转轴42所排列的方向排列的多个摆动部件44每隔一个进行连结，将多个摆动部件44的一半数量(在本实施方式的例中为5个)的摆动部件44连结起来。而且，连结棒46设置为将不与连结棒45连结的摆动部件44连结起来。即，连结棒46设置为将沿着多个旋转轴42所排列的方向排列的多个摆动部件44每隔一个进行连结，将多个摆动部件44的剩余一半数量(在本实施方式的例中为5个)的摆动部件44连结起来。

另外，在各连结棒(45、46)上设置有用于使多个摆动部件44以摆动自如的方式连结的多个连结销(45a、46a)。即，在连结棒45上设置有用于使多个摆动部件44的一半数量的摆动部件44以摆动自如的方式连结的多个连结销45a，在连结棒46上设置有用于使多个摆动部件44的剩余一半数量的摆动部件44以摆动自如的方式连结的多个连结销46a。

连结棒45的各连结销45a设置为从连结棒45的棒状部分朝向上方呈悬臂状突出，并且以间隙嵌合的状态贯通在各摆动部件44的长孔44a中。另外，连结棒45的各连结销45a以间隙嵌合的状态贯通在各个第1和第2切换驱动部(26、27)的多个摆动部件44的一半数量的摆动部件44的各自的长孔44a中。由此，各个第1和第2切换驱动部(26、27)的多个摆动部件44的一半数量的摆动部件44分别与连结棒45以摆动自如的方式连结。

另外，连结棒46的各连结销46a设置为从连结棒46的棒状部分朝向上方呈悬臂状突出，并且以间隙嵌合的状态贯通在各摆动部件44的长孔44a中。另外，连结棒46的各连结销46a以间隙嵌合的状态贯通在各个第1和第2切换驱动部(26、27)的多个摆动部件44的剩余一半数量的摆动部件44的各自的长孔44a中。由此，各个第1和第2切换驱动部(26、27)的多个摆动部件44的剩余一半数量的摆动部件44分别与连结棒46以摆动自如的方式连结。

连结棒驱动部(47、48)是作为对连结棒(45、46)进行驱动以使连结棒(45、46)进退移动的机构而设置的。在各个第1和第2切换驱动部(26、27)中，连结棒驱动部(47、48)是成对设置的。而且，连结棒驱动部47构成为对连结棒45进行驱动以使连结棒45进退移动，连结棒驱动部48构成为对连结棒46进行驱动以使连结棒46进退移动。另外，在本实施方式中，连结棒驱动部(47、48)相对于底壁37的下表面设置于前方壁35侧。

另外，连结棒驱动部(47、48)是作为通过使连结棒(45、46)沿直线方向进行往复动作而使连结棒(45、46)进行进退移动的机构而设置的，例如，由通过气压或液压进行动作的气缸机构构成。在连结棒驱动部(47、48)由气缸机构构成的情况下，例如构成为具有：活塞；气缸主体，其具有由活塞划分并且提供和排出压力介质的一对压力室；以及杆，其一端与活塞连结，并且另一端与连结棒(45、46)的端部连结。通过使连结棒驱动部(47、48)进行动作而使杆向从气缸主体突出的方向移动，从而使连结棒(45、46)被驱动为从连结棒驱动部(47、48)前进。然后，通过使连结棒驱动部(47、48)进行动作而使杆以向气缸主体退避的方式进行移动，从而使连结棒(45、46)被驱动为向连结棒驱动部(47、48)侧退避。

连结棒驱动部(47、48)根据来自控制部32的控制指令进行动作，对连结棒(45、46)进行驱动以使连结棒(45、46)进行前进动作和退避动作。更具体而言，例如，在连结省略图示的压缩空气的压力源与气缸主体的压力室的压缩空气提供排出路径中设置有电磁阀单元，该电磁阀单元根据来自控制部32的控制指令进行动作，从而使连结棒驱动部(47、48)进行动作，使连结棒(45、46)进行前进动作和退避动作。

在图9的(a)中，图示了连结棒(45、46)向连结棒驱动部(47、48)退避后的状态，在图9的(b)中，图示了连结棒(45、46)从连结棒驱动部(47、48)前进后的状态。另外，在图9的(a)和图10中，以箭头X2示出进行前进动作的连结棒(45、46)的前进方向X2，在图9的(b)和图10中，以箭头X3示出进行退避动作的连结棒(45、46)的退避方向X3。另外，在本实施方式中，前进方向X2被设定为与从入口门35a朝向出口门36a的行进方向X1平行的方向，退避方向X3被设定为行进方向X1的相反方向。

在连结棒驱动部(47、48)对连结棒(45、46)进行驱动以使连结棒(45、46)进退移动时，以间隙嵌合的状态贯通在摆动部件44的长孔44a中的连结销(45a、46a)也移动。由此，固定于旋转轴42的摆动部件44按照以旋转轴42为中心进行旋转的方式摆动。而且，被支承为旋转自如的旋转轴42随着摆动部件44的摆动而进行旋转。另外，在图10中，用双向箭头X4表示以旋转轴42为中心进行摆动的摆动部件44的摆动方向X4。另外，在图10中，用实线来图示连结棒(45、46)退避后的状态下的摆动部件44的位置，用双点划线来表示连结棒(45、46)沿前进方向X2进行前进动作时的前进动作的中途时和结束时的摆动部件44的位置。

如图9的(a)所示，在连结棒(45、46)退避后的状态下，遮蔽部件(24、25)的状态为遮蔽状态。从该状态开始，通过连结棒驱动部(47、48)对连结棒(45、46)进行驱动，从而使连结棒(45、46)沿前进方向X2前进。伴随于此，贯通在各摆动部件44的长孔44a中的各连结销(45a、46a)也沿前进方向X2移动，从而使多个摆动部件44摆动。然后，被支承为旋转自如的多个旋转轴42随着多个摆动部件44的摆动而进行旋转，多个遮蔽板43与多个旋转轴42一起同时进行旋转。由此，使遮蔽部件(24、25)的状态从遮蔽状态切换为图5、图7、图8的(b)以及图9的(b)所示的放射状态。由此，切换驱动部(26、27)构成为，通过使多个遮蔽板44同时旋转而将遮蔽部件(24、25)的状态从遮蔽状态切换为放射状态。

另外，如图9的(b)所示，在连结棒(45、46)前进后的状态下，遮蔽部件(24、25)的状态为放射状态。从该状态开始，通过连结棒驱动部(47、48)对连结棒(45、46)进行驱动，从而使连结棒(45、46)沿退避方向X3退避。伴随于此，贯通在各摆动部件44的长孔44a中的各连结销(45a、46a)也沿退避方向X3移动，从而使多个摆动部件44摆动。然后，被支承为旋转自如的多个旋转轴42随着多个摆动部件44的摆动而进行旋转，多个遮蔽板43与多个旋转轴42一起同时进行旋转。由此，将遮蔽部件(24、25)的状态从放射状态切换为图1至图3、图6、图8的(a)以及图9的(a)所示的遮蔽状态。由此，切换驱动部(26、27)构成为，通过使多个遮蔽板44同时旋转而将遮蔽部件(24、25)的状态从放射状态切换为遮蔽状态。

另外，切换驱动部(26、27)构成为根据来自控制部32的控制指令进行动作，将遮蔽部件(24、25)的状态从遮蔽状态切换为放射状态，或者从放射状态切换为遮蔽状态。更具体而言，切换驱动部(26、27)构成为，根据来自控制部32的控制指令使连结棒驱动部(47、48)进行动作，以使连结棒(45、46)进行前进动作和退避动作，从而在遮蔽状态与放射状态之间切换遮蔽部件(24、25)的状态。

另外，切换驱动部(26、27)构成为，根据温度测量部28的温度测量结果，在遮蔽状态与放射状态之间切换遮蔽部件(24、25)的状态。如上所述，构成为温度测量部28与控制部32连接，温度测量部28的温度测量结果被输入到控制部32。然后，控制部32根据温度测量部28的温度测量结果来生成控制指令，根据该控制指令，在遮蔽状态与放射状态之间切换遮蔽部件(24、25)的状态。即，切换驱动部(26、27)构成为，通过基于温度测量部28的温度测量结果的控制部32的控制，在遮蔽状态与放射状态之间切换遮蔽部件(24、25)的状态。

另外，切换驱动部(26、27)构成为，通过基于温度测量部28的温度测量结果的控制部32的控制，在被处理物10的加热时，在温度测量部28所测量出的温度到达比A1相变点低的规定的温度时，将遮蔽部件(24、25)的状态从放射状态切换为遮蔽状态。具体而言，例如，切换驱动部(26、27)构成为，在被处理物10的加热时，在温度测量部28所测量出的温度到达比A1相变点低50℃的规定的温度时，将遮蔽部件(24、25)的状态从放射状态切换为遮蔽状态。另外，在加热处理中，随着热处理室21内的气氛的温度上升，被处理物10的温度也上升。因此，在温度测量部28的测量温度到达比A1相变点低50℃的规定的温度时，被处理物10的温度为比低于A1相变点50℃的规定的温度更低的温度。因此，在被处理物10到达比A1相变点低50℃的规定的温度时，遮蔽部件(24、25)的状态已经是从放射状态切换为遮蔽状态后的状态。另外，A1相变点例如为727℃。

