CN110818258A - 釉下彩流变反应釉及其制备方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种釉下彩流变反应釉及其制备方法，它在1350～1380℃的温度环境下烧成，它包括底釉和面釉；其中，所述底釉所使用的釉料的组分及各组分质量份如下：三氧化二铝35‑38份，二氧化硅42‑45份，氧化钾3‑5份，氧化钠2‑4份，氧化钙1‑3份，氧化钛1‑4份，氧化锡0.5‑1份，氧化钴0.2‑0.5份；所述面釉所使用的釉料的组分及各组分质量份如下：三氧化铝17‑19份，二氧化硅58‑60份，氧化钾4‑6份，氧化钠3‑5份，氧化钙1‑3份，氧化钛0.5‑1份，氧化铁0.1‑0.2份，氧化铬0.2‑0.5份。本发明能够合理掌握其反应矿物的比例，合理控制釉温，使产品画面真正反映创作人员的构想，丰富了釉下彩的色彩，使产品艺术效果更浓，从而大大提高了作品价值。
Description
技术领域
本发明涉及一种釉下彩流变反应釉及其制备方法。
背景技术
目前，釉下彩烧成温度比较高，大概在1380℃左右，而高温颜料比低温颜料(1250左右)的少很多，大大制约了釉下彩的发展，由于高温釉下彩颜料少，使其作品，画面色彩，有一定的局限性。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是克服现有技术的缺陷，提供一种釉下彩流变反应釉，它能够合理掌握其反应矿物的比例，合理控制釉温，使产品画面真正反映创作人员的构想，丰富了釉下彩的色彩，使产品艺术效果更浓，从而大大提高了作品价值。
本发明解决上述技术问题采取的技术方案是：一种釉下彩流变反应釉，它在1350～1380℃的温度环境下烧成，它包括底釉和面釉；其中，
所述底釉所使用的釉料的组分及各组分质量份如下：
三氧化二铝35-38份，二氧化硅42-45份，氧化钾3-5份，氧化钠2-4份，氧化钙1-3份，氧化钛1-4份，氧化锡0.5-1份，氧化钴0.2-0.5份；
所述面釉所使用的釉料的组分及各组分质量份如下：
三氧化铝17-19份，二氧化硅58-60份，氧化钾4-6份，氧化钠3-5份，氧化钙1-3份，氧化钛0.5-1份，氧化铁0.1-0.2份，氧化铬0.2-0.5份。
本发明提供了一种釉下彩流变反应釉的制备方法，方法的步骤中含有：
制备底釉浆和面釉浆；
在瓷坯上采用底釉浆先上底釉再采用面釉浆上面釉；
上好釉的瓷胚在1350～1380℃的温度环境下烧成；其中，
底釉浆的制备和面釉浆的制过程如下：
按照各釉料的组分及各组分质量份备料；
按照料：球：水的质量比＝1:1.6:0.8湿法球磨20～24小时，然后调成釉浆备用。
采用了上述技术方案后，本发明的配方的底釉中在高温釉下颜料中适当地引入了含有钾、钠、钙、钛、锡和钴等元素的矿物以及在面釉中适当地引入了钾、钠、钙、钛、铁和铬等元素的矿物，使其相互反应，上下流动，而产生丰富多彩的色调，从而触发创作人员灵感，提升作品价值。
具体实施方式
本发明提供了一种釉下彩流变反应釉及其制备方法，本领域技术人员可以借鉴本文内容，适当改进工艺参数实现。特别需要指出的是，所有类似的替换和改动对本领域技术人员来说是显而易见的，它们都属于本发明保护的范围。本发明的方法及应用已经通过较佳实施例进行了描述，相关人员明显能在不脱离本发明内容、精神和范围内对本文的方法和应用进行改动或适当变更与组合，来实现和应用本发明技术。
一种釉下彩流变反应釉，它在1350～1380℃的温度环境下烧成，它包括底釉和面釉；其中，
所述底釉所使用的釉料的组分及各组分质量份如下：
三氧化二铝35-38份，二氧化硅42-45份，氧化钾3-5份，氧化钠2-4份，氧化钙1-3份，氧化钛1-4份，氧化锡0.5-1份，氧化钴0.2-0.5份；
所述面釉所使用的釉料的组分及各组分质量份如下：
三氧化铝17-19份，二氧化硅58-60份，氧化钾4-6份，氧化钠3-5份，氧化钙1-3份，氧化钛0.5-1份，氧化铁0.1-0.2份，氧化铬0.2-0.5份。
该釉下彩流变反应釉的制备方法，方法的步骤中含有：
制备底釉浆和面釉浆；
在瓷坯上采用底釉浆先上底釉再采用面釉浆上面釉；
上好釉的瓷胚在1350～1380℃的温度环境下烧成；其中，
底釉浆的制备和面釉浆的制过程如下：
按照各釉料的组分及各组分质量份备料；
按照料：球：水的质量比＝1:1.6:0.8湿法球磨20～24小时，然后调成釉浆备用。
本发明的配方的底釉中在高温釉下颜料中适当地引入了含有钾、钠、钙、钛、锡和钴等元素的矿物以及在面釉中适当地引入了钾、钠、钙、钛、铁和铬等元素的矿物，使其相互反应，上下流动，而产生丰富多彩的色调，从而触发创作人员灵感，提升作品价值。
为了使本发明的内容更容易被清楚地理解，下面根据具体实施例，对本发明作进一步详细的说明。
实施例一
一种釉下彩流变反应釉，它包括底釉和面釉；其中，
所述底釉所使用的釉料的组分及各组分质量份如下：
