JP2005331158A - マイクロ波加熱処理装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】本発明は、マイクロ波加熱により均質な加熱処理物を効率よく得ることができるロータリキルン式のマイクロ波加熱処理装置を提供することを課題とする。
【解決手段】本発明のマイクロ波加熱処理装置は、鋼材で形成された炉殻と該炉殻の内側に設けられた断熱材とで構成され加熱室11を区画する炉壁12と、一端に被加熱物の供給口を他端に被加熱物を排出する排出口を有し前記加熱室を貫通して軸線周りに回転するシェル15aと、前記加熱室11にマイクロ波Wを導入するマイクロ波発生装置16とを有するマイクロ波加熱処理装置であって、前記加熱室内11にマイクロ波を照射することにより発熱する発熱手段Hを備えることを特徴とする。
【選択図】図3
【解決手段】本発明のマイクロ波加熱処理装置は、鋼材で形成された炉殻と該炉殻の内側に設けられた断熱材とで構成され加熱室11を区画する炉壁12と、一端に被加熱物の供給口を他端に被加熱物を排出する排出口を有し前記加熱室を貫通して軸線周りに回転するシェル15aと、前記加熱室11にマイクロ波Wを導入するマイクロ波発生装置16とを有するマイクロ波加熱処理装置であって、前記加熱室内11にマイクロ波を照射することにより発熱する発熱手段Hを備えることを特徴とする。
【選択図】図3
Description
本発明はマイクロ波を用いた被加熱物の加熱処理装置に関する。より詳しくは、マイクロ波加熱装置を有するロータリキルンに関する。
ロータリキルンは、回転する円筒形シェル内に供給した被加熱物を加熱などすることにより、その被加熱物に対し乾燥や焼成、乾留といった種々の熱処理を施す装置である。シェルは、水平よりやや傾斜した状態に設けられているため、被加熱物は、シェルの回転につれて攪拌されながらその内部を順次軸線方向に移動する間に所定の熱処理を施されるようになっている。
このようなロータリキルンにおいては、通常バーナなどによってシェルの外側部を加熱する間接加熱により被加熱物は加熱処理される。しかし、かかる従来のロータリキルンでは、被加熱物の充填率(処理量)を高くすると、被加熱物の堆積層の位置(例えば、堆積層の表面部、中間部分、シェルの内壁に接触した部分など)によって温度差が生じるために、全体として均一な品質の処置物を得ることが困難であった。このようにロータリキルンへの被加熱物の充填率には操業条件による制約があり、処理量を増やすためにはロータリキルンの大型化しなければならない。また、加熱処理温度の異なる複数の処理工程では、加熱温度の異なる複数のロータリキルンを連結したり、一工程ずつ別々に加熱処理を施こすといった煩雑さがあった。
また、加熱源としてバーナ加熱に変えてマイクロ波を用いる加熱処理装置が提案されているが(特許文献1参照)、茶葉やプラスティックペレットなどの軽量細小片群の乾燥には適しているが、高い加熱処理温度を要する金属粉体やファインセラミックスなどの加熱処理では均質な処理物を得ることができない。
特開平01−251183号公報
本発明は上記の問題に鑑みてなされたもので、マイクロ波加熱により均質な加熱処理物を効率よく得ることができるロータリキルン式のマイクロ波加熱処理装置を提供することを課題とする。
本発明のマイクロ波加熱処理装置は、鋼材で形成された炉殻と該炉殻の内側に設けられた断熱材とで構成され加熱室を区画する炉壁と、一端に被加熱物の供給口を他端に被加熱物を排出する排出口を有し前記加熱室を貫通して軸線周りに回転するシェルと、前記加熱室にマイクロ波を導入するマイクロ波発生装置とを有するマイクロ波加熱処理装置であって、前記加熱室内にマイクロ波を照射することにより発熱する発熱手段を備えることを特徴とする。