另外，切换驱动部(26、27)构成为，通过基于温度测量部28的温度测量结果的控制部32的控制，在被处理物10的加热时，在温度测量部28所测量出的温度到达比高于A3相变点的规定的温度更高的温度即切换用温度时，将遮蔽部件(24、25)的状态从遮蔽状态切换为放射状态。具体而言，例如，切换驱动部(26、27)构成为，在被处理物10的加热时，在温度测量部28所测量出的温度到达比高于A3相变点50℃的规定的温度更高的切换用温度时，将遮蔽部件(24、25)的状态从遮蔽状态切换为放射状态。上述切换用温度被设定为使加热处理中的被处理物10的温度超过比A3相变点高50℃的规定的温度的温度。例如，根据预先对加热处理中的被处理物10的温度与温度测量部28的测量温度的关系进行确认而得的结果，设定上述切换用温度。

如上所述，切换驱动部(26、27)构成为，在被处理物10的温度为包含A1相变点在内的规定的温度范围内的温度时，将遮蔽部件(24、25)的状态维持为遮蔽状态。而且，上述规定的温度范围被设定为至少包含比A1相变点低50℃的温度以上且比A3相变点高50℃的温度以下的温度范围。

[离心风扇]

图11是示意性地示出离心风扇29和气流调整部30的图，图11的(a)是从水平方向观察离心风扇29和气流调整部30的图，图11的(b)是从上方观察离心风扇29和气流调整部30的图。另外，图11的(a)是从图11的(b)所示的箭头S方向观察离心风扇29和气流调整部30的图。参照图1、图2、图5以及图11，离心风扇(风扇)29在热处理室21内与被处理物10对置配置，是作为从被处理物10侧吸入气体而产生在被处理物10的周围通过的气流的风扇而设置的。

离心风扇29在热处理室21内设置于顶壁38。而且，离心风扇29配置在搬运收纳有被处理物10的箱体11的多个搬运辊40的上方的区域且顶壁38的中央部分的下方的区域。由此，离心风扇29构成为在被处理物10的上方与被处理物10对置配置，其中，该被处理物10与箱体11一同被多个搬运辊40搬运而配置在热处理室21内。另外，离心风扇29构成为与被处理物10一同配置在一对加热器(22、23)之间。

另外，离心风扇29构成为具有风扇旋转轴49和旋转叶片50。风扇旋转轴49配置为沿上下方向延伸，贯通顶壁38而配置，并且设置为相对于顶壁38旋转自如。风扇旋转轴49的下端侧配置在热处理室21内，固定有旋转叶片50。而且，风扇旋转轴49的上端侧贯通顶壁38而配置在热处理室21的外部，并与风扇驱动马达53连结。风扇驱动马达53是作为使风扇旋转轴49旋转驱动的电动马达而设置的，构成为根据来自控制部32的控制指令进行旋转。

旋转叶片50以配置在顶壁38的附近的状态固定于风扇旋转轴49。而且，旋转叶片50构成为具有：轮毂50a，其固定于风扇旋转轴49；以及多个叶片50b，它们以风扇旋转轴49为中心从轮毂50a呈放射状延伸。另外，在本实施方式中，作为多个叶片50b，例示了旋转叶片50构成为具有6片叶片50b的方式。另外，在本实施方式中，作为叶片50b的形状，例示了具有沿上下方向扩展的面并且从风扇旋转轴49朝向离心风扇29的径向外侧呈平面状扩展的形状，但叶片50b的形状也可以不是这样。叶片50b的形状也可以是呈曲面状扩展的形状，或者，也可以是将呈平面状扩展的部分和呈曲面状扩展的部分进行各种组合而成的形状。

旋转叶片50固定于风扇旋转轴49，与被风扇驱动马达53旋转驱动的风扇旋转轴49一同进行旋转。而且，旋转叶片50构成为通过使多个叶片50b在顶壁38的附近区域与旋转轴49一同旋转，使从下方的被处理物10侧吸入的气体向离心风扇29的径向的外侧流动。另外，离心风扇29构成为通过从下方的被处理物10侧吸入气体而产生从被处理物10的下方朝向上方的气流。由此，离心风扇29构成为产生沿着上下方向在被处理物10的周围通过的气流，其中，该上下方向是与遮蔽部件(24、25)所延伸的方向平行的方向。

[气流调整部]

图12是热处理装置1的示意性的剖视图，是将热处理装置1的热处理室21内的结构省略一部分而示出的图。另外，图12是将一部分结构省略而示出从与图2的B-B箭头线位置对应的位置观察的热处理室21的状态的俯视图。参照图1、图2、图5至图7、图11以及图12，气流调整部30在热处理室21内设置于顶壁38。而且，气流调整部30配置在离心风扇29的周围，作为对从离心风扇29向离心风扇29的径向的外侧流动的气流的流动进行调整的机构而设置。

气流调整部30构成为具有第1气流限制部件51和第2气流限制部件52。第1气流限制部件51和第2气流限制部件52在离心风扇29的周围沿离心风扇29的外周方向配置。另外，第1气流限制部件51和第2气流限制部件52隔着离心风扇29对置配置。

这里，对气流调整部30的第1气流限制部件51和第2气流限制部件52在热处理室21内的配置结构更详细地进行说明。在图12中，以点划线M1示出热处理室21的一对侧壁(33、34)的中间位置M1。中间位置M1是距一对侧壁(33、34)的距离相等的位置，是沿着与各侧壁(33、34)平行的面的位置。

另外，在图12中，作为由双点划线R1包围而成的区域，示出了热处理室21内的比中间位置M1靠第1侧壁33侧并且比前方壁35和后方壁36的中间位置靠后方壁36侧的区域R1。区域R1配置有第1气流限制部件51，作为通过第1气流限制部件51限制来自离心风扇29的气流的流动的区域而构成。另外，以下，也将区域R1称为第1气流限制区域R1。第1气流限制部件51在第1气流限制区域R1中相对于离心风扇29配置于离心风扇29的径向的外侧，并固定于顶壁38。在第1气流限制部件51的上端部分的多个部位设置有安装部51a。通过将安装部51a安装于顶壁38而使第1气流限制部件51固定安装于顶壁38。

另外，在图12中，作为由双点划线R2包围而成的区域，示出了热处理室21内的比中间位置M1靠第2侧壁34侧并且比前方壁35和后方壁36的中间位置靠前方壁35侧的区域R2。区域R2配置有第2气流限制部件52，作为通过第2气流限制部件52限制来自离心风扇29的气流的流动的区域而构成。另外，以下，也将区域R2称为第2气流限制区域R2。第2气流限制部件52在第2气流限制区域R2中相对于离心风扇29配置于离心风扇29的径向的外侧，并固定于顶壁38。在第2气流限制部件52的上端部分的多个部位设置有安装部52a。通过将安装部52a安装于顶壁38而使第2气流限制部件52固定安装于顶壁38。

另外，在图12中，作为由虚线P1包围而成的区域，示出了热处理室21内的比中间位置M1靠第1侧壁33侧并且比前方壁35和后方壁36的中间位置靠前方壁35侧的区域P1。区域P1既没有配置第1气流限制部件51也没有配置第2气流限制部件52，作为开放的区域而构成。因此，区域P1作为不限制来自离心风扇29的气流的流动的、允许来自离心风扇29的气流的流动的区域而构成。另外，以下，也将区域P1称为第1气流允许区域P1。

另外，在图12中，作为由虚线P2包围而成的区域，示出了热处理室21内的比中间位置M1靠第2侧壁34侧并且比前方壁35和后方壁36的中间位置靠后方壁36侧的区域P2。区域P2既没有配置第1气流限制部件51也没有配置第2气流限制部件52，作为开放的区域而构成。因此，区域P2作为不限制来自离心风扇29的气流的流动的、允许来自离心风扇29的气流的流动的区域而构成。另外，以下，也将区域P2称为第2气流允许区域P2。

另外，在图12中，以点划线的箭头X5表示离心风扇29的旋转叶片50的旋转方向X5。在本实施方式中，离心风扇29的旋转叶片50的旋转方向X5被设定为在从上方观察时顺时针旋转。因此，在旋转叶片50旋转时，如果将第1气流允许区域P1作为旋转的起点来进行说明，则旋转叶片50的各叶片50b按照第1气流允许区域P1、第1气流限制区域R1、第2气流允许区域P2、第2气流限制区域R2的顺序重复移动，并且绕旋转轴49进行旋转。

另外，由于旋转叶片50像上述那样沿旋转方向X5旋转，因此旋转叶片50的外周缘部50c在第1气流限制区域R1中远离第1侧壁33，在第2气流允许区域P2中接近第2侧壁34，在第2气流限制区域R2中远离第2侧壁34，在第1气流允许区域P1中接近第1侧壁33。另外，旋转叶片50的外周缘部50c是作为从轮毂50a呈放射状伸出的各叶片50b的前端侧的缘部而构成的。

第1气流限制部件51如所述那样在第1气流限制区域R1中配置于离心风扇29的径向的外侧。因此，在第1气流限制区域R1中，旋转叶片50相对于第1气流限制部件51在离心风扇29的径向的内侧旋转。而且，在旋转叶片50旋转时，旋转叶片50的外周缘部50c在第1气流限制区域R1中向远离第1侧壁33的方向旋转。由此，第1气流限制部件51构成为限制第1气流限制区域R1中的从离心风扇29向第1侧壁33侧的气流的流动，其中，该第1气流限制区域R1是热处理室21内的比中间位置M1靠第1侧壁33侧的区域，是在旋转叶片50进行旋转时旋转叶片50的外周缘部50c远离第1侧壁33的区域。

