JP4178310B2 - 熱風循環炉 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、セラミック部品の焼成やガラス基板の熱処理等、各種の熱処理に使用される熱風循環炉に関する。
【0002】
【従来の技術】
熱風循環炉は、炉本体の炉室内に、ガスが循環する循環通路を備え、この循環通路の途中に、被処理物を収容する加熱室と、熱源と、送風機とが配されたもので、循環通路を通じて流れるガスにより、加熱室内の被処理物が加熱されるようになっている。
【0003】
従来のこの種の熱風循環炉として代表的なものには、特開2000−274955号公報に記載のものがある。
【0004】
この熱風循環炉では、図10に示すように、炉本体20の炉室21のほぼ中央位置に加熱室22があり、この加熱室22の入口22a側に送風機23とフィルタ24とがあり、前記送風機23の上流側にヒータ25がある。ヒータ25で加熱され送風機23から送り出された高温のガスは、フィルタ24を通じて加熱室22内に流入し、加熱室22内の被処理物wを加熱する。そして、被処理物wの間を通過したガスは、加熱室22の出口22b側にある循環通路26に流入し、この循環通路26を通じて、前記したヒータ25や、送風機23の側に還流する。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
上記のように、従来の熱風循環炉では、主として熱効率を高めるために、加熱室22の入口22a側に送風機23が設けられていて、この送風機23により送り出される高温のガスが送り出し直後に加熱室22内に吹き込むようになっている。
【0006】
しかしながら、送風機23の吐出口付近では、ガスの流れに乱れが生じやすくてガスの流れが安定せず、ガスの流動する個所によって流速が一定しない。
【0007】
このように、従来の熱風循環炉では、流速の一定しないガスが加熱室22内に吹き込むことになるので、同一の加熱室22に収容されている被処理物wの間でも、焼成等の熱処理にばらつきができるおそれがある。
【0008】
そこで、本発明は、加熱室に高温のガスが各部ほぼ均一の流速で吹き込まれるようにして、同時に処理される被処理物の間で、焼成等の熱処理にばらつきが生じないようにすることを課題とする。
【0009】
さらに、本発明は、加熱室に高温のガスが各部ほぼ均一の流速で吹き込まれる状態のもとで、加熱室に吹き込まれるガスの温度が各部ほぼ均一な値に保たれるようにして、焼成等の熱処理の品質をさらに高めることを次の課題とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】
上述の課題を達成するために、本発明は、炉本体の炉室内にガスが一方向に循環する循環通路を備え、前記循環通路の途中に、被処理物を収容する加熱室と、熱源と、送風機と、を備える熱風循環炉であって、前記加熱室の一方の側部に入口が設けられ、他方の側部に出口が設けられ、前記加熱室の入口から出口に向かって一方向にガスが流通するとともに、前記送風機の吸い込み口が前記加熱室の出口と直線的に対向するように、前記送風機が前記加熱室の出口に近接して設けられている熱風循環炉を構成している。
【0011】
上記の構成において、送風機から送り出されるガスは、循環通路を通じて熱源、加熱室を経て送風機に戻るが、送風機は加熱室の出口近くにあって、その吐出口は経路的に加熱室の入口から遠く離れている。そのため、送風機の吐出口近くで発生する気流の乱れは、循環通路や熱源を通過するうちに、抵抗を受けて安定した流れとなり、加熱室内に多数収容されている被処理物に対しては、各部均一の流速のガスが吹き付ける。これで、焼成などの熱処理のばらつきが未然に防止される。
【0012】
上記構成の熱風循環炉において、請求項2に記載のように、加熱室の出口側と送風機との間にダクトが設けられていると、加熱室から送風機へのガスの吸い込みが円滑で、効率がよい。
【0013】
また、好ましくは、循環通路内に該通路の一部を遮蔽する遮蔽体が設けられていると、該遮蔽体により、加熱室に流入するガスの流速が制御されて、加熱室入口でのガスの均一流速域が広狭変化する。そのため、たとえば加熱室に収容する被処理物の数量が少ない場合、ガスの均一流速域を絞るなどして、被処理物の数量に見合った処理が可能となる。
【0014】
この場合、遮蔽体は適宜循環通路の内壁に設ければよいが、加熱室がケーシングにより構成されている場合は、このケーシングの外表面に遮蔽体を取り付ければよい。
【0015】
また本発明は、他の課題を達成するために、請求項1に記載のような熱風循環炉の循環通路において、熱源と加熱室の入口との間に、前記加熱室に流入するガスの温度を制御する温度補償熱源が設けられた熱風循環炉を構成している。
【0016】