本発明のマイクロ波加熱処理装置は、加熱室内に発熱手段を備えているので、マイクロ波を照射することによりシェル内の被加熱物が自己発熱するとともに、発熱手段もマイクロ波を吸収して発熱し、被加熱物を周囲から加熱することができる。被加熱物はシェルの回転により攪拌されるので短時間で均一な加熱処理を施すことができる。また、シェル内の被加熱物層が厚い場合であっても被加熱物層の位置による温度差を縮小できるので、被加熱物の処理量を増加して生産効率を向上することができる。
ここで、前記シェルはマイクロ波を透過するマイクロ波透過性シェルであることが望ましく、マイクロ波透過性シェルはアルミナまたは石英を主成分とするセラミックであることが好ましい。シェルをマイクロ波透過性シェルとすることで被加熱物へのマイクロ波照射量の減衰を防止し被加熱物の自己発熱を促進することができる。
本発明のマイクロ波加熱処理装置の形態としては、発熱手段は前記加熱室の内壁に固設さた発熱体であることが好ましい。この様な発熱体はマイクロ波加熱により発熱してシェルの外側から被加熱物を均一に加熱することができる。
また、本発明のマイクロ波加熱処理装置の形態としては、発熱手段は前記シェルの内周面および/または外周面に被覆された発熱体であることが好ましい。シェルの周面に被覆された発熱体は、マイクロ波加熱により発熱して効率よく被加熱物を加熱することができる。
これらの形態のマイクロ波加熱処理装置においては、発熱手段はマイクロ波吸収率の異なる複数の発熱体であることが望ましい。マイクロ波吸収率の異なる発熱体を有することにより、段階的に処理温度を変化させる加熱処理を同一のシェル内で施すことができる。
本発明のマイクロ波加熱処理装置の形態として、発熱手段はシェルであることができ、この場合のシェルはジルコニアまたは炭化珪素を主成分とするセラミックであることが好ましい。シェルを発熱体とすることにより、マイクロ波の熱効率をさらに向上することができる。
本発明のマイクロ波加熱処理装置は、前記発熱体の温度を測定する温度測定手段と、該温度測定手段で得られた温度情報に基づいて最適なマイクロ波出力を演算して前記マイクロ波発生装置の出力を制御する出力制御手段とを有する請求項1に記載のマイクロ波加熱処理装置。
発熱体の表面温度を測定して、その測定温度に基づいてマイクロ波発生装置の出力を制御することにより、被加熱物の自己発熱を制御することができる。従って、安定した均一な品質を有する被加熱物を得ることができる。
以下、本発明の実施の形態を図によって説明する。本発明のマイクロ波加熱処理装置の縦断面を図1に模式的に示す。このマイクロ波加熱処理装置10は、加熱室11を区画する炉壁12と、被加熱物の供給部13と加熱処理された被加熱物の排出部14とを有するシェル15と、加熱室11にマイクロ波を照射するマイクロ波発生装置16とを備えており、同一の傾動可能な基台17上に固設されている。
加熱室11は、鋼材で形成された炉殻18と耐火性の断熱材19で形成された炉壁12によって区画されている。
シェル15は、加熱室11を長さ方向に水平に貫くように配置されており、マイクロ波を透過するセラミック製のシェル本体15aと、シェル本体15aの両端部に嵌合し回転駆動機構と接続する金属製のシェルサポート管15bとから構成されている。シェルサポート管15bは、固定ボルト21によってシェル本体15aに締結されている(図2参照)。なお、シェル本体15aと固定ボルト21の間にはセラミックブランケットなどの耐熱性クッション材(図示せず)が挿入されており、固定ボルト21の熱膨張を吸収するようになっている。
シェルサポート管15bの両端付近には環状のタイヤ22が、シェルサポート管15bの外周面に一体的に付設されており、シェル15は、これらの部分で受けころ23によって支持されている。