另外，第2气流限制部件52如所述那样在第2气流限制区域R2中配置于离心风扇29的径向的外侧。因此，在第2气流限制区域R2中，旋转叶片50相对于第2气流限制部件52在离心风扇29的径向的内侧旋转。而且，在旋转叶片50旋转时，旋转叶片50的外周缘部50c在第2气流限制区域R2中向远离第2侧壁34的方向旋转。由此，第2气流限制部件52构成为限制第2气流限制区域R2中的从离心风扇29向第2侧壁34侧的气流的流动，其中，该第2气流限制区域R2是热处理室21内的比中间位置M1靠第2侧壁34侧的区域，是在旋转叶片50进行旋转时旋转叶片50的外周缘部50c远离第2侧壁34的区域。

另外，如所述那样，在第1气流限制区域R1和第2气流限制区域R2中，限制来自离心风扇29的气流的流动。因此，气流调整部30调整为，在热处理室21内的比一对侧壁(33、34)的中间位置靠各侧壁(33、34)侧的区域中，在旋转的旋转叶片50的外周缘部50c远离各侧壁(33、34)的区域(R1、R2)中限制离心风扇29的旋转叶片50进行旋转时从离心风扇29向各侧壁(33、34)侧的气流的流动。另外，如所述那样，在第1气流允许区域P1和第2气流允许区域P2中，允许来自离心风扇29的气流的流动。因此，气流调整部30调整为，在热处理室21内的比一对侧壁(33、34)的中间位置M1靠各侧壁(33、34)侧的区域中，在旋转的旋转叶片50的外周缘部50c接近各侧壁的区域(P1、P2)中允许离心风扇29的旋转叶片50进行旋转时从离心风扇29向各侧壁(33、34)侧的气流的流动。

另外，第1气流限制部件51具有沿着离心风扇29的外周弯曲配置的作为弯曲壁面的第1弯曲壁面51b。而且，第2气流限制部件52具有沿着离心风扇29的外周弯曲配置的作为弯曲壁面的第2弯曲壁面52b。即，第1气流限制部件51和第2气流限制部件52分别具有沿着离心风扇29的外周弯曲配置的弯曲壁面(51b、52b)。

第1气流限制部件51的第1弯曲壁面51b和第2气流限制部件52的第2弯曲壁面52b隔着离心风扇29对置配置。另外，第1弯曲壁面51b和第2弯曲壁面52b构成为，从被处理物10侧朝向被处理物10侧的相反侧延伸的方向(即，上下延伸的方向)上的尺寸比离心风扇29的旋转叶片50大。即，第1弯曲壁面51b和第2弯曲壁面52b的高度尺寸(上下方向的尺寸)被设定为比离心风扇29的旋转叶片50的高度尺寸(上下方向的尺寸)大。

第1弯曲壁面51b作为沿着离心风扇29的外周弯曲的第1气流限制部件51中的与离心风扇29对置的曲面而构成。另外，在本实施方式中，第1弯曲壁面51b形成为与上下方向垂直的截面即水平截面的形状为圆弧形状。而且，第1弯曲壁面51b的水平截面的圆弧形状的曲率半径在作为被处理物10侧的第1气流限制部件51的下端侧被设定为较大，在作为被处理物10侧的相反侧的第1气流限制部件51的上端侧被设定为较小。因此，第1弯曲壁面51b作为从下方至上方(即，从被处理物10侧到被处理物10侧的相反侧)变窄的圆锥曲面的一部分而构成。

第2弯曲壁面52b作为沿着离心风扇29的外周弯曲的第2气流限制部件52中的与离心风扇29对置的曲面而构成。另外，在本实施方式中，第2弯曲壁面52b形成为与上下方向垂直的截面即水平截面的形状为圆弧形状。而且，第2弯曲壁面52b的水平截面的圆弧形状的曲率半径在作为被处理物10侧的第2气流限制部件52的下端侧被设定为较大，在作为被处理物10侧的相反侧的第2气流限制部件52的上端侧被设定为较小。因此，第2弯曲壁面52b作为从下方至上方(即，从被处理物10侧到被处理物10侧的相反侧)变窄的圆锥曲面的一部分而构成。

如上述那样，第1弯曲壁面51b和第2弯曲壁面52b作为从被处理物10侧到被处理物10侧的相反侧变窄的圆锥曲面的一部分而构成。因此，第1弯曲壁面51b和第2弯曲壁面52b设置为，从被处理物10侧到被处理物10侧的相反侧以朝向离心风扇29的旋转叶片50的外周缘部50c相互接近的方式延伸。

图13和图14是热处理装置1的示意性的剖视图，是用于对离心风扇29和气流调整部30的动作进行说明的图。另外，图13是与图1对应的热处理装置1的示意性的剖视图，图14是与图2对应的热处理装置1的示意性的剖视图。参照图13和图14，对基于离心风扇29和气流调整部30的动作的热处理室21内的气流的流动进一步进行说明。

根据来自控制部32的控制指令，风扇驱动马达53进行动作，从而使旋转叶片50与风扇旋转轴49一同向旋转方向X5旋转。在热处理室21的平行的一对侧壁(33、34)之间，通过使配置于气流调整部30的第1和第2气流限制部件(51、52)之间并且与被处理物10对置配置的离心风扇29的旋转叶片50进行旋转，产生在热处理室21内循环的气流的流动。另外，在图13和图14中，以点划线的箭头X5示出离心风扇29的旋转叶片50的旋转方向X5。另外，在图13和图14中，以多个点划线的箭头X6示出通过离心风扇29和气流调整部30的动作而在热处理室21内进行循环的气流的流动方向X6。

在热处理室21的平行的一对侧壁(33、34)之间，通过使与被处理物10对置配置的离心风扇29的旋转叶片50进行旋转，吸入被处理物10侧的气体而产生以朝向离心风扇29的径向的外侧的方式沿流动方向X6流动的气流。而且，被离心风扇29从被处理物10侧吸入并朝向离心风扇29的径向的外侧流动的气流一边被气流调整部30调整一边流动。即，在第1和第2气流限制区域(R1、R2)中，通过第1和第2气流限制部件(51、52)来限制从离心风扇29向第1和第2侧壁(33、34)侧的气流的流动。而且，在第1和第2气流允许区域(P1、P2)中，允许从离心风扇29向第1和第2侧壁(33、34)侧的气流的流动。

如上所述，从被处理物10侧吸入并朝向离心风扇29的径向的外侧流动的气流通过基于离心风扇29的旋转的送风作用和基于气流调整部30的气流的流动方向的调整作用，如在图13和图14中示出的流动方向X6那样，一边朝向各侧壁(33、34)流动，一边进一步沿着各侧壁(33、34)流动。另外，此时，气流一边从上方朝向下方下降，一边沿着各侧壁(33、34)流动。而且，沿着各侧壁(33、34)流动的气流从被处理物10的下方向被处理物10侧流动，在通过被处理物10后被离心风扇29吸入，并再次向离心风扇29的径向的外侧流动。由此，在热处理中，热处理室21内的气氛以通过被处理物10之后沿着各侧壁(33、34)流动并再次通过被处理物10的方式整体上高效地进行循环流动。

[控制部]

参照图1至图3、图5、图13以及图14，在热处理室21内，控制部32对被处理物10的热处理动作进行控制。具体而言，控制部32对驱动搬运辊40的链条机构的电动马达、使离心风扇29旋转驱动的风扇驱动用马达53、气氛气体提供部31的泵31a、第1和第2加热器(22、23)以及第1和第2切换驱动部(26、27)的动作进行控制，从而对被处理物10的热处理动作进行控制。

另外，控制部32构成为具有CPU(Central Processing Unit：中央处理单元)等硬件/处理器、RAM(Random Access Memory：随机存取存储器)和ROM(Read Only Memory：只读存储器)等存储器、由用户操作的操作面板等操作部以及接口电路等。在控制部32的存储器中存储有用于生成对风扇驱动用马达53、气氛气体提供部31的泵31a、第1和第2加热器(22、23)以及第1和第2切换驱动部(26、27)等的动作进行控制的控制指令的程序。例如，作业人员对操作部进行操作，从而使硬件/处理器从存储器读取并执行上述程序。由此，生成上述控制指令，根据该控制指令，使风扇驱动用马达53、气氛气体提供部31的泵31a、第1和第2加热器(22、23)以及第1和第2切换驱动部(26、27)进行动作。

另外，如上述那样，构成为将温度测量部28的温度测量结果输入到控制部32。而且，控制部32构成为，根据温度测量部28的温度测量结果，对第1和第2切换驱动部(26、27)的动作进行控制。另外，控制部32根据由温度测量部28测量的温度测量结果，对第1和第2加热器(22、23)的各发热体41的发热动作进行控制，控制为使热处理室21内的温度按照规定的温度上升模式上升。另外，控制部32例如通过对向第1和第2加热器(22、23)的各发热体41的电热体通电时的电力进行调整，对各发热体41的发热动作进行控制。

[热处理装置的动作]

接下来，对热处理装置1的热处理动作的一例进行说明。图15是用于对热处理装置1的热处理动作的一例进行说明的流程图。通过进行图15所示的热处理装置1的动作，实施本实施方式的热处理方法。以下，在参照流程图进行说明时，还适当参照流程图以外的图进行说明。