三氧化二铝35份，二氧化硅42份，氧化钾3份，氧化钠2份，氧化钙1份，氧化钛1份，氧化锡0.5份，氧化钴0.2份；
所述面釉所使用的釉料的组分及各组分质量份如下：
三氧化铝17份，二氧化硅58份，氧化钾4份，氧化钠3份，氧化钙1份，氧化钛0.5份，氧化铁0.1份，氧化铬0.2份。
该釉下彩流变反应釉的制备方法，方法的步骤中含有：
制备底釉浆和面釉浆；
在瓷坯上采用底釉浆先上底釉再采用面釉浆上面釉；
上好釉的瓷胚在1350℃的温度环境下烧成；其中，
底釉浆的制备和面釉浆的制过程如下：
按照各釉料的组分及各组分质量份备料；
按照料：球：水的质量比＝1:1.6:0.8湿法球磨20小时，然后调成釉浆备用。
实施例二
一种釉下彩流变反应釉，它包括底釉和面釉；其中，
所述底釉所使用的釉料的组分及各组分质量份如下：
三氧化二铝38份，二氧化硅份，氧化钾5份，氧化钠4份，氧化钙3份，氧化钛4份，氧化锡1份，氧化钴0.5份；
所述面釉所使用的釉料的组分及各组分质量份如下：
三氧化铝19份，二氧化硅60份，氧化钾6份，氧化钠5份，氧化钙3份，氧化钛1份，氧化铁0.2份，氧化铬0.5份。
该釉下彩流变反应釉的制备方法，方法的步骤中含有：
制备底釉浆和面釉浆；
在瓷坯上采用底釉浆先上底釉再采用面釉浆上面釉；
上好釉的瓷胚在1380℃的温度环境下烧成；其中，
底釉浆的制备和面釉浆的制过程如下：
按照各釉料的组分及各组分质量份备料；
按照料：球：水的质量比＝1:1.6:0.8湿法球磨24小时，然后调成釉浆备用。
实施例三
一种釉下彩流变反应釉，它包括底釉和面釉；其中，
所述底釉所使用的釉料的组分及各组分质量份如下：
三氧化二铝36份，二氧化硅43份，氧化钾4份，氧化钠3份，氧化钙2份，氧化钛2份，氧化锡1份，氧化钴0.3份；
所述面釉所使用的釉料的组分及各组分质量份如下：
三氧化铝18份，二氧化硅59份，氧化钾5份，氧化钠4份，氧化钙2份，氧化钛0.5份，氧化铁0.1份，氧化铬0.3份。
该釉下彩流变反应釉的制备方法，方法的步骤中含有：
制备底釉浆和面釉浆；
在瓷坯上采用底釉浆先上底釉再采用面釉浆上面釉；
上好釉的瓷胚在1360℃的温度环境下烧成；其中，
底釉浆的制备和面釉浆的制过程如下：
按照各釉料的组分及各组分质量份备料；
按照料：球：水的质量比＝1:1.6:0.8湿法球磨22小时，然后调成釉浆备用。
以上三个实施例制备得到的釉下彩流变反应釉，均能呈现很好地流变反应效果，符合设计要求。
以上所述的具体实施例，对本发明解决的技术问题、技术方案和有益效果进行了进一步详细说明，所应理解的是，以上所述仅为本发明的具体实施例而已，并不用于限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内，所做的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。
Claims (2)
1.一种釉下彩流变反应釉，其特征在于，它在1350～1380℃的温度环境下烧成，它包括底釉和面釉；其中，
所述底釉所使用的釉料的组分及各组分质量份如下：
三氧化二铝35-38份，二氧化硅42-45份，氧化钾3-5份，氧化钠2-4份，氧化钙1-3份，氧化钛1-4份，氧化锡0.5-1份，氧化钴0.2-0.5份；
所述面釉所使用的釉料的组分及各组分质量份如下：
三氧化铝17-19份，二氧化硅58-60份，氧化钾4-6份，氧化钠3-5份，氧化钙1-3份，氧化钛0.5-1份，氧化铁0.1-0.2份，氧化铬0.2-0.5份。
2.一种如权利要求1所述的釉下彩流变反应釉的制备方法，其特征在于，方法的步骤中含有：
制备底釉浆和面釉浆；
在瓷坯上采用底釉浆先上底釉再采用面釉浆上面釉；
上好釉的瓷胚在1350～1380℃的温度环境下烧成；其中，
底釉浆的制备和面釉浆的制过程如下：
按照各釉料的组分及各组分质量份备料；
按照料：球：水的质量比＝1:1.6:0.8湿法球磨20～24小时，然后调成釉浆备用。
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Legal Events
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|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
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| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |
Application publication date: 20200221 |
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