シェルサポート管15bの外周面と加熱室11とは僅かな間隙を設けて図示しないシール材でほぼ密閉され、隙間からの放熱を防止するとともに、チョーク30を設けてマイクロ波の外部への漏洩を防止している。
シェル15は、被加熱物Mの供給部13と供給部側の受けころ23間のシェルサポート管15bの外周面にスプロケットホイール24を設けて、このスプロケットホイール24と、基台17に支持された駆動モータ25のスプロケット26とをチェーン(図示せず)で連結して回転駆動される。なお、シェル15の軸線は、基台17のシリンダ27により供給側を上昇させて、排出側が僅かに下がるように傾斜させることができる。なお、軸線の勾配は被加熱物の性状によって異なるが、アルミナ造粒体などのような粒体や金属原料粉末などの粉体では1/100〜3/100程度が適当である。
シェル15の供給部13は、供給部フード28と被加熱物Mの供給ホッパー29とで構成されていて、基台17上に固定されている。供給部フード28とシェル15とは僅かなクリアランスを設けてシール材(図示せず)でほぼ密閉されており、隙間からの放熱を防止することができる。また、チョーク30を設けてマイクロ波の外部への漏洩を防止しするようになっている。被加熱物Mの供給ホッパー29は、シェル15内部へ被加熱物Mを供給するように供給部フード28を貫通して設けられており、ホッパー29の開口部付近にはチョーク30を設けてマイクロ波の外部への漏洩を防止するようになっている。
排出部14は、シェル15内への外気の浸入を防止するための排出部フード31で構成されていて、シェル15と排出部フード31とは、僅かなクリアランスを設けてシール材(図示せず)でほぼ密閉されており、隙間からの放熱を防止することができる。また、チョーク30を設けてマイクロ波の外部への漏洩を防止するようになっている。排出部フード31の下部には、シェル15の排出口32から排出された被加熱物Mを取出すシュート33が設けられている。シュート33の途中にはバルブを設けて外気の浸入を防止するとともに、チョーク30を設けてマイクロ波の外部への漏洩を防止するようになっている。
マイクロ波発生装置16は、炉壁12を貫通して加熱室11に開口する導波管40に接続して設置されている。マイクロ波発生装置の設置台数には特に限定はないが、アルミナなどのセラミックスを加熱処理するためには複数台設置することが望ましい。図1の実施の形態では4台とした。また、加熱温度の変化を測定するために炉壁12を貫通して発熱体表面の温度を測定する温度測定手段41、例えば、赤外線放射温度計などを適宜の位置に設置することが望ましい。
以上の構成のマイクロ波加熱装置において、本発明の特徴とするところは、シェル本体15aを含む加熱室11内に、マイクロ波を照射することにより発熱する発熱手段を備えることである。すなわち、被加熱物Mをマイクロ波による自己発熱で加熱するとともに、発熱手段によって周囲からも被加熱物Mを加熱できる構成である。発熱体Hは、ジルコニアあるいは炭化珪素などを主成分とするセラミックであることが好ましい。また、発熱体Hのマイクロ波吸収率は被加熱物のマイクロ波吸収率と同等もしくは高いことが好ましい。
かかる発熱手段は、例えば、図3a〜cに示すように設置することができる。図3は図1のB−B断面を模式的に示したものである。なお、図3では図1と同一部分には同じ符号を付して説明を省略する。
発熱手段の第1の形態は、図3の(a)に示す加熱室11の炉壁面に発熱体Hを固設したものである。マイクロ波発生装置16で発生し導波管40により加熱室11へ導入されたマイクロ波Wは、発熱体Hを発熱させるとともに、マイクロ波透過性のシェル本体15aを透過して被加熱物Mを照射して自己発熱させる。従って、この第1の形態の発熱手段を有するマイクロ波加熱処理装置によれば、被加熱物Mは、マイクロ波照射による被加熱物Mの自己発熱と発熱体Hによる輻射熱(矢印h)とによって被加熱物Mに短時間に所望の加熱処理を施すことができる。