在热处理装置1的热处理动作中，首先，例如，作业人员或机械自动运进装置(未图示)将被处理物10从入口门35a运进热处理室21内。另外，被处理物10以被收纳于箱体11的状态与箱体11一同运进热处理室21内。运进热处理室21内的被处理物10在热处理室21内配置在多个搬运辊40上。然后，根据来自控制部32的控制指令，通过被驱动的搬运辊40将箱体11搬运至热处理室21内的大致中央部分的规定的位置。在搬运至规定的位置时，停止搬运辊40的搬运，收纳在箱体11中的被处理物10为配置在热处理室21内的规定的位置的状态(步骤S101)。另外，被处理物10在配置在热处理室21内的状态下配置于一对加热器(22、23)之间，即配置于一对遮蔽部件(24、25)之间。进而，被处理物10在配置在热处理室21内的状态下在离心风扇29的下方与离心风扇29对置配置。

在被处理物10配置在热处理室21内时，接着进行加热被处理物10的热处理(步骤S102)。即，进行如下的加热步骤(步骤S102)：在配置有作为加热处理对象的金属制的被处理物10和加热器(22、23)的热处理室21内，使用加热器(22、23)对被处理物10进行加热。更具体而言，通过控制部32的控制，开始加热器(22、23)的发热动作，对热处理室21内的气氛进行加热。然后，通过被加热后的热处理室21内的气氛，对热处理室21内的被处理物10进行加热。

另外，在加热被处理物10的加热步骤中，离心风扇29伴随着第1和第2加热器(22、23)的发热动作而进行旋转动作。具体而言，通过控制部32的控制，开始第1和第2加热器(22、23)的发热动作，并且开始使离心风扇29的风扇旋转轴49旋转驱动的风扇驱动马达53的运转。通过使离心风扇29旋转，产生在热处理室21内循环的气流，该气流一边被气流调整部30调整，一边进行流动。由此，形成沿着图13和图14所示的流动方向X6在热处理室21内循环流动的气流的流动。因此，在加热步骤中，热处理室21内的气氛以通过被处理物10之后沿着各侧壁(33、34)流动并再次通过被处理物10的方式整体上高效地进行循环流动。

在加热步骤中，根据控制部32的控制，首先，将热处理室21内的气氛加热至A1相变点的温度。在热处理室21内的气氛的温度上升至A1相变点时，例如也可以使该温度维持规定的时间。由此，能够将被处理物10的包括内部在内的整体加热至A1相变点。接下来，在加热步骤中，根据控制部32的控制，将热处理室21内的气氛从A1相变点的温度加热至A3相变点的温度。在热处理室21内的气氛被加热至A3相变点的温度时，进一步根据控制部32的控制，将热处理室21内的气氛加热至A3相变点以上的规定的最大设定温度。

图16是用于对在热处理装置1中被热处理的被处理物10的状态进行说明的、Fe-C合金的示意性的平衡状态图。在加热步骤中，被处理物10的内部例如经过在图16中用虚线的箭头L1示出的线L1所规定的过程，从而被加热至比A3相变点高的温度。此时，被处理物10的内部在A1相变点以下的温度时为铁素体+渗碳体的状态。然后，在如线L1所示的那样超过A1相变点时，被处理物10的内部相变为铁素体+奥氏体的状态。在通过使被处理物10进一步温度上升而使被处理物10的内部的温度超过A3相变点时，铁素体消失，相变为奥氏体状态。然后，即使在被加热至超过A3相变点的温度的情况下，被处理物10的内部的碳势也不变化。

另一方面，被处理物10的表面例如经过在图16中用虚线的箭头L2示出的线L2所示的过程，碳势增加，大致收敛于热处理室21内的气氛的碳势。被处理物10的表面随着热处理室21内的气氛的温度上升而与气氛中的碳发生反应。由此，被处理物10的表面的碳势上升。尤其是在被处理物10的表面到达A1相变点之前的期间，碳势以与温度上升大致成比例的方式上升。然后，在被处理物10的表面的温度接近A1相变点时，被处理物10的表面的碳势随着被处理物10的外表面的温度上升而稍微增加，并且大致恒定。这样，对被处理物10的表面进行了渗碳处理。

另外，在加热步骤中，进行如下的遮蔽步骤(步骤S104)：通过在热处理室21内配置于加热器(22、23)与被处理物10之间的遮蔽部件(24、25)来遮蔽从加热器(22、23)向被处理物10的辐射热的放射。在执行加热步骤的期间执行遮蔽步骤。更具体而言，在加热步骤期间，通过控制部32的控制，对切换驱动部(26、27)的动作进行控制，使遮蔽部件(24、25)的状态从放射状态切换为遮蔽状态，并维持遮蔽状态，由此执行遮蔽步骤。

在本实施方式中，在加热步骤开始时，遮蔽部件(24、25)的状态为放射状态。然后，在加热步骤开始后，根据温度测量部28的温度测量结果，控制部32对切换驱动部(26、27)进行控制，通过切换驱动部(26、27)的动作，使遮蔽部件(24、25)的状态从放射状态切换为遮蔽状态。更具体而言，在被处理物10的加热时，在温度测量部28所测量出的温度例如到达比A1相变点低50℃的规定的温度时，通过控制部32的控制使切换驱动部(26、27)进行动作，从而使遮蔽部件(24、25)的状态从放射状态切换为遮蔽状态。

在遮蔽部件(24、25)的状态从放射状态切换为遮蔽状态时，维持该状态，直至温度测量部28所测量出的温度到达比高于A3相变点50℃的规定的温度更高的上述切换用温度。然后，在被处理物10的加热时，在温度测量部28所测量出的温度例如到达比高于A3相变点50℃的规定的温度更高的切换用温度时，通过控制部32的控制使切换驱动部(26、27)进行动作，从而使遮蔽部件(24、25)的状态从遮蔽状态切换为放射状态。

另外，在加热步骤中，在温度测量部28的测量温度到达比A1相变点低50℃的规定的温度时，被处理物10的温度为比低于A1相变点50℃的规定的温度更低的温度。而且，在温度测量部28的测量温度到达比高于A3相变点50℃的规定的温度更高的切换用温度时，被处理物10的温度已经是比A3相变点高50℃的规定的温度。因此，在本实施方式中，在被处理物10的温度是包含A1相变点在内的温度范围内的温度(即，比A1相变点低50℃的温度以上且比A3相变点高50℃的温度以下的温度范围内的温度)时，遮蔽部件(24、25)的状态维持遮蔽状态。

在加热步骤中，根据控制部32的控制，在热处理室21内的气氛被加热至A3相变点以上的规定的最大设定温度时，在规定的时间范围内维持该温度的状态。通过在规定的时间范围内维持规定的最大设定温度，对被处理物10实施必要的热处理。在经过了上述规定的时间时，根据控制部32的控制，停止加热器(22、23)的发热动作，在热处理室21内进行使被处理物10的温度降低至规定的目标温度的动作(步骤S103)。

当在热处理室21内使被处理物10的温度降低至规定的目标温度的处理结束时，通过基于来自控制部32的控制指令而被驱动的搬运辊40，收纳有被处理物10的箱体11被搬运至出口门36a。在搬运至出口门36a时，收纳于箱体11的被处理物10与箱体11一起被运出到热处理室21的外部。对从热处理室21运出后的被处理物10例如实施淬火装置16中的淬火处理等其他处理。

[本实施方式的效果]

如以上说明的那样，根据本实施方式，热处理装置1具有：加热器(22、23)，其用于对作为加热处理对象的金属制的被处理物10进行加热；热处理室21，其配置有加热器(22、23)和被处理物10；以及遮蔽部件(24、25)，其在热处理室21内配置于加热器(22、23)与被处理物10之间，能够遮蔽从加热器(22、23)向被处理物10的辐射热的放射。另外，本实施方式的热处理方法具有如下的步骤：加热步骤，在配置有作为加热处理对象的金属制的被处理物10和加热器(22、23)的热处理室21内，使用加热器(22、23)对被处理物10进行加热；以及遮蔽步骤，在执行加热步骤的期间执行该遮蔽步骤，通过在热处理室21内配置于加热器(22、23)与被处理物10之间的遮蔽部件(24、25)来遮蔽从加热器(22、23)向被处理物10的辐射热的放射。

根据本实施方式的热处理装置1和热处理方法，能够通过在热处理室21内配置于加热器(22、23)与被处理物10之间的遮蔽部件(24、25)来遮蔽从加热器(22、23)向被处理物10的辐射热的放射。因此，在从加热器(22、23)向被处理物10的辐射热的放射被遮蔽部件(24、25)遮蔽的状态下，抑制了来自加热器(22、23)的辐射热对被处理物10的加热，通过被加热器(22、23)加热后的气氛对被处理物10的整体进行加热。即，抑制了来自加热器(22、23)的辐射热在被处理物10的一部分中产生较大的加热影响，通过被加热器(22、23)加热后的气氛对被处理物10的整体进行更均匀地加热。由此，减少在被处理物10的表面和内部分别产生的被处理物10的各部分的温度上升的偏差，减少各部分的应力的状态产生偏差的情况，从而能够进一步减少因热处理而在被处理物10产生的应变。因此，根据本实施方式，能够提供热处理装置1和热处理方法，在对金属制的被处理物10实施基于加热的热处理时，减少被处理物10的各部分的温度上升的偏差，从而能够进一步减少因热处理产生的应变。