上記構成の熱風循環炉では、温度補償熱源により、流通個所により生じるガスの温度の違いが解消されて、加熱室内の多数の被処理物に対して、各部均一の流速でガスが吹き付けるばかりでなく、そのガスの温度も各部均一化することになる。この場合、被処理物に対してガス流量を増減させて温度調整を行う従来の熱風循環炉での手法に比べ、容易かつ確実に温度調整が行える。
【0017】
前記の温度補償熱源は、請求項6に記載のように、循環通路の内壁に沿って広がる扁平なヒータであることが好ましい。
【0018】
また、好ましくは、循環通路内に、循環するガスと熱の授受を行う伝熱体が設けられている。この伝熱体は、具体的には、ガスの進行方向に沿って次第に幅狭となるフィンである。
【0019】
この構成の熱風循環炉では、伝熱体により、高温のガスの温度がより下流側にあるガスに伝えられるから、同じ循環通路内でも、内側経路や外側経路のような流通経路の違いから生じるガスの温度のばらつき、温度勾配が抑えられ、被処理物に対して、各部均一の温度のガスを供給することができ、均質な熱処理が可能になる。
【0020】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の詳細を図示の実施例に基づいて説明すると、図1は本発明の第1実施例に係る熱風循環炉の縦断側面図で、図2は、炉内所要部でのガス循環の様子を示す作用説明図である。
【0021】
図1において、符号1は炉本体で、この炉本体1は内部に炉室1aを有する。この炉室1a内には、加熱室2と、送風機3と、熱源としてのヒータ4と、循環通路5とが設けられている。
【0022】
加熱室2は、セラミック成形体のような被処理物wの多数が上下互いに間隔をおいた状態で積み重ねて収容される。図示例では、加熱室2はケーシング6により構成されており、炉室1a内の底側のほぼ中央位置にある。ケーシング6は、ガスが横に流通するよう、一方の側部(図で右側部)とその反対の側部(図で左側部)とにそれぞれ多数の通気孔があって、右側の通気孔がガスの入口2a、左側の通気孔が出口2bとなっている。符号7は炉室1aの底壁で、炉本体1の他の部分に対して上下に着脱可能である。
【0023】
加熱室2の出口2bの側には、送風機3の羽根部が近接して設けられていて、その吸い込み口3aが加熱室2の出口2bと対向している。加熱室2の出口2bと送風機3の吸い込み口3aとは、ロート状のダクト8により連通接続されている。
【0024】
このダクト8は、炉室1a内でガスが循環する循環通路の一部を構成するものであるが、図示のものでは、ダクト8は、送風機3の吐出口3bから加熱室2の入口2aに至る循環通路5とは分離しており、かつごく短いものなので、前記循環通路5とは別の名称、別の符号で示される。
【0025】
このように、本発明では、送風機3の吸い込み口3aが近接した位置で加熱室2の出口2bと直線的に対向していることが望ましい。
【0026】
送風機3は、その軸部を炉本体1の外部に突出させており、モータのような外部の原動機から回転動力を受けるようになっている。
【0027】
ヒータ4は、U字形もしくは棒状のもので、送風機3の吐出口3bから加熱室2の入口2aに至る循環通路5の中途部に設けられる。図示例では、加熱室2のケーシング6が循環通路5の内壁の一部を構成しており、このケーシング6の上方空間に設けられている。
【0028】
循環通路5は、炉室1a内にガスを循環流通させるものであるが、この第1実施例では、送風機3の吐出口3bから上方に向かい、加熱室2のケーシング6の上方を通り、加熱室2の入口2aに至るものである。そして、送風機3の吐出口3bからヒータ4の手前までが第1の循環通路5aであり、ヒータ4を含む部分以降、加熱室2の入口2aまでが第2の循環通路5bである。第2循環通路5bでは、加熱室2のケーシング6の上面部が第2循環通路5bの下側の内壁を構成している。
【0029】
上記の構成において、ヒータ4が発熱し、送風機3が稼動すると、加熱室2内のガスは、ダクト8、送風機3、第1循環通路5a、ヒータ4、第2循環通路5bと流れ、熱風として加熱室2内に流入する。そして、その保有する熱で被処理物wを加熱し、再び送風機3から第1循環通路5aへと流れる。
【0030】
この間、循環するガスは、送風機3の吐出口3b付近では、渦流など気流に乱れがある状態で流れるが、第1循環通路5aやヒータ4、第2循環通路5bを通過する間に、抵抗を受けて変動が少なくなり、安定した気流となって加熱室2内に流入する。そのため、加熱室2の入口2aでは、ガスは上下ほぼ均一の流速で流れ込み、上下に積み重なった被処理物wに対して、上下同一の流速のガスが作用する。このため、上下の被処理物wの間で焼成等、熱処理にばらつきが生じなくなる。
【0031】
次に、図3は本発明の第2実施例に係る熱風循環炉の縦断側面図で、図4は、炉内所要部でのガス循環の様子を示す作用説明図である。