発熱手段の第2の形態は、図3の(b)に示すマイクロ波透過性のシェル本体15aの内周面と外周面とに発熱体Hを被覆したものである。発熱体Hはジルコニアや炭化珪素などの粒体または粉末を溶射などの方法でシェル本体の周壁に被覆して形成することができる。また、適宜の径の円筒状の発熱体Hを形成してシェル本体15aの内周および/または外周に嵌挿してもよい。
マイクロ波発生装置16で発生し導波管40により加熱室11へ導入されたマイクロ波Wは、発熱体H、Hを発熱させるとともに、マイクロ波透過性のシェル本体15aを透過して被加熱物Mを照射して自己発熱させる。従って、この第2の形態の発熱手段を有するマイクロ波加熱処理装置によれば、被加熱物Mは、マイクロ波照射による被加熱物Mの自己発熱と発熱体H、Hによる輻射熱と伝導熱(矢印h)とによってさらに効率よく被加熱物Mに加熱処理を施すことができる。
発熱手段の第3の形態は、図3の(c)に示すシェル本体15aをマイクロ波により発熱する発熱体Hとしたものである。すなわち、シェル本体15aをジルコニアまたは炭化珪素を主成分とするセラミックで形成する。
マイクロ波発生装置16で発生し導波管40により加熱室11へ導入されたマイクロ波Wは、シェル本体15aを発熱させるとともに、被加熱物Mを照射して自己発熱させる。従って、この第3の形態の発熱手段を有するマイクロ波加熱処理装置によれば、被加熱物Mは、マイクロ波照射による被加熱物Mの自己発熱とシェル本体15aによる輻射熱と伝導熱(矢印h)とによってさらに一層効率よく被加熱物Mに加熱処理を施すことができる。
なお、第1の形態および第2の形態では、発熱体Hとして、マイクロ波吸収率の異なる複数の発熱体を用いることができる。図3(d)は第4の形態について模式的に示した説明図であり、シェル本体15aの内外周面にはマイクロ波吸収率の異なる3種類の発熱体H1、H2、H3が被覆されている。ここで、マイクロ波吸収率をH1、H2、H3の順に高くなるように各発熱体を選定すれば、被加熱物Mが供給側から排出側へ移動する間に加熱温度条件の異なる3工程の加熱処理を連続して施すことができる。例えば、シェル本体15a内において発熱体H1の領域を乾燥工程、発熱体H2の領域を脱脂工程、発熱体H3の領域を焼成工程などとすることができる。すなわち、従来は、3工程に分けて処理していた被加熱物の加熱処理をマイクロ波加熱処理という1工程で好適に実施することができるわけである。
本発明のマイクロ波加熱処理装置においては、前記のように発熱体Hのマイクロ波吸収率は被加熱物のマイクロ波吸収率よりも高い方が好ましい。つまり発熱体Hとしては、マイクロ波による発熱が被処理物の発熱と同等もしくは上回る材質を用いることが望ましいわけである。本発明のマイクロ波加熱処理装置においては、発熱体Hの表面温度を測定して、その測定結果に基づいてマイクロ波発生装置の出力を制御することができる。つまり、被加熱物よりも自己発熱により高温となる発熱体の温度を制御することで、マイクロ波による被加熱物の自己発熱の暴走を抑制して所望の加熱処理を施すことができる。
本発明のマイクロ波加熱装置の温度制御システムの概要を図4に示す。なお、図4では図1と同一部分には図1と同一符号を付して説明を省略する。図4の温度制御システムの動作は以下の通りである。まず、マイクロ波発生装置16で発生し導波管40により加熱室11へ導入されたマイクロ波Wが、発熱体H(図4ではシェル本体15a)を発熱させるとともに、被加熱物Mを照射して自己発熱させる。次に、発熱した発熱体Hの表面温度を温度測定手段41で測定して温度信号Stを得る。次に、制御手段(例えば、プログラム温度調節計)42は、入力された温度信号Stに基づいて最適なマイクロ波出力を演算してマイクロ波出力信号Spを形成し、マイクロ波発振装置16へ入力する。マイクロ波発振装置16はマイクロ波出力信号Spに基づく出力のマイクロ波を発振する。ここで温度測定手段41には特に限定はないが、赤外線放射温度計などの非接触温度計を用いることが好ましい。