另外，根据本实施方式，热处理装置1还具有切换驱动部(26、27)，该切换驱动部(26、27)对遮蔽部件(24、25)进行驱动而切换遮蔽部件(24、25)的状态。而且，切换驱动部(26、27)构成为对遮蔽部件(24、25)进行驱动而在放射状态与遮蔽状态之间切换遮蔽部件(24、25)的状态，其中，该放射状态配置为遮蔽部件(24、25)允许从加热器(22、23)向被处理物10的辐射热的放射，该遮蔽状态配置为遮蔽部件(24、25)遮蔽从加热器(22、23)向被处理物10的辐射热的放射。根据该结构，在对被处理物10实施基于加热的热处理时，根据加热温度条件等期望的条件，能够容易地在放射状态与遮蔽状态之间切换遮蔽部件(24、25)的状态。由此，在对被处理物10实施基于加热的热处理时，在容易因被处理物10的各部分的温度上升的偏差而产生应力状态的偏差的温度区域中，通过设定为遮蔽状态，能够减少因辐射热的加热而产生的被处理物10的各部分的温度上升的偏差。而且，在不容易因被处理物10的各部分的温度上升的偏差而产生应力状态的偏差的温度区域中，通过设定为放射状态，能够利用辐射热的加热使被处理物10的温度上升。

另外，根据本实施方式，切换驱动部(26、27)构成为，在被处理物10的温度为包含A1相变点在内的规定的温度范围内的温度时，将遮蔽部件(24、25)的状态维持为遮蔽状态。根据该结构，在温度为包含A1相变点在内的规定的温度范围内的温度时，遮蔽部件(24、25)的状态维持为遮蔽状态，其中，该A1相变点是被处理物10的组织开始从铁素体+渗碳体的状态向奥氏体的状态发生相变的温度。因此，在被处理物10的加热时，在被处理物10的组织开始奥氏体相变的时刻，抑制来自加热器(22、23)的辐射热的加热，通过被加热器(22、23)加热后的气氛对被处理物10的整体进行加热。由此，在包含奥氏体相变的开始时刻在内的温度区域中，减少在被处理物10的表面和内部分别产生的被处理物10的各部分的温度上升的偏差，在被处理物10的整体中更均匀地开始奥氏体相变。即，在被处理物10的各部分中，能够使开始奥氏体相变的时刻更加一致。由此，在被处理物10的各部分中，在奥氏体相变开始时产生的体积变化更加均匀地开始，减少各部分的应力的状态产生偏差的情况，从而能够进一步减少在被处理物10产生的应变。由此，根据上述结构，能够进一步减少在被处理物10的组织开始奥氏体相变时产生的应变。另外，如果是为了被处理物10的渗碳处理而对被处理物10进行基于加热的热处理的情况，则能够使被处理物10的表面的碳侵入的时刻更加一致。即，能够使被处理物10的各部分的奥氏体相变开始的时刻更加一致，因此能够使被处理物的表面的碳侵入的时刻更加一致。因此，根据上述结构，在被处理物10的渗碳处理时，能够使被处理物10的表面的碳侵入的时刻更加一致，从而能够减少在被处理物10产生的应变。

另外，根据本实施方式，切换驱动部(26、27)将遮蔽部件(24、25)的状态维持为遮蔽状态的规定的温度范围被设定为至少包含比A1相变点低50℃的温度以上且比A3相变点高50℃的温度以下的温度范围。根据该结构，在比A1相变点低50℃的温度到比A3相变点高50℃的温度的温度区域中，将遮蔽部件(24、25)的状态维持为遮蔽状态，其中，该A1相变点是被处理物10的组织开始奥氏体相变的温度，该A3相变点是奥氏体相变结束的温度。因此，在奥氏体相变开始至结束的温度区域的范围内，抑制来自加热器(22、23)的辐射热的加热，通过被加热器(22、23)加热后的气氛对被处理物10的整体进行加热。由此，在奥氏体相变开始至结束的温度区域的整个范围内，抑制了在被处理物10的表面和内部分别产生的被处理物10的各部分的温度上升的偏差，在被处理物10的整体中更均匀地进行奥氏体相变。因此，在被处理物10的各部分中，在奥氏体相变时产生的体积变化更加均匀地产生，减少了各部分的应力的状态产生偏差的情况，从而能够进一步减少在被处理物10产生的应变。因此，根据上述结构，能够进一步减少在被处理物10的组织相变为奥氏体时产生的应变。另外，根据上述结构，从比A1相变点低50℃的温度开始，将遮蔽部件(24、25)的状态维持为遮蔽状态。因此，能够从奥氏体相变开始前更可靠地减少在被处理物10的各部分的温度上升中产生偏差的情况。另外，根据上述结构，将遮蔽部件(24、25)的状态维持为遮蔽状态直至比A3相变点高50℃的温度。因此，到奥氏体相变完全结束为止，能够更可靠地减少在被处理物10的各部分的温度上升中产生偏差的情况。

另外，根据本实施方式，还具有温度测量部28，该温度测量部28对热处理室21内的规定的温度测量位置处的温度进行测量，切换驱动部(26、27)构成为根据温度测量部28的温度测量结果来切换遮蔽部件(24、25)的状态。根据该结构，能够按照热处理室21内的实际的温度状态容易地在放射状态与遮蔽状态之间切换遮蔽部件(24、25)的状态。

另外，根据本实施方式，切换驱动部(26、27)构成为，在温度测量部28所测量出的温度到达比A1相变点低的规定的温度时，将遮蔽部件(24、25)的状态从放射状态切换为遮蔽状态。根据该结构，在被处理物10的加热时，在热处理室21内的实际的温度到达比A1相变点低的温度时，将遮蔽部件(24、25)的状态切换为遮蔽状态。因此，能够在奥氏体相变开始前的时刻更可靠地抑制来自加热器(22、23)的辐射热的加热，从而减少在被处理物10的各部分的温度上升中产生偏差的情况。

另外，根据本实施方式，遮蔽部件(24、25)具有：多个旋转轴42，它们相互平行延伸；以及多个遮蔽板43，它们以多个旋转轴42的各个旋转轴为中心分别被支承为旋转自如，切换驱动部(26、27)构成为通过使多个遮蔽板43同时旋转而将遮蔽部件(24、25)的状态从放射状态切换为遮蔽状态。根据该结构，能够更迅速地进行将遮蔽部件(24、25)的状态从放射状态切换为遮蔽状态的动作。

另外，根据本实施方式，遮蔽板43固定于旋转轴42，切换驱动部(26、27)具有：多个摆动部件44，它们分别固定于多个旋转轴42；连结棒(45、46)，其连结多个摆动部件44；以及连结棒驱动部(47、48)，其对连结棒(45、46)进行驱动以使连结棒(45、46)进退移动，多个摆动部件44分别与连结棒(45、46)以摆动自如的方式连结。根据该结构，通过使连结棒(45、46)进退移动而使多个摆动部件44同时摆动，从而能够使多个遮蔽板43与多个旋转轴42的各个旋转轴一起同时进行旋转。因此，能够通过将与连结棒(45、46)连结为摆动自如的摆动部件44固定于旋转轴42的简单的结构，实现使构成遮蔽部件(24、25)的多个遮蔽板44绕各旋转轴42同时旋转而将遮蔽部件(24、25)的状态从放射状态切换为遮蔽状态的构造。

另外，根据本实施方式，热处理装置1除了具有遮蔽部件(24、25)和切换驱动部(26、27)之外，还具有风扇29，该风扇29在热处理室21内与被处理物10对置配置，产生在被处理物10的周围通过的气流。根据该结构，被加热器(22、23)加热后的气氛气体通过产生在被处理物10的周围通过的气流的风扇29而在热处理室21内循环。因此，被加热器(22、23)重新加热后的气氛气体始终被提供到被处理物10的周围，因此能够高效地通过被加热器(22、23)加热后的气氛对被处理物10进行加热。

另外，根据本实施方式，风扇29构成为产生沿着与遮蔽部件(24、25)所延伸的方向平行的方向在被处理物10的周围通过的气流。根据该结构，当被加热器(22、23)加热后的气氛气体通过产生在被处理物10的周围通过的气流的风扇29而在热处理室21内循环时，遮蔽部件(24、25)作为整流部件而发挥功能。因此，能够更高效地通过被加热器(22、23)加热后的气氛对被处理物10进行加热。

另外，根据本实施方式，热处理装置1具有热处理室21、离心风扇29以及气流调整部30。而且，热处理室21具有平行配置的一对侧壁(33、34)，作为热处理对象的金属制的被处理物10配置于一对侧壁(33、34)之间。离心风扇29在热处理室21内与被处理物10对置配置，从被处理物10侧吸入气体而产生气流。气流调整部30调整为，在热处理室21内的比一对侧壁(33、34)的中间位置M1靠各侧壁(33、34)侧的区域中，在旋转的旋转叶片50的外周缘部50c远离各侧壁(33、34)的区域(R1、R2)中限制离心风扇29的旋转叶片50进行旋转时从离心风扇29向各侧壁(33、34)侧的气流的流动，在旋转的旋转叶片50的外周缘部50c接近各侧壁(33、34)的区域(P1、P2)中允许离心风扇29的旋转叶片50进行旋转时从离心风扇29向各侧壁(33、34)侧的气流的流动。