【0032】
この第2実施例では、第2循環通路5b内に、該循環通路5bの一部を遮蔽して、加熱室2に流入するガスの流速を制御する遮蔽体9が設けられている。この遮蔽体9は図に示すような板体でよいが、ガス流通に対する抵抗が大きくならないよう、断面が山形のブロックでもよく、その形状は特に限定しない。そして、この遮蔽体9は、循環通路5内に突出する形で循環通路5の内壁に取り付けられていればよい。図示例では、加熱室2がケーシング6により構成され、このケーシング6の上面部が第2循環通路5bの内壁の一部を構成しているので、このケーシング6の上面部に遮蔽体9が取り付けられている。
【0033】
他の部分の構成は、図1に図示の第1実施例のものと変わりがないので、対応する部分には同一の符号を付して詳細な説明は省略する。
【0034】
図示の通り、第2循環通路5bの一部であるケーシング6の上面部に遮蔽体9があると、図4に示すように、加熱室2の入口2aへのガス流が若干絞られるとともに、遮蔽体9の背面側に巻き込み流のような別の流れが生じるので、図1の場合と比べると、均一流速域Rの上下幅が狭くなる。被処理物wの積み上げ高さが、ケーシング6の高さより若干低いような場合、この被処理物wの積み上げ高さに、ガスの均一流速域Rを合わせることで、循環するガスの保有熱量を無駄なく効率的に被処理物の熱処理に利用できる。
【0035】
図5および図6は第2実施例の変形例を示すもので、図5は、熱風循環炉の所要部の縦断側面図で、図6は、炉内所要部でのガス循環の様子を示す作用説明図である。この変形例では、遮蔽体9が加熱室2のケーシング6の上面部のうち、加熱室入口2a側の角部に取り付けられている。
【0036】
このように、遮蔽体9が図3の場合よりもさらに加熱室2の入口2a側に近づいていると、該入口2aへのガス流がより細く絞られて、入口2aでの均一流速域Rの上下幅は一段と狭くなる。
【0037】
以上の図3や図5の例からも、遮蔽体9の取り付け位置、遮蔽体9の形状や大きさを適宜選択することで、加熱室入口2aでの均一流速域Rの上下幅を調整しうることが分かる。したがって被処理物wの数量に見合った熱処理が可能となる。
【0038】
さらに、図7は本発明の第3実施例に係る熱風循環炉の縦断側面図である。この実施例では、第2循環通路5b内であって、ヒータ4と加熱室入口2aとの間に、温度補償熱源としてヒータ(温度補償ヒータ)10が設置されている。
【0039】
この温度補償ヒータ10は棒状やU字形のものでもよいが、図示例では、ガスの流れをできるだけ阻害しないよう、第2循環通路5bの内壁に沿って広がる扁平なヒータである。
【0040】
他の部分の構成は、図1に図示の第1実施例のものと変わりがないので、対応する部分には同一の符号を付して詳細な説明は省略する。
【0041】
ところで、第2循環通路5bの各部分のうち、加熱室2の入口2aに面する部分は、ヒータ4から遠いので、この部分を流れるガスは温度を下げやすく、また、ケーシング6に近い個所を流れるガスよりも、その外側経路を流れるガスの方が温度低下を起こしやすい。
【0042】
このように、第2循環通路5bの終端側では、ガスの流通個所によりガスの温度にばらつきや温度勾配が生じるのであるが、このような温度の違いは、前記した温度補償ヒータ10により補正されることになり、加熱室2の各入口2aから吹き込むガスの温度は均一化する。
【0043】
加熱室2内に上下に積み上げられた被処理物wには、第1実施例の説明でも述べたように、上下均一の流速のガスが吹き込むから、どの部分の被処理物wにも、均一の温度のガスが均一の流速で作用することになり、仕上がりにばらつきのない製品が得られる。
【0044】
なお、この種の従来の熱風循環炉では、焼成等の熱処理の温度を変えたい場合、所要個所へのガスの流量が増減変化されるようになっているが、この方法では、正確な温度調整自体が困難であるばかりか、ガスの流量が不可避的に変化するので、容易に所期の仕上がり品質が得られない。
【0045】
これに対して、第3実施例に示した温度補償ヒータ10による温度調整方法では、ガスの流量を変化させずに、ガスの温度のみを単独に変化させることができるから、容易かつ正確な温度調整が可能で、所期通りの仕上がりの製品が得られる。
【0046】
また、図8は本発明の第4実施例に係る熱風循環炉の縦断側面図、図9は、炉本体の外壁を切除して示した要部の斜視図である。
【0047】
この実施例では、第2循環通路5b内であって、ヒータ4から遠い位置、具体的には加熱室2の入口2aに面する個所に、循環するガスと熱の授受を行う伝熱体11が設けられている。ここでの伝熱体11は、図8に明示するように、第2循環通路5bの終端側においてガスの流れを分ける形でガス流通方向に沿って広がるフィンである。そして、このフィン11のガス流通方向と直交する方向の幅は、ガスの進行方向に沿って次第に幅狭になっている。