なお、本発明のマイクロ波加熱処理装置は、以上の実施の形態に限定されるものではなく本発明の主旨を逸脱しない範囲で変更することができる。例えば、第2の形態では、マイクロ波透過性シェルの内周面および/または外周面に発熱体を被覆して発熱手段とした。しかし、被加熱物を収容するシェルとして、ステンレスなどの金属製のシェルを使用してもよい。金属製のシェルのみではマイクロ波を反射してしまうのでシェル内部に収容されている被加熱物を加熱することはできないが、金属製のシェル表面にマイクロ波発熱材を溶射などにより被覆して発熱手段とすることにより第2の形態と同様の効果を得ることができる。
また、発熱体Hの表面温度を測定してマイクロ波発生装置の出力を制御することとしたが、直接シェル内の被加熱物の温度を測定してマイクロ波発生装置の出力を制御してもよい。この場合には、赤外線放射温度計を図1の排出フード31に取り付けて被加熱物の表面温度を測定するようにするとよい。
本発明のマイクロ波加熱処理装置は、粒体状や粉体状の被加熱物に乾燥、乾留、焼結などの加熱処理を施すのに好適である。特に、乾燥処理、脱脂処理および焼成処理を連続して施す場合などには有効であり生産性の向上に寄与するところ大である。
10:マイクロ波加熱装置 11:加熱室 12:炉壁 15:シェル 15a:シェル本体 15b:シェルサポート管 16:マイクロ波発生装置 17:基台 30:チョーク 40:導波管 41:温度測定手段 42:マイクロ波出力制御手段 H:発熱体 M:被加熱物 W:マイクロ波
Claims (9)
- 鋼材で形成された炉殻と該炉殻の内側に設けられた断熱材とで構成され加熱室を区画する炉壁と、
一端に被加熱物の供給口を他端に被加熱物を排出する排出口を有し前記加熱室を貫通して軸線周りに回転するシェルと、
前記加熱室にマイクロ波を導入するマイクロ波発生装置とを有するマイクロ波加熱処理装置であって、
前記加熱室内にマイクロ波を照射することにより発熱する発熱手段を備えることを特徴とするマイクロ波加熱処理装置。 - 前記シェルはマイクロ波を透過するマイクロ波透過性シェルである請求項1に記載のマイクロ波加熱処理装置。
- 前記マイクロ波透過性シェルはアルミナまたは石英を主成分とするセラミックである請求項2に記載のマイクロ波加熱処理装置。
- 前記発熱手段は前記加熱室の内壁に固設さた発熱体である請求項1〜3のいずれかに記載のマイクロ波加熱処理装置。
- 前記発熱手段は前記シェルの内周面および/または外周面に被覆された発熱体である請求項1〜3のいずれかに記載のマイクロ波加熱処理装置。
- 前記発熱手段はマイクロ波吸収率の異なる複数の発熱体である請求項4または5に記載のマイクロ波加熱処理装置。
- 前記発熱手段は前記シェルである請求項1に記載のマイクロ波加熱処理装置。
- 前記シェルはジルコニアまたは炭化珪素を主成分とするセラミックである請求項7に記載のマイクロ波加熱処理装置。
- 前記発熱体の温度を測定する温度測定手段と、該温度測定手段で得られた温度情報に基づいて最適なマイクロ波出力を演算して前記マイクロ波発生装置の出力を制御する出力制御手段とを有する請求項1に記載のマイクロ波加熱処理装置。
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