根据上述结构，在热处理室21的平行的一对侧壁(33、34)之间，通过使与被处理物10对置配置的离心风扇29沿旋转方向X5旋转，吸入被处理物10侧的气体而产生朝向离心风扇29的径向的外侧的气流。然后，被离心风扇29从被处理物10侧吸入并朝向离心风扇29的径向的外侧流动的气流一边被气流调整部30调整一边流动。具体而言，在区域(R1、R2)中限制从离心风扇29向各侧壁(33、34)侧的气流的流动，其中，该区域(R1、R2)是热处理室21内的比一对侧壁(33、34)的中间位置M1靠各侧壁(33、34)侧的区域，并且在该区域(R1、R2)中沿旋转方向X5旋转的旋转叶片50的外周缘部50c远离各侧壁(33、34)。而且，在区域(P1、P2)中允许从离心风扇29向各侧壁(33、34)侧的气流的流动，其中，该区域(P1、P2)是热处理室21内的比一对侧壁(33、34)的中间位置M1靠各侧壁(33、34)侧的区域，并且在该区域(P1、P2)中沿旋转方向X5旋转的旋转叶片50的外周缘部50c接近各侧壁(33、34)。由此，当离心风扇29在热处理室21的平行的一对侧壁(33、34)之间旋转时，从被处理物10侧吸入并朝向离心风扇29的径向的外侧流动的气流通过基于离心风扇29的旋转的送风作用和基于气流调整部30的气流的流动方向的调整作用，一边朝向各侧壁(33、34)流动，一边进一步沿各侧壁(33、34)流动。沿各侧壁(33、34)流动的气流在通过被处理物10后被离心风扇29吸入，并再次向离心风扇29的径向的外侧流动。由此，在热处理中，热处理室21内的气氛如在图13和图14中的流动方向X6所示的那样以通过被处理物10之后沿各侧壁(33、34)流动并再次通过被处理物10的方式整体上高效地进行循环流动。

由此，根据上述结构，能够抑制如以往那样在一对侧壁之间产生向流动阻力较少的区域偏移的流动，从而能够在热处理中使热处理室21内的气氛整体上高效地循环。而且，根据上述结构，能够在热处理中使热处理室21内的气氛整体上高效地循环，在抑制了热处理室21内的气氛的温度分布的偏差的状态下使热处理室21内的气氛整体上更均匀地发生温度变化。由此，在被处理物10的表面和内部，分别减少了热处理中的被处理物10的各部分的温度变化的状态的偏差，减少了各部分的应力的状态产生偏差的情况，从而能够进一步减少因热处理产生的应变。因此，根据上述结构，能够提供如下的热处理装置1：在对金属制的被处理物10实施热处理时，能够减少热处理中的被处理物10的各部分的温度变化的状态的偏差，从而进一步减少因热处理产生的应变。

另外，根据本实施方式，热处理装置1还具有一对加热器(22、23)，该一对加热器(22、23)在热处理室21内分别沿着一对侧壁(33、34)配置，离心风扇29和被处理物10配置在一对加热器(22、23)之间。根据该结构，热处理室21内的气氛被沿着一对侧壁(33、34)配置的一对加热器(22、23)加热，从而对配置在热处理室21内的被处理物10进行基于加热的热处理。而且，根据上述结构，在热处理室21中的沿着平行的一对侧壁(33、34)配置的一对加热器(22、23)之间，在离心风扇29旋转时，从被处理物10侧吸入并朝向离心风扇29的径向的外侧流动的气流通过基于离心风扇29的旋转的送风作用和基于气流调整部30的气流的流动方向的调整作用，一边朝向各侧壁(33、34)和各加热器(22、23)流动，一边进一步沿着各侧壁(33、34)和各加热器(22、23)流动。沿着各侧壁(33、34)和各加热器(22、23)流动的气流在通过被处理物10后被离心风扇29吸入，并再次向离心风扇29的径向的外侧流动。由此，在基于加热的热处理中，热处理室21内的气氛以通过被处理物10之后沿着各侧壁(33、34)和各加热器(22、23)流动并再次通过被处理物10的方式整体上高效地进行循环流动。

由此，根据上述结构，能够抑制在分别沿着一对侧壁(33、34)配置的一对加热器(22、23)之间产生向流动阻力较少的区域偏移的流动，从而能够在基于加热的热处理中使热处理室21内的气氛整体上高效地循环。而且，根据上述结构，在基于加热的热处理中，能够使热处理室21内的气氛整体上高效地循环，在抑制了热处理室21内的气氛的温度上升时的温度分布偏差的状态下使热处理室21内的气氛整体上更均匀地温度上升而发生温度变化。由此，在被处理物10的表面和内部，分别减少了热处理中的被处理物10的各部分的温度上升时的温度变化的状态偏差，减少了各部分的应力的状态产生偏差的情况，从而能够进一步减少因加热时的热处理而产生的应变。

另外，根据本实施方式，热处理室21具有作为一对侧壁(33、34)的第1侧壁33和第2侧壁34，气流调整部30具有第1气流限制部件51和第2气流限制部件52。而且，第1气流限制部件51限制区域R1中的从离心风扇29向第1侧壁33侧的气流的流动，其中，该区域R1是热处理室21内的比中间位置M1靠第1侧壁33侧的区域，并且在该区域R1中，在旋转叶片50进行旋转时旋转叶片50的外周缘部50c远离第1侧壁33。此外，第2气流限制部件52限制区域R2中的从离心风扇29向第2侧壁34侧的气流的流动，其中，该区域R2是热处理室21内的比中间位置M1靠第2侧壁34侧的区域，并且在该区域R2中，在旋转叶片50进行旋转时旋转叶片50的外周缘部50c远离第2侧壁34。根据该结构，能够进一步通过设置第1和第2气流限制部件(51、52)这两个部件的简单的构造来实现气流调整部30。

另外，根据本实施方式，第1气流限制部件51和第2气流限制部件52分别具有沿着离心风扇29的外周弯曲配置的弯曲壁面(51b、52b)。根据该结构，在分别通过第1和第2气流限制部件(51、52)限制从离心风扇29向各侧壁(33、34)侧的气流的流动时，被限制流动方向的气流沿着沿离心风扇29的外周弯曲配置的弯曲壁面(51b、52b)顺畅地流动。由此，能够抑制从离心风扇29向各侧壁(33、34)侧的气流的流动分别被第1和第2气流限制部件(51、52)限制时的压力损失的增大。

另外，根据本实施方式，作为第1气流限制部件51的弯曲壁面的第1弯曲壁面51b和作为第2气流限制部件52的弯曲壁面的第2弯曲壁面52b隔着离心风扇29而对置配置，第1弯曲壁面51b和第2弯曲壁面52b构成为，从被处理物10侧朝向被处理物10侧的相反侧延伸的方向上的尺寸比离心风扇29的旋转叶片50大。根据该结构，第1和第2弯曲壁面(51b、52b)各自的高度尺寸被设定为比离心风扇29的旋转叶片50的高度尺寸大。因此，通过设置有各弯曲壁面(51b、52b)的第1和第2气流限制部件(51、52)，能够将被离心风扇29从被处理物10侧吸入并朝向离心风扇29的径向的外侧流动的气流调整为更不容易泄漏，从而能够更稳定地对该气流的流动方向进行调整。

另外，根据本实施方式，第1弯曲壁面51b和第2弯曲壁面52b设置为，从被处理物10侧到被处理物10侧的相反侧以朝向离心风扇29的旋转叶片50的外周缘部50c相互接近的方式延伸。根据该结构，第1和第2弯曲壁面(51b、52b)构成为，在作为离心风扇29吸入气体的吸入侧的被处理物10侧分开，并且朝向吸入侧的相反侧接近。即，在隔着离心风扇29对置配置的第1和第2弯曲壁面(51b、52b)之间的区域中，离心风扇29吸入气体的吸入侧的区域设定为较大，吸入侧的相反侧的区域设定为较窄。因此，在吸入被处理物10侧的气体而产生朝向离心风扇29的径向的外侧并且被气流调整部30调整了流动方向后的气流时，能够使气流的流动更快。即，能够使通过离心风扇29的旋转而送出并且被气流调整部30调整了流动方向而朝向各侧壁(33、34)流动的气流的流动更快。由此，在热处理中能够使热处理室21内的气氛整体上高效地循环。

[实施例]

使用与上述实施方式所说明的热处理装置1相同结构的实施例的热处理装置和与以往相同结构的比较例的热处理装置，对环状的金属制的被处理物10进行基于加热的热处理，并且对热处理时的被处理物10的温度变化进行测量。另外，比较例的热处理装置作为在热处理装置1中未设置遮蔽部件(24、25)、切换驱动部(26、27)以及气流调整部30的结构的热处理装置而构成。

在实施例的热处理装置的热处理中，从加热开始持续使遮蔽部件(24、25)的状态维持为遮蔽状态而进行被处理物10的热处理。另外，基于实施例的热处理装置的热处理和基于比较例的热处理装置的热处理中的任意处理都是从加热开始至加热结束的期间内持续使离心风扇29进行旋转。另外，在基于实施例的热处理装置的热处理和基于比较例的热处理装置的热处理的任意处理中，从加热开始持续在多个部位对被处理物10的表面的温度进行测量。更具体而言，在环状的被处理物10的表面的周向的多个部位安装热电偶，对被处理物10的温度进行测量，从而对热处理时的被处理物10的温度变化进行测量。