【0048】
他の部分の構成は、図1に図示の第1実施例のものと変わりがないので、対応する部分には同一の符号を付して詳細な説明は省略する。
【0049】
第2循環通路5bの終端側において、ヒータ4により近い位置にあって比較的温度の高いガスは伝熱体11の幅広部分に接し、ヒータ4から遠ざかることで若干温度低下したガスは、伝熱体11の幅狭部分に接する。伝熱体11はヒータ4に近い位置(図で上部位置)において高温のガスから広い受熱面積で熱を受けて高温となっているから、その熱で、幅狭部分に接するガスを加熱する。これにより、第2循環通路5bの終端でのガスの温度低下が最少限に抑えられ、加熱室2の各入口2aから吹き込むガスの温度は均一化する。
【0050】
また、第2循環通路5bの終端側において、ガスは伝熱体11により整流されるという効果もある。
【0051】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、送風機の吐出口から送り出されるガスは安定したガス流となって加熱室の入口側に達するから、各入口から加熱室内に吹き込むガスは流速が均一化し、そのため、同時に熱処理される多数の被処理物の間で焼成等の熱処理にばらつきが生じない。
【0052】
また、温度補償熱源もしくは伝熱体を付加したものでは、加熱室内に吹き込むガスの流速が均一化するばかりでなく、その温度も均一化するので、焼成等の熱処理の品質がさらに向上する。
【0053】
しかも、ガス流量とは独立して、循環するガスの温度を調整することができ、温度調整が容易であるばかりか、正確な温度調整が可能である。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1実施例に係る熱風循環炉の縦断側面図である。
【図2】上記第1実施例の炉内所要部でのガス循環の様子を示す作用説明図である。
【図3】本発明の第2実施例に係る熱風循環炉の縦断側面図である。
【図4】上記第2実施例の炉内所要部でのガス循環の様子を示す作用説明図である。
【図5】第2実施例の変形例を示す熱風循環炉の所要部の縦断側面図である。
【図6】上記第2実施例の変形例の炉内所要部でのガス循環の様子を示す作用説明図である。
【図7】本発明の第3実施例に係る熱風循環炉の縦断側面図である。
【図8】本発明の第4実施例に係る熱風循環炉の縦断側面図である。
【図9】上記第4実施例の炉本体の外壁を切除して示した要部の斜視図である。
【図10】従来の熱風循環炉の縦断側面図である。
【符号の説明】
1 炉本体、 1a 炉室
2 加熱室、 2a 入口、 2b 出口
3 送風機、 3a 吸い込み口、 3b 吐出口
4 熱源(ヒータ)
5 循環通路、 5a 第1循環通路、5b 第2循環通路
6 ケーシング
8 ダクト
9 遮蔽体
Claims (8)
- 炉本体の炉室内にガスが一方向に循環する循環通路を備え、
前記循環通路の途中に、被処理物を収容する加熱室と、熱源と、送風機と、を備える熱風循環炉であって、
前記加熱室の一方の側部に入口が設けられ、他方の側部に出口が設けられ、前記加熱室の入口から出口に向かって一方向にガスが流通するとともに、
前記送風機の吸い込み口が前記加熱室の出口と直線的に対向するように、前記送風機が前記加熱室の出口に近接して設けられていることを特徴とする、熱風循環炉。 - 前記循環通路内において、前記加熱室の出口と前記送風機の吸い込み口との間にダクトが設けられていることを特徴とする、請求項1に記載の熱風循環炉。
- 前記循環通路内において、前記循環通路の一部を遮蔽して前記加熱室に流入するガスの流速を制御する遮蔽体が設けられていることを特徴とする、請求項1または請求項2に記載の熱風循環炉。
- 前記加熱室はケーシングにより構成されており、前記遮蔽体は、前記ケーシングの外表面に取り付けられていることを特徴とする、請求項3に記載の熱風循環炉。
- 前記循環通路内において、前記熱源と前記加熱室の入口との間に、前記加熱室に流入するガスの温度を制御する温度補償熱源が設けられていることを特徴とする、請求項1から請求項4のいずれかに記載の熱風循環炉。
- 前記温度補償熱源は、前記循環通路の内壁に沿って広がる扁平なヒータであることを特徴とする、請求項5に記載の熱風循環炉。
- 前記循環通路内において、前記熱源と前記加熱室の入口との間に、循環するガスと熱の授受を行う伝熱体が設けられていることを特徴とする、請求項1から請求項6のいずれかに記載の熱風循環炉。
- 前記伝熱体は、ガスの進行方向に沿って次第に幅狭となるフィンであることを特徴とする、請求項7に記載の熱風循環炉。
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