图17和图18是示出对热处理时的被处理物10的温度变化进行测量后的结果的图。图17的(a)和图18的(a)是通过实施例的热处理装置进行热处理后的被处理物10的温度测量结果，图17的(b)和图18的(b)是通过比较例的热处理装置进行热处理后的被处理物10的温度测量结果。在图17的(a)、图17的(b)、图18的(a)以及图18的(b)中，纵轴表示热电偶的测量温度，横轴表示加热时经过的时间(分钟)。另外，在图17的(a)和图17的(b)中，示出了从加热开始的时间(0分钟)至被处理物10的测量温度到达超过A3相变点很多的温度的状态的时间(t分钟)的这段期间的被处理物10的温度变化的测量结果。另一方面，图18放大示出了图17所示的温度变化的一部分，图18的(a)放大示出了图17的(a)的一部分，图18的(b)放大示出了图17的(b)的一部分。更具体而言，在图18的(a)和图18的(b)中，示出了从被处理物10的测量温度为比A1相变点低一定程度的温度的状态的时间(t1分钟)至被处理物10的测量温度为比A1相变点高一定程度的温度的状态的时间(t2分钟)的这段期间的被处理物10的温度变化的测量结果。另外，在图18的(a)和图18的(b)中，关于表示测量温度的纵轴的温度显示，用相对于A1相变点的相对的温度显示来表示，示出了从比A1相变点低20℃的温度至比A1相变点高80℃的温度。另外，在图17的(a)、图17的(b)、图18的(a)以及图18的(b)中，将环状的被处理物10的表面的周向的多个部位的温度测量位置中的、温度上升最急剧的位置处的温度测量结果用实线示出，将温度上升最平缓的位置处的温度测量结果用虚线示出。

如图17的(b)和图18的(b)所示，在通过比较例的热处理装置进行了热处理的被处理物10中，可以看到，在温度上升最急剧的位置与温度上升最平缓的位置之间，温度上升的偏差较大。另外，在通过比较例的热处理装置进行热处理的被处理物10中，与加热器(22、23)对置配置的部分和没有与加热器(22、23)对置的部分(即，最远离加热器(22、23)的部分)产生最大的温度上升之差。即，在被处理物10的表面的周向的多个部位的温度测量位置中，在与加热器(22、23)对置的位置产生最急剧的温度上升，在没有与加热器(22、23)对置的位置(即最远离加热器(22、23)的位置)产生最平缓的温度上升。

另一方面，如图17的(a)和图18的(a)所示，在通过实施例的热处理装置进行热处理的被处理物10中，尽量减少了在温度上升最急剧的位置和温度上升最平缓的位置之间产生温度上升的偏差的情况。因此，证实了通过利用实施例的热处理装置对被处理物10实施热处理，能够减少热处理中的被处理物10的各部分的温度上升的偏差。由此，在对被处理物10实施热处理时，能够进一步减少因热处理产生的应变。

[变形例]

以上，对本发明的实施方式进行了说明，但本发明不限于上述实施方式，只要在权利要求书记载的范围内，就能够进行各种变更并实施。例如，也可以实施如下的变形例。

图19和图20是第1变形例的热处理装置101的示意性的剖视图。另外，图19是示出从图20的E-E箭头线位置观察的状态的剖视图，图20是示出从图19的D-D箭头线位置观察的状态的剖视图。另外，在对第1变形例进行的以下的说明中，对与上述实施方式不同的点进行说明，对与上述实施方式相同的结构或对应的结构在附图中标注相同的标号或引用相同的标号，并省略重复的说明。

上述实施方式的热处理装置1构成为具有遮蔽部件(24、25)、切换驱动部(26、27)以及气流调整部30。与此相对，第1变形例的热处理装置101构成为具有遮蔽部件(24、25)和切换驱动部(26、27)，但不具有气流调整部30，在该点上与上述实施方式的热处理装置1不同。

根据第1变形例的热处理装置101和使用热处理装置101实施的热处理方法，在热处理室21内，通过配置在加热器(22、23)与被处理物10之间的遮蔽部件(24、25)，能够遮蔽从加热器(22、23)向被处理物10放射的辐射热。因此，在从加热器(22、23)向被处理物10放射的辐射热被遮蔽部件(24、25)遮蔽的状态下，抑制被处理物10被来自加热器(22、23)的辐射热加热，而是通过被加热器(22、23)加热后的气氛进行整体的加热。即，抑制来自加热器(22、23)的辐射热的加热在被处理物10的一部分中产生较大的影响，通过被加热器(22、23)加热后的气氛对被处理物10的整体更均匀地进行加热。由此，减少在被处理物10的表面和内部分别产生的被处理物10的各部分的温度上升的偏差，减少各部分的应力的状态产生偏差的情况，从而能够进一步减少因热处理而在被处理物10产生的应变。因此，根据第1变形例的热处理装置101和使用热处理装置101实施的热处理方法，在对金属制的被处理物10实施基于加热的热处理时，能够减少被处理物10的各部分的温度上升的偏差，从而能够进一步减少因热处理产生的应变。

图21和图22是第2变形例的热处理装置102的示意性的剖视图。另外，图21是示出从图22的G-G箭头线位置观察的状态的剖视图，图22是示出从图21的F-F箭头线位置观察的状态的剖视图。另外，在对第2变形例进行的以下的说明中，对与上述实施方式不同的点进行说明，对与上述实施方式相同的结构或对应的结构在附图中标注相同标号或引用相同标号，并省略重复的说明。

上述实施方式的热处理装置1构成为具有遮蔽部件(24、25)、切换驱动部(26、27)以及气流调整部30。与此相对，第2变形例的热处理装置102构成为具有气流调整部30，但不具有遮蔽部件(24、25)和切换驱动部(26、27)，在该点上与上述实施方式的热处理装置1不同。

根据第2变形例的热处理装置102，在热处理室21的平行的一对侧壁(33、34)之间，通过使与被处理物10对置配置的离心风扇29沿旋转方向X5进行旋转，吸入被处理物10侧的气体而产生朝向离心风扇29的径向的外侧的气流。然后，被离心风扇29从被处理物10侧吸入并朝向离心风扇29的径向的外侧流动的气流一边被气流调整部30调整一边流动。具体而言，在区域(R1、R2)中限制从离心风扇29向各侧壁(33、34)侧的气流的流动，其中，该区域(R1、R2)是热处理室21内的比一对侧壁(33、34)的中间位置M1靠各侧壁(33、34)侧的区域，并且在该区域(R1、R2)中沿旋转方向X5旋转的旋转叶片50的外周缘部50c远离各侧壁(33、34)。而且，在区域(P1、P2)中允许从离心风扇29向各侧壁(33、34)侧的气流的流动，其中，该区域(P1、P2)是热处理室21内的比一对侧壁(33、34)的中间位置M1靠各侧壁(33、34)侧的区域，并且在该区域(P1、P2)中沿旋转方向X5旋转的旋转叶片50的外周缘部50c接近各侧壁(33、34)。由此，在热处理室21的平行的一对侧壁(33、34)之间，在离心风扇29旋转时，从被处理物10侧吸入并朝向离心风扇29的径向的外侧流动的气流通过基于离心风扇29的旋转的送风作用和基于气流调整部30的气流的流动方向的调整作用，一边朝向各侧壁(33、34)流动，一边进一步沿着各侧壁(33、34)流动。沿着各侧壁(33、34)流动的气流在通过被处理物10后被离心风扇29吸入，并再次向离心风扇29的径向的外侧流动。由此，在热处理中，热处理室21内的气氛如在图21和图22中流动方向X6所示的那样以通过被处理物10之后沿各侧壁(33、34)流动并再次通过被处理物10的方式整体上高效地进行循环流动。

因此，根据第2变形例的热处理装置102，能够抑制如以往那样在一对侧壁之间产生向流动阻力较少的区域偏移的流动，从而能够在热处理中使热处理室21内的气氛整体上高效地循环。而且，根据第2变形例的热处理装置102，能够在热处理中使热处理室21内的气氛整体上高效地循环，在抑制了热处理室21内的气氛的温度分布的偏差的状态下使热处理室21内的气氛整体上更均匀地发生温度变化。由此，能够在被处理物10的表面和内部分别减少热处理中的被处理物10的各部分的温度变化的状态的偏差，从而能够进一步减少因热处理产生的应变。因此，根据第2变形例的热处理装置102，在对金属制的被处理物10实施热处理时，能够减少热处理中的被处理物10的各部分的温度变化的状态的偏差，从而能够进一步减少因热处理产生的应变。

图23和图24是第3变形例的热处理装置103的示意性的剖视图。另外，图23是示出从图24的I-I箭头线位置观察的状态的剖视图，图24是示出从图23的H-H箭头线位置观察的状态的剖视图。另外，在对第3变形例进行的以下的说明中，对与上述实施方式不同的点进行说明，对与上述实施方式相同的结构或对应的结构在附图中标注相同的标号或引用相同的标号，并省略重复说明。

上述实施方式的热处理装置1构成为，温度测量部28对热处理室21内的规定的温度测量位置处的温度进行测量，从而对热处理室21内的气氛的温度进行测量。与此相对，第3变形例的热处理装置103构成为具有温度测量部60，该温度测量部60不仅对热处理室21内的气氛的温度进行测量，还对被处理物10的温度进行测量。

温度测量部60例如构成为具有放射温度计，作为对配置在热处理室21内的被处理物10中的1个温度进行测量的温度传感器而设置。温度测量部60例如具有温度计收纳壳体，该温度计收纳壳体从顶壁38在热处理室21内朝向下方呈管状延伸，并且在内侧收纳放射温度计。在温度计收纳壳体内，例如构成为从外部提供或排出冷却气体，对温度计收纳壳体内的放射温度计进行冷却而保护放射温度计。温度测量部60以与配置在热处理室21内的规定的位置的被处理物10对置的方式设置在热处理室21内。例如，温度测量部60如图23和图24所例示的那样以如下的状态设置在热处理室21内：该温度测量部60与配置在热处理室21内的箱体11中的最上方的箱体11的规定的位置处所收纳配置的被处理物10从该被处理物10的上方对置。而且，温度测量部60构成为，在热处理中对所对置的被处理物10的温度进行测量。另外，在温度测量部60中，在与被处理物10对置的温度计收纳壳体的下端部例如设置有对高温区域具有耐热性的透明的窗部件，收纳在温度计收纳壳体内的放射温度计构成为隔着该窗部件对被处理物10的温度进行测量。

另外，温度测量部60与控制部32连接，温度测量部60的温度测量结果被输入到控制部32。然后，控制部32根据温度测量部60的温度测量结果，对切换驱动部(26、27)进行控制。切换驱动部(26、27)被控制部32基于温度测量部60的温度测量结果而控制，使遮蔽部件(24、25)的状态在遮蔽状态与放射状态之间切换。

另外，切换驱动部(26、27)构成为，通过基于温度测量部60的温度测量结果的控制部32的控制，在温度测量部60所测量出的温度到达与A1相变点相同的温度或者到达比A1相变点低的规定的温度时，将遮蔽部件(24、25)的状态从放射状态切换为遮蔽状态。另外，当在比A1相变点低的规定的温度下使遮蔽部件(24、25)的状态从放射状态切换为遮蔽状态的情况下，切换驱动部(26、27)构成为在被处理物10的温度为包含A1相变点在内的规定的温度范围内的温度时，使遮蔽部件(24、25)的状态维持遮蔽状态。而且，上述规定的温度范围被设定为至少包含比A1相变点低50℃的温度以上且比A3相变点高50℃的温度以下的温度范围。

根据第3变形例的热处理装置103，基于被处理物10的温度的测量结果来切换遮蔽部件(24、25)的状态。因此，能够根据被处理物10的实际的温度状态，容易地在放射状态与遮蔽状态之间切换遮蔽部件(24、25)的状态。

以上，对本发明的实施方式和变形例进行了说明，但本发明不限定于此，还能够进行各种变更。例如，也可以进一步实施如下的其他变形例。

例如，也可以采用具有对被处理物的温度进行测量的被处理物用的温度测量部和对热处理室内的规定的温度测量位置处的气氛的温度进行测量的气氛用的温度测量部的热处理装置来实施。在该情况下，也可以构成为，控制部选择被处理物用的温度测量部和气氛用的温度测量部中的任意一方，对切换驱动部进行控制。

另外，在上述实施方式和第1至第3变形例中，以通过热处理装置进行热处理的金属制的被处理物是环状的部件的方式为例进行了说明，但也可以不是这样。通过热处理装置进行热处理的被处理物的形状不限定于环状，也可以是环状以外的形状，例如也可以采用圆柱状、棱柱状、方筒状、长方体状、立方体状、棒状、板状以及具有特殊的截面形状或表面形状的形状等各种形状。

另外，在上述实施方式、第1变形例以及第3变形例中，例示了遮蔽部件具有多个遮蔽板的方式，但也可以不是这样。例如，也可以采用遮蔽部件构成为具有一片遮蔽板的结构的方式来实施。在该情况下，也可以采用如下的方式来实施：由1片遮蔽板构成的遮蔽部件被切换驱动部以向上下方向或前后方向进行驱动的方式驱动，从而在遮蔽状态与放射状态之间切换遮蔽部件的状态。

另外，在上述实施方式中，例示了在温度测量部28所测量出的温度到达比A1相变点低的规定的温度时，切换驱动部(26、27)使遮蔽部件(24、25)的状态从放射状态切换为遮蔽状态的方式，但也可以不是这样。也可以采用如下的方式来实施：在温度测量部28所测量出的温度到达与A1相变点相同的温度时，切换驱动部(26、27)使遮蔽部件(24、25)的状态从放射状态切换为遮蔽状态。另外，也可以采用如下的方式来实施：在热处理室21内的被处理物10的热处理开始后，切换驱动部(26、27)立即使遮蔽部件(24、25)的状态从放射状态切换为遮蔽状态。

另外，在第2变形例中，以具有加热器、离心风扇以及气流调整部的热处理装置对被处理物进行加热的热处理的方式为例进行了说明。但是，也可以不是这样，也可以采用不设置加热器，而将热处理装置用于对被处理物进行空气冷却的冷却用的方式来实施。即，也可以采用如下的方式来实施：在不具有加热器而具有离心风扇和气流调整部的热处理装置中，对被处理物进行空气冷却，从而进行基于冷却的热处理。根据该热处理装置，在对被处理物进行空气冷却而实施基于冷却的热处理时，能够减少热处理中的被处理物的各部分的温度下降时的温度变化的状态的偏差，从而能够进一步减少因热处理产生的应变。

产业上的可利用性

本发明能够作为用于对金属制的被处理物进行热处理的热处理装置和热处理方法而广泛应用。

Claims (8)

1.一种热处理装置，其特征在于，该热处理装置具有：

加热器，其用于对作为加热处理对象的金属制的被处理物进行加热；

热处理室，其配置有所述加热器和所述被处理物；

遮蔽部件，其在所述热处理室内配置于所述加热器与所述被处理物之间，能够遮蔽从所述加热器向所述被处理物的辐射热的放射；以及

切换驱动部，其对所述遮蔽部件进行驱动而切换该遮蔽部件的状态，

所述切换驱动部对所述遮蔽部件进行驱动而在放射状态与遮蔽状态之间切换该遮蔽部件的状态，其中，该放射状态被配置为所述遮蔽部件允许从所述加热器向所述被处理物的辐射热的放射，该遮蔽状态被配置为所述遮蔽部件遮蔽从所述加热器向所述被处理物的辐射热的放射。

2.根据权利要求1所述的热处理装置，其特征在于，

在所述被处理物的温度为包含A1相变点在内的规定的温度范围内的温度时，所述切换驱动部将所述遮蔽部件的状态维持为所述遮蔽状态。

3.根据权利要求2所述的热处理装置，其特征在于，

所述规定的温度范围至少包含比A1相变点低50℃的温度以上且比A3相变点高50℃的温度以下的温度范围。

4.根据权利要求1所述的热处理装置，其特征在于，

该热处理装置还具有温度测量部，该温度测量部对所述被处理物的温度和所述热处理室内的规定的温度测量位置处的温度中的至少任意一方的温度进行测量，

所述切换驱动部根据所述温度测量部所测量的温度测量结果来切换所述遮蔽部件的状态。

5.根据权利要求4所述的热处理装置，其特征在于，

在所述温度测量部所测量出的温度到达与A1相变点相同的温度或比A1相变点低的规定的温度时，所述切换驱动部将所述遮蔽部件的状态从所述放射状态切换为所述遮蔽状态。

6.根据权利要求1至5中的任意一项所述的热处理装置，其特征在于，

所述遮蔽部件具有：

多个旋转轴，它们相互平行地延伸；以及

多个遮蔽板，它们以多个所述旋转轴的各个所述旋转轴为中心分别被支承为旋转自如，

所述切换驱动部通过使多个所述遮蔽板同时旋转而将所述遮蔽部件的状态从所述放射状态切换为所述遮蔽状态。

7.根据权利要求6所述的热处理装置，其特征在于，

所述遮蔽板固定于所述旋转轴，

所述切换驱动部具有：

多个摆动部件，它们分别固定于多个所述旋转轴；

连结棒，其连结多个所述摆动部件；以及

连结棒驱动部，其对所述连结棒进行驱动以使所述连结棒进退移动，

多个所述摆动部件分别与所述连结棒以摆动自如的方式连结。

8.一种热处理方法，其特征在于，该热处理方法具有如下的步骤：

加热步骤，在配置有作为加热处理对象的金属制的被处理物和加热器的热处理室内，使用所述加热器对所述被处理物进行加热；以及

遮蔽步骤，在执行所述加热步骤的期间执行该遮蔽步骤，通过在所述热处理室内配置于所述加热器与所述被处理物之间的遮蔽部件，遮蔽从所述加热器向所述被处理物的辐射热的放射，

所述遮蔽步骤通过如下方式来执行：通过对所述遮蔽部件进行驱动而切换该遮蔽部件的状态的切换驱动部的动作，所述遮蔽部件的状态从放射状态切换为遮蔽状态并维持为所述遮蔽状态，其中，所述放射状态被配置为所述遮蔽部件允许从所述加热器向所述被处理物的辐射热的放射，所述遮蔽状态被配置为所述遮蔽部件遮蔽从所述加热器向所述被处理物的辐射热的放射